JPS62190146A - 炭酸ジアリ−ルの製造方法 - Google Patents

炭酸ジアリ−ルの製造方法

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JPS62190146A
JPS62190146A JP61306676A JP30667686A JPS62190146A JP S62190146 A JPS62190146 A JP S62190146A JP 61306676 A JP61306676 A JP 61306676A JP 30667686 A JP30667686 A JP 30667686A JP S62190146 A JPS62190146 A JP S62190146A
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C68/00Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C68/02Preparation of esters of carbonic or haloformic acids from phosgene or haloformates

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は炭酸ジアリールの製造に関する。より詳細には
、単−及び二重の再循環ループを用いた融解状態での炭
酸ジアリールの連続的製造に関する。
従来の炭酸ジアリールの製造方法には、水と混和しない
溶剤の存在下触媒として第四アンモニウム化合物又はそ
の他の第三アミンの存在下で匁香族ヒドロキシ化合物を
ホスゲンと反応させることに礒づく方法がある。高温に
おいてホスゲンをO−クレゾールの高アルカリ性溶液中
に導入して炭酸ジアリールを製造することも知られてい
る。西ドイツ特許公報OL  No、2509036を
参照のこと。
工業的には、炭酸ジアリールは回分式スラリー法で製造
される。この方法は、アルカリの存在下pH10〜11
.55〜60℃においてアルカリの存在下ホスゲンをフ
ェノールと反応させることにより炭酸ジアリールを製造
するのに用いられる。
生成物は固体粒子として回収され、これは不純物を除去
するための熱水洗浄の間に一般に融解される。この方法
の主な欠点は多量の水を必要とし、固体を扱い、そして
フェニルクロロホルメート、塩及びその他の不純物を同
伴するため生成物の品質が劣ることである。従来の回分
法は副生物としてフェニルクロロ炭酸エステルを含んだ
炭酸ジアリールをもたらし、望みの生成物の収率は最適
に満たなかった。
炭酸ジアリールの主要な用途はエステル交換反応でポリ
カーボネートを製造する際の反応物質としてである。炭
酸ジフェニルのような炭酸ジアリールがフェニルクロロ
ホルメートで汚染されると、工業用グレードのポリカー
ボネート成形用樹脂を製造することは困難あるいは不可
能である。
従って、本発明の主な目的は高収率で高純度の炭酸ジア
リールを製造する方法を提供することである。
本発明の目的はまた、触媒を必要とせずに高収率で炭酸
ジアリールを製造する方法を提供することである。
さらに本発明の目的は、連続的に操作され高収率で高純
度の炭酸ジアリールを製造する炭酸ジアリールの製造方
法を提供することである。
発明の詳細な記述 本発明によれば、炭酸ジアリールを合成する方法は、 (a)フェノール化合物をアルカリ金属水酸化物と接触
させてアルカリ金属フェノキシド化合物を形成する工程
、 (b)非常に緊密な混合物をもたらす反応器−混合器に
おいて、合成される炭酸ジアリールの融点より高い温度
で前記アルカリ金属フェノキシドをホスゲンと連続的に
接触させ初期の三相反応系(気体、液体、有機物)がク
ロロホルメート中間体を迅速に通過して炭酸ジアリール
を生成する工程、及び (c)反応混合物より実質的に純粋な炭酸ジアリールを
回収する工程 から成る。
アルカリ金属水酸化物水溶液によるホスゲンの加水分解
を避けるために、(b)工程から(a)工程を分離して
行なうことが必須である。また、ホスゲンを2つの液相
(炭酸ジアリール、フェノール化合物、フェノールクロ
ロホルメートから成る有機相;水、アルカリ金属塩化物
、アルカリ金属水酸化物、フェノール化合物及び副生物
から成る水相)と接触させるのは、高い効率な混合帯域
を提供する反応器−混合器、例えば管形モーションレス
ミキサーにおいて行なわれなけらばならない。これらの
条件下では不純物としてクロロホルメート中間体はほと
んど含まれず、高純度の炭酸ジアリールが高い収率で得
られる。
本発明の合成はまた、触媒の不在下で行われる。
これは、トリエチルアミンのような触媒の使用を必要と
する従来技術の方法に比べ重要な利点を与える。触媒の
必要性がなくなることは製造工程を簡略化し、大規模製
造に関連した材料及びトレーニング価格を低減させる。
本発明方法によって炭酸ジアリールを合成すると、以下
に実施例に示される通り、特殊な装置又は制御を要する
ことなく約90%又はそれ以上の劇的に改善された収率
が得られる。
本発明の方法が炭酸ジフェニルを製造するのに用いられ
た場合に生じる反応の概要は次の通りである。
OH0−Na” ホスゲン反応に効率の高い反応器−混合器を用いること
に加え、本発明の方法は、炭酸ジアリールが融解状態で
製造されるように行なわれる。炭酸ジフェニルについて
は融点は79℃であり、従って約80〜88℃の温度を
用いるのが便利であるが、所望によりこれより高い温J
Xを用いることもできる。
炭酸ジアリール生成物中の望ましくない汚染物質である
クロロホルメ−1・の吸蔵を避けるために、本方法は融
解状態で行われる。融解方法を用いる利点は、炭酸ジア
リールが懸濁法で製造される場合に′これを融解し洗浄
する必要を、回避できることである。
本発明の工程(a)においては、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム又はそれらの混合物のよ
うなアルカリ金属水酸化物を用いることができる。水酸
化ナトリウムが好ましく、約8.0〜約9,1、好まし
くは約8.0〜約8.3のpHが通常用いられる。
アルカリ金属水酸化物及びフェノール化合物を混合し、
本発明の実施において用いられる温度で十分に認められ
るアルカリ水溶液によるホスゲンの加水分解を避けるた
めに、ホスゲンの不在下で完全に反応させる。一般に、
炭酸ジフェニルの合成におけるすトリウムフェノキシド
の製造のためには、原料として約80〜90%フェノー
ル水溶液と約15〜50%の水酸化ナトリウム水溶液の
混合物を用いるのが好ましい。
本発明方法は、好ましくは、反応物質としてフェノール
を用いる炭酸ジフェニルの合成に適用される。その他の
対称炭酸ジアリールが、2−メチルフェノール、3−メ
チルフェノール、2.4−ジメチルフェノール、2−メ
トキシフェノール、4−メトキシフェノール、2−クロ
ロフェノール等のようなフェノール類を用いて製造でき
る。
本方法は後記の装置の1つのような適当な装置において
連続的に実施されるべきである。
本方法の生成物は、後の反応において融解状態で直接使
用するのに十分純粋であり、あるいは後の使用のために
貯蔵することもできる。生成物はフレーク状とするか、
あるいはさらに精製してもよく、これは随意である。
本方法は、次の実施例において具体的に説明されるが、
これによって特許請求の範囲を限定するものではない。
好ましい具体例の記載 実施例1〜15 かく拌機、ホスゲン流入ローすトリウムフェノキシド送
給管、チッ素人ロ一温度計、p H電極及び溶液出口管
を備えた五つ口500m1樹脂釜を炭酸ジフェニルを製
造するために使用する。ナトリウムフェノキシドが混合
容器中で製造され、ここでフェノール−水混合物中のフ
ェノールは45重量%の水酸化ナトリウム溶液と化合す
る。ナトリウムフェノキシドをループの管接続口に供給
し、直管式反応器−混合器へ通す。ガス状ホスゲンを反
応器−混合器の直前で導入する。反応器−混合器からの
出口導管はナトリウムフェノキシド送給管及び溶液出口
管に接続している。樹脂釜に25Qmlの水と188g
の水を最初に入れることから始めて15回の操作を行な
った。塩化ナトリウム(塩水)及び炭酸ジフェニルの相
をさらに精製することなく融解している間に分離した。
結果を表1に示す。
表1に示された結果は、本発明の方法がホスゲンを高い
効率で利用して炭酸ジアリールを製造しうろことを示唆
している。
実施例16 本発明の方法は図面の略図に従って配列された装置の2
つのループ中で連続的に行なわれた。この方法はフェノ
ールを管8によって、水酸化ナトリウム(苛性)を管6
によって混合器;ミキサー10へ送り、反応器−混合器
22及び24でホスゲンと接触する前にナトリウムフェ
ノキシドを生成することから成る。反応容器12及び2
8はがく拌され、2つの相を混合した状態に保つ。再循
環ポンプ20は管6及び8の合流した流れをミキサー1
0へ供給するために用いられる。ホスゲン管14は反応
器−混合器22及び24へ接続され、そこで、第1の反
応容器12へ送られる前にすトリウムフェノキシドと接
触する。管26はミキサー10からの出口管11へ結合
され、次いで、同じくかく拌機17、ホスゲン再循環管
3o及び反応ループ32.35を備えた第2の反応容器
28へ結合される。ミキサー9及び反応器−混合器21
及び23はミキサー10及び反応器−混合器22及び2
4と同じ機能を有する。管7は水酸化ナトリウム(苛性
)を再循環ポンプ19へ運ぶ。ホスゲン人口13は管3
5へ接続され、反応器−混合器21及び23へ通じる。
排気ガスは管36を通り、苛性スフラッパ−34へ送ら
れる。チッ素人口38.40及び42は反応容器及びフ
ェノール貯蔵タンクへ不活性保護気体を供給する。再循
環ポンプ19の出口の一部は連結部44で分割され、か
く拌機を備えたサージタンク45へ通じ、ここでガスは
管46を通してガス抜きされ、水酸化ナトリウムがさら
に管48を通して加えられる。
管50は粗炭酸ジフェニルを、チッ素人口41及びベン
ト54を備えたデカンタ−52へ送るのに用いられる。
反応により得られる塩水(NaCf)副生物を管56を
通してデカンタ−から回収し、塩水廃棄処理設備へ送る
前に塩水保持タンク58へ通す。炭酸ジフェニル生成物
をフレーカ−60へ送りここからフレークを容器62へ
放出することは任意である。
典型的には、実施例16に記載された装置は、管26を
開く前に反応混合物をループに再楯環させながら、95
%フェノール4ガロンを第1の反応器に装入し20%の
アルカリでpH7,8〜8゜0に維持し、12.5ポン
ド/時でホスゲン化させて連続的に作動させる。圧力は
チッ素ブランケットを用いて5ps1gに維持し、温度
は水ジヤケツト人口2及び水ジャケット出口3を通して
温度調節された水の流れによって71℃に保たれる。フ
ェノールの転換のために70%のホスゲンを加えた後、
分割された流れを管26を通し、第1の反応器12に4
0%のレベル(9ガロン)を維持しながら第2の反応器
へ送る。この時点で9596フエノールが管8を通して
4ガロン/時の速度で連続的に第1のループへ供給され
る。9ガロンのレベルが第2の反応器で確立されると、
再循環ポンプか始動され、ホスゲンが4.5ポンド/時
の速度で第2の反応器ループへ」1足して送られる。第
2の反応容器28内のpHは8.4に保たれる。
サージタンク45及びデカンタ−52でレベルが確1′
Lされた後、粗炭酸ジフェニルを貯蔵するか又は任意に
フレーカ−60へ移送し、塩水を底部より除く。
一連の試験において第2の反応器28のpHは8〜8.
8までの範囲で変え、混合及び反応滞留時間を変えた。
pHが低いとフェノキシド濃度は減少し、より低い変換
率となり望ましくないフェニルクロロホルメートの変換
率がより高くなる。
高いpHでは過剰の加水分解が起きる。このように第2
の反応器にとって良好な作動pHは8,2〜8.6、好
ましくは8.4である。反応滞留時間が長いと粗生成物
中のフェノール量を減少させ、全体のホスゲンの利用を
増加させる傾向がある。
粗炭酸ジフェニル中に残るフェノールは典型的には6〜
10重量%である。
明らかに、」−2に教示したところに照らして本発明の
その他の変形や変更は可能である。例えば、フェノール
をそれぞれ0−クレゾール及び0−クロロフェノールに
代えれば、炭酸ジ−オルト−クレジル及び炭酸ジ−オル
ト−クロロフェニルが生成する。従って、記載された本
発明の特定の具体例において、特許請求の範囲内で変更
を為しうろことは当然である。
【図面の簡単な説明】
図は二重ループ中での炭酸ジフェニルの連続的製造を示
す本発明の具体例の流れ図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)フェノール化合物をアルカリ金属水酸化物と
    接触させてアルカリ金属フェノキシド化合物を形成し、 (b)初期の三相反応系の非常に緊密な混 合物を供給し炭酸ジアリールを迅速に形成する反応器−
    混合器中において合成される炭酸ジアリールより高い温
    度で過剰の前記アルカリ金属フェノキシド化合物をホス
    ゲンと反応させ、及び (c)反応混合物から実質的に純粋な炭酸 ジアリールを回収する工程から成り、工程(a)及び(
    b)は互いに完全に分離されて、触媒の不在下で行なわ
    れる、炭酸ジアリールの合成方法。 2、炭酸ジアリールが炭酸ジフェニルである特許請求の
    範囲第1項記載の炭酸ジアリールの合成方法。 3、アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウムである特
    許請求の範囲第1項記載の炭酸ジアリールの合成方法。 4、反応が連続反応として行なわれる特許請求の範囲第
    1項記載の炭酸ジアリールの合成方法。 5、(a)フェノール及びアルカリ金属水酸化物を化合
    させてアルカリ金属フェノキシドを形成し、 (b)ホスゲン供給装置を備えた反応器− 混合器へ前記アルカリ金属フェノキシドを通し、該反応
    器−混合器が高い効率の混合帯域を与えると共に最初に
    形成される三相反応系がクロロホルメート中間体を迅速
    に通過して炭酸ジフェニルを生成するように炭酸ジフェ
    ニルの融点より高い温度にあるようにし、及び(c)反
    応器−混合器から炭酸ジフェニルを取り出して反応副生
    物から該炭酸エステルを分離して実質的に純粋な炭酸ジ
    フェニルを得る工程から成り、工程(a)は工程(b)
    より完全に分離されそして触媒の不在下で、行われる炭
    酸ジフェニルの連続的合成方法。 6、アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウムである特
    許請求の範囲第5項記載の炭酸ジフェニルの連続的合成
    方法。 7、反応器−混合器の内容物を、反応副生物からの炭酸
    ジフェニルの分離の前に、ホスゲン供給装置及びアルカ
    リ金属フェノキシド供給装置を備えた第2の反応器−混
    合器へ移す特許請求の範囲第5項記載の炭酸ジフェニル
    の連続的合成方法。 8、アルカリ金属フェノキシドを、形成される炭酸ジフ
    ェニルの融点より高い温度でホスゲンと接触させる特許
    請求の範囲第7項記載の炭酸ジフェニルの連続的合成方
    法。 9、未反応ホスゲンを第1の反応器−混合器から第2の
    反応器−混合器へ再循環させる特許請求の範囲第7項記
    載の炭酸ジフェニルの連続的合成方法。
JP61306676A 1985-12-31 1986-12-24 炭酸ジアリ−ルの製造方法 Expired - Lifetime JPH08795B2 (ja)

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