JPH1045680A - ジアリールカーボネート−含有反応溶液からの懸濁結晶化法による触媒系の回収 - Google Patents
ジアリールカーボネート−含有反応溶液からの懸濁結晶化法による触媒系の回収Info
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- JPH1045680A JPH1045680A JP9104031A JP10403197A JPH1045680A JP H1045680 A JPH1045680 A JP H1045680A JP 9104031 A JP9104031 A JP 9104031A JP 10403197 A JP10403197 A JP 10403197A JP H1045680 A JPH1045680 A JP H1045680A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C68/00—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
- C07C68/08—Purification; Separation; Stabilisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C68/00—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
- C07C68/01—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids from carbon monoxide and oxygen
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- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 触媒の不活性化無しに、かつ経済的、技術的
に実現可能な、そして再生可能な条件下で、種々のジア
リールカーボネート含量を含むジアリールカーボネート
−含有反応溶液から、高い空間−時間収量で触媒系を分
離および回収するための穏和な方法を見いだすことであ
る。 【解決手段】 芳香族ヒドロキシ化合物を対応するジア
リールカーボネートへ酸化的カルボニル化するための、
白金族金属触媒、共触媒、四級塩および塩基の内容物を
有する触媒系が、本発明に従い懸濁結晶化により母液と
して得られ、そしてカルボニル化反応のために戻される
か、または価値ある材料へ処理される。主にジアリール
カーボネートおよび元のヒドロキシ化合物から成る結晶
物を、純粋なジアリールカーボネートおよび純粋なヒド
ロキシ化合物に処理する。
に実現可能な、そして再生可能な条件下で、種々のジア
リールカーボネート含量を含むジアリールカーボネート
−含有反応溶液から、高い空間−時間収量で触媒系を分
離および回収するための穏和な方法を見いだすことであ
る。 【解決手段】 芳香族ヒドロキシ化合物を対応するジア
リールカーボネートへ酸化的カルボニル化するための、
白金族金属触媒、共触媒、四級塩および塩基の内容物を
有する触媒系が、本発明に従い懸濁結晶化により母液と
して得られ、そしてカルボニル化反応のために戻される
か、または価値ある材料へ処理される。主にジアリール
カーボネートおよび元のヒドロキシ化合物から成る結晶
物を、純粋なジアリールカーボネートおよび純粋なヒド
ロキシ化合物に処理する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ジアリールカーボ
ネート−含有反応溶液から、懸濁結晶化（suspension c
rystallization）法により触媒系を回収する方法に関
し、ここで結晶物および触媒系を含有する母液が得られ
る。母液は、ジアリールカーボネートを製造するため、
反応槽に戻すか、または価値ある物質に処理することが
できる。結晶物は、純粋なジアリールカーボネートおよ
び純粋なヒドロキシ化合物に処理される。
ネート−含有反応溶液から、懸濁結晶化（suspension c
rystallization）法により触媒系を回収する方法に関
し、ここで結晶物および触媒系を含有する母液が得られ
る。母液は、ジアリールカーボネートを製造するため、
反応槽に戻すか、または価値ある物質に処理することが
できる。結晶物は、純粋なジアリールカーボネートおよ
び純粋なヒドロキシ化合物に処理される。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第5 239 106号明細書は、ジフ
ェニルカーボネートを触媒含有反応溶液から、30.5重量
％のフェノールおよび69.5重量％のジフェニルカーボネ
ートから成るフェノールとの１：１の付加生成物を、懸
濁結晶化を用いて結晶化することにより、反応混合物か
ら分離することを教示している。この方法の欠点は、
１：１の付加生成物を十分な高収量で単離できるように
するには、狭い濃度範囲に限定されることであり、すな
わち少なくとも50重量％−70重量％濃度のジフェニルカ
ーボネート濃度である。生成する懸濁液が濾過により
尚、処理できるためには、洗練された装置が関与する少
なくとも２段階の方法が必要である。さらに濾過された
結晶は未だに接着している母液および包含母液を有する
ので、触媒系はこの方法で完全に分離できない。蒸留に
よるその後の１：１の付加生成物の処理中に、これらの
非分離触媒成分は、副産物生成の触媒反応およびＤＰＣ
分解を通して、悪い影響を受ける。提案された9％水お
よび91％フェノールの混合物を用いる結晶物の洗浄は、
１：１付加生成物の大部分を溶解することにより収量を
低下させる。さらにこの処理は付加生成物結晶の水含量
を増加させ、これはその後の蒸留カラム中（すなわちそ
の中でＤＰＣ単離および使用した洗浄溶液から水を分離
するために）の加水分解のためにＤＰＣの損失を生じ
る。さらに米国特許第5 239 106号明細書には、例えば
反応槽の性質、温度制御、撹拌機のジオメトリー、撹拌
速度等の重要なパラメーターが開示されていない。
ェニルカーボネートを触媒含有反応溶液から、30.5重量
％のフェノールおよび69.5重量％のジフェニルカーボネ
ートから成るフェノールとの１：１の付加生成物を、懸
濁結晶化を用いて結晶化することにより、反応混合物か
ら分離することを教示している。この方法の欠点は、
１：１の付加生成物を十分な高収量で単離できるように
するには、狭い濃度範囲に限定されることであり、すな
わち少なくとも50重量％−70重量％濃度のジフェニルカ
ーボネート濃度である。生成する懸濁液が濾過により
尚、処理できるためには、洗練された装置が関与する少
なくとも２段階の方法が必要である。さらに濾過された
結晶は未だに接着している母液および包含母液を有する
ので、触媒系はこの方法で完全に分離できない。蒸留に
よるその後の１：１の付加生成物の処理中に、これらの
非分離触媒成分は、副産物生成の触媒反応およびＤＰＣ
分解を通して、悪い影響を受ける。提案された9％水お
よび91％フェノールの混合物を用いる結晶物の洗浄は、
１：１付加生成物の大部分を溶解することにより収量を
低下させる。さらにこの処理は付加生成物結晶の水含量
を増加させ、これはその後の蒸留カラム中（すなわちそ
の中でＤＰＣ単離および使用した洗浄溶液から水を分離
するために）の加水分解のためにＤＰＣの損失を生じ
る。さらに米国特許第5 239 106号明細書には、例えば
反応槽の性質、温度制御、撹拌機のジオメトリー、撹拌
速度等の重要なパラメーターが開示されていない。
【０００３】50重量％未満のＤＰＣ含量を含む反応溶液
でも、この方法で処理できるようにするためには、触媒
成分が存在する中で、蒸留の上記記載の欠陥がある蒸留
による濃縮は避けられない。加えて、反応溶液の熱的ス
トレスが触媒系の不活性化を導き、これは高価な新しい
触媒成分をこの工程に供給することを必要とする。記載
したこれらすべての不利益は、この方法の柔軟性および
魅力を無くし、そして技術の実現を妨げる。
でも、この方法で処理できるようにするためには、触媒
成分が存在する中で、蒸留の上記記載の欠陥がある蒸留
による濃縮は避けられない。加えて、反応溶液の熱的ス
トレスが触媒系の不活性化を導き、これは高価な新しい
触媒成分をこの工程に供給することを必要とする。記載
したこれらすべての不利益は、この方法の柔軟性および
魅力を無くし、そして技術の実現を妨げる。
【０００４】欧州特許出願公開第687 666号明細書は、4
5-85℃の温度範囲で高濃度反応溶液の分別メルト結晶化
法によるジフェニルカーボネートの精製法を記載する。
97.5−99.5％のジフェニルカーボネート純度が得られ
る。この方法の欠点は、70重量％より高いジアリールカ
ーボネート含量を有する反応溶液に限定されることであ
る。70重量％未満のジアリールカーボネート含量の反応
溶液は、この方法では処理できない。これらは要求され
る含量に、例えば蒸留により濃縮されなければならな
い。この熱的ストレスの間に触媒系が副反応を起こし、
そして方法を不活性化する。したがって、この方法は70
重量％未満のジフェニルカーボネート含量の反応溶液に
は非経済的であり、かつ繁雑である。
5-85℃の温度範囲で高濃度反応溶液の分別メルト結晶化
法によるジフェニルカーボネートの精製法を記載する。
97.5−99.5％のジフェニルカーボネート純度が得られ
る。この方法の欠点は、70重量％より高いジアリールカ
ーボネート含量を有する反応溶液に限定されることであ
る。70重量％未満のジアリールカーボネート含量の反応
溶液は、この方法では処理できない。これらは要求され
る含量に、例えば蒸留により濃縮されなければならな
い。この熱的ストレスの間に触媒系が副反応を起こし、
そして方法を不活性化する。したがって、この方法は70
重量％未満のジフェニルカーボネート含量の反応溶液に
は非経済的であり、かつ繁雑である。
【０００５】目的は、触媒の不活性化無しに、かつ経済
的、技術的に実現可能な、そして再生可能な条件下で、
種々のジアリールカーボネート含量を含むジアリールカ
ーボネート−含有反応溶液から、高い空間−時間収量で
触媒系を分離および回収するための穏和な方法を見いだ
すことである。
的、技術的に実現可能な、そして再生可能な条件下で、
種々のジアリールカーボネート含量を含むジアリールカ
ーボネート−含有反応溶液から、高い空間−時間収量で
触媒系を分離および回収するための穏和な方法を見いだ
すことである。
【０００６】
【発明の構成】今回、反応溶液を反応槽から取り出し、
触媒−含有融成物を好ましくは反応溶液の接種により懸
濁結晶化中に得、水を含まない洗浄溶液、好ましくはジ
アリールカーボネートおよび芳香族ヒドロシキシ化合物
の混合物で触媒系の残渣を結晶物から分離し、ジアリー
ルカーボネートおよび芳香族ヒドロシキシ化合物の混合
物から成る結晶物を、結晶化または蒸留により高純度の
ジアリールカーボネートに処理し、そしてその後、触媒
系を含有する反応溶液を反応槽に戻すことにより、記載
の欠点を克服できることが判明した。次に洗浄溶液はさ
らに処理することなく、芳香族ヒドロキシ化合物の補充
供給源として反応に供給できる。驚くべきことには、ジ
アリールカーボネート／フェノール系の場合には、結晶
物の組成が反応溶液中のジアリールカーボネート含量の
関数として変動することが分かった。１：１の付加生成
物は、大変狭い濃度範囲で生じた。反応により再度製造
され、そして結晶物の洗浄に必要な量だけのジアリール
カーボネートが、反応溶液から結晶化により分離され
る。ジアリールカーボネート中の残りの含量は、母液の
他の成分と一緒に再度、反応槽に供給される。触媒系の
熱的損傷は起こらず、したがって触媒の不活性化を最小
に減少する。本発明の方法の特別な利点は、20−70％の
ジアリールカーボネート含量を有する反応溶液を使用で
きるという事実から成る。さらに、種々のジアリールカ
ーボネートを、使用可能な反応溶液中に含むことができ
る。
触媒−含有融成物を好ましくは反応溶液の接種により懸
濁結晶化中に得、水を含まない洗浄溶液、好ましくはジ
アリールカーボネートおよび芳香族ヒドロシキシ化合物
の混合物で触媒系の残渣を結晶物から分離し、ジアリー
ルカーボネートおよび芳香族ヒドロシキシ化合物の混合
物から成る結晶物を、結晶化または蒸留により高純度の
ジアリールカーボネートに処理し、そしてその後、触媒
系を含有する反応溶液を反応槽に戻すことにより、記載
の欠点を克服できることが判明した。次に洗浄溶液はさ
らに処理することなく、芳香族ヒドロキシ化合物の補充
供給源として反応に供給できる。驚くべきことには、ジ
アリールカーボネート／フェノール系の場合には、結晶
物の組成が反応溶液中のジアリールカーボネート含量の
関数として変動することが分かった。１：１の付加生成
物は、大変狭い濃度範囲で生じた。反応により再度製造
され、そして結晶物の洗浄に必要な量だけのジアリール
カーボネートが、反応溶液から結晶化により分離され
る。ジアリールカーボネート中の残りの含量は、母液の
他の成分と一緒に再度、反応槽に供給される。触媒系の
熱的損傷は起こらず、したがって触媒の不活性化を最小
に減少する。本発明の方法の特別な利点は、20−70％の
ジアリールカーボネート含量を有する反応溶液を使用で
きるという事実から成る。さらに、種々のジアリールカ
ーボネートを、使用可能な反応溶液中に含むことができ
る。
【０００７】その結果、本発明は式 Ｒ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ （I） のジアリールカーボネートを式 Ｒ−Ｏ−Ｈ （II） 式中、Ｒは置換または非置換Ｃ6−Ｃ15アリール、好ま
しくは置換また は非置換フェニル、特に好ましくは非
置換フェニルを表す、の元の芳香族ヒドロキシ化合物を
酸化的にカルボニル化することにより製造するための、
そして反応溶液の総重量に対して20−70重量％、好まし
くは20−50重量％のジアリールカーボネート含量を有す
る反応混合物から、白金族金属触媒、共触媒、四級塩お
よび塩基を含む触媒系を回収する方法に関し、ここで、 ａ）反応溶液がジアリールカーボネートを製造するため
の反応槽から懸濁結晶化に適する装置へ移され、 ｂ）懸濁結晶化が適当な装置中で温度低下により開始さ
れ、 ｃ）主にジアリールカーボネートおよび元の芳香族ヒド
ロキシ化合物から成る得られた結晶物が、残存する触媒
含有母液から分離され、 ｄ）結晶物が、純粋なジアリールカーボネートおよび純
粋な芳香族ヒドロキシ化合物に処理され、そして ｅ）ジアリールカーボネートを製造するために触媒含有
母液を反応槽に再循環させるか、または価値ある物質を
得るために処理する、ことを特徴とする。
しくは置換また は非置換フェニル、特に好ましくは非
置換フェニルを表す、の元の芳香族ヒドロキシ化合物を
酸化的にカルボニル化することにより製造するための、
そして反応溶液の総重量に対して20−70重量％、好まし
くは20−50重量％のジアリールカーボネート含量を有す
る反応混合物から、白金族金属触媒、共触媒、四級塩お
よび塩基を含む触媒系を回収する方法に関し、ここで、 ａ）反応溶液がジアリールカーボネートを製造するため
の反応槽から懸濁結晶化に適する装置へ移され、 ｂ）懸濁結晶化が適当な装置中で温度低下により開始さ
れ、 ｃ）主にジアリールカーボネートおよび元の芳香族ヒド
ロキシ化合物から成る得られた結晶物が、残存する触媒
含有母液から分離され、 ｄ）結晶物が、純粋なジアリールカーボネートおよび純
粋な芳香族ヒドロキシ化合物に処理され、そして ｅ）ジアリールカーボネートを製造するために触媒含有
母液を反応槽に再循環させるか、または価値ある物質を
得るために処理する、ことを特徴とする。
【０００８】Ｒは、フェニル、ビフェニリル、ナフチ
ル、アントリルまたはHO-C6H4-C(CH3)2-C6H4-(すなわち
ROHはビスフェノールAである)のようなC6-C15-アリール
-、好ましくはフェニルである。芳香族環は、それぞれ-
CH3、-C2H5、-Cl、-Brまたは-Fにより１または２回置換
されることができ；特に好ましくはＲは非置換フェニル
である。
ル、アントリルまたはHO-C6H4-C(CH3)2-C6H4-(すなわち
ROHはビスフェノールAである)のようなC6-C15-アリール
-、好ましくはフェニルである。芳香族環は、それぞれ-
CH3、-C2H5、-Cl、-Brまたは-Fにより１または２回置換
されることができ；特に好ましくはＲは非置換フェニル
である。
【０００９】本発明の方法を行うために、例えばChem.-
Ing.-Techn.57(1985)91 ff.に詳細に記載されているよ
うな結晶化技法を使用できる。頻繁に使用される撹拌器
晶出装置（Chem.-Ing.-Techn.57(1985)p.95に注意され
たい)は、ウルマンの工業化学辞典(Ullmann's Encyclop
edia of Industrial Chemistry)、第Ｂ２巻、ユニット
オペレーションズI（Unit Operations I)(1988)、第２
５章：撹拌、の指導および推薦に従い規模を定めること
ができる。これらの方法は、断続的または連続的に行
う。すべての装置が熱交換面および冷媒回路を有し；以
下に与える温度は熱交換面から逆流した冷媒の温度であ
る。
Ing.-Techn.57(1985)91 ff.に詳細に記載されているよ
うな結晶化技法を使用できる。頻繁に使用される撹拌器
晶出装置（Chem.-Ing.-Techn.57(1985)p.95に注意され
たい)は、ウルマンの工業化学辞典(Ullmann's Encyclop
edia of Industrial Chemistry)、第Ｂ２巻、ユニット
オペレーションズI（Unit Operations I)(1988)、第２
５章：撹拌、の指導および推薦に従い規模を定めること
ができる。これらの方法は、断続的または連続的に行
う。すべての装置が熱交換面および冷媒回路を有し；以
下に与える温度は熱交換面から逆流した冷媒の温度であ
る。
【００１０】以下の記載はジフェニルカーボネート（Ｄ
ＰＣ）を例として述べる。しかし、当業者は他のジアリ
ールカーボネートの物理データを説明するために、容易
にこの方法のパラメーターを調整できる。
ＰＣ）を例として述べる。しかし、当業者は他のジアリ
ールカーボネートの物理データを説明するために、容易
にこの方法のパラメーターを調整できる。
【００１１】例えば懸濁結晶化は、馬蹄形撹拌機または
バッフル無しの腕木櫂形撹拌機を備えた断続的な撹拌器
晶出装置で、0.2−0.5W/リットルの特別な撹拌速度P/V
で行うことができる。この場合、例えば１K/時間の結晶
点から最後の冷却温度への冷却速度を設定するが、0.01
−20K/時間の冷却速度も可能である。冷却の最初の温度
は、重量測定した部分濃度に依存し、そして最終冷却温
度は所望の懸濁濃度に依存する。好ましく行われる接種
は、ＤＰＣまたは付加生成物（使用するＤＰＣに対して
0.02−１％）との結晶化温度で行う。１−２時間の撹拌
後の時間を、好ましくは最終冷却温度で観察する。得ら
れる触媒含有母液は、デカント、プレス、遠心等の既知
の方法により結晶物から分離することができる。結晶物
は、蒸留、溶液結晶化法、抽出または他の既知の方法に
より、純粋なジアリールカーボネートおよび純粋な芳香
族ヒドロキシ化合物に処理する。分離された母液は、洗
浄中に得られた他の母液と一緒にジアリールカーボネー
トを製造するために触媒系として反応槽に戻されるか、
あるいは価値ある物質、例えば白金族金属を得るために
処理される。この回帰は、より重要な使用である。好適
な様式では、結晶物は純粋なジアリールカーボネートお
よび純粋な芳香族ヒドロキシ化合物への処理前に、水を
含まない洗浄溶液、例えば洗浄溶液中に結晶物を懸濁す
ることにより洗浄される。この洗浄溶液は、好ましく
は、系に本来存在するもの、すなわちジアリールカーボ
ネートおよび芳香族ヒドロキシ化合物の混合物、または
芳香族ヒドロキシ化合物単独である。この洗浄溶液は好
適な様式で、結晶化の母液と合わされ、そしてジアリー
ルカーボネートの製造へと戻される。好適な様式では、
洗浄溶液は芳香族ヒドロキシ化合物中の10-25重量％の
ジアリールカーボネート溶液である。さらに好適な様式
では、洗浄溶液の一部が数回の操作に使用されるよう
に、例えば結晶物が最初に全洗浄流体の25−40重量％に
懸濁され、そして次に濾過され、そしてその後に再度、
全洗浄流体の60−75重量％に懸濁され、そして次に濾過
されるように、洗浄溶液の使用は結晶物の量に対して50
−250重量％の量で行われる。
バッフル無しの腕木櫂形撹拌機を備えた断続的な撹拌器
晶出装置で、0.2−0.5W/リットルの特別な撹拌速度P/V
で行うことができる。この場合、例えば１K/時間の結晶
点から最後の冷却温度への冷却速度を設定するが、0.01
−20K/時間の冷却速度も可能である。冷却の最初の温度
は、重量測定した部分濃度に依存し、そして最終冷却温
度は所望の懸濁濃度に依存する。好ましく行われる接種
は、ＤＰＣまたは付加生成物（使用するＤＰＣに対して
0.02−１％）との結晶化温度で行う。１−２時間の撹拌
後の時間を、好ましくは最終冷却温度で観察する。得ら
れる触媒含有母液は、デカント、プレス、遠心等の既知
の方法により結晶物から分離することができる。結晶物
は、蒸留、溶液結晶化法、抽出または他の既知の方法に
より、純粋なジアリールカーボネートおよび純粋な芳香
族ヒドロキシ化合物に処理する。分離された母液は、洗
浄中に得られた他の母液と一緒にジアリールカーボネー
トを製造するために触媒系として反応槽に戻されるか、
あるいは価値ある物質、例えば白金族金属を得るために
処理される。この回帰は、より重要な使用である。好適
な様式では、結晶物は純粋なジアリールカーボネートお
よび純粋な芳香族ヒドロキシ化合物への処理前に、水を
含まない洗浄溶液、例えば洗浄溶液中に結晶物を懸濁す
ることにより洗浄される。この洗浄溶液は、好ましく
は、系に本来存在するもの、すなわちジアリールカーボ
ネートおよび芳香族ヒドロキシ化合物の混合物、または
芳香族ヒドロキシ化合物単独である。この洗浄溶液は好
適な様式で、結晶化の母液と合わされ、そしてジアリー
ルカーボネートの製造へと戻される。好適な様式では、
洗浄溶液は芳香族ヒドロキシ化合物中の10-25重量％の
ジアリールカーボネート溶液である。さらに好適な様式
では、洗浄溶液の一部が数回の操作に使用されるよう
に、例えば結晶物が最初に全洗浄流体の25−40重量％に
懸濁され、そして次に濾過され、そしてその後に再度、
全洗浄流体の60−75重量％に懸濁され、そして次に濾過
されるように、洗浄溶液の使用は結晶物の量に対して50
−250重量％の量で行われる。
【００１２】以下の実施例は、限定することなく本発明
の方法を明らかに示すことを意図している。テトラブチ
ルアンモニウムブロミド（TBAB)を、この実施例で主な
混入物と考える。TBABは、供給液中に最高濃度で生じる
微量物質を表し、そして結晶物中の精製因子として最も
容易に測定できる。反応溶液は、例えばDE-A 19 605167
号明細書の記載に従い、ジアリールカーボネート製造の
ための既知の方法により得られる。しかし関連する成分
ＤＰＣ、フェノールおよびTBABのみを、以下の実施例で
は言及する。
の方法を明らかに示すことを意図している。テトラブチ
ルアンモニウムブロミド（TBAB)を、この実施例で主な
混入物と考える。TBABは、供給液中に最高濃度で生じる
微量物質を表し、そして結晶物中の精製因子として最も
容易に測定できる。反応溶液は、例えばDE-A 19 605167
号明細書の記載に従い、ジアリールカーボネート製造の
ための既知の方法により得られる。しかし関連する成分
ＤＰＣ、フェノールおよびTBABのみを、以下の実施例で
は言及する。
【００１３】
【実施例】実施例 以下の表に与えるように、（実施例１では：235.9gのDP
C、270.6gのフェノール、5.2gのTBAB；バランス：触
媒)、DPC、フェノールおよびTBABを含む反応溶液を供給
液として撹拌器晶出装置に導入した：準連続的な操作様
式は、交互にいくつかの晶出装置に投入することにより
行った。出発時の温度は53℃であり；接種中の温度、し
たがって結晶化の開始温度は、それぞれの場合で与えら
れている。保持時間の後、母液をフィルターにより分離
した。その後に結晶物を特別な洗浄流体に懸濁し、そし
てもう１度分離した；これにより得た洗浄液を母液と合
わせ、そしてさらなる反応溶液の生成に使用した（反復
再循環中に、再循環の流れの数パーセント部分が取り出
され、そして補充された）。結晶物を蒸留により処理し
た。以下の表に詳細な数値を与える。
C、270.6gのフェノール、5.2gのTBAB；バランス：触
媒)、DPC、フェノールおよびTBABを含む反応溶液を供給
液として撹拌器晶出装置に導入した：準連続的な操作様
式は、交互にいくつかの晶出装置に投入することにより
行った。出発時の温度は53℃であり；接種中の温度、し
たがって結晶化の開始温度は、それぞれの場合で与えら
れている。保持時間の後、母液をフィルターにより分離
した。その後に結晶物を特別な洗浄流体に懸濁し、そし
てもう１度分離した；これにより得た洗浄液を母液と合
わせ、そしてさらなる反応溶液の生成に使用した（反復
再循環中に、再循環の流れの数パーセント部分が取り出
され、そして補充された）。結晶物を蒸留により処理し
た。以下の表に詳細な数値を与える。
【００１４】
【数１】
【００１５】実施例１：46.0％ＤＰＣ
【００１６】
【表１】
【００１７】実施例２：44.3％ＤＰＣ
【００１８】
【表２】
【００１９】実施例３：46.9％ＤＰＣ、洗浄無しで濾過
【００２０】
【表３】
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 38/00 ３０１ Ｂ０１Ｊ 38/00 ３０１Ｈ Ｃ０７Ｃ 68/00 Ｃ０７Ｃ 68/00 Ｚ 68/08 68/08 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 ヨハン・レヒナー ドイツ47906ケンペン・フリードリヒ−ク ラマー−シユトラーセ２ (72)発明者 ハンス−ペーター・ビルゲス ドイツ47800クレーフエルト・シヤイブラ ーシユトラーセ93
Claims (9)
- 【請求項１】 式 Ｒ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ （I） のジアリールカーボネートを、式 Ｒ−Ｏ−Ｈ （II） 式中、Ｒは置換または非置換Ｃ6−Ｃ15アリールを意味
する、の芳香族ヒドロキシ化合物を酸化的にカルボニル
化して製造するための、そして反応溶液の全重量に対し
て20−70重量％のジアリールカーボネート含量を有する
反応混合物から、白金族金属触媒、共触媒、四級塩およ
び塩基を含有する触媒系を回収する方法であって、 ａ）反応溶液がジアリールカーボネートを製造するため
の反応槽から懸濁結晶化に適する装置へ移され、 ｂ）懸濁結晶化が適当な装置中で温度低下により開始さ
れ、 ｃ）主にジアリールカーボネートおよび元の芳香族ヒド
ロキシ化合物から成る得られた結晶物が、残存する触媒
含有母液から分離され、 ｄ）結晶物が、純粋なジアリールカーボネートおよび純
粋な芳香族ヒドロキシ化合物に処理され、そして ｅ）ジアリールカーボネートを製造するために触媒含有
母液を反応槽に再循環させるか、または価値ある物質を
得るために処理する、ことを特徴とする上記方法。 - 【請求項２】 反応溶液の温度が、20−0.1K/時間の冷
却速度で下げられる、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 工程ｂ）において、懸濁結晶化の開始
が、温度低下とは別にさらに固体のジアリールカーボネ
ート、固体の芳香族ヒドロキシ化合物またはその両方を
接種材料として用いる接種により成される、請求項１に
記載の方法。 - 【請求項４】 反応溶液中に存在するジアリールカーボ
ネートに対して、0.02−１重量％の接種材料が使用され
る、請求項３に記載の方法。 - 【請求項５】前の反応ランからの結晶物が接種に使用さ
れる、請求項３に記載の方法。 - 【請求項６】 工程ｃ）において、母液の分離後に結晶
物を水を含まない洗浄溶液を用いて洗浄する、請求項１
に記載の方法。 - 【請求項７】 ジアリールカーボネートおよび芳香族ヒ
ドロキシ化合物の混合物、または芳香族ヒドロキシ化合
物を単独で洗浄溶液として使用し、そして洗浄溶液をジ
アリールカーボネートの製造に再循環する、請求項６に
記載の方法。 - 【請求項８】 洗浄溶液が、芳香族ヒドロキシ化合物中
の10−25重量％のジアリールカーボネートである、請求
項３に記載の方法。 - 【請求項９】 洗浄溶液が結晶物の量に対して50−250
重量％の量で使用され、そして結晶物が最初に全洗浄流
体の25−40重量％に懸濁され、そして次に濾過され、そ
してその後に再度、全洗浄流体の60−75重量％に懸濁さ
れ、そして次に濾過される、請求項８に記載の方法。
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