JPS62190146A - 炭酸ジアリ−ルの製造方法 - Google Patents
炭酸ジアリ−ルの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C68/00—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
- C07C68/02—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids from phosgene or haloformates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は炭酸ジアリールの製造に関する。より詳細には
、単−及び二重の再循環ループを用いた融解状態での炭
酸ジアリールの連続的製造に関する。
、単−及び二重の再循環ループを用いた融解状態での炭
酸ジアリールの連続的製造に関する。
従来の炭酸ジアリールの製造方法には、水と混和しない
溶剤の存在下触媒として第四アンモニウム化合物又はそ
の他の第三アミンの存在下で匁香族ヒドロキシ化合物を
ホスゲンと反応させることに礒づく方法がある。高温に
おいてホスゲンをO−クレゾールの高アルカリ性溶液中
に導入して炭酸ジアリールを製造することも知られてい
る。西ドイツ特許公報OL No、2509036を
参照のこと。
溶剤の存在下触媒として第四アンモニウム化合物又はそ
の他の第三アミンの存在下で匁香族ヒドロキシ化合物を
ホスゲンと反応させることに礒づく方法がある。高温に
おいてホスゲンをO−クレゾールの高アルカリ性溶液中
に導入して炭酸ジアリールを製造することも知られてい
る。西ドイツ特許公報OL No、2509036を
参照のこと。
工業的には、炭酸ジアリールは回分式スラリー法で製造
される。この方法は、アルカリの存在下pH10〜11
.55〜60℃においてアルカリの存在下ホスゲンをフ
ェノールと反応させることにより炭酸ジアリールを製造
するのに用いられる。
される。この方法は、アルカリの存在下pH10〜11
.55〜60℃においてアルカリの存在下ホスゲンをフ
ェノールと反応させることにより炭酸ジアリールを製造
するのに用いられる。
生成物は固体粒子として回収され、これは不純物を除去
するための熱水洗浄の間に一般に融解される。この方法
の主な欠点は多量の水を必要とし、固体を扱い、そして
フェニルクロロホルメート、塩及びその他の不純物を同
伴するため生成物の品質が劣ることである。従来の回分
法は副生物としてフェニルクロロ炭酸エステルを含んだ
炭酸ジアリールをもたらし、望みの生成物の収率は最適
に満たなかった。
するための熱水洗浄の間に一般に融解される。この方法
の主な欠点は多量の水を必要とし、固体を扱い、そして
フェニルクロロホルメート、塩及びその他の不純物を同
伴するため生成物の品質が劣ることである。従来の回分
法は副生物としてフェニルクロロ炭酸エステルを含んだ
炭酸ジアリールをもたらし、望みの生成物の収率は最適
に満たなかった。
炭酸ジアリールの主要な用途はエステル交換反応でポリ
カーボネートを製造する際の反応物質としてである。炭
酸ジフェニルのような炭酸ジアリールがフェニルクロロ
ホルメートで汚染されると、工業用グレードのポリカー
ボネート成形用樹脂を製造することは困難あるいは不可
能である。
カーボネートを製造する際の反応物質としてである。炭
酸ジフェニルのような炭酸ジアリールがフェニルクロロ
ホルメートで汚染されると、工業用グレードのポリカー
ボネート成形用樹脂を製造することは困難あるいは不可
能である。
従って、本発明の主な目的は高収率で高純度の炭酸ジア
リールを製造する方法を提供することである。
リールを製造する方法を提供することである。
本発明の目的はまた、触媒を必要とせずに高収率で炭酸
ジアリールを製造する方法を提供することである。
ジアリールを製造する方法を提供することである。
さらに本発明の目的は、連続的に操作され高収率で高純
度の炭酸ジアリールを製造する炭酸ジアリールの製造方
法を提供することである。
度の炭酸ジアリールを製造する炭酸ジアリールの製造方
法を提供することである。
発明の詳細な記述
本発明によれば、炭酸ジアリールを合成する方法は、
(a)フェノール化合物をアルカリ金属水酸化物と接触
させてアルカリ金属フェノキシド化合物を形成する工程
、 (b)非常に緊密な混合物をもたらす反応器−混合器に
おいて、合成される炭酸ジアリールの融点より高い温度
で前記アルカリ金属フェノキシドをホスゲンと連続的に
接触させ初期の三相反応系(気体、液体、有機物)がク
ロロホルメート中間体を迅速に通過して炭酸ジアリール
を生成する工程、及び (c)反応混合物より実質的に純粋な炭酸ジアリールを
回収する工程 から成る。
させてアルカリ金属フェノキシド化合物を形成する工程
、 (b)非常に緊密な混合物をもたらす反応器−混合器に
おいて、合成される炭酸ジアリールの融点より高い温度
で前記アルカリ金属フェノキシドをホスゲンと連続的に
接触させ初期の三相反応系(気体、液体、有機物)がク
ロロホルメート中間体を迅速に通過して炭酸ジアリール
を生成する工程、及び (c)反応混合物より実質的に純粋な炭酸ジアリールを
回収する工程 から成る。
アルカリ金属水酸化物水溶液によるホスゲンの加水分解
を避けるために、(b)工程から(a)工程を分離して
行なうことが必須である。また、ホスゲンを2つの液相
(炭酸ジアリール、フェノール化合物、フェノールクロ
ロホルメートから成る有機相;水、アルカリ金属塩化物
、アルカリ金属水酸化物、フェノール化合物及び副生物
から成る水相)と接触させるのは、高い効率な混合帯域
を提供する反応器−混合器、例えば管形モーションレス
ミキサーにおいて行なわれなけらばならない。これらの
条件下では不純物としてクロロホルメート中間体はほと
んど含まれず、高純度の炭酸ジアリールが高い収率で得
られる。
を避けるために、(b)工程から(a)工程を分離して
行なうことが必須である。また、ホスゲンを2つの液相
(炭酸ジアリール、フェノール化合物、フェノールクロ
ロホルメートから成る有機相;水、アルカリ金属塩化物
、アルカリ金属水酸化物、フェノール化合物及び副生物
から成る水相)と接触させるのは、高い効率な混合帯域
を提供する反応器−混合器、例えば管形モーションレス
ミキサーにおいて行なわれなけらばならない。これらの
条件下では不純物としてクロロホルメート中間体はほと
んど含まれず、高純度の炭酸ジアリールが高い収率で得
られる。
本発明の合成はまた、触媒の不在下で行われる。
これは、トリエチルアミンのような触媒の使用を必要と
する従来技術の方法に比べ重要な利点を与える。触媒の
必要性がなくなることは製造工程を簡略化し、大規模製
造に関連した材料及びトレーニング価格を低減させる。
する従来技術の方法に比べ重要な利点を与える。触媒の
必要性がなくなることは製造工程を簡略化し、大規模製
造に関連した材料及びトレーニング価格を低減させる。
本発明方法によって炭酸ジアリールを合成すると、以下
に実施例に示される通り、特殊な装置又は制御を要する
ことなく約90%又はそれ以上の劇的に改善された収率
が得られる。
に実施例に示される通り、特殊な装置又は制御を要する
ことなく約90%又はそれ以上の劇的に改善された収率
が得られる。
本発明の方法が炭酸ジフェニルを製造するのに用いられ
た場合に生じる反応の概要は次の通りである。
た場合に生じる反応の概要は次の通りである。
OH0−Na”
ホスゲン反応に効率の高い反応器−混合器を用いること
に加え、本発明の方法は、炭酸ジアリールが融解状態で
製造されるように行なわれる。炭酸ジフェニルについて
は融点は79℃であり、従って約80〜88℃の温度を
用いるのが便利であるが、所望によりこれより高い温J
Xを用いることもできる。
に加え、本発明の方法は、炭酸ジアリールが融解状態で
製造されるように行なわれる。炭酸ジフェニルについて
は融点は79℃であり、従って約80〜88℃の温度を
用いるのが便利であるが、所望によりこれより高い温J
Xを用いることもできる。
炭酸ジアリール生成物中の望ましくない汚染物質である
クロロホルメ−1・の吸蔵を避けるために、本方法は融
解状態で行われる。融解方法を用いる利点は、炭酸ジア
リールが懸濁法で製造される場合に′これを融解し洗浄
する必要を、回避できることである。
クロロホルメ−1・の吸蔵を避けるために、本方法は融
解状態で行われる。融解方法を用いる利点は、炭酸ジア
リールが懸濁法で製造される場合に′これを融解し洗浄
する必要を、回避できることである。
本発明の工程(a)においては、水酸化リチウム、水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム又はそれらの混合物のよ
うなアルカリ金属水酸化物を用いることができる。水酸
化ナトリウムが好ましく、約8.0〜約9,1、好まし
くは約8.0〜約8.3のpHが通常用いられる。
化カリウム、水酸化ナトリウム又はそれらの混合物のよ
うなアルカリ金属水酸化物を用いることができる。水酸
化ナトリウムが好ましく、約8.0〜約9,1、好まし
くは約8.0〜約8.3のpHが通常用いられる。
アルカリ金属水酸化物及びフェノール化合物を混合し、
本発明の実施において用いられる温度で十分に認められ
るアルカリ水溶液によるホスゲンの加水分解を避けるた
めに、ホスゲンの不在下で完全に反応させる。一般に、
炭酸ジフェニルの合成におけるすトリウムフェノキシド
の製造のためには、原料として約80〜90%フェノー
ル水溶液と約15〜50%の水酸化ナトリウム水溶液の
混合物を用いるのが好ましい。
本発明の実施において用いられる温度で十分に認められ
るアルカリ水溶液によるホスゲンの加水分解を避けるた
めに、ホスゲンの不在下で完全に反応させる。一般に、
炭酸ジフェニルの合成におけるすトリウムフェノキシド
の製造のためには、原料として約80〜90%フェノー
ル水溶液と約15〜50%の水酸化ナトリウム水溶液の
混合物を用いるのが好ましい。
本発明方法は、好ましくは、反応物質としてフェノール
を用いる炭酸ジフェニルの合成に適用される。その他の
対称炭酸ジアリールが、2−メチルフェノール、3−メ
チルフェノール、2.4−ジメチルフェノール、2−メ
トキシフェノール、4−メトキシフェノール、2−クロ
ロフェノール等のようなフェノール類を用いて製造でき
る。
を用いる炭酸ジフェニルの合成に適用される。その他の
対称炭酸ジアリールが、2−メチルフェノール、3−メ
チルフェノール、2.4−ジメチルフェノール、2−メ
トキシフェノール、4−メトキシフェノール、2−クロ
ロフェノール等のようなフェノール類を用いて製造でき
る。
本方法は後記の装置の1つのような適当な装置において
連続的に実施されるべきである。
連続的に実施されるべきである。
本方法の生成物は、後の反応において融解状態で直接使
用するのに十分純粋であり、あるいは後の使用のために
貯蔵することもできる。生成物はフレーク状とするか、
あるいはさらに精製してもよく、これは随意である。
用するのに十分純粋であり、あるいは後の使用のために
貯蔵することもできる。生成物はフレーク状とするか、
あるいはさらに精製してもよく、これは随意である。
本方法は、次の実施例において具体的に説明されるが、
これによって特許請求の範囲を限定するものではない。
これによって特許請求の範囲を限定するものではない。
好ましい具体例の記載
実施例1〜15
かく拌機、ホスゲン流入ローすトリウムフェノキシド送
給管、チッ素人ロ一温度計、p H電極及び溶液出口管
を備えた五つ口500m1樹脂釜を炭酸ジフェニルを製
造するために使用する。ナトリウムフェノキシドが混合
容器中で製造され、ここでフェノール−水混合物中のフ
ェノールは45重量%の水酸化ナトリウム溶液と化合す
る。ナトリウムフェノキシドをループの管接続口に供給
し、直管式反応器−混合器へ通す。ガス状ホスゲンを反
応器−混合器の直前で導入する。反応器−混合器からの
出口導管はナトリウムフェノキシド送給管及び溶液出口
管に接続している。樹脂釜に25Qmlの水と188g
の水を最初に入れることから始めて15回の操作を行な
った。塩化ナトリウム(塩水)及び炭酸ジフェニルの相
をさらに精製することなく融解している間に分離した。
給管、チッ素人ロ一温度計、p H電極及び溶液出口管
を備えた五つ口500m1樹脂釜を炭酸ジフェニルを製
造するために使用する。ナトリウムフェノキシドが混合
容器中で製造され、ここでフェノール−水混合物中のフ
ェノールは45重量%の水酸化ナトリウム溶液と化合す
る。ナトリウムフェノキシドをループの管接続口に供給
し、直管式反応器−混合器へ通す。ガス状ホスゲンを反
応器−混合器の直前で導入する。反応器−混合器からの
出口導管はナトリウムフェノキシド送給管及び溶液出口
管に接続している。樹脂釜に25Qmlの水と188g
の水を最初に入れることから始めて15回の操作を行な
った。塩化ナトリウム(塩水)及び炭酸ジフェニルの相
をさらに精製することなく融解している間に分離した。
結果を表1に示す。
表1に示された結果は、本発明の方法がホスゲンを高い
効率で利用して炭酸ジアリールを製造しうろことを示唆
している。
効率で利用して炭酸ジアリールを製造しうろことを示唆
している。
実施例16
本発明の方法は図面の略図に従って配列された装置の2
つのループ中で連続的に行なわれた。この方法はフェノ
ールを管8によって、水酸化ナトリウム(苛性)を管6
によって混合器;ミキサー10へ送り、反応器−混合器
22及び24でホスゲンと接触する前にナトリウムフェ
ノキシドを生成することから成る。反応容器12及び2
8はがく拌され、2つの相を混合した状態に保つ。再循
環ポンプ20は管6及び8の合流した流れをミキサー1
0へ供給するために用いられる。ホスゲン管14は反応
器−混合器22及び24へ接続され、そこで、第1の反
応容器12へ送られる前にすトリウムフェノキシドと接
触する。管26はミキサー10からの出口管11へ結合
され、次いで、同じくかく拌機17、ホスゲン再循環管
3o及び反応ループ32.35を備えた第2の反応容器
28へ結合される。ミキサー9及び反応器−混合器21
及び23はミキサー10及び反応器−混合器22及び2
4と同じ機能を有する。管7は水酸化ナトリウム(苛性
)を再循環ポンプ19へ運ぶ。ホスゲン人口13は管3
5へ接続され、反応器−混合器21及び23へ通じる。
つのループ中で連続的に行なわれた。この方法はフェノ
ールを管8によって、水酸化ナトリウム(苛性)を管6
によって混合器;ミキサー10へ送り、反応器−混合器
22及び24でホスゲンと接触する前にナトリウムフェ
ノキシドを生成することから成る。反応容器12及び2
8はがく拌され、2つの相を混合した状態に保つ。再循
環ポンプ20は管6及び8の合流した流れをミキサー1
0へ供給するために用いられる。ホスゲン管14は反応
器−混合器22及び24へ接続され、そこで、第1の反
応容器12へ送られる前にすトリウムフェノキシドと接
触する。管26はミキサー10からの出口管11へ結合
され、次いで、同じくかく拌機17、ホスゲン再循環管
3o及び反応ループ32.35を備えた第2の反応容器
28へ結合される。ミキサー9及び反応器−混合器21
及び23はミキサー10及び反応器−混合器22及び2
4と同じ機能を有する。管7は水酸化ナトリウム(苛性
)を再循環ポンプ19へ運ぶ。ホスゲン人口13は管3
5へ接続され、反応器−混合器21及び23へ通じる。
排気ガスは管36を通り、苛性スフラッパ−34へ送ら
れる。チッ素人口38.40及び42は反応容器及びフ
ェノール貯蔵タンクへ不活性保護気体を供給する。再循
環ポンプ19の出口の一部は連結部44で分割され、か
く拌機を備えたサージタンク45へ通じ、ここでガスは
管46を通してガス抜きされ、水酸化ナトリウムがさら
に管48を通して加えられる。
れる。チッ素人口38.40及び42は反応容器及びフ
ェノール貯蔵タンクへ不活性保護気体を供給する。再循
環ポンプ19の出口の一部は連結部44で分割され、か
く拌機を備えたサージタンク45へ通じ、ここでガスは
管46を通してガス抜きされ、水酸化ナトリウムがさら
に管48を通して加えられる。
管50は粗炭酸ジフェニルを、チッ素人口41及びベン
ト54を備えたデカンタ−52へ送るのに用いられる。
ト54を備えたデカンタ−52へ送るのに用いられる。
反応により得られる塩水(NaCf)副生物を管56を
通してデカンタ−から回収し、塩水廃棄処理設備へ送る
前に塩水保持タンク58へ通す。炭酸ジフェニル生成物
をフレーカ−60へ送りここからフレークを容器62へ
放出することは任意である。
通してデカンタ−から回収し、塩水廃棄処理設備へ送る
前に塩水保持タンク58へ通す。炭酸ジフェニル生成物
をフレーカ−60へ送りここからフレークを容器62へ
放出することは任意である。
典型的には、実施例16に記載された装置は、管26を
開く前に反応混合物をループに再楯環させながら、95
%フェノール4ガロンを第1の反応器に装入し20%の
アルカリでpH7,8〜8゜0に維持し、12.5ポン
ド/時でホスゲン化させて連続的に作動させる。圧力は
チッ素ブランケットを用いて5ps1gに維持し、温度
は水ジヤケツト人口2及び水ジャケット出口3を通して
温度調節された水の流れによって71℃に保たれる。フ
ェノールの転換のために70%のホスゲンを加えた後、
分割された流れを管26を通し、第1の反応器12に4
0%のレベル(9ガロン)を維持しながら第2の反応器
へ送る。この時点で9596フエノールが管8を通して
4ガロン/時の速度で連続的に第1のループへ供給され
る。9ガロンのレベルが第2の反応器で確立されると、
再循環ポンプか始動され、ホスゲンが4.5ポンド/時
の速度で第2の反応器ループへ」1足して送られる。第
2の反応容器28内のpHは8.4に保たれる。
開く前に反応混合物をループに再楯環させながら、95
%フェノール4ガロンを第1の反応器に装入し20%の
アルカリでpH7,8〜8゜0に維持し、12.5ポン
ド/時でホスゲン化させて連続的に作動させる。圧力は
チッ素ブランケットを用いて5ps1gに維持し、温度
は水ジヤケツト人口2及び水ジャケット出口3を通して
温度調節された水の流れによって71℃に保たれる。フ
ェノールの転換のために70%のホスゲンを加えた後、
分割された流れを管26を通し、第1の反応器12に4
0%のレベル(9ガロン)を維持しながら第2の反応器
へ送る。この時点で9596フエノールが管8を通して
4ガロン/時の速度で連続的に第1のループへ供給され
る。9ガロンのレベルが第2の反応器で確立されると、
再循環ポンプか始動され、ホスゲンが4.5ポンド/時
の速度で第2の反応器ループへ」1足して送られる。第
2の反応容器28内のpHは8.4に保たれる。
サージタンク45及びデカンタ−52でレベルが確1′
Lされた後、粗炭酸ジフェニルを貯蔵するか又は任意に
フレーカ−60へ移送し、塩水を底部より除く。
Lされた後、粗炭酸ジフェニルを貯蔵するか又は任意に
フレーカ−60へ移送し、塩水を底部より除く。
一連の試験において第2の反応器28のpHは8〜8.
8までの範囲で変え、混合及び反応滞留時間を変えた。
8までの範囲で変え、混合及び反応滞留時間を変えた。
pHが低いとフェノキシド濃度は減少し、より低い変換
率となり望ましくないフェニルクロロホルメートの変換
率がより高くなる。
率となり望ましくないフェニルクロロホルメートの変換
率がより高くなる。
高いpHでは過剰の加水分解が起きる。このように第2
の反応器にとって良好な作動pHは8,2〜8.6、好
ましくは8.4である。反応滞留時間が長いと粗生成物
中のフェノール量を減少させ、全体のホスゲンの利用を
増加させる傾向がある。
の反応器にとって良好な作動pHは8,2〜8.6、好
ましくは8.4である。反応滞留時間が長いと粗生成物
中のフェノール量を減少させ、全体のホスゲンの利用を
増加させる傾向がある。
粗炭酸ジフェニル中に残るフェノールは典型的には6〜
10重量%である。
10重量%である。
明らかに、」−2に教示したところに照らして本発明の
その他の変形や変更は可能である。例えば、フェノール
をそれぞれ0−クレゾール及び0−クロロフェノールに
代えれば、炭酸ジ−オルト−クレジル及び炭酸ジ−オル
ト−クロロフェニルが生成する。従って、記載された本
発明の特定の具体例において、特許請求の範囲内で変更
を為しうろことは当然である。
その他の変形や変更は可能である。例えば、フェノール
をそれぞれ0−クレゾール及び0−クロロフェノールに
代えれば、炭酸ジ−オルト−クレジル及び炭酸ジ−オル
ト−クロロフェニルが生成する。従って、記載された本
発明の特定の具体例において、特許請求の範囲内で変更
を為しうろことは当然である。
図は二重ループ中での炭酸ジフェニルの連続的製造を示
す本発明の具体例の流れ図である。
す本発明の具体例の流れ図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)フェノール化合物をアルカリ金属水酸化物と
接触させてアルカリ金属フェノキシド化合物を形成し、 (b)初期の三相反応系の非常に緊密な混 合物を供給し炭酸ジアリールを迅速に形成する反応器−
混合器中において合成される炭酸ジアリールより高い温
度で過剰の前記アルカリ金属フェノキシド化合物をホス
ゲンと反応させ、及び (c)反応混合物から実質的に純粋な炭酸 ジアリールを回収する工程から成り、工程(a)及び(
b)は互いに完全に分離されて、触媒の不在下で行なわ
れる、炭酸ジアリールの合成方法。 2、炭酸ジアリールが炭酸ジフェニルである特許請求の
範囲第1項記載の炭酸ジアリールの合成方法。 3、アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウムである特
許請求の範囲第1項記載の炭酸ジアリールの合成方法。 4、反応が連続反応として行なわれる特許請求の範囲第
1項記載の炭酸ジアリールの合成方法。 5、(a)フェノール及びアルカリ金属水酸化物を化合
させてアルカリ金属フェノキシドを形成し、 (b)ホスゲン供給装置を備えた反応器− 混合器へ前記アルカリ金属フェノキシドを通し、該反応
器−混合器が高い効率の混合帯域を与えると共に最初に
形成される三相反応系がクロロホルメート中間体を迅速
に通過して炭酸ジフェニルを生成するように炭酸ジフェ
ニルの融点より高い温度にあるようにし、及び(c)反
応器−混合器から炭酸ジフェニルを取り出して反応副生
物から該炭酸エステルを分離して実質的に純粋な炭酸ジ
フェニルを得る工程から成り、工程(a)は工程(b)
より完全に分離されそして触媒の不在下で、行われる炭
酸ジフェニルの連続的合成方法。 6、アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウムである特
許請求の範囲第5項記載の炭酸ジフェニルの連続的合成
方法。 7、反応器−混合器の内容物を、反応副生物からの炭酸
ジフェニルの分離の前に、ホスゲン供給装置及びアルカ
リ金属フェノキシド供給装置を備えた第2の反応器−混
合器へ移す特許請求の範囲第5項記載の炭酸ジフェニル
の連続的合成方法。 8、アルカリ金属フェノキシドを、形成される炭酸ジフ
ェニルの融点より高い温度でホスゲンと接触させる特許
請求の範囲第7項記載の炭酸ジフェニルの連続的合成方
法。 9、未反応ホスゲンを第1の反応器−混合器から第2の
反応器−混合器へ再循環させる特許請求の範囲第7項記
載の炭酸ジフェニルの連続的合成方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US815205 | 1985-12-31 | ||
US06/815,205 US4697034A (en) | 1985-11-15 | 1985-12-31 | Process for making diaryl carbonates |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62190146A true JPS62190146A (ja) | 1987-08-20 |
JPH08795B2 JPH08795B2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=25217167
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61306676A Expired - Lifetime JPH08795B2 (ja) | 1985-12-31 | 1986-12-24 | 炭酸ジアリ−ルの製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4697034A (ja) |
EP (1) | EP0228672B1 (ja) |
JP (1) | JPH08795B2 (ja) |
DE (1) | DE3677928D1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02175722A (ja) * | 1988-09-22 | 1990-07-09 | Nippon G Ii Plast Kk | ポリカーボネートの製造方法 |
JP2008230175A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | フレーク状ジアリールカーボネートの製造方法及びフレーク状ジアリールカーボネートの取り扱い方法 |
JP2012166559A (ja) * | 2012-04-20 | 2012-09-06 | Mitsubishi Chemicals Corp | フレーク状ジアリールカーボネートの取り扱い方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5498319A (en) * | 1993-06-29 | 1996-03-12 | General Electric Company | Process for purifying diaryl carbonates |
DE10063869A1 (de) * | 2000-12-21 | 2002-06-27 | Bayer Ag | Kontinuierliches Verfahren zur Herstellung von Kohlensäurediarylester |
US10059594B2 (en) | 2013-07-26 | 2018-08-28 | Sabic Global Technologies B.V. | Method and apparatus for producing high purity phosgene |
US9663373B2 (en) | 2013-07-26 | 2017-05-30 | Sabic Global Technologies B.V. | Method and apparatus for producing high purity phosgene |
JP6316446B2 (ja) | 2014-02-04 | 2018-04-25 | サビック グローバル テクノロジーズ ベスローテン フェンノートシャップ | カーボネートの製造方法 |
US9670131B2 (en) | 2014-02-04 | 2017-06-06 | Sabic Global Technologies B.V. | Method for producing carbonates |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2335441A (en) * | 1940-08-02 | 1943-11-30 | Gen Chemical Corp | Manufacture of diphenyl carbonates |
DE1101386B (de) * | 1956-12-04 | 1961-03-09 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung monomerer Kohlensaeureester |
DE1056141B (de) * | 1957-04-08 | 1959-04-30 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Diarylcarbonaten |
GB841651A (en) * | 1958-02-25 | 1960-07-20 | Nat Aluminate Corp | Metal lubricants |
US3251873A (en) * | 1962-07-03 | 1966-05-17 | Union Carbide Corp | Process for preparing diaryl carbonates |
DE2447348C2 (de) * | 1974-10-04 | 1983-11-10 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von Diarylcarbonaten |
DE2509036C2 (de) * | 1975-03-01 | 1986-05-28 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von symmetrischen Diarylcarbonaten |
-
1985
- 1985-12-31 US US06/815,205 patent/US4697034A/en not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-12-18 EP EP86117686A patent/EP0228672B1/en not_active Expired
- 1986-12-18 DE DE8686117686T patent/DE3677928D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-12-24 JP JP61306676A patent/JPH08795B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02175722A (ja) * | 1988-09-22 | 1990-07-09 | Nippon G Ii Plast Kk | ポリカーボネートの製造方法 |
JPH0618868B2 (ja) * | 1988-09-22 | 1994-03-16 | 日本ジーイープラスチックス株式会社 | ポリカーボネートの製造方法 |
JP2008230175A (ja) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Mitsubishi Chemicals Corp | フレーク状ジアリールカーボネートの製造方法及びフレーク状ジアリールカーボネートの取り扱い方法 |
JP2012166559A (ja) * | 2012-04-20 | 2012-09-06 | Mitsubishi Chemicals Corp | フレーク状ジアリールカーボネートの取り扱い方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0228672B1 (en) | 1991-03-06 |
DE3677928D1 (de) | 1991-04-11 |
US4697034A (en) | 1987-09-29 |
EP0228672A3 (en) | 1988-05-25 |
JPH08795B2 (ja) | 1996-01-10 |
EP0228672A2 (en) | 1987-07-15 |
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