JP3413497B2

JP3413497B2 - ビスフェノールａの製造方法

Info

Publication number: JP3413497B2
Application number: JP31635292A
Authority: JP
Inventors: 佐知夫浅岡; 幸治坂下; 昭夫進藤; 信幸須田; 誠野村
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 1991-10-30
Filing date: 1992-10-30
Publication date: 2003-06-03
Anticipated expiration: 2018-06-03
Also published as: JPH05345737A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビスフェノールＡの製
造方法に関するものである。

【０００２】

【従来技術及びその問題点】ビスフェノールＡ〔２，２
−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）プロパン〕を製造
するために、酸触媒の存在下、過剰のフェノールにアセ
トンを反応させることは知られている。また、この反応
生成物から高純度ビスフェノールＡを分離回収するため
に、反応生成物を晶析してビスフェノールＡとフェノー
ルとの結晶アダクト（以下、単に結晶アダクトとも言
う）を析出させ、得られた結晶アダクトからフェノール
を除去することも知られている（特公昭３６−２３３３
５号、特公昭５２−４２７９０号）。さらに、前記晶析
工程で得られた結晶アダクトを分離した後の母液（フェ
ノール溶液）を反応工程へ循環使用することも知られて
いる。

【０００３】ところで、ビスフェノールＡを含むフェノ
ール溶液の晶析生成物から分離された母液には、多量の
フェノール及びビスフェノールＡの他、少量のビスフェ
ノールＡの異性体である２−（２′−ヒドロキシフェニ
ル）−２−（４′−ヒドロキシフェニル）−プロパン
（以下、単に２，４′−ビスフェノールＡと言う）等の
ビスフェノール化合物、トリスフェノール、高分子量の
ポリフェノール化合物、クロマン化合物等の副生物を含
み、さらに、極く少量の着色不純物や着色性不純物が含
まれている。そして、この母液は、その着色した不純物
や着色しやすい不純物を含むため、加熱により高い着色
濃度を与える着色した液体となっている。このような母
液は、ビスフェノールＡの反応原料となるフェノールや
目的物であるビスフェノールＡを含むことから反応系に
循環して再使用されるが、そのまま循環すると、前記副
生物や、着色不純物及び着色性不純物の蓄積が起ること
から、それらの副生物や不純物の除去を行うことが必要
となる。このため、母液を反応系に循環使用するに際
し、母液の少なくとも一部を酸型陽イオン交換樹脂から
なる吸着剤と接触させて着色物を吸着除去し、その後反
応系に循環する方法（特公昭５５−３４７７９号）が知
られている。しかし、この方法では、母液中の不純物の
一部が吸着除去されるだけであるので、循環母液中には
依然として相当量の副生物や不純物が残存し、その蓄積
を防止することはできない。

【０００４】特開平１−２３０５３８号公報によれば、
フェノールとアセトンを反応させて得られる反応生成物
を第１晶析し、得られた第１晶析生成物から第１結晶ア
ダクトと第１母液を得、第１結晶アダクトからフェノー
ルを除去してビスフェノールＡを得る一連の主工程と、
前記第１母液にイソプロペニルフェノールとフェノール
を混合し、酸触媒の存在下で反応させて得られる反応生
成物を第２晶析し、得られた第２晶析生成物から第２結
晶アダクトと第２母液を得、第２結晶アダクトはこれを
前記第１晶析工程へ循環し、一方、第２母液は、これを
塩基性触媒の存在下で反応処理してイソプロペニルフェ
ノールとフェノールを含む反応生成物となした後、前記
イソプロペニルフェノール及びフェノールとして循環使
用する一連の副工程とからなるビスフェノールＡの製造
方法が提案されている。この方法は、副工程を用い、フ
ェノールとアセトンとの反応生成物を晶析して得られる
母液をフェノールとアセトンとの反応系に循環しないた
め、反応系に副生物や不純物の蓄積が起こらないという
利点はあるが、副工程においては、ポリフェノール以外
の副生物や不純物の蓄積が起るため、副工程で得られる
第２結晶アダクトの純度が悪いものとなる。また、第２
結晶アダクトの純度を高めようとすると、副工程からの
第２母液の一部を系外へ排出させる必要があるが、この
場合には、その母液には、ビスフェノールＡや、フェノ
ール、ポリフェノールが含まれているため、それら有用
成分の損失が起こるという問題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機的に結
合された一連の工程により、反応系における副生物や不
純物の蓄積を効果的に防止し、高純度のビスフェノール
Ａを取得するビスフェノールＡの製造方法を提供するこ
とをその課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。即ち、本発明によれば、アセトンと過剰量の
フェノールとを酸触媒の存在下で反応させてビスフェノ
ールＡを生成させる反応工程、該反応工程から得られた
反応生成物を、アセトンと、水と、フェノールと、ビス
フェノールＡを含むフェノール溶液とに分離する分離工
程、該ビスフェノールＡを含むフェノール溶液からビス
フェノールＡとフェノールとの結晶アダクトを析出させ
る晶析工程、該晶析工程で得られた晶析生成物から結晶
アダクトと母液を分離する晶析生成物分離工程、該晶析
生成物分離工程で得られた結晶アダクトを液化する結晶
アダクト液化工程、該結晶アダクト液化工程で得られた
ビスフェノールＡを含むフェノール溶液からフェノール
を除去する脱フェノール工程及び該脱フェノール工程か
ら得られたビスフェノールＡを造粒するビスフェノール
Ａの造粒工程を備え、さらに、前記分離工程から分離さ
れたアセトンを反応工程に循環させるアセトン循環工
程、該分離工程で得られたフェノールの少なくとも一部
を晶析生成物分離工程に結晶アダクト洗浄液として循環
させるフェノール循環工程、該晶析生成物で分離工程で
得られた母液を反応工程に循環させる母液循環工程及び
該循環母液の一部を精製する母液精製工程及び該母液精
製工程で得られた精製母液を反応工程に循環させる精製
母液工程を含み、該母液精製工程が、（ｉ）該母液を蒸留塔に導入し、該蒸留塔に導入した母
液の５０〜９０重量％を留出させてフェノールを含む留
出液を得る蒸留工程、（ii）該蒸留工程（ｉ）で得られた蒸留塔の塔底液を、
塩基性触媒の存在下で２００〜３５０℃に加熱する加熱
工程、（iii)該加熱工程（ii）で得られた生成物を減圧蒸発し
て、フェノール及びイソプロペニルフェノールを含む留
出蒸気を得る減圧回収工程、（iv）該減圧回収工程（iii)で得られた留出蒸気を、蒸
留工程（ｉ）で得られた留出液と接触させて急冷する急
冷工程、からなることを特徴とするビスフェノールＡの製造方法
が提供される。

【０００７】次に本発明を図面を参照しながら説明す
る。図１は、本発明によりビスフェノールＡを製造する
ための工程図である。図１において、１は反応工程、２
は分離工程、３は晶析工程、４は晶析生成物分離工程、
５は液化工程、６は脱フェノール工程、７は造粒工程、
８は蒸留工程、９は加熱工程、１０は減圧回収工程を各
示す。

【０００８】反応工程１においては、酸触媒の存在下で
アセトンと過剰量のフェノールとの反応が行われ、これ
によりビスフェノールＡが生成される。酸触媒として
は、塩酸や硫酸等の鉱酸や、スルホン酸基を有する強酸
型イオン交換樹脂が用いられるが、強酸型イオン交換樹
脂の使用が好ましい。フェノールの使用量は、アセトン
１モルに対して８〜２０モル、好ましくは１０〜１８モ
ルの割合である。反応温度は、５０〜９０℃である。こ
の反応工程１で得られた反応生成物は、目的物であるビ
スフェノールＡの他、ビスフェノールＡの異性体である
２，４′−ビスフェノールＡ等のビスフェノール化合
物、トリスフェノール化合物、高分子量のポリフエノー
ル化合物、クロマン化合物及び水等の副生物を含み、さ
らに着色不純物や着色性不純物を含む。この反応生成物
の代表的組成を示すと、未反応フェノール：６０〜９０
ｗｔ％、好ましくは７０〜８０ｗｔ％、未反応アセト
ン：０．１〜２ｗｔ％、好ましくは０．５〜１．５ｗｔ
％、ビスフェノールＡ：１５〜３０ｗｔ％、好ましくは
１８〜２５ｗｔ％、水：０．１〜２ｗｔ％、好ましくは
０．５〜１．５ｗｔ％、副生ポリフェノール化合物：２
〜１５ｗｔ％、好ましくは５〜１０ｗｔ％である。この
反応生成物は、ライン１１を通って分離工程２へ導入さ
れる。

【０００９】分離工程２は、反応工程１で得られた反応
生成物を分離処理して、主に、アセトン、水、フェノー
ル及びビスフェノールＡを含むフェノール溶液にそれぞ
れ分離する工程である。この分離工程２で分離されたア
セトンはライン１２を通って反応工程１に循環され、水
はライン１３を通って排出され、フェノールはライン１
４を通って洗浄用フェノールとして晶析生成物分離工程
４に導入され、ビスフェノールＡを含むフェノール溶液
はライン１５を通って晶析工程３に導入される。分離工
程２は、通常、複数の蒸留塔を含む蒸留処理工程から構
成され、反応生成物を前記した特定成分に分離し得るよ
うに構成されたものであれば任意の分離工程を採用する
ことができる。図２に、本発明の分離工程２として好ま
しく採用される反応生成物の蒸留処理系統図を示す。図
２において、３１は第１蒸留塔、３２は第２蒸留塔、３
３は第３蒸留塔、３４は第４蒸留塔、３５は強酸型イオ
ン交換樹脂処理装置、３６，３７は静置槽を示す。

【００１０】フェノールとアセトンとの反応を行う反応
工程１で得られた反応生成物は、ライン３８を通して、
第１蒸留処理工程を構成する第１蒸留塔３１に導入さ
れ、この第１蒸留塔３１において、未反応フェノール、
ビスフェノールＡ及び副生物を含む塔底物(Ｉ)と、未反
応フェノール、未反応アセトン及び水を含む塔頂物(Ｉ)
とに分離される。

【００１１】第１蒸留塔からの塔頂物(Ｉ)の成分組成を
示すと、フェノール：６０〜９０ｗｔ％、好ましくは８
０〜９０ｗｔ％、アセトン：２〜２０ｗｔ％、好ましく
は５〜１０ｗｔ％、水：５〜２０ｗｔ％、好ましくは５
〜１０ｗｔ％である。一方、第１蒸留塔からの塔底物
(Ｉ)の成分組成を示すと、フェノール：５０〜８０ｗｔ
％、好ましくは６５〜７５ｗｔ％、ビスフェノールＡ：
１８〜３０ｗｔ％、好ましくは２０〜２５ｗｔ％、副生
物：５〜２０ｗｔ％、好ましくは５〜１０ｗｔ％であ
る。

【００１２】前記第１蒸留塔で得られた塔頂物（Ｉ）は
ライン４０を通って第２蒸留処理工程を構成する第２蒸
留塔３２に導入され、一方、前記第１蒸留塔３１で得ら
れた塔底物(Ｉ)(ビスフェノールＡを含むフェノール溶
液)は、ライン３９を通って抜出され、晶析用原料とし
て、図１のライン１５を通って晶析工程３に送られる。

【００１３】第２蒸留塔３２においては、油性共沸剤の
存在下で蒸留処理が行われ、アセトン、水及び共沸剤か
らなる塔頂物（II）が得られる。この塔頂物（II）の成
分組成は、アセトン：２〜２０ｗｔ％、好ましくは５〜
２０ｗｔ％、水：１０〜３０ｗｔ％、好ましくは１５〜
２５ｗｔ％であり、共沸剤：４０〜８０ｗｔ％、好まし
くは５０〜７０ｗｔ％である。塔底からは、塔底物(II)
としてフェノールが得られる。第２蒸留塔３２の塔底物
（II）中のアセトンの含有量は５ｗｔ％以下、好ましく
はゼロ％である。共沸剤は、第２蒸留塔の運転条件を調
節して、第２蒸留塔の塔底物中に少量、特に５重量％以
下、好ましくは１重量％以下の割合で存在させるのが好
ましい。これにより、塔頂物へのフェノール混入量を低
減させることができる。

【００１４】第２蒸留塔３２の塔頂からの塔頂物（II）
は、ライン４２を通って静置工程を構成する静置槽３６
に導入され、ここでアセトンと共沸剤からなる油性成分
と、アセトンと水からなる水性成分とに分離される。こ
の静置槽３６で分離された油性成分はライン４４を通っ
て及び水性成分はライン４５を通ってそれぞれ第３蒸留
塔３３に導入される。第２蒸留塔３２の塔頂物（II）を
静置槽３６により油性成分と水性成分とに分離すること
により、その塔頂物（II）を第３蒸留工程へ安定的に供
給できる。しかし、この静置槽３６の設置は必ずしも必
要とされず、塔頂物(II)は、ライン４２を通して直接第
３蒸留塔へ供給することも可能である。一方、第２蒸留
塔３２からのフェノールからなる塔底物（II）は、ライ
ン４１を通って、必要に応じ、強酸型イオン交換樹脂処
理装置３５を介して第４蒸留処理工程を構成する第４蒸
留塔３４に導入される。

【００１５】油性共沸剤としては、沸点範囲が８０〜１
４０℃、好ましくは１００〜１４０℃の炭化水素油が用
いられる。共沸剤の具体例としては、トルエン、エチル
ベンゼン、キシレン等が挙げられる。この共沸剤は、前
記したように、第２蒸留塔３２運転開始に際しては、ラ
イン４３より第２蒸留塔３２と第３蒸留塔３３を循環す
るための必要量を系外より塔内に供給され、運転開始後
においては、静置槽３７で分離された後、ライン４３を
通って第２蒸留塔３２に返還される。

【００１６】第３蒸留処理工程を構成する第３蒸留塔３
３においては、塔頂物（III）としてアセトンが得ら
れ、このものはライン４６を通って抜出され、図１に示
したライン１２を通って反応工程１に循環される。この
循環アセトン中の水含有量は５ｗｔ％以下、好ましくは
３ｗｔ％以下である。一方、第３蒸留塔３３の塔底から
は、水と共沸剤からなる塔底物（III）が得られるが、
このものは、ライン４７を通って静置工程を構成する静
置槽３７に導入され、ここで共沸剤と水とに分離され
る。共沸剤はライン４３を通って第２蒸留塔３２に循環
される。一方、水はライン４８を通って排出される。こ
の排水中に含まれるアセトン含有量は５ｗｔ％以下、好
ましくはゼロ％である。

【００１７】強酸型イオン交換樹脂処理装置３５におい
ては、その強酸型イオン交換樹脂が触媒となって、塔底
物(II)(フェノール)中に含まれる着色不純物や、着色不
純物前駆体等の縮合性不純物が縮合反応して、タール状
高沸点物に変換される。この場合、縮合性不純物として
は、ベンゾフラン等が挙げられる。強酸型イオン交換樹
脂としては、スルホン基を有するゲル型のものが用いら
れ、このような強酸型イオン交換樹脂は、従来良く知ら
れているものである。例えば、ロームアンドハース社か
ら入手し得るアンバーライト及びアンバーリストや、三
菱化成社から入手し得るダイヤイオン等を好ましく用い
ることができる。この強酸型イオン交換樹脂を用いる塔
底物(II)の処理は、塔底物(II)を強酸型イオン交換樹脂
を含む充填塔に流通させる方法や、強酸型イオン交換樹
脂を入れた撹拌槽に塔底物(II)を入れて撹拌する方法等
により実施することができる。処理温度は４５〜１５
０、好ましくは５０〜１００℃である。強酸型イオン交
換樹脂と塔底物(II)との接触時間は、５〜２００分、好
ましくは１５〜６０分程度である。この強酸型イオン交
換樹脂を用いて塔底物（II）の処理を行う場合、塔底物
(II)中に水分が混入すると、強酸型イオン交換樹脂によ
る不純物除去効果が低下する。この蒸留処理法において
は、前記のように、第２蒸留塔３２においては、水が塔
頂物成分としてほぼ完全に分離され、塔底物として得ら
れるフェノール中には水は実質上含まれてこないことか
ら、その塔底物(II)の強酸型イオン交換樹脂処理は円滑
に実施される。

【００１８】強酸型イオン交換樹脂処理装置３５には、
必要に応じ、未精製フェノールをライン４９を通して、
ライン４１を通る塔底物(II)と混合して導入することが
できる。未精製フェノールには、工業用フェノールや、
晶析工程で得られた母液フェノール及び洗浄廃液フェノ
ール等が挙げられる。

【００１９】強酸型イオン交換樹脂処理装置３５で得ら
れる処理生成物はライン５０を通って第４蒸留塔３４に
導入され、ここでフェノールからなる塔頂物（IV）と、
タール状高沸点物質からなる塔底物（IV）に分離され
る。この蒸留塔の運転条件はフェノールと高沸点物質と
が完全に分離できる条件であることが必要であり、フェ
ノール中に高沸点物質が混入しない条件で行う必要があ
る。この場合の留意すべきポイントは、蒸留処理温度を
１９０℃以下にすることである。１９０℃以下の温度で
あれば運転圧力は任意に設定されるが、通常５０Ｔｏｒ
ｒ〜７６０Ｔｏｒｒの減圧ないし常圧が採用される。運
転温度が１９０℃をこえると高沸点物質等の分解が著し
くなり、留出フェノールの品質を低下させるので好まし
くない。この第４蒸留塔３４においては、導入されるフ
ェノールの９５重量％以上、好ましくは９９重量％以上
が留出される。第４蒸留塔３４の塔頂から得られるフェ
ノールは色相の良好なもので、その色相ＡＰＨＡは、１
０以下である。この精製フェノールは、ライン５２を通
して抜出され、少なくともその一部は、図１に示したラ
イン１４を通して晶析生成物分離工程４に導入され、高
純度ビスフェノールＡを得るための結晶アダクトの洗浄
液として使用される。また、この精製フェノールは、必
要に応じ反応工程１に循環使用することもできる。第４
蒸留塔３４の底部からライン５１を通って抜出される塔
底物（IV）は、通常、フェノール：１０〜９０重量％
と、高沸点物質：１０〜６０重量％を含む混合物からな
る。この塔底物（IV）の量は少量であるため、そのまま
系外へ排出させることができる。

【００２０】図２に示した反応生成物の分離工程によれ
ば、第２蒸留塔３２における蒸留は、共沸剤の存在下で
行われていることから、水及びアセトンの実質的全量を
塔頂物（II）として分離することができる。そしてこの
塔頂物（II）は第３蒸留塔３３で水とアセトンとにほぼ
完全に分離させることができる。即ち、第３蒸留塔３３
に供給されるアセトンの実質的全量を第３蒸留塔の塔頂
物（III）として分離することができ、第３蒸留塔３３
の塔底物（III）には、実質上アセトンの混入はない。
この結果、静置槽３７から抜出される排水にはアセトン
の混入がなく、その排水からアセトンを除去するような
面倒な廃水処理の問題は解消される。また、第３蒸留塔
３３から塔頂物（III）として分離されるアセトン中に
も水は殆ど混入されないことから、アセトンの再利用も
容易である。

【００２１】図３に、本発明の分離工程２として採用す
ることのできる他の蒸留処理系統図を示す。図３におい
て、３１は第１蒸留塔、３２は第２蒸留塔、３３は第３
蒸留塔、３４は第４蒸留塔、３５は強酸型イオン交換樹
脂処理装置を示す。

【００２２】フェノールとアセトンとの反応を行う反応
工程１で得られた生成物は、ライン３８を通して、第１
蒸留処理工程を構成する第１蒸留塔３１に導入され、こ
こで未反応フェノール、ビスフェノールＡ及び副生物を
含む塔底物（Ｉ）と、未反応フェノール、未反応アセト
ン及び水を含む塔頂物（Ｉ）とに分離される。第１蒸留
塔３１は、その塔頂物(Ｉ)中のフェノール含有量が４０
ｗｔ％以下、好ましくは３０ｗｔ％以下の範囲になるよ
うに操作される。これにより、第２蒸留塔３２から得ら
れる塔項物（II）中の水含有量を５ｗｔ％以下、特に２
ｗｔ％以下に抑制することができる。第１蒸留塔３１の
塔頂物（Ｉ）の成分組成を示すと、フェノール：４０ｗ
ｔ％以下、好ましくは３０ｗｔ％以下、アセトン：２０
〜４５ｗｔ％、好ましくは３０〜４０ｗｔ％、水：２０
〜４５ｗｔ％、好ましくは３０〜４０ｗｔ％である。一
方、第１蒸留塔３１の塔底物（Ｉ）の成分組成を示す
と、フェノール：５５〜８０ｗｔ％、好ましくは６５〜
７５ｗｔ％、ビスフェノールＡ：１８〜３０ｗｔ％、好
ましくは２０〜２５ｗｔ％、副生物：５〜１５ｗｔ％、
好ましくは６〜１０ｗｔ％である。前記第１蒸留塔３１
で得られた塔頂物（Ｉ）はライン４０を通って第２蒸留
処理工程を構成する第２蒸留塔３２に導入され、一方、
前記第１蒸留塔３１で得られた塔底物（Ｉ）はライン３
９を通って第４蒸留塔３４に導入される。

【００２３】第２蒸留塔３２においては、アセトンが塔
頂物（II）として得られ、このものは、ライン４６を通
して抜出され、図１に示すライン１２を通って反応工程
１に循環される。この循環アセトン中の水含有量は、１
０ｗｔ％以下、好ましくは５ｗｔ％以下である。一方、
第２蒸留塔３２の塔底からは、フェノールと水との混合
物からなる塔底物(II)が得られ、このものは、ライン４
７を通って第３蒸留塔３３に導入される。第２蒸留塔３
２の塔底物(II)の成分組成は、フェノール：４０〜６０
ｗｔ％、好ましくは４０〜５０ｗｔ％、水：４０〜６０
ｗｔ％、好ましくは５０〜６０ｗｔ％であり、アセトン
の含有量は１ｗｔ％以下である。

【００２４】第３蒸留処理工程を構成する第３蒸留塔３
３においては、塔頂物(III)として水が得られ、このも
のはライン４８を通って排出される。一方、第３蒸留塔
３３の塔底からは、フェノールからなる塔底物(III)が
得られるが、このものはライン４１を通って強酸型イオ
ン交換樹脂処理装置３５で処理された後、第４蒸留処理
工程を構成する第４蒸留塔３４に導入される。また、こ
の第３蒸留塔３３の塔底物(III)には、必要に応じ、未
精製フェノールをライン４９を介して添加し、強酸型イ
オン交換樹脂処理装置３５に導入することができる。こ
の場合、未精製フェノールとしては、工業用フェノール
や、晶析工程で得られる母液フェノール、洗浄廃液フェ
ノール等が挙げられる。

【００２５】強酸型イオン交換樹脂処理装置３５におい
ては、その強酸型イオン交換樹脂が触媒となって、フェ
ノール中に含まれる着色不純物や着色不純物前駆体等の
縮合性不純物が縮合反応して、タール状高沸点物に変換
される。強酸型イオン交換樹脂処理装置３５で得られる
処理生成物はライン５０を通って第４蒸留処理工程を構
成する第４蒸留塔３４に導入され、ここでフェノールが
塔頂物（IV）として取得される。また、この第４蒸留塔
３４には、第１蒸留塔３１の塔底物（Ｉ）（ビスフェノ
ールＡを含むフェノール溶液）がライン３９を通して導
入される。この第４蒸留塔３４においては、その塔頂か
らフェノールが留出されるが、このフェノールは色相の
良好なもので、その色相ＡＰＨＡは、１０以下である。
この精製フェノールは、図１に示すようにその少なくと
も一部は、ライン１４を通して晶析生成物分離工程４に
循環され、高純度ビスフェノールＡを得るための結晶ア
ダクトの洗浄液として使用される。また、この精製フェ
ノールは、必要に応じ反応工程１に循環使用することが
できる。第４蒸留塔３４の底部からライン５１を通って
抜出される塔底物（IV）は、通常、ビスフェノールを１
５〜３０ｗｔ％、好ましくは、２０〜２５ｗｔ％を含
み、フェノールを５０〜８０重量％、好ましくは６５〜
７５重量％含み、さらに副生物を５〜１５重量％、好ま
しくは６〜１０重量％の割合で含むもので、図１に示す
ように、ライン１５を通して晶析用原料として晶析工程
３へ導入される。なお、第１蒸留塔３１の塔底物（Ｉ）
は、第４蒸留塔３４に導入せずに、そのまま晶析工程３
へ導入することもできる。

【００２６】図３に示した反応生成物の分離工程によれ
ば、第１蒸留塔３１から得られる塔頂物（Ｉ）中のフェ
ノール含有量を４０重量％以下に保持することにより、
第２蒸留塔３２に供給されるアセトンの実質的全量を第
２蒸留塔の塔頂物（II）として分離することができ、第
２蒸留塔２の塔底物（II）には、実質上アセトンの混入
はない。この結果、第３蒸留塔３３において、その塔頂
物(III)として分離される水にはアセトンの混入がな
く、その分離水からアセトンを除去するような面倒な廃
水処理の問題は解消される。また、この分離工程によれ
ば、第３蒸留塔内には、アセトンが存在しないため、効
率よくその蒸留操作を行うことができる。

【００２７】晶析工程３は、前記のようにして分離工程
２で得られたビスフェノールＡを含む溶液を冷却して、
ビスフェノールＡとフェノールとの結晶アダクトを析出
させる工程である。この場合、晶析温度は３５〜８０
℃、好ましくは４５〜７０℃である。この晶析工程で得
られた晶析生成物（結晶アダクトスラリー）は、図１に
おいてライン１６を通して晶析生成物分離工程４に導入
される。晶析工程３は、１つ又は複数の晶析段階からな
ることができるが、その晶析工程の１つの例についての
晶析系統図を図４に示す。図４において、５５は外筒、
５６は内筒、５７は微結晶アダクト溶解タンク、５８は
冷却器、５９は加熱器、６０、６１はポンプ、Ａは晶析
塔を示す。晶析塔Ａは、密閉構造の外筒５５内に上部に
開口部を有する内筒５６を挿入した２重筒構造を有す
る。本明細書でいう密閉構造とは、晶析塔が大気開放状
態にあるのではなく、イナートガスにてシールされてい
る状態をいう。晶析塔Ａが大気開放であると、晶析塔内
のスラリーに大気中の酸素の一部が吸収され、アダクト
の色相を悪化させるとともに、更には、後段の処理にお
いて悪影響を与えて、高品質のアダクトひいては高品質
のビスフェノールＡを得ることができなくなる。従っ
て、晶析塔Ａにおいては、酸素の混入を防止する為に、
イナートガスにてシールする必要が生じる。この場合、
酸素の混入を防止することができれば、必ずしも、高圧
に耐えうる密閉耐圧容器である必要はない。また、晶析
塔Ａにおいては、外筒部に直接抜出孔を設けるのではな
く、内部のスラリーの旋回流の中心軸上に内筒を設け、
その上部までスラリーの旋回流を上昇させ、内筒上部の
開口部よりスラリーを溢流させ、内筒内部を下降させた
後、内筒底部より抜出す方法をとるのがよい。これによ
り、導入された循環スラリーに対し均一な混合と、アダ
クト粒子に対して充分な滞留時間を確保することができ
る。

【００２８】図４に示した晶析系統図に従って晶析工程
を実施するには、先ず、分離工程２から図１のライン１
５を通して抜出された被処理原料であるビスフェノール
Ａを含むフェノール溶液の一部を、ライン６２及びライ
ン６３を通って晶析塔Ａ内に充填するとともに、内筒５
６の底部からライン６４を通ってフェノール溶液を抜出
し、これをライン６５、ポンプ６０、ライン６６、冷却
器５８、ライン６７及びライン６３を通して晶析塔Ａ下
部の外筒内に連続的に循環させる。この操作によって、
晶析塔Ａ内のフェノール溶液は冷却され、結晶アダクト
が晶析し、結晶アダクトを含むスラリーが生成される。
このスラリーは内筒５６の底部から抜出され、前記のよ
うにして冷却器５８で冷却された後、晶析塔Ａ下部の外
筒５５内に循環されるようになる。また、内筒５６の底
部からスラリーの一部をライン６４、ライン６８、ポン
プ６１、ライン６９、加熱器５９、タンク５７及びライ
ン７０、７１を通って晶析塔Ａ下部の外筒５５内に連続
的に循環させる。この操作によって、内筒５６の底部か
ら抜出されたスラリー中の微結晶アダクト粒子がタンク
５７で溶解され、微結晶アダクト粒子含有率の低いスラ
リーが晶析塔Ａ内に循環される。その結果、晶析塔Ａ内
の微結晶アダクト粒子の含有率が減少されるようにな
る。

【００２９】次に、このような状態において、分離工程
２からライン１５を通して抜出されたビスフェノールＡ
を含むフェノール溶液をライン６２、及びライン６３を
通して晶析塔Ａ下部の外筒５５内に導入するとともに、
内筒５６の底部から製品スラリーをライン７３を通って
抜出す。この場合、次の晶析生成物分離工程へこのスラ
リーをグラビティーフローで流せる場合は、このように
ライン７３を使って抜き出すが、そうでない場合は、ポ
ンプ６１の吐出ライン７４より、その一部を抜き出すこ
ともできる。また、微結晶含有率の少ないスラリーの一
部を、ライン７２より回収し、これを製品結晶アダクト
スラリーとすることもできる。これらの結晶アダクトス
ラリーは、必要に応じ、さらに前記と同様の晶析処理を
施すことができる。

【００３０】ライン６３を通る温度降下したスラリー及
びライン７０、７１を通る温度上昇したスラリーは、外
筒５５内に導入させるに際し、外筒下部より外筒内に、
同一の向きの旋回流を生じるように導入するのがよい。
この場合、好ましくは、外筒内周面に対し接線方向にな
るように導入し、かつその導入位置が異なるように行
う。導入位置が近すぎると、局部的な流れの乱れを生
じ、スムーズな旋回流を得ることができなくなり、また
晶析塔の構造及び強度の面から好ましくない。よって、
これら２つのスラリーの導入位置は、外筒の中心点から
角度で表わして好ましくは９０〜１８０度離れた位置に
おいて行うのがよい。更に、同一の向きの旋回流が生じ
るためであれば、２つのスラリーの導入位置は必ずしも
同一水平面上にある必要はなく、少くとも外筒下部に
て、多少の高低の差はあってもさしつかえない。前記の
ようにして、ライン６３及びライン７０、７１を通る各
スラリーを、外筒内に同一の向きの旋回流を生じるよう
に導入すると、この旋回流は外筒５５内を内筒５６の上
端部まで上昇し、そして内筒５６の上部開口から内筒５
６内を下降し、その内筒の底部からライン６４を通って
抜出される。外筒５５内にこのような旋回流を生じさせ
ることにより、次のような効果を得ることができる。（１）異なる温度の２つの液流を効果的に均一に混合す
ることができる。（２）スラリーの偏流を防止し、外筒内のスラリー濃度
が均一になることから、結晶アダクト粒子の外筒内での
滞留時間のムラをなくすことができる。（３）結晶アダクト粒子の外筒内での沈降堆積を防止す
るに足る充分な線速を得ることができる。

【００３１】また、前記のように、内筒５６底部から抜
出されたスラリーの一部を、ライン６４、ライン６８、
ポンプ６１、加熱器５９、タンク５７及びライン７０、
７１を通して晶析塔Ａに循環させる時には、スラリー中
の微結晶アダクトがタンク５７内で溶解消失されること
から、一定大きさの粗大結晶アダクトを含むスラリーが
ライン７０、７１を通って晶析塔Ａに循環され、これに
よって晶析塔Ａ内に含まれる結晶アダクトの粒径が揃え
られ、晶析塔Ａ内には、微結晶アダクト粒子含有率が低
く、粗大結晶アダクト粒子含有率の高い結晶アダクトが
生成される。晶析塔Ａ内における微結晶アダクトは、そ
の比表面積が大きいことから、着色原因物質に対して高
い吸着性を示す。従って、晶析塔Ａで得られる結晶アダ
クト中の微結晶アダクト粒子含有率を可及的に減少させ
ることにより、色相のよい結晶アダクトを得ることがで
きる。結晶アダクト中の粒径１００μｍ以下の微結晶ア
ダクト粒子含有率を３０重量％以下、好ましくは２０重
量％以下に保持することにより、色相の良い高純度結晶
アダクトを製造することができる。

【００３２】ライン６２から供給されるビスフェノール
Ａを含むフェノール溶液の温度は、結晶アダクトの飽和
温度より、１〜２０℃程度高い温度であり、晶析塔Ａの
温度は４５〜７０℃である。ライン６５、ポンプ６０、
冷却器５８及びライン６３を通って循環されるスラリー
は、冷却器５８において、その温度を１０℃程度以下、
好ましくは５℃以下程度降下される。晶析塔Ａにおける
フェノール溶液の滞留時間は０．５〜１０時間、好まし
くは０．５〜５時間である。一方、ライン６８、ポンプ
６１、ライン６９、加熱器５９を通って微結晶アダクト
溶解タンク５７に導入されるスラリーは、その加熱器５
９において、その温度を０．５〜５℃程度上昇され、微
結晶溶解タンク５７に保持される。このタンク５７にお
けるフェノール溶液の滞留時間は３〜１５分程度であ
る。

【００３３】微結晶溶解タンク５７内においては、粒径
１００μｍ以下の結晶アダクトが溶解される。ライン７
０を通るスラリー中の結晶アダクト中の粒径１００μｍ
以下の結晶アダクト粒子含有率は、３０重量％以下、好
ましくは２０重量％以下である。

【００３４】前記晶析法によれば、微結晶アダクト粒子
含有率の低い、色相の良好な結晶アダクトを効率よく生
成させることができる。この結晶アダクトは、これから
フェノールを分離除去することにより、色相の良いビス
フェノールＡを与える。

【００３５】前記晶析工程３で得られた結晶アダクトス
ラリー（晶析生成物）は、晶析生成物分離工程４に送ら
れる。この晶析生成物分離工程４においては、結晶アダ
クトスラリーは、結晶アダクトと母液とに分離され、結
晶アダクトは、分離工程２からライン１４を通って抜出
された精製フェノールを洗浄液として用いて洗浄処理さ
れる。そして、分離された母液は、必要に応じ、洗浄済
みのフェノールとともに、ライン１７を通して晶析生成
物分離工程４から抜出され、反応工程１に循環される。
この場合、循環母液の少なくとも一部、通常、１〜２０
重量％は、これを後記する母液精製工程に導入して処理
する。そして、精製処理された母液は、これを再び反応
工程１に循環させる。

【００３６】晶析生成物分離工程４において、結晶アダ
クトスラリーを濾過処理して結晶アダクトを母液から分
離する場合、そのスラリー中に含まれる結晶アダクトの
うち、粒径１００μｍ以下の微結晶アダクト成分の少な
くとも一部を濾液（母液）側に移行させ、粒径１００μ
ｍ以下の微結晶アダクト成分の割合が２０重量％以下、
好ましくは１５重量％以下の粗大結晶アダクトを得るの
が好ましい。この場合、微結晶アダクト成分を濾液側に
移行させるためには、フィルター（濾材）の選定や、濾
過操作条件の選定によって行うことができる。フィルタ
ーとしては、一般的に、その目開が１００〜３００μ
ｍ、好ましくは１５０〜２５０μｍのものが使用され
る。また、濾過操作条件による微結晶アダクト成分を濾
液側に移行させる場合、その微結晶アダクト成分の移行
量は、その濾過処理により得られる結晶アダクトケーク
の厚みやそのケークを逆洗する頻度によって調整するこ
とができる。

【００３７】前記のようにして得られた結晶アダクト
は、それ自体で不純物含有量の低い高品位のものである
が、さらにこの結晶アダクトを、分離工程２からライン
１４を通って抜出された精製フェノールで洗浄すること
によってその品位をさらに向上させることができる。精
製フェノールによる結晶アダクトの洗浄は、結晶アダク
トと精製フェノールとの接触を充分に達し得る方法であ
ればよい。この洗浄処理は、例えば、結晶アダクトを分
離するための濾過機や遠心分離機等の固液分離装置の中
で、母液を結晶アダクトから除去した後、精製フェノー
ルをその固液分離装置内に導入して洗浄する方法や、固
液分離装置から排出される少量の母液が付着する結晶ア
ダクトを、別の撹拌槽において精製フェノールにより洗
浄することもできる。結晶アダクトに対する精製フェノ
ールの使用割合は、結晶アダクト１００重量部に対し
て、５０重量部以上、好ましくは１００重量部以上であ
る。

【００３８】精製フェノールにより洗浄処理された結晶
アダクトは、ビスフェノールＡとフェノールの等モル組
成からなる結晶であるが、このものは、結晶アダクトの
液化工程５に送り、ここで液化させてビスフェノールＡ
を含むフェノール溶液となした後、脱フェノール工程６
に送り、ここでフェノールを除去し、高純度の製品ビス
フェノールＡとすることができる。また、このビスフェ
ノールＡは、さらに造粒工程７に送り、ここでビスフェ
ノールＡの造粒物とすることができる。

【００３９】前記した結晶アダクトスラリーの濾過と結
晶アダクトの洗浄処理によれば、結晶アダクト表面に付
着する着色物質や着色性物質等の吸着性の高い不純物を
効率よく除去することができ、これにより、色相にすぐ
れ、かつ着色を生じにくい熱安定性の良い結晶アダクト
を容易に得ることができる。また、この結晶アダクトか
らフェノールを除去して得られるビスフェノールＡも色
相にすぐれ、かつ着色を生じにくい高品位のものであ
る。

【００４０】前記のようにして晶析生成物分離工程４か
ら得られた母液は、図１に示したライン１７及びライン
１９を通して反応工程１へ循環使用されるが、その循環
母液の少なくとも一部はライン１７から抜出され、ライ
ン１８を通って（ｉ）蒸留工程８、（ii)加熱工程９及
び(iii)減圧回収工程１０及び強酸型イオン交換樹脂工
程Ｒによって精製処理される。加熱工程９と減圧回収工
程１０は、それぞれ独立して実施することができるが、
反応塔を用いて同時に実施するのが好ましい。

【００４１】図５に、図１のライン１７，１８を通して
抜出された母液の精製処理方法の１つの例についての処
理系統図を示す。図５において、８はフェノール蒸留
塔、Ｄは反応槽６と減圧蒸発塔７を有する反応塔、Ｒは
強酸型イオン交換樹脂塔を示す。原料母液は、ライン１
８を通ってフェノール蒸留塔８に導入される。この場合
原料母液としては、晶析生成物分離工程４で得られた母
液の少なくとも一部を用いることができる。ビスフェノ
ールＡを含むフェノール溶液の晶析処理においては、通
常、複数段の晶析工程と晶析生成物の固液分離工程が採
用され、それに応じて複数種の母液（フェノール溶液）
が得られるが、本発明ではこれらの母液の任意のものを
原料母液として用いることができる。本発明で用いる好
ましい原料母液は、第１段目の晶析工程で得られた第１
晶析生成物から分離された母液である。この第１晶析生
成物から分離された母液は、通常、フェール：８５重量
％、ビスフェノールＡ：５〜１０重量％、２，４−ビス
フェノールＡを含むその他のポリフェノール：１〜５重
量％、クロマン化合物等の着色性不純物：２重量％以下
アルデヒドやキノン等の加熱により着色物質に変換する
着色性不純物：微量を含有する。

【００４２】フェノール蒸留塔８は、温度：１００〜２
００℃、好ましくは１２０〜１８５℃、圧力：５０トー
ル〜常圧条件で運転される。このフェノール蒸留塔５で
は、ライン１８から導入される原料母液の５０〜９０重
量％好ましくは６５〜８５重量％が留出される。留出量
がこの範囲より多くなると、高粘度となり塔底物固化、
ライン閉塞等の問題が生じ、一方、この範囲より少ない
と、フェノールの濃度が高くなり、加熱工程や減圧回収
工程における処理効率や熱効率が低下する等の問題が生
じる。フェノール蒸留塔８からの留出蒸気は、この蒸留
塔に付設された凝縮器８５で凝縮されたのち、その一部
は還流液としてライン８６を通って蒸留塔８に返還さ
れ、残部の凝縮液（留出液）はライン８７を通って反応
塔Ｄに付設された減圧凝縮器９０に導入される。このラ
イン８７を通る留出液は、ほぼフェノール１００％から
なる。一方、フェノール蒸留塔８の底部からライン８１
を通ってその塔底液が抜出され、この塔底液は、ライン
８３を通って供給される塩基性触媒とともに、ライン８
４を通って反応塔Ｄの底部の反応槽９に導入され、ここ
で、それに含まれる反応性成分の反応と同時に、この反
応により生成した生成物を含む濃縮母液の蒸発回収処理
が行われる。なお、塩基性触媒の供給は反応塔Ｄの反応
槽９に対して直接行うこともできる。フェノール蒸留塔
８の底部からライン８１を通って抜出される塔底液は、
通常、フェノール：１０〜５０重量％、好ましくは１５
〜３０重量％で、残りはビスフェノールＡ、２，４′−
ビスフェノールＡ、その他のポリフェノール、その他の
不純物からなる。

【００４３】反応塔Ｄにおいては、その反応槽９内にお
いて、濃縮母液中に含まれるビスフェノール、トリスフ
ェノール等のポリフェノールが塩基性触媒の作用により
熱分解され、イソプロペニルフェノールとフェノールに
転換されるとともに、クロマン化合物等の不純物の重縮
合反応が起り、不純物は高沸点物に変換される。塩基性
触媒としては、ナトリウムやカリウム等のアルカリ金属
の水酸化物、酸化物、炭酸塩、各種フェノール塩、カル
シウムやマグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化
物、酸化物、炭酸塩、各種フェノール塩等が挙げられ
る。この塩基性触媒の使用割合は、ライン８１を通って
抜出される濃縮母液中のビスフェノールＡを含む全ポリ
フェノールに対し０．００５〜０．８重量％、好ましく
は０．０１〜０．５重量％である。

【００４４】反応塔Ｄは、底部に反応槽９を有し、その
反応槽上に減圧蒸発塔１０を立設した構造を有する。こ
の反応塔Ｄは、塔底（反応槽）温度：２００〜３５０
℃、好ましくは２２０〜３００℃、塔内圧力：５トール
〜常圧、好ましくは１０〜１５０トールの条件で運転さ
れる。反応塔Ｄの頂部からライン８９を通って抜出され
たフェノール及びイソプロペニルフェノールを含む留出
蒸気は、反応塔Ｄに付設された減圧凝縮器９０に導入さ
れ、ここでフェノール蒸留塔８からライン８７を取って
導入された留出液と混合接触して急冷された後、ライン
９１を通って強酸型イオン交換樹脂塔Ｒに導入される。
フェノール蒸留塔８からライン８７を通って減圧凝縮器
９０に送られる留出液の温度は、４５〜１５０℃、好ま
しくは５０〜１１０℃である。また、ライン８７を通る
留出液の量は、ライン８９を通る留出蒸気に対する重量
比で１〜２０、好ましくは２〜１５である。ライン８９
を通って反応塔Ｄから抜出される留出蒸気の成分は、フ
ェノール、イソプロペニルフェノール、ビスフェノール
Ａ、その他の不純物である。ライン８８を通って反応塔
Ｄから抜出される塔底液（反応液）は、反応塔Ｄにライ
ン８４を通して供給される液に対して重量比で０．０５
〜０．５好ましくは０．０５〜０．４であり、この塔底
液には高沸点物（ビスフェノールＡよりも高い沸点をも
つ）が濃縮されるとともに着色性の物質が濃縮される。
減圧凝縮器９０内の混合液は、ライン９１を通って強酸
型イオン交換樹脂塔Ｒに導入される。この強酸型イオン
交換樹脂塔Ｒにおいては、混合液中に含まれるイソプロ
ペニルフェノールとフェノールとの反応によりビスフェ
ノールＡが生成される。このビスフェノールＡを含む生
成物はライン９２を通って排出され、図１に示した循環
母液ライン１９又は反応工程１に、ライン２５を通して
導入される。

【００４５】強酸型イオン交換樹脂としては、スルホン
基を有するゲル型のものが用いられ、このような強酸型
イオン交換樹脂は、従来良く知られているものである。
例えば、ロームアンドハース社から入手しえるアンバー
ライト及びアンバーリストや、三菱化成社から入手し得
るダイヤイオン等を好ましく用いることができる。この
強酸型イオン交換樹脂を用いる混合液の反応において、
その反応温度は４５〜１３０℃、好ましくは５０〜１０
０℃であり、接触時間は５〜２００分、好ましくは１５
〜１２０分である。この強酸型イオン交換樹脂を用いる
混合液の反応を行う場合、混合液中の水分は、０．５重
量％以下、好ましくは０．１重量％以下にする。強酸型
イオン交換樹脂塔Ｒからライン９２を通って抜出される
反応生成物の成分は、フェノール：８５〜９５重量％、
ビスフェノールＡ：５〜１５重量％、好ましくは５〜１
０重量％、その他の不純物：微量であり、着色性の低い
ものである。このものは、図１に示したように、ライン
２５を通して反応工程１に循環使用される。また必要に
応じて、その一部を濃縮晶析してビスフェノールＡ・フ
ェノール結晶アダクトとすることができる。なお、強酸
型イオン交換樹脂塔Ｒは、必ずしも必要とされず、反応
蒸留Ｄの塔頂物は、直接反応工程１に循環させることが
できる。

【００４６】反応塔Ｄは、図６に示すように、加熱処理
装置Ａと滞留槽Ｂを付設して用いるのが好ましい。この
ような反応塔Ｄの運転においては、反応塔Ｄの底部の反
応槽９からライン９６を通って、その塔底物の一部が抜
出され、その抜出された塔底物の一部は、第１循環液と
してライン９７を通って加熱処理装置Ａに導入され、こ
こで加熱処理をうけた後、ライン９４及びライン９５を
通って反応塔Ｄの反応槽９に循環される。加熱処理装置
Ａにおいて、第１循環液は、塩基性触媒の存在下２００
〜３５０℃、好ましくは２３０〜３００℃の温度に加熱
される。この加熱によって、第１循環液に含まれるポリ
フェノールは、前記した熱分解反応を受ける。加熱処理
装置Ａ内における第１循環液の滞留時間は、１〜３０
分、好ましくは１〜２０分である。一方、反応蒸留塔Ｄ
の底部から抜出された塔底物の一部は、第２循環液とし
て、ライン９８、ライン９９、滞留槽Ｂ及びライン１０
０を通って反応塔Ｄの反応槽９に循環される。滞留槽Ｂ
においては、第２循環液は、２００〜３００℃、好まし
くは２２０〜２８０℃の温度において、５〜１２０分好
ましくは１０〜１００分間保持される。この滞留処理に
よって、母液中に含まれるポリフェノールの解重合が不
十分な場合に、更にその解重合が進行するとともに、着
色原因物質、たとえばクロマン化合物の重質化が不十分
な場合には、更にその重質化が進行し分離の容易な高沸
点タール状物に変換される等の効果が得られる。第１循
環液の循環量は、ライン１００を通って反応塔Ｄに供給
される濃縮母液１００重量部に対して５０〜５０００重
量部であり、一方、第２循環液の循環量は、同じく１０
〜１００００重量部、好ましくは５０〜５０００重量部
である。

【００４７】前記した母液の処理方法においては、母液
中に含まれる不純物は、反応塔Ｄの塔底又は反応槽９に
連結するライン２３（図１）又はライン８８（図５、図
６）を通して、濃縮不純物として排出される。この濃縮
不純物にはビスフェノールＡよりも高沸点の副生物や、
縮合性不純物の縮合物が含まれ、さらに、反応工程１に
おいて触媒として高沸点の強酸性物質、例えば、スルホ
ン酸基を有するイオン交換樹脂を用いた場合には、その
触媒から遊離したスルホン化物が含まれる。従って、前
記した母液の処理方法によれば、その母液に含まれてい
るポリフェノール化合物、着色不純物、着色性不純物、
さらには反応工程１で用いた触媒由来の高沸点物（スル
ホン化物等）は、いずれも濃縮された状態で母液から分
離除去される。そして、このようにして副生物及び不純
物の除去された母液を、再び反応工程１に循環すること
によって、母液中に含まれる有用成分の損失を抑え、反
応系における副生物及び不純物の蓄積を防止することが
でき、その結果、高純度でかつ着色の防止されたビスフ
ェノールＡを得ることができる。

【００４８】結晶アダクト液化工程５は、結晶アダクト
を加熱溶融して液化する工程である。結晶アダクトの溶
融装置としては、外壁面に加熱ジャケットを備えた外部
加熱方式の密閉型容器や、内部に加熱コイルを備えた内
部加熱方式の密閉型容器等が用いられる。この溶融装置
は、結晶アダクトの溶融液化に先立ち、内壁面を構成す
る材質の表面に付着する酸素除去処理を施して用いるの
が好ましい。このことにより、結晶アダクトの溶融に際
しての加熱に起因する着色原因物質の生成量を著しく抑
制させることができ、色相の良好な高純度ビスフェノー
ルＡを得ることができる。溶融装置の内壁面は、金属材
質、通常、ステンレススチール、例えば、ＳＵＳ３０
４、ＳＵＳ３１６、３１６Ｌ等で形成され、その表面に
は、通常、１ｍ²当り３０〜６０ミリモル程度の酸素が
付着結合している。この酸素量は種々の方法によって測
定することができる。たとえば試験片によって洗浄条件
と、表面エッチングによって深さが測定された表面付着
結合酸素量との相関をもとめて推定する方法もあるが、
表面付着結合酸素量と洗浄フェノールの着色の関係から
も測定できる。また他の洗浄液の場合にもその着色と表
面付着結合酸素量の相関を予め求めておいてそれを測定
方法とすることができる。たとえば、フェノールの着色
は酸素百万分の１重量部に対して６ＡＰＨＡとなり、こ
の測定の相関として用いることができる。溶融装置は、
あらかじめその内壁表面に付着する酸素を除去して使用
することにより、結晶アダクトの溶融時における加熱に
より生じる着色原因物質の生成を著しく抑制することが
でき、色相の良好な製品ビスフェノールを得ることがで
きる。

【００４９】溶融装置の内壁面からの酸素除去は、内壁
面を有機溶剤を用いて洗浄処理することによって行うこ
とができる。有機溶剤としては、フェノール又はビスフ
ェノールＡ、フェノールとビスフェノールＡの混合物等
を用いることができる。洗浄処理温度は、１００〜２０
０℃、好ましくは１２０〜１８５℃である。洗浄に際し
ての雰囲気としては、窒素ガスや窒素ガスやアルゴンガ
ス、脱ガススチーム等の非酸化性ガス雰囲気や、減圧雰
囲気が用いられ、その雰囲気中酸素濃度は０．０１ｖｏ
ｌ％以下、好ましくは０．００５ｖｏｌ％以下、更に好
ましくは０．００１ｖｏｌ％以下である。有機溶剤によ
る内壁面の洗浄は、内壁面に対し、スプレーノズルを介
して有機溶剤を噴射させることによって行うことができ
る。有機溶剤による洗浄後には、溶融装置の底部に滞留
する有機溶剤を排出し、必要に応じ、内部を乾燥処理す
る。なお、気相の酸素濃度の測定には通常のガスクロマ
トグラフィー法あるいは電気化学法による微量酸素分析
計などを利用することができる。

【００５０】前記内壁面からの酸素除去処理において
は、その内壁面に付着する酸素量が、内壁面１ｍ²当
り、１０ミリモル以下、好ましくは５ミリモル以下にな
るように行うのが良い。溶融装置の操作条件としては、
温度：１１５〜１８０℃、好ましくは１２０〜１５０
℃、圧力：常圧、酸素濃度：０．０１ｖｏｌ％以下、好
ましくは０．００５ｖｏｌ％以下、更に好ましくは０．
００１ｖｏｌ％以下の条件が採用される。結晶アダクト
の溶融に際しては、結晶アダクトをそのまま溶液液化さ
せる方法を採用し得るが、結晶アダクトを短時間で溶融
させるために、その結晶アダクトを精製フェノールのよ
うな着色の殆どない熱フェノールを用いて希釈して溶融
する方法や、結晶アダクトの溶融済みの液中で溶融させ
る方法等を採用することもできる。

【００５１】溶融装置で液化させる原料としての結晶ア
ダクトとしては、実質的に中性条件下にあるものの使用
が好ましい。アセトンとフェノールの反応に際しては、
触媒として強酸性物質を使用することから、その反応生
成物中に存在する強酸性物質は、これを反応後、中和点
を超えないように中和するか、反応系から除去すること
が必要であり、また、強酸性物質の中和に用いたアルカ
リが残存するときには、このアルカリも除去することが
必要である。また、反応生成物中に存在する強酸性物質
あるいはアルカリの除去は、反応工程より後の晶析工程
や晶析生成物分離工程等において除去することができ
る。前記した実質的に中性条件下にある結晶アダクトと
は、前記のような強酸性物質やアルカリ性物質の影響の
除去された結晶アダクトを意味するものである。このよ
うな結晶アダクトは、ｐＨ５．０を示すように酸度を調
整したメタノール水溶液に添加溶解し、フェノールの実
質的非電離条件下におけるｐＨ測定方法において、ｐＨ
４．９０〜５．５０、好ましくはｐＨ４．９５〜５．２
０を示すものである。結晶アダクトとしては、前記した
ように、実質的に中性条件下にあるものを用いるが、こ
の場合、結晶アダクトの溶融色ＡＰＨＡを１５以下に保
持するのが好ましい。溶融色ＡＰＨＡが１５以下の結晶
アダクトは、晶析工程における晶析段数を増加させるこ
とによって得ることができ、また、結晶アダクトを精製
フェノールで洗浄することによって得ることができる。

【００５２】また、実質的に中性条件下にある結晶アダ
クトの溶融液化に際しては、脂肪族カルボン酸を添加す
るのが好ましい。この場合に用いる脂肪族カルボン酸
は、溶融状態にあるビスフェノールＡを空気と長時間接
触させたり、高温に保持した際のビスフェノールＡの着
色を防止する作用を示すものである。実質的に中性条件
下にある結晶アダクトに対して脂肪族カルボン酸を添加
し、結晶アダクトを溶融し、さらに脱フェノールさせる
ことにより、色相にすぐれかつ着色のないビスフェノー
ルＡを得ることができる。脂肪族カルボン酸としては、
ビスフェノールＡに対して着色防止効果を示すものであ
ればどのようなものでもよく、従来公知のものが用いら
れる。このようなものとしては、例えば、ギ酸、シュウ
酸、クエン酸、酒石酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ
酸、グリセリン酸等を挙げることができる。これらのも
のは、反応中、１６０℃以上の温度で分解あるいは異性
化を起して、ビスフェノールＡに対する着色防止剤とし
てすぐれた作用を示す。脂肪族カルボン酸の添加量は、
結晶アダクトに対し、１〜１００重量ｐｐｍ、好ましく
は５〜５０重量ｐｐｍである。また、結晶アダクトをシ
ュウ酸又はクエン酸の存在下で加熱溶融する場合、その
溶融温度は１１５〜１８０℃、好ましくは１２０〜１５
０℃であり、溶融圧力は、１〜５ａｔｍ、好ましくは
１．０〜１．９ａｔｍである。溶融雰囲気は、できるだ
け酸素濃度の低い雰囲気が好ましく、通常、酸素濃度
０．００５ｖｏｌ％以下、好ましくは０．００１ｖｏｌ
％以下の雰囲気の使用が有利である。脂肪族カルボン酸
は、結晶アダクトに添加し得る他、結晶アダクトを分離
する以前の結晶アダクトスラリーに添加してもよく、ま
た、結晶アダクトを溶融して得たビスフェノールＡを含
むフェノール溶液に添加してもよく、その添加時期は特
に制約されない。

【００５３】脱フェノール工程６は、結晶アダクトの液
化により得られたビスフェノールＡを含むフェノール溶
液からフェノールを蒸発除去してビスフェノールＡを得
る工程である。この工程で分離されたフェノールはライ
ン２９を通って放出され、また、フェノールの除去され
たビスフェノールＡはライン２８を通って造粒工程７に
送られる。蒸発装置としては、蒸留塔やストリッピング
装置、充填塔、薄膜蒸発器等が用いられる。この蒸発装
置も、前記溶融装置の場合と同様に、その使用に先立
ち、その内壁面を構成する材質の表面に付着する酸素除
去処理を施して用いるのが好ましい。この場合、その内
壁面に付着する酸素量を、内壁面１ｍ²当り、１０ミル
モル以下、好ましくは５ミリモル以下になるように除去
するのが好ましい。また、蒸発装置内に蒸発表面積を向
上せしめる部材、例えば、ラッシッヒリング、ボールリ
ング、板体、多孔体等の充填材や棚段が配設されている
場合には、それらの部材に対しても、その表面から酸素
を除去する処理を施すのが好ましい。蒸発装置は、１段
又は多段で用いることができるが、その操作条件として
は、１段で用いる場合にはその１段の蒸発装置及び多段
で用いる場合にはその最終段の蒸発装置の操作条件とし
て、温度：１８０〜２００℃、好ましくは１７０〜１８
５℃、圧力：１〜１００トール、好ましくは５〜４０ト
ール、雰囲気中酸素濃度：０．００５ｖｏｌ％以下、好
ましくは０．００１ｖｏｌ％以下の条件が採用される。

【００５４】脱フェノール工程を実施する場合の１つの
好ましい態様は、スチームを用いない蒸発工程と、スチ
ームを用いる蒸発工程とを組合せて結晶アダクト溶融液
を蒸発処理する方法である。この蒸発処理方法において
は、結晶アダクト溶融装置からの溶融液は、これを第１
の蒸発塔に導入し、ここでスチームの非存在下、減圧下
において蒸発処理し、その溶融液中のフェノールの一部
を蒸発除去する。この第１蒸発塔の塔頂からは、フェノ
ールを含む蒸気が分離回収され、その底部からは、フェ
ノールの一部が蒸発除去された溶融液が分離回収され
る。この第１蒸発塔からの塔底物は、これを第２蒸発塔
に導入し、ここでスチームの存在下、減圧下において蒸
発処理して、溶融液中の残部フェノールを蒸発除去す
る。この第２蒸発塔からは、その塔頂物として、フェノ
ール、スチーム及び少量のビスフェノールＡを含む混合
蒸気が排出され、その塔底物として、高純度ビスフェノ
ールＡが分離回収される。スチームを用いない第１蒸発
塔の操作条件としては、温度：１２５〜２００℃、好ま
しくは１３０〜１８５℃、圧力：１００トール以下、好
ましくは５〜４０トールが採用される。蒸発塔内の蒸気
雰囲気中の酸素濃度は、０．００５ｖｏｌ％以下、好ま
しくは０．００１ｖｏｌ％以下に保持される。この第１
蒸発塔において、結晶アダクト溶融液中に存在するフェ
ノールの９５〜９９．８重量％、好ましくは９８〜９
９．７重量％が蒸発除去される。前記スチームを用いる
第２蒸発塔の操作条件としては、温度：１３０〜２００
℃、好ましくは１６０〜１８５℃、圧力：１００トール
以下、好ましくは５〜４０トール、ビスフェノールＡ溶
融液１ｋｇ当りのスチーム供給量：０．０２〜０．２ｋ
ｇ、好ましくは０．０４〜０．１ｋｇの条件が採用され
る。蒸発塔内の蒸気雰囲気中の酸素濃度は、０．００５
ｖｏｌ％以下、好ましくは０．００１ｖｏｌ％以下に保
持される。この第２蒸発塔においては、第１蒸発塔から
得られる結晶アダクト溶融液中のフェノールの実質的全
量が蒸発除去され、塔底物として、フェノール含有率２
００ｗｔｐｐｍ以下、好ましくは５０ｗｔｐｐｍ以下の
ビスフェノールＡが得られる。

【００５５】前記のスチームを用いる第２蒸発塔から
は、スチーム、フェノール及び少量のビスフェノールＡ
を含む混合蒸気が得られるが、この混合蒸気からはフェ
ノール及びビスフェノールＡを分離回収する。この混合
蒸気からのフェノール及びビスフェノールＡの分離回収
は、従来公知の各種の方法で行うことができるが、本発
明においては、特に、２段階の冷却工程を用いて行うの
が好ましい。次に、この２段階の冷却工程を用いる混合
蒸気からのフェノールの分離回収について詳述する。こ
の方法においては、前記第２蒸発塔から得られフェノー
ル、スチーム及び少量のビスフェノールＡを含む混合蒸
気は、これを、その減圧状態のまま第１冷却工程へ供給
し、ここでフェノール又はビスフェノールＡを含むフェ
ノールからなる第１冷却媒体と向流接触させて冷却す
る。この第１冷却工程は、混合蒸気中のビスフェノール
Ａの実質的全量を冷却媒体中に溶解するように実施す
る。混合蒸気中のスチームは、この第１冷却工程では実
質上凝縮されず、次の第２冷却工程へ送られる。混合蒸
気中のフェノールは、その一部がこの第１冷却工程で凝
縮され、残りの未凝縮のものはスチームとともに次の第
２冷却工程へ送られる。第１冷却工程で混合蒸気から分
離回収されたビスフェノールＡとフェノールの混合液
は、その一部を冷却媒体として用いることができる。第
１冷却媒体の温度は、フェノールの凝固点より１〜５０
℃程度高い温度である。この第１冷却工程における混合
蒸気からのフェノールの回収率は、この第１冷却工程に
対する全供給フェノールに対し、７０重量％以上、好ま
しくは８５重量％以上である。

【００５６】第１冷却工程で用いる冷却媒体は、混合蒸
気を所望温度に冷却し得るに充分な量であればよく、通
常、混合蒸気に対する重量比で、５〜１０、好ましくは
６〜９である。また、第１冷却工程で得られる混合蒸気
中のビスフェノールＡとフェノールを溶解した冷却媒体
中に含まれるビスフェノールＡの合計ビスフェノールＡ
のフェノールに対する重量比は、０．０５〜０．２０、
好ましくは０．０８〜０．１４である。この第１冷却工
程においては、ビスフェノールＡに対し過剰のフェノー
ルが存在することから、ビスフェノールＡの凝固点以下
の冷却温度であっても、ビスフェノールＡとフェノール
とのアダクトが晶出するようなことはない。

【００５７】第１冷却工程の圧力は、１００トール以
下、好ましくは５〜４０トールであり、前記第２充填塔
における圧力に対応する。また、第１冷却工程における
温度は、前記圧力条件下においてスチームが気体を保持
し、フェノールの一部が液体を保持する温度である。好
ましい冷却温度（ビスフェノールＡを凝縮させる温度）
は、４２〜９０℃、好ましくは４５〜５５℃である。

【００５８】第２冷却工程へ送られたスチームとフェノ
ールの混合蒸気は、ここでフェノールの水溶液からなる
第２冷却媒体と向流接触させて冷却する。この第２冷却
工程は、この工程へ送られたスチームとフェノールの実
質的全量が凝縮液化するように実施し、この工程からは
フェノールの水溶液が回収される。この第２冷却工程で
得られるフェノールの水溶液は、その一部を第２冷却媒
体として用いることができる。水溶液中のフェノール濃
度は、混合蒸気の組成及び第１冷却工程の条件で決まる
が、通常、５５〜７５重量％である。また、この第２冷
却媒体の温度は、スチームの凝縮温度より１〜１０℃程
度低い温度である。

【００５９】第２冷却工程で用いる第２冷却媒体は、混
合蒸気の全量を凝縮させるに充分な量であればよく、通
常、第１冷却工程から送られたスチームとフェノールと
の混合蒸気に対する重量比で、１００〜３００、好まし
くは１９０〜２５０である。この第２冷却工程の圧力
は、１００トール以下、好ましくは５〜４０トールであ
り、第１冷却工程の圧力に対応する。第２冷却工程にお
ける冷却温度（スチーム凝縮温度）は、前記圧力条件下
においてスチームとフェノールの混合蒸気の全量が凝縮
液化する温度であればよい。

【００６０】第１冷却工程及び第２冷却工程において用
いる冷却器は、気液接触型の装置であればよく、任意の
ものが用いられる。このような冷却器としては、例え
ば、充填塔や、スプレー塔等を用いることができる。充
填塔を用いる場合、その充填物としては、圧力損失を抑
えるように、ラッシッヒリングや、ポールリング、多孔
金属板等を用いるのがよい。また、第１冷却工程と第２
冷却工程で用いる冷却器は、それぞれ別個に設置するこ
ともできるが、２つの冷却器を含む一塔型の装置であっ
てもよい。

【００６１】次に、前記混合蒸気の凝縮処理方法の１つ
の実施態様について、図面を参照して説明する。図７に
おいて、１０１は第１冷却器、１０２は第２冷却器を示
す。ライン１０３は、スチームを用いる前記第２蒸発塔
に接続する混合蒸気ラインを示す。ライン１０４は排気
ポンプ（図示されず）及び冷却器に接続する真空ライン
であり、前記した結晶アダクト溶融液からフェノールを
蒸発除去する第１蒸発塔（図示されず）、第２蒸発塔
（図示されず）、第１冷却器１及び第２冷却器２を含む
全装置系は減圧条件に保持される。第２蒸発塔からの混
合蒸気は、ライン１０３を通って第１冷却器１０１の下
部に供給され、ここで、ライン１０５を通って第１冷却
器の上部から導入される第１冷却媒体（フェノール又は
ビスフェノールＡを含むフェノール）と向流接触する。
この第１冷却器で凝縮したビスフェノールＡとフェノー
ルを溶解した冷却媒体は、抜出しポンプ１０７を含むラ
イン１０６を通って第１冷却器の底部から抜出される。
このライン１０６を通って抜出される冷却媒体は、必要
に応じ、その一部を所要温度に冷却した後、冷却媒体と
してライン１０５にリサイクルすることもできる。

【００６２】第１冷却器１の頂部からライン１０８を通
って抜出されるスチームとフェノールの混合ガスは、第
２冷却器１０２の下部に導入され、ここで、ライン１０
９を通って第２冷却器の上部から導入される第２冷却媒
体（フェノールの水溶液）と向流接触する。この第２冷
却器でスチームとフェノールの混合蒸気は凝縮液化し、
この凝縮液は冷却媒体とともに第２冷却器１０２の底部
から抜出しポンプ１１１を含むライン１１０を通って抜
出され、その一部はライン１１３を通り、冷却媒体用の
冷却器１１４を通って冷却された後、ライン１０９を通
り、第２冷却器にリサイクルされる。ライン１１１を通
って抜出された凝縮スチームとフェノールを含む冷却媒
体の残部はライン１１２を通って系外へ抜出される。

【００６３】次に、前記混合蒸気の凝縮処理法におい
て、第１冷却器と第２冷却器を含む一塔型の冷却装置を
用いた場合の系統図を図８に示す。図８において、１３
０はその内部に第１冷却器１０１と第１０２冷却器２を
備えた一塔型の冷却装置である。この冷却装置は、第１
冷却器１と第２冷却器２との中間に中央部に開口を有す
る仕切板１２５を配設し、その開口に筒体１２３を立設
した構造を有する。この装置において、筒体１２３の外
周面と冷却装置１３０の内壁との間に形成される環状中
空室は、液体を貯留するためのものである。１２２は、
第２冷却器１０２を流下する液体を前記環状中空室に案
内するための案内板である。筒状空間１２４はガス通路
を示す。なお、図８における符号において、図７に示し
たものと同じ符号は同じ意味を示す。また、図８におい
ては、図７に示した流量コントロール系は図示されてい
ない。

【００６４】前記のような混合蒸気の凝縮処理によれ
ば、スチームを用いる第２蒸発塔から得られる、スチー
ム、フェノール及びビスフェノールＡを含む混合蒸気
を、昇圧することなく、１００トール以下の減圧状態の
ままで冷却凝縮させることができる。しかも、この場
合、１００トール以下という低い圧力条件と、それに応
じた低いスチーム凝縮温度条件を採用したにもかかわら
ず、ビスフェノールＡやフェノールの結晶は何ら析出し
ない。従って、このような凝縮処理法においては、固体
析出による冷却器の効率低下や、冷却器の閉塞トラブル
は何ら生じない。しかも、混合蒸気を構成するスチー
ム、フェノール及びビスフェノールＡの全てが凝縮さ
れ、真空排気系にはそれらの蒸気は実質的に流入されな
い。従って、真空排気ポンプは、装置系を所定の減圧条
件に保持するだけであるので、排気容量の小さなもので
済み、設備コスト及びエネルギーコスト的に非常に有利
である。さらに、このような混合蒸気の凝縮処理を採用
するときには、混合蒸気の冷却凝縮処理を１００トール
以下の極めて低い圧力で実施し得ることから、その前段
の第１蒸発塔及び第２蒸発塔を低圧で行うことができ
る。従って、第２蒸発塔からは、フェノール含有率が極
めて低い高純度のビスフェノールＡ、例えば、フェノー
ル含有率が２００ｐｐｍ以下、特に５０ｐｐｍ以下とい
う極めて低い高純度ビスフェノールＡを得ることができ
る。

【００６５】脱フェノール工程を実施する場合の他の好
ましい方法は、結晶アダクト溶融液を複数の薄膜蒸発器
を用いて蒸発処理する方法である。この蒸発処理を図面
を参照して以下に説明する。図９において、２０１，２
０２及び２０３は薄膜蒸発器を示す。このものは、その
内周壁に形成した薄膜を外部からの加熱により蒸発させ
る構造のものである。この薄膜蒸発器においては、内部
に回転翼を有し、その回転翼の回転によってその内周壁
面に液膜を形成するようにした遠心薄膜蒸発器の使用が
好ましい。また、図９において、２０４は、各薄膜蒸発
器に付設された外部ヒータである。このものは、通常、
加熱媒体が流通するジャケットとして構成される。

【００６６】原料として用いる結晶アダクト溶融液とし
ては、実質的に中性条件下にあり、溶融色が１５ＡＰＨ
Ａ以下のビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトを
加熱によって溶融するか又は精製フェノールで希釈溶解
させて、ビスフェノールＡを含むフェノール溶液とした
ものが好ましく用いられる。結晶アダクト溶液は、ビス
フェノールＡを５０〜８０重量％、好ましくは６０〜７
５重量％を含有するフェノール溶液からなる。この原料
フェノール溶液は、ライン２１０から第１薄膜蒸発器
（以下、単に蒸発器とも言う）２０１に導入され、フェ
ノール溶液は、この蒸発器の内周壁を液膜として流下す
るとともに、その間に外部ヒータ２０４により加熱さ
れ、フェノール及びビスフェノールＡを含む蒸気がライ
ン２１１を通って排出される。この蒸気は、これを凝縮
処理して、フェノール及びビスフェノールＡを回収す
る。ライン２１０を通るフェノール溶液の温度は１２０
〜１５０℃、第１蒸発器２０１の温度は、１６０〜１８
５℃、その圧力は１５〜６０トール、好ましくは１５〜
３０トールである。また、第１蒸発器内は実質的に無酸
素条件下に保持される。第１蒸発器２０１において、原
料フェノール溶液を蒸発処理して得られた残液(ビスフ
ェノールＡ）は、ライン２１２を通って抜出され、第２
蒸発器２０２に導入される。ライン２１２を通るフェノ
ール溶液の蒸発残液の温度は、１７０〜１８５℃であ
る。また、この残液を構成するビスフェノールＡ中のフ
ェノール濃度は、１〜５重量％である。第２蒸発器２０
２においては、ビスフェノールＡは、第３蒸発器２０３
から抜出されるスチーム、フェノール及びビスフェノー
ルＡからなるストリッピングガスと向流接触しながら、
外部ヒータ２０４により加熱され、フェノール、ビスフ
ェノールＡ及びスチームを含むストリッピングガスがラ
イン２１３を通って排出される。第２蒸発器２における
温度は１７０〜１８５℃、圧力は１５トール以下、通
常、１０〜１５トールである。また、第２蒸発器内は実
質的に無酸素下に保持される。

【００６７】第２蒸発器２で得られる蒸発残液は、ライ
ン２１４を通って第３蒸発器２０３に導入される。この
残液の温度は１７０〜１８５℃、残液を構成するビスフ
ェノールＡ中のフェノール濃度は０．０５〜０．１０重
量％、好ましくは０．０５〜０．０７重量％である。第
３蒸発器２０３においては、第２蒸発器２０２からのビ
スフェノールＡは、ライン２１５を通って導入されるス
チームと向流接触しながら、外部ヒータ２０４によって
加熱され、ストリッピングガスがライン２１７を通って
抜出され、このストリッピングガスは、第２蒸発器２０
２にそのストリッピング用ガスとして導入される。第３
蒸発器における温度は１７０〜１８５℃、圧力は１５ト
ール以下、通常１０〜１５トールである。また、第３蒸
発器内は実質的に無酸素下に保持される。ライン２１５
から第３蒸発器２０３に導入されるスチーム量は、ライ
ン２１４を通って第３蒸発器２０３に導入されるビスフ
ェノールＡに対して、重量比で、３重量％以上、好まし
くは４〜６重量％である。ライン２１７を通るストリッ
ピングガスの組成は、フェノール：０．８〜１．２重量
％、好ましくは１重量％以下、ビスフェノールＡ：５〜
７重量％、残部：スチームである。第３蒸発器２０３に
おいて得られた高純度ビスフェノールＡは、ライン２１
６を通って抜出される。このビスフェノールＡは、フェ
ノール含有率が０．００５重量％のもので、その色相Ａ
ＰＨＡが２０以下の高品位のものである。

【００６８】第２蒸発器２０２からライン２１３を通っ
て抜出されるストリッピングガスは、凝縮処理に付さ
れ、そのガスに含まれるフェノール及びビスフェノール
Ａが分離回収される。このストリッピングガスの凝縮処
理は、図７及び図８に示した系統図に従って好ましく行
われる。

【００６９】前記した薄膜蒸発器を用いる方法において
は、フェノールＡ・フェノール結晶アダクトから誘導さ
れたビスフェノールＡを含むフェノール溶液を雰囲気中
の酸素濃度０．００５vol％以下の条件で、先ず第１薄
膜蒸発器を用いて蒸発処理し、フェノール含有率が１〜
５重量％のビスフェノールＡを得るが、この場合、その
第１薄膜蒸発器の温度を１６０〜１８５℃、圧力を１５
〜６０トールの条件に保持したことから、フェノールの
急速な蒸発による冷却が生じても、ビスフェノールＡが
析出するようなことなく、円滑にその蒸発処理を実施す
ることができる。また、前記方法においては、前記のよ
うにして第１蒸発器から得られたビスフェノールＡを、
それに含まれるフェノールを蒸発除去するために、薄膜
蒸発器を用いてスチームストリッピング処理するが、こ
の場合、そのビスフェノールＡ中のフェノール含有量が
１〜５重量％と低く、かつ２つの薄膜蒸発器を直列に結
合して用いたことから、それらの蒸発器の温度を１７０
〜１８０℃に保持し、かつ１５トール以下の高真空に保
持して、そのビスフェノールＡ中のフェノールを蒸発除
去することが可能になり、色相にすぐれるとともに、フ
ェノール含有率が０．００５重量％以下の高純度ビスフ
ェノールＡを得ることができる。

【００７０】色相にすぐれたビフェノールＡを得るに
は、その製造原料であるビスフェノールＡを含むフェノ
ール溶液及びその溶液を蒸発処理する場合の温度を、１
９０℃以下、特に、１８５℃以下に保持し、インプロペ
ニルフェノール等の着色不純物の生成の抑制することが
必要であるが、前記方法の場合は、その蒸発処理温度
を、１８５℃以下に保持しかつ蒸発器内を実質的に無酸
素下に保持してフェノールを実質的に完全に蒸発除去す
るので、得られるビスフェノールＡは、ＡＰＨＡ２０以
下の色相のすぐれた高純度のものである。さらに、前記
方法においては、第３薄膜蒸発器で生成したフェノー
ル、ビスフェノールＡを含むスチームからなるストリッ
ピングガスを、第２薄膜蒸発器に対するストリッピング
用スチームガスとして用いることから、第２薄膜蒸発器
におけるフェノールストリッピング効果が高くなるとい
う利点もある。さらにまた、前記した蒸発処理によれ
ば、全体的に極めて短かい滞留時間（通常、６０〜１２
０秒）で蒸発処理を行うことができるので、その処理効
率は非常に高いものとなる。特に、第１薄膜蒸発器、第
２薄膜蒸発器及び第３薄膜蒸発器は、それらを上方から
その順に結合し、液体の流れを重力により上方から下方
に流下させることが望ましく、これによって酸素リーフ
の防止を効果的に行えるとともに、装置系内における液
体の滞留時間を短かく保持することができる。

【００７１】造粒工程７は、前記脱フェノール工程で得
たビスフェノールＡを粒状物に成形する工程である。こ
の造粒工程としては、ビスフェノールＡを造粒し得る方
法であれば任意の工程が採用できる。一般的には、ビス
フェノールＡの溶融液を、冷却用不活性雰囲気中におい
て、液滴状で落下させるとともに、その間に冷却固形化
させる方法が採用される。ビスフェノールＡ粒状物の粒
径は、通常、０．５〜５ｍｍ程度である。また、ビスフ
ェノールＡの造粒に際しては、必要に応じ、ビスフェノ
ールＡのの溶融液滴の結晶固形化を促進させる結晶核剤
を微量添加させることもできる。

【００７２】

【実施例】次に本発明を実施例によってさらに詳細に説
明する。

【００７３】（Ｉ）反応工程１従来公知の方法に従って、スルホン酸基を有するイオン
交換樹脂の存在下、アセトンとフェノールとの反応を行
った。この場合、アセトン１モル当りフェノール１４モ
ルを用いた。反応は６０℃で行った。このようにして得
られた反応生成物の組成は以下の通りであった。アセトン：０．８ｗｔ％水：１．０ｗｔ％フェノール：７３．６ｗｔ％ビスフェノールＡ：１８．８ｗｔ％その他：５．８ｗｔ％

【００７４】（ＩＩ−１）分離工程（図２）図２に示す系統図に従って、前記反応工程１で得られた
フェノールとアセトン反応生成物を蒸留処理した。この
際に用いた主要な操作条件を図２に示したライン又は装
置との関係で以下に示す。（１）ライン４０を通る塔頂物（Ｉ）（ｉ）成分組成アセトン：５．８ｗｔ％フェノール：７．２ｗｔ％水：８６．１ｗｔ％その他：０．９ｗｔ％（２）ライン４２を通る塔頂物（II）（ｉ）成分組成アセトン：１８．５ｗｔ％水：２２．５ｗｔ％共沸剤：５５．６ｗｔ％その他：３．４ｗｔ％（３）ライン４１を通る塔底物（II）（ｉ）成分組成フェノール：９９．０ｗｔ％共沸剤：０．５ｗｔ％その他：０．５ｗｔ％（４）ライン４６を通る塔頂物（III）（ｉ）成分組成アセトン：８５．１ｗｔ％水：１．０ｗｔ％その他：１３．９ｗｔ％（５）ライン４８を通る排水（ｉ）成分組成水：９９．９５ｗｔ％フェノール：０．０５ｗｔ％

【００７５】（ＩＩ−２）分離工程２（図３）図３に示す装置系統図に従って、前記反応工程１で得ら
れたフェノールとアセトンとの反応生成物を処理した。
この際に用いた主要な操作条件を図３に示したライン又
は装置との関係で以下に示す。（１）ライン４０を通る塔頂物（Ｉ）（ｉ）成分組成アセトン：２９．０ｗｔ％水：３８．８ｗｔ％フェノール：２９．９ｗｔ％その他：２．３ｗｔ％（２）ライン４６を通る塔頂物（ＩＩ）（ｉ）成分組成アセトン：８９．７ｗｔ％水：２．１ｗｔ％その他：８．２ｗｔ％（３）ライン４７を通る塔底物（ＩＩ）（ｉ）成分組成水：５５．５ｗｔ％フェノール：４４．２ｗｔ％その他：０．３ｗｔ％（４）ライン４８を通る塔頂物（ＩＩＩ）（ｉ）成分組成水：９９．７ｗｔ％フェノール：０．２ｗｔ％その他：０．１ｗｔ％（５）ライン４１を通る塔底物（ＩＩＩ）（ｉ）成分組成フェノール：９９．０ｗｔ％その他：１．０ｗｔ％

【００７６】（ＩＩＩ）晶析工程３（図４）図４に示した装置系統図に従って、ビスフェノールＡを
含むフェノール溶液を晶析処理して、結晶アダクトを含
むスラリー（晶析生成物）を得た。この場合の主要操作
条件を、図４において符号で示したライン又は装置との
関係で以下に示す。（１）ライン６２における供給原料の成分組成ビスフェノールＡ：２２重量％フェノール：７４重量％その他：４重量％（２）晶析塔Ａ（ｉ）温度：５０℃ （ii）滞留時間：１２０分（３）晶析塔Ａに付設した微結晶アダクト溶解タンク５
７（ｉ）温度：５１℃ （ii）滞留時間：６分前記実験において、ライン７３を通って得られるスラリ
ーから分離された結晶アダクト中の粒径１００μｍ以下
の微粒子の割合は、２０重量％であった。

【００７７】（ＩＶ）晶析生成物分離工程４ビスフェノールＡを含むフェノール溶液を晶析処理して
得られた結晶アダクトスラリーを、１０６μｍの目開き
を有する濾布をセットした濾過機により、スラリー温度
を５０℃に保持しながら減圧濾過した後、得られた結晶
アダクトケークを、前記（ＩＩ−１）の分離工程２から
得られた精製フェノールにより洗浄した。この洗浄結晶
アダクト中の１００μｍ以下の微結晶アダクト成分の割
合は５重量％であった。この結晶アダクトの溶融色は１
０ＡＰＨＡで、着色不純物の濃度は著しく低いものであ
った。また、この結晶アダクトに含まれるクロマン化合
物（着色性不純物）の濃度は１００ｗｔｐｐｍであっ
た。

【００７８】（Ｖ）晶析生成物から分離された母液の精
製処理（図５）図５に示した装置系統図に従って、ビスフェノールＡを
含むフェノール溶液の晶析生成物から分離した母液を処
理した。この際に用いた主要な操作条件を、図５に示し
たライン又は装置との関連で以下に示す。（１）ライン１８を通る母液（ｉ）成分組成フェノール：８６．３重量％ビスフェノールＡ：７．７重量％２，４′−ビスフェノールＡ：２．４重量％その他トリスフェノール、ポリフェノール、着色不純物及び着色性不純物など：３．６重量％（ii）色相ＡＰＨＡ：５００以上（２）フェノール蒸留塔（５）（ｉ）塔底温度：１７０℃ （ii）圧力：１７０トール（３）ライン１１を通る留出液（ｉ）成分組成フェノール：９９．８重量％以上（ii）色相ＡＰＨＡ：１０（４）ライン８１を通る塔底物（濃縮母液）（ｉ）成分組成フェノール：１４．８重量％ビスフェノールＡ：４８．５重量％２，４′−ビスフェノールＡ：１４．８重量％その他トリスフェノール、ポリフェノール、着色不純物及び着色性不純物など：２１．９重量％（ii）色相ＡＰＨＡ：５００以上（５）ライン８３における塩基性触媒（ＮａＯＨ）の添
加量：ライン８１を通る濃縮母液に対して０．０５重量
％（６）反応条蒸留塔（Ｄ）（ｉ）塔底温度：２５０℃ （ii）圧力：４０トール（７）ライン８９を通る留出蒸気（ｉ）成分組成フェノール：９２．６重量％イソプロペニルフェノールおよびその他：７．４重量％（ii）色相ＡＰＨＡ：２００（８）ライン８８を通る塔底液（ｉ）成分組成フェノール：０．５重量％ビスフェノールＡ：５．５重量％その他のポリフェノール高沸点物など：９０重量％以上（ii）抜出量：ライン８１を通る濃縮母液に対して１
７．０重量％（９）強酸型イオン交換樹脂塔（Ｒ）（ｉ）温度：５３℃ （ii）圧力：７６０トール（１０）ライン９２を通る生成物フェノール：８９．５重量％ビスフェノールＡ：８．０重量％その他、不純物：２．５重量％（ii）色相ＡＰＨＡ：７０以下

【００７９】（VI-1）結晶アダクト液化工程６及び結晶
アダクト溶融液の脱フェノール工程７結晶アダクト溶融装置として、ＳＵＳ３０４製の外部加
熱式密閉容器を用い、蒸発装置として、ＳＵＳ３０４製
のストリッピング装置を用いた。溶融装置の上部に結晶
アダクト供給管を付設し、また、その底部には溶融液配
管を付設し、この溶融液配管をストリッピング装置の中
間部に連結した。また、このストリッピング装置の上部
にはフェノール蒸気排出用の配管を付設し、またその底
部にはビスフェノールＡの溶融液排出用の配管を付設し
た。なお、前記した配管はいずれもＳＵＳ３０４製であ
った。次に、前記のようにして構成された装置系におい
て、その溶融装置の内壁面、ストリッピング装置の内壁
面、溶融装置とストリッピング装置との間の配管、スト
リッピング装置に付設したビスフェノールＡ溶融の液の
排出用配管に対して、以下のようにしてその内壁面を洗
浄した。（１）溶融装置内壁面の洗浄スプレーノズルを介して、常圧下、１３０℃のフェノー
ル液を内壁面に噴射させて、内壁面を充分に洗浄した
後、１５０℃のフェノール／ビスフェノールＡ混合液
（混合重量比：６５／３５）を噴射させて内壁面を充分
に洗浄した。（２）ストリッピング装置内壁面の洗浄常圧下、１３０℃のフェノールを、その装置上部に付設
されたスプレーノズルから流させて装置内中心部の洗浄
を行った後、１３０℃のフェノール次いで１５０℃のフ
ェノール／ビスフェノールＡ混合物（混合重量比＝６５
／３５）により装置壁面が充分濡れるように流通させ
た。次いで、１８０℃、１０トールの条件でフェノール
／ビスフェノールＡ混合物（混合重量比＝６５／３５）
を流通させた。（３）配管内壁面の洗浄１３０℃のフェノールを配管内を流通させて洗浄した。
その際、管内壁面に気相が存在しないように注意した。
なお、前記の洗浄により、各装置及び配管の内壁面に付
着する酸素量は、内壁面１ｍ²当り５ミリモル以下であ
ることが確認された。

【００８０】次に、前記のようにして、結晶アダクトの
溶融液及びビスフェノールＡの溶融液が接触する装置及
び配管の内壁面があらかじめ酸素除去された装置系を用
いて精製結晶アダクト（溶融色ＡＰＨＡ：５）からフェ
ノールを蒸発除去して、ビスフェノールＡを分離した
（実験Ａ）。また、前記における溶融装置及びストリッ
ピング装置の操作条件は以下の通りである。（溶融装置）温度：１３０℃ 圧力：常圧雰囲気酸素濃度：０．０００５ｖｏｌ％（ストリッピング装置）温度：１７５℃ 圧力：１０トール雰囲気酸素濃度分圧：０．００１５ｖｏｌ％

【００８１】また、参考のために、溶融装置、ストリッ
ピング装置及び配管の各内壁を洗浄処理しない以外は同
様にして実験を行った（実験Ｂ）。次に、前記実験Ａ及
び実験Ｂで得たビスフェノールＡの１７５℃における溶
融色を次表にまとめて示す。

【００８２】

【表１】

【００８３】（VI-2）結晶アダクト液化工程６及び結晶
アダクト溶融液の脱フェノール工程７結晶アダクト溶解装置として、ＳＵＳ３１６製の外部加
熱式密閉容器を用い、結晶アダクト溶融液の蒸発処理装
置として、内部にＳＵＳ３１６製の充填材を充填したＳ
ＵＳ３０４製の２つの充填塔を用いた。溶融装置には、
その上部に結晶アダクト供給管を付設し、その底部に溶
融液配管を付設し、この配管を第１充填塔の中間部に連
結した。この第１充填塔には、その塔頂部にフェノール
蒸気排出用配管を付設し、その底部にビスフェノールＡ
とフェノールを含む溶融液配管を付設し、この配管を第
２充填塔の中間部に連結した。この第２充填塔の塔頂部
はフェノール、スチーム及び少量のビスフェノールＡを
含む混合蒸気排出用配管を付設し、この配管は、これを
図１に示した冷却凝縮装置に連結させた。また、この第
２充填塔の塔底部には、ビスフェノールＡ排出配管と、
スチーム供給配管を付設した。なお、前記した第１充填
塔及び第２充填塔の各底部には、加熱スチームを流通さ
せる加熱コイルを配設した。また、前記した各配管はい
ずれもＳＵＳ３１６製のものであった。

【００８４】次に、前記のようにして構成された装置系
において、その溶融装置の内壁面、第１充填塔及び第２
充填塔の内壁面及びその充填材表面、溶融装置と第１充
填塔との間の配管、第１充填塔と第２充填塔との間の配
管及び第２充填塔の底部に配設したビスフェノールＡ排
出配管に対して、以下のようにして付着酸素除去用の洗
浄処理を施した。（１）溶融装置内壁面の洗浄スプレーノズルを介して常圧下、１３０℃のフェノール
液を内壁面に噴射させて、内壁面を充分に洗浄した後、
１５０℃のフェノール／ビスフェノールＡ混合液（混合
重量比＝６５／３５）を噴射させて内壁面を充分に洗浄
した。（２）充填塔内壁面及び充填材表面の洗浄常圧下、１３０℃のフェノールを、その装置の上部に付
設されたスプレーノズルから流入させて装置内の洗浄を
行った後、１３０℃のフェノール次いで１５０℃のフェ
ノール／ビスフェノールＡ混合物（混合重量比＝６５／
３５）により装置壁面および充填材表面が充分濡れるよ
うに流通させた。次いで１８０℃、１０トールの条件で
フェノール／ビスフェノールＡ混合物(混合重量比＝６
５／３５)を流通させた。（３）配管内壁面の洗浄１３０℃のフェノールを配管内を流通させて洗浄した。
その際、管内壁面に気相が存在しないように注意した。
なお、前記の洗浄により、溶融装置内壁面、充填塔内壁
面とその充填材表面及び配管の内壁面に付着する酸素量
は、表面積１ｍ²当り５ミリモル以下であることが確認
された。

【００８５】次に、結晶アダクトの溶融液及びビスフェ
ノールＡの溶融液が接触する溶融装置、充填塔、充填材
及び配管の表面があらかじめ酸素除去された前記装置系
を用いて、精製結晶アダクト(溶融色ＡＰＨＡ：５)から
フェノールを蒸発除去して、ビスフェノールＡを分離回
収するとともに、第２充填塔の塔頂から得られる混合蒸
気の冷却凝縮処理を行った。また、前記における溶融装
置、第１充填塔、第２充填塔及び冷却凝縮装置系のの操
作条件は以下の通りである。（溶融装置）温度：１３０℃ 圧力：常圧雰囲気酸素濃度：０．０００５ｖｏｌ％（第１充填塔）温度：１７０℃ 圧力：１０トール蒸気雰囲気中酸素濃度：０．００１５ｖｏｌ％（第２充填塔）温度：１８０℃ 圧力：１０トールスチーム供給量：溶融液１ｋｇ当り０．０８ｋｇ蒸気雰囲気中酸素濃度：０．０００２ｖｏｌ％（図７の第１冷却器の操作条件）（１）ライン１０３から第１０１冷却器１に導入される
ストリッピングガス圧力：１０トール温度：１８０℃ 組成：ビスフェノールＡ２５ｗｔ％、フェノール２５ｗ
ｔ％、スチーム５０ｗｔ％（２）ライン１０５から導入される第１冷却媒体（フェ
ノール）温度：５０℃ 冷却媒体／ストリッピングガス重量比：６（３）冷却器１０１におけるストリッピングガスからの
ビスフェノールＡの回収率：１００％

【００８６】（図７の第２冷却器の操作条件）（１）ライン１０８から第２冷却器に導入される未凝縮
ガス圧力：１０トール温度：５１℃ 組成：フェノール６５ｗｔ％、スチーム３５ｗｔ％（２）ライン１０９から第２冷却器１０２に導入される
第２冷却媒体（フェノール水溶液）温度：９℃ 冷却媒体／未凝縮ガス重量比：１９０（３）冷却器１０２における未凝縮ガスからのフェノー
ル及びスチームの各回収率フェノール回収率：１００％スチーム回収率：１００％

【００８７】（VII)結晶アダクト溶融液の脱フェノール
工程（実験Ｉ）実質的に中性条件下（ｐＨ５．０５）にあ
り、溶融色がＡＰＨＡ５であるビスフェノールＡ・フェ
ノール結晶アダクトを、精製フェノールで部分希釈し、
１３０℃に加熱してビスフェノールＡ３０重量％を含む
フェノール溶液とした。このフェノール溶液を原料液と
して用い図９に示す蒸発装置系を用いて処理した。次
に、図９に示した装置系の主要な運転条件及び主要ライ
ンを通る液体の成分組成について以下に示す。（１）第１蒸発器２０１（ｉ）外部ヒータ温度：１７０℃ （ii) 内部圧力：２０トール（iii) 雰囲気中酸素濃度：０．００１０ｖｏｌ％（２）第２蒸発器２０２（ｉ）外部ヒータ温度：１８０℃ （ii) 内部圧力：１０トール（iii) 雰囲気中酸素濃度：０．００３０ｖｏｌ％（３）第３蒸発器２０３（ｉ）外部ヒータ温度：１８０℃ （ii) 内部圧力：１０トール（iii) 雰囲気中酸素濃度：０．００３０ｖｏｌ％（４）ライン２１６を通るビスフェノールＡ（ｉ）フェノール含有率：２９ｗｔｐｐｍ（ii) 溶融色：ＡＰＨＡ１５（５）ライン２１５を通るスチーム供給量：ライン２１
４を通るビスフェノールＡ１重量部当り０．０４重量部

【００８８】（実験II）実験Ａにおいて、原料としての
ビスフェノールＡを含むフェノール溶液に、表２に示す
添加剤を２０ｗｔｐｐｍ添加した以外は同様にして実験
を行った。この実験により、ライン１６を通して高純度
ビスフェノールＡ（ＡＰＨＡ：１０、フェノール含有
率：２７ｗｔｐｐｍ）を得た。次に、このビスフェノー
ルＡを、空気雰囲気下で１７５℃で０時間又は２時間加
熱保持する熱安定性試験（試験Ａ）及び空気を１７５℃
で２．０時間吹込む加速熱安定性試験（試験Ｂ）に付し
て、その際の色相を評価した。その結果を表２に示す。

【００８９】

【表２】

【００９０】

【発明の効果】本発明によれば、分離工程でビスフェノ
ールＡを含むフェノール溶液及びフェノールを分離する
とともに、アセトンを分離させ、そのアセトンを反応工
程に循環するアセトン循環工程を含むことから、アセト
ンを有効に利用することができる。また、本発明では、
晶析生成物から分離された母液を精製処理して反応系に
循環させる工程を含むことから、反応系での副生物や不
純物の蓄積を防止し、高純度で色相の良いビスフェノー
ルＡを得ることができる。さらに、本発明では、特定の
工程を有機的に結合させた一連の工程からなることか
ら、高品質のビスフェノールＡを効率よくかつ経済的に
製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によりビスフェノールＡを製造するため
の工程図を示す。

【図２】アセトンとフェノールとの反応生成物を特定成
分に分離するための１つの例についての蒸留処理系統図
を示す。

【図３】アセトンとフェノールとの反応生成物を特定成
分に分離するための他の例についての蒸留処理系統図を
示す。

【図４】ビスフェノールＡを含むフェノール溶液の晶析
工程の１つの例についての晶析系統図を示す。

【図５】晶析生成物から分離された母液の処理方法の１
つの例についての処理系統図を示す。

【図６】反応蒸留塔に加熱処理装置と滞留槽を付設した
説明図を示す。

【図７】スチームとフェノールの混合蒸気の凝縮処理方
法の系統図を示す。

【図８】スチームとフェノールの混合蒸気の凝縮処理法
において、第１冷却器と第２冷却器を含む一塔型の冷却
装置を用いた場合の系統図を示す。

【図９】薄膜蒸発器を用いて脱フェノール工程を実施す
る方法についての系統図を示す。

【符号の説明】

１反応工程２分離工程３晶析工程４晶析生成物分離工程５液化工程６脱フェノール工程７造粒工程８蒸留工程９加熱工程（反応槽）１０減圧回収工程（減圧蒸発塔）３１，３２，３３，３４蒸留塔３５強酸型イオン交換樹脂処理装置３６，３７静置槽５５外筒５６内筒５７微結晶アダクト溶解タンク１０１，１０２冷却器Ｒ強酸型イオン交換樹脂塔

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者須田信幸神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12 番１号千代田化工建設株式会社内 (72)発明者野村誠神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12 番１号千代田化工建設株式会社 (56)参考文献特開平３−284641（ＪＰ，Ａ) 特開平３−95135（ＪＰ，Ａ) 特開平２−28026（ＪＰ，Ａ) 特公昭55−34779（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07C 39/00 C07C 37/00

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】アセトンと過剰量のフェノールとを酸触
媒の存在下で反応させてビスフェノールＡを生成させる
反応工程、該反応工程から得られた反応生成物を、アセ
トンと、水と、フェノールと、ビスフェノールＡを含む
フェノール溶液とに分離する分離工程、該ビスフェノー
ルＡを含むフェノール溶液からビスフェノールＡとフェ
ノールとの結晶アダクトを析出させる晶析工程、該晶析
工程で得られた晶析生成物から結晶アダクトと母液を分
離する晶析生成物分離工程、該晶析生成物分離工程で得
られた結晶アダクトを液化する結晶アダクト液化工程及
び該結晶アダクト液化工程で得られたビスフェノールＡ
を含むフェノール溶液からフェノールを除去する脱フェ
ノール工程を備え、さらに、前記分離工程から分離され
たアセトンを反応工程に循環させるアセトン循環工程、
該分離工程で得られたフェノールの少なくとも一部を晶
析生成物分離工程に結晶アダクト洗浄液として循環させ
るフェノール循環工程、該晶析生成物分離工程で得られ
た母液を反応工程に循環させる母液循環工程及び該循環
母液の一部を精製する母液精製工程及び該母液精製工程
で得られた精製母液を反応工程に循環させる精製母液循
環工程を含み、該母液精製工程が、（ｉ）該母液を蒸留塔に導入し、該蒸留塔に導入した母
液の５０〜９０重量％を留出させてフェノールを含む留
出液を得る蒸留工程、（ii）該蒸留工程（ｉ）で得られた蒸留塔の塔底液を、
塩基性触媒の存在下で２００〜３５０℃に加熱する加熱
工程、（iii)該加熱工程（ii）で得られた生成物を減圧蒸発し
て、フェノール及びイソプロペニルフェノールを含む留
出蒸気を得る減圧回収工程、（iv）該減圧回収工程（iii)で得られた留出蒸気を、蒸
留工程（ｉ）で得られた留出液と接触させて急冷する急
冷工程、からなることを特徴とするビスフェノールＡの製造方
法。
【請求項２】該脱フェノール工程においてビスフェノ
ールＡを含むフェノール溶液からフェノールを除去する
に際し、ビスフェノールＡを含むフェノール溶液を、薄
膜蒸発器を用い、雰囲気中の酸素濃度０．００５vol%以
下の条件で１６０〜１８５℃の温度及び１５〜６０トー
ルの圧力下で蒸発処理して、フェノール含有率が１〜５
重量％のビスフェノールＡを得るフェノール蒸発工程
と、該フェノール蒸発工程で得られたフェノールを含む
ビスフェノールＡを、１７０〜１８５℃の温度及び１５
トール以下の圧力下でストリッピング用ガスと向流接触
させてストリッピング処理する第１ストリッピング工程
と、該第１ストリッピング工程で得られたフェノールを
含むビスフェノールＡを、１７０〜１８５℃の温度及び
１５トール以下の圧力下でストリッピング用ガスと向流
接触させてストリッピング処理する第２ストリッピング
工程とからなり、該第２ストリッピング工程におけるス
トリッピング用ガスとしてスチームを用い、該第１スト
リッピング工程におけるストリッピング用ガスとして、
第２ストリッピング工程で得られたフェノール及びビス
フェノールＡを含むスチームからなるストリッピングガ
スを用いることを、特徴とする請求項１の方法。
【請求項３】ビスフェノールＡを含むフェノール溶液
に、脂肪族カルボン酸を添加混合する請求項２の方法。
【請求項４】加熱工程（ii）と減圧回収工程（iii)
を、反応塔を用いて同時に行う請求項１〜３のいずれか
の方法。
【請求項５】反応塔からその塔底液の一部を抜出し、
塩基性触媒の存在下で２００〜３５０℃の温度で加熱処
理した後、反応塔に循環する請求項４の方法。
【請求項６】急冷工程（ｖ)で得られた急冷物を、反
応工程に循環するに際し、該急冷物を強酸型イオン交換
樹脂と接触させた後、反応工程に循環する請求項１〜５
のいずれかの方法。