JP2003528178A - 安定な開始剤システム - Google Patents
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Abstract
Description
ための各プロセスにおいて有用な光開始剤の安定化に関する。
方法で作成される場合が多い。UVおよび可視の放射線はこれらの反応における
硬化を開始するために最も頻繁に使用されている。開始剤または開始剤システム
(この場合に開始が2種類以上の成分を含む)および上記反応の完了時にレンズ
を最終的に形成するその他の添加物を伴う各材料の混合物を調製することが望ま
しい場合が多い。これらの種類の混合物は本明細書において「モノマー混合物(
monomer mix)」と言われている。上記開始剤の安定性はモノマー混合物の作用
時間および保存寿命における重要なファクターになる可能性がある。すなわち、
このモノマー混合物の作用時間の増加が望ましく、その理由は、このことにより
開始材料の調製の必要性およびロットに対するロットの導入の可能性およびレン
ズ製造中のロット内における変更の可能性を減少できるからである。
ラジカル重合において興味を引く有用な種類の開始剤である。これらの材料の多
くにおける反応機構が「リアクション・メカニズム・オブ・モノアシル−アンド
・ビスアシルホイン・オキシド・ホトイニシエーターズ・スタディド・バイ31P
,13C−,アンド 1H−CIDNPアンドESR(Reaction Mechanism of Mono
acyl- and Bisacylphoine Oxide Photoinitiators Studied by 31P, 13C-, and 1 H- CIDNP and ESR)」,ウルスツラ・コルクザック(Urszula Kolczak),ギ
ュンター・リスト(Gunther Rist),カート・ディートリカー(Kurt Dietliker
),およびヤコブ・ウィルツ(Jacob Wirz)著,118ジャーナル・アメリカン
・ケミカル・ソサイエティ(J. Am. Chem. Soc.),p.6477,(1996
年)において記載されている。さらに、ビスアシルホスフィンおよびそれらの使
用方法が本明細書に参考文献として含まれる米国特許第5,534,559号お
よび特開平(JP−A)8−259642号において記載されている。
、その活性な開始剤としての可能性を低下させている。欧州特許第849,29
6号はコーティングにおいて使用されるウレタン(メタ)アクリレート・ポリマ
ーの製造において使用されるビスアシルホスフィンを安定化する方法を提案して
いる。この方法は第三級アミンの存在下および錫成分の非存在下においてこの開
始剤と共に各モノマー成分を混合する処理を含む。また、特開平(JP−A)4
−6125号、特開平(JP−A)296315号、特開平(JP−A)8−1
27630号は重合化触媒として使用される錫化合物の存在下においてモノアシ
ルホスフィンの光開始剤を安定化する同様の方法を提案している。
混合物に適用される場合に望ましくなく、この理由は、これらの溶液が当該モノ
マー混合物における種々の成分に影響を及ぼす可能性のある潜在的に有害な作用
のためである。このことは上記モノマー混合物がシリコーン・ヒドロゲル・レン
ズを作成するために使用される場合に特に言える。
る。
なモノマー混合物はモノマー混合物、開始剤、および酸の混合により作成されて
いる。
コーン・ヒドロゲル・形成用の混合物、開始剤、および酸の混合により作成され
る。
始剤システムのpHを低下することを含む。
始剤の混合物中においてシリコーン・ヒドロゲル・モノマー配合物を安定化する
ための方法が上記マクロマーおよび光開始剤の混合物に酸を混合することを含む
。
置換または無置換のアルキル、シクロアルキル、または芳香族部分であり、R1 ,R2 およびR3 の内の少なくとも1個は以下の構造を有していて、
してHまたはC1-3 の置換または無置換のアルキルまたはアルコキシ部分である
。
ドロキシまたはC1-4 のアルキル、アルコキシ、アルケニル、またはアルキニル
基を含み得る。また、窒素、イオウ、およびハロゲン原子等のヘテロ原子による
置換も可能であるが、好ましくない。
分であることが好ましい。さらに、R4 およびR8 がそれぞれメトキシ基である
ことが最も好ましい。加えて、上記R3 がC1-2 のアルキル基により置換されて
いるC1-10のアルキル、アルコキシ、またはアルケニル基であることがさらに好
ましく、置換されているペンチル基であることが最も好ましい。
ぞれメトキシ基である上記構造IIの部分であって、R1 がトリメチルペンチル
基である。従って、最も好ましい実施形態は以下の構造を有する。
ーテル、1−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニル・ケトン、イルガキュア18
50(Irgacure 1850)の商標の光開始剤、1−ヒドロキシ・シクロヘキシル・
フェニル・ケトン(「イルガキュア184(Irgacure 184)」として市場におい
て入手可能)、2−ベンジル−2−n−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノ
フェニル)−i−ブタノン(「イルガキュア369(Irgacure 369)」として市
場において入手可能)、1−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニル・ケトン(5
0重量%)+ベンゾフェノン(「イルガキュア500(Irgacure 500)」として
市場において入手可能)、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒ
ドロキシ・プロピル)ケトン(「イルガキュア2959(Irgacure 2959)」と
して市場において入手可能)、2,4,6−トリメチル・ベンゾイル・ジフェニ
ル・ホスフィンオキシド(TPO)(50重量%)+2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−フェニル−プロパン−1−オン(HMPP)(50重量%)(「ダロキ
ュア4265(Darocur 4265)」として市場において入手可能)、2,2−ジメ
トキシ−2−フェニルアセトフェノン(BDK)(「イルガキュア651(Irga
cure 651)」として市場において入手可能)、ビス(nl−2,4−シクロペン
タジエン−1−イル)、ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1
−イル)フェニル)チタン(CGI−784)、2−メチル−1−(4−(メチ
ルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン(MMMP)(「イル
ガキュア907(Irgacure 907)」として市場において入手可能)、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(HMPP)(「ダロキ
ュア1173(Darocur 1173)」として市場において入手可能)、またはこれら
の混合物等のような別の開始剤との組み合わせにおいて使用できる。UVおよび
可視光の開始剤システムを含む各混合物が好ましく、これらは上記モノマー混合
物におけるUV遮断剤のさらに柔軟な使用を可能にする。
好ましいが、強い有機酸並びにルイス酸も含み得る。加えて、反応混合物中にお
いて酸を生じることのできる前駆体もまた使用できる。最も好ましい酸は酢酸、
ギ酸、プロピオン酸、およびアクリル酸である。
水素酸、亜硫酸、硝酸、亜硝酸、亜リン酸、過塩素酸、塩素酸、亜塩素酸、ヨウ
素酸、臭素酸、ヒ酸、炭酸、水素化セレン、水素化テルル、ホスホン酸、次リン
酸、二リン酸、ピロリン酸、メタリン酸、ポリリン酸、セレン酸、亜セレン酸、
テルル酸、亜テルル酸、亜ヒ酸、アンチモン酸、亜アンチモン酸、ホウフッ素酸
(borofluoric acid)等を含む。
スルホン酸、ベータブロモエタンスルホン酸、アリルスルホン酸、2−メチル−
2−[(1−オキソ−2−プロペニル)アミノ]−1−プロパンスルホン酸、D
−10−カンファースルホン酸、ベンゼンスルホン酸、m−ニトロベンゼンスル
ホン酸、m−ベンゼンジスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、2
−ヒドロキシエタンスルホン酸、2−(シクロヘキセニルアミノ)メタンスルホ
ン酸、(3−シクロヘキセニルアミノ)メタンスルホン酸、p−エチルベンゼン
スルホン酸、アルファ−ナフタレンスルホン酸、ベータ−ナフタレンスルホン酸
、p−トルエンスルホン酸、p−クロロメチルベンゼンスルホン酸、p−フェノ
ールスルホン酸、2−ピリジルヒドロキシメタンスルホン酸、2,6−ナフタレ
ンジスルホン酸等のスルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、p−トルエンスルフィ
ン酸等の有機スルフィン酸、フェニル亜ホスホン酸、ブチル亜ホスホン酸、メチ
ル亜ホスホン酸、ジベンゼンホスフィン酸、ジブチルホスフィン酸、ベンゼンホ
スホン酸、メチルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、メチルホスフィン酸、ジ
ベンゼンチオホスフィン酸、ジブチルチオホスフィン酸、ベンゼンチオホスホン
酸、メチルチオホスホン酸、フェニルチオホスフィン酸、メチルチオホスフィン
酸、ベンゼンチオ亜ホスホン酸、ジブチルチオ亜ホスホン酸、ジエチルジチオホ
スフェート、アルファ−ヒドロキシベンジル亜ホスホン酸、トルエン亜ホスホン
酸等の有機リン酸を含み、置換または無置換の脂肪族カルボン酸は、例えば、マ
ンデル酸、酢酸、乳酸、アスコルビン酸、フェニル酢酸、ブロモ酢酸、トリクロ
ロ酢酸、クロロジフルオロ酢酸、チオ酢酸、グリコール酢酸、グリオキシル酸、
アクリル酸、ベータ−クロロアクリル酸、シアノ酢酸、エトキシ酢酸、ベータ−
クロロプロピオン酸、パーフルオロプロピオン酸、プロピオール酸、n−酪酸、
イソ酪酸、アルファ−ヒドロキシ酪酸、クロトン酸、ムコ塩素酸、シクロプロパ
ンカルボン酸、イソ吉草酸、1−メチルシクロプロパンカルボン酸、1−シアノ
シクロプロパンカルボン酸、シクロブタンカルボン酸、シクロペンタンカルボン
酸、2−ケト酪酸、レブリン酸、ピバル酸、tert−ブチル酢酸、クマリル酸、3
−シクロヘキセンカルボン酸、ベータ−2−フリルアクリル酸、3−ピリジル酢
酸、フェニルチオ酢酸、m−クロロフェニル酢酸、o−ニトロフェニル酢酸、p
−フルオロフェニル酢酸、o−ヒドロキシフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、o−
クロロフェノキシ酢酸、2,4−ジクロロフェノキシ酢酸、2,4,5−トリク
ロロフェノキシ酢酸、シクロヘキシル酢酸、1−メチル−1−シクロヘキサンカ
ルボン酸、6−アセトアミドヘキサン酸、ヘプチル酸、dl−テレビン酸、ベン
ゾイルギ酸、ケイ皮酸、o−クロロケイ皮酸、2,4−ジクロロケイ皮酸、m−
ニトロケイ皮酸、o−ヒドロキシケイ皮酸、d−2−フェノキシプロピオン酸、
3−フェノキシプロピオン酸、3−フェニルプロピオン酸、3−(p−ヒドロキ
シフェニル)プロピオン酸、2−(2,4,5−トリクロロフェノキシ)プロピ
オン酸、4−メトキシフェニル酢酸、p−クロロ−2−メチルフェニル酢酸、3
,4−メチレンジオキシフェニル酢酸、4−クロロ−2−メチルフェノキシ酢酸
、m−トリル酢酸、アルファ,アルファ,アルファ−トリフルオロ−m−トリル
酢酸、p−ヒドロキシフェニルピルビン酸、アルファ−シアノケイ皮酸、p−メ
トキシケイ皮酸、m−トリフルオロメチルケイ皮酸、3,4−メチレンジオキシ
ケイ皮酸、3,4−ジメトキシフェニル酢酸、(−)−アルファ−メトキシ−ア
ルファ−トリフルオロメチルフェニル酢酸、1,4−ベンズジオキサン−6−酢
酸、3−フェニル−n−酪酸、1−フェニル−1−シクロプロパンカルボン酸、
2−(p−メトキシフェニル)−アセチレン−1−カルボン酸、3−ベンゾイル
プロピオン酸、2−(p−クロロフェノキシ)−2−メチルプロピオン酸、アル
ファ−ナフチル酢酸、ベータ−ナフトキシ酢酸、3,4,5−トリメトキシフェ
ニル酢酸、ジフェニル酢酸、ビス(p−クロロフェニル)酢酸、1−メントキシ
酢酸、ジフェニレン酢酸、1−フェニルシクロペンタンカルボン酸、1−(p−
クロロフェニル)−1−シクロペンタンカルボン酸、dl−3−カンファーカル
ボン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベンジル酸、デオキシコール酸、リノー
ル酸、オレイン酸、アルファ−アセトアミドケイ皮酸等を含み、芳香族カルボン
酸は、例えば、安息香酸、サリチル酸、o−トルイル酸、アルファ,アルファ,
アルファ−トリフルオロ−m−トルイル酸、p−エチル安息香酸、2,6−ジメ
チル安息香酸、2,4,6−トリメチル安息香酸、p−tert−ブチル安息香酸、
p−ブロモメチル安息香酸、2−ビフェニルカルボン酸、4,4’−メチレンビ
ス(3−ヒドロキシ−ベータ−ナフトエ酸)、アルファ−ナフトエ酸、p−ベン
ゾイル安息香酸、フタルアミド酸、o−フタルアルデヒド酸、m−ニトロ安息香
酸、3,4−ジニトロ安息香酸、m−シアノ安息香酸、チオサリチル酸、没食子
酸、m−ヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、1−ヒドロキシ
−2−ナフトエ酸、o−アニス酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、4−ヒドロキ
シ−3−メトキシ安息香酸、4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシ安息香酸、4
−n−ブトキシ安息香酸、3−フェノキシ安息香酸、ピペロニル酸、o−アセト
アミド安息香酸、p−クロロ安息香酸、3,5−ジクロロ安息香酸、o−フルオ
ロ安息香酸、m−フルオロ安息香酸、2,6−ジフルオロ安息香酸、2,6−ジ
クロロ安息香酸、2,3,5−トリヨード安息香酸、4−クロロサリチル酸、3
−ニトロサリチル酸、5−ブロモサリチル酸、2−クロロ−3−ニトロ安息香酸
、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸、3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシ安
息香酸、3−クロロ−4−メチル安息香酸、3−メトキシ−4−ニトロ安息香酸
、3−メトキシ−4−ヒドロキシ安息香酸、3−メトキシ−4−メチル安息香酸
、3−メチル−2−ニトロ安息香酸、3−ヒドロキシ−4−ニトロ安息香酸、3
,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、o−チモチン酸等を含み、
ヘテロ芳香族カルボン酸は、例えば、N−メチルピロール−2−カルボン酸、2
−フランカルボン酸、5−ブロモ−2−フランカルボン酸、ピロール−2−カル
ボン酸、3−フランカルボン酸、ニコチン酸、イソニコチン酸、シトラジン酸、
アルファ−ピコリン酸等を含み、置換または無置換の脂肪族多価カルボン酸は、
例えば、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、シュ
ウ酸、マロン酸、エチルマロン酸、ヒドロキシマロン酸、メチルコハク酸、2−
メチル−2−フェニルコハク酸、2−エチル−2−メチルコハク酸、2−イソプ
ロピルコハク酸、ブロモコハク酸、2,3−ジブロモコハク酸、アルファ−ケト
グルタル酸、3−エチル−3−メチルグルタル酸、グルタコン酸、イタコン酸、
メサコン酸、シトラコン酸、アジピン酸、ショウノウ酸、ジグリコール酸、アセ
チレンジカルボン酸、ジメチルシクロプロパンジカルボン酸等を含み、芳香族ジ
カルボン酸は、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ホモフタル酸
、3−ニトロフタル酸、4−ヒドロキシイソフタル酸、テトラクロロフタル酸、
テトラクロロテレフタル酸、ニトロテレフタル酸、ピラジン−2,3−ジカルボ
ン酸、o−フェニレン二酢酸、5,5’−メチレン二サリチル酸等を含み、フェ
ノールは、例えば、ピクリン酸、2,4−ジニトロフェノール、2,6−ジニト
ロフェノール、2,6−ジヨード−4−ニトロフェノール、2,6−ジクロロ−
4−ニトロフェノール、2,5−ジクロロ−4−ニトロフェノール、2,6−ジ
ブロモ−4−ニトロフェノール、2−ブロモ−4−クロロ−6−ニトロフェノー
ル、2,4−ジクロロ−6−ニトロフェノール等を含み、置換または無置換のジ
チオカルバミン酸は、例えば、2−シクロヘキセニルジチオカルバミン酸、2−
シクロヘプテニルジチオカルバミン酸、メチルジチオカルバミン酸、ジメチルジ
チオカルバミン酸、エチレンビス(ジチオカルバミン酸)等を含む。
アルミニウム、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、硫
酸アルミニウム、フッ化鉄、塩化鉄、臭化鉄、硝酸鉄、硫酸鉄、フッ化ガリウム
、塩化ガリウム、フッ化アンチモン、塩化アンチモン、硫酸アンチモン、フッ化
イリジウム、塩化イリジウム、フッ化錫、塩化錫、臭化錫、ヨウ化錫、フッ化ヒ
素、塩化ヒ素、フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化銅、塩化バ
リウム、塩化銀等を含む。
用されるようなモル濃度または濃度であることが一般に望ましい。好ましくは、
このpH値は7よりも低い。上記モノマー混合物が低下できるpH値の上限が僅
かにアルカリ性であっても、酸の添加によりそのpH値が下がり、添加しない場
合はこのpH値が維持される。いずれの場合においても、HCL(塩酸)等の一
塩基酸の場合には、約0.1重量%乃至約10重量%の酸が上記モノマー混合物
中に使用される。このことに基づいて、当該技術分野の熟練者は本発明の実施に
おいて有用な別の酸についての等価な範囲を容易に決定できる。
光開始式の注入成形のようなレンズ形成の周知の方法に従って上記の開始剤およ
び安定化剤と混合することにより行なわれる。
高い酸素の浸透性を有している。上記モノマー混合物がシリコーン・ヒドロゲル
の調製のための各成分を含有している場合に、これを本明細書においてシリコー
ン・ヒドロゲル形成用の混合物と言う。シリコーン・ヒドロゲルは好ましくは少
なくとも1種類のシリコーン含有モノマーおよび少なくとも1種類の親水性モノ
マーを含有している混合物を重合することにより調製される。これらのシリコー
ン含有モノマーまたは親水性モノマーのいずれかが架橋剤として機能できるか、
あるいは、別の架橋剤を採用できる。これらの架橋剤は多数の重合性の部位を有
するモノマーである。この用語の「モノマー(monomer)」は、この意味におい
て使用される場合に、最終的なポリマー・システムを形成する場合に使用される
材料を言う。上記架橋剤は単量体、二量体、三量体、または高分子量の分子とす
ることができ、さらに最終的にそれから製造されるシリコーン・ヒドロゲルに関
するモノマーと考えることもできる。上記の重合可能な官能性は一般に2種類以
上のポリマーに対して結合して網状組織または網状組織に類似した高分子の構造
を形成する。このようなシリコーン・ヒドロゲルの形成において一般的に使用さ
れている多数のシリコーン含有の単量体ユニットが存在している。米国特許第4
,136,250号、同第4,153,641号、同第4,740,533号、
同第5,034,461号、同第5,070,215号、同第5,260,00
0号、同第5,310,779号、および同第5,358,995号は幾つかの
有用な例を提供しており、これらはそれぞれ本明細書に参考文献として含まれる
。
る親水性モノマーはメタクリル酸およびアクリル酸等の不飽和カルボン酸、2−
ヒドロキシエチルメタクリレートおよび2−ヒドロキシエチルアクリレート等の
アクリル置換したアルコール、N−ビニル・ピロリドン等のビニル・ラクタム、
およびメタクリルアミドおよびN,N−ジメチルアクリルアミド等のアクリルア
ミドを含む。さらに別の例は米国特許第5,070,215号において開示され
ている親水性のビニル・カーボネートまたはビニル・カーボネート・モノマー、
および米国特許第4,910,277号において開示されている親水性のオキサ
ゾロン・モノマーである。
ー混合物の好ましい各成分は、例えば、シロキサンおよびアクリル/メタクリル
酸および各誘導体、ポリビニル、一般的に、ジエチレン・グリコール、トリエチ
レングリコール、ブチレングリコールおよびヘキサン−1,6−ジオールのジ−
またはトリ(メタ)アクリレート等の、ジ−またはトリ−ビニル・モノマー、お
よびジビニルベンゼンを含む。好ましい実施形態において、上記シロキサン成分
はポリジメチルシロキサンである。このシロキサン成分はヒドロキシエチル・メ
タクリレートまたはアクリレートの誘導体等の親水性モノマーと共に混合される
。最も好ましい実施形態において、上記モノマーはモノメタクリロキシ・プロピ
ル末端化ポリジメチルシロキサン等のモノ−アルキル末端化したポリジメチルシ
ロキサン(「mPDMS」)および2−ヒドロキシエチル・メタクリレート、メ
チル・メタクリレート、メタクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)
シラン、モノ−メタクリロキシプロピル末端化モノ−ブチル末端化ポリジメチル
シロキサン、および3−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジル・イソシア
ネートの反応生成物を含むマクロマーを含む。加えて、好ましいモノマーは、例
えば、メタクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シランすなわち「
TRIS」、N,N−ジメチル・アクリルアミドすなわち「DMA」、トリエチ
レングリコールジメタクリレートすなわち「TEGDMA」を含む。さらに、シ
リコーン・ヒドロゲルを作成するための当業界において既知の別のモノマーおよ
び架橋剤も使用可能である。
中にモノマーの相容性を損なうことなく減少された弾性率およびtanδ(弾性
率で割った材料の損失弾性率またはG”/G’)等の改善された機械的特性を結
果として得られるヒドロゲルに賦与する原因となると考えられるからである。現
在において主に使用されている多くのシロキサンとは異なり、mPDMSは極性
の官能性を全く有しておらず、比較的に高い分子量を有している。従って、この
組み込みを改善する測定値は好ましく受け入れられる。このmPDMSの構造は
以下のように示すことができる。
は芳香族の基であり、この基はヘテロ原子を含んでいてもよく、この場合のR57 はSiに結合している場所において官能基化されていない。C3-8 のアルキル基
が好ましく、ブチル基、特にsec−ブチル基が最も好ましい。また、R56は任意
の単一の重合可能なビニル基である。好ましくは、この基はメタクリル部分であ
るが、アクリルまたはスチレンの部分またはその他の類似の部分であってもよい
。
ンズ金型またはその他のレンズ成形用の容器内に入れる前、その途中、またはそ
の後に添加できる。
剤はアルカノール、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、アセトニト
リル、N,N−ジメチルアセトアミド、ヘプタン、ジメチル・スルホキシド、ア
セトン、tert−ブチル・アセテート、エチル・アセテート、イソプロピル・アセ
テート、およびN−メチル−2−ピロリドンを含む。低分子量(C5-12)のアル
カノールが好ましい。さらに、ジメチル−3−オクタノールが最も好ましい。
THFにおける30.0gのビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、61.39
gのp−キシレン、154.28gのメチル・メタクリレートおよび1892.
13gの2−(トリメチルシロキシ)エチル・メタクリレートの溶液に、14℃
において、N2 の雰囲気下に、191.75gの1−トリメチルシロキシ−メト
キシ−2−メチルプロペンを加えた。次に、THFにおける付加的なTBACB
の30ml(0.40M)を260分の時間にわたり添加し、この時間の間にこ
の反応混合物に自然に発熱させた後に、30℃に冷却した。2−(トリメチルシ
ロキシ)エチル・メタクリレートの添加の60分後に、467.56gの2−(
トリメチルシロキシ)エチル・メタクリレート、3636.6gのPDMSおよ
び3673.84gのTRISおよび20.0gのビス(ジメチルアミノ)メチ
ルシランの溶液を加えて、その混合物を自然に発熱させた後に2時間の間に30
℃に冷却した。次に、10.0gのビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、15
4.26gのメチル・メタクリレート、および1892.13gの2−(トリメ
チルシロキシ)エチル・メタクリレートの溶液を加えて、この混合物を再び自然
に発熱させた。2時間後に、2ガロンの無水THFを加え、上記溶液を34℃ま
で自然に冷却させから、439.69gの水、740.6gのメタノールおよび
8.8gのジクロロ酢酸の溶液を加えた。この混合物を4.5時間にわたり還流
させ、110℃においてオイル・バスにより加熱して、110℃の蒸気温度に到
達するまで、トルエンを添加して水を除去しながら、各揮発物を135℃におい
て蒸留した。
ジブチル錫ジラウレートの溶液を加えた。この混合物を3.5時間にわたり反応
させた後に、30℃に冷却した。その後、トルエンを減圧下にエバポレーション
して白色で無水および蝋質の反応性マクロマーを得た。このマクロマーの理論的
なOH含有量は1.69ミリモル/gである。
%値として計算されている)、すなわち、実施例1のマクロマー(〜18%)、
Si7-9 モノメタクリロキシ末端化ポリジメチル・シロキサン(〜28%)、メ
タクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シランすなわち「TRIS
」(〜14%)、ジメチルアミドすなわち「DMA」(〜26%)、ヒドロキシ
・エチル・メタクリル酸「HEMA」(〜5%)、トリエチレングリコールジメ
タクリレート「TEGDMA」(〜1%)、ポリビニルピロリドン「PVP」(
〜5%)、CGI 1850(1−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニル・ケトンおよび
ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルフェニル・ホ
スフィン・オキシドの1:1(重量)混合物)の光開始剤(〜1%)、氷酢酸(
〜5%)、および少量の添加物を含む均衡量の材料により作成した。次に、20
重量%のジメチル−3−オクタノールの希釈剤の存在下に重合化を行なった。
の8個キャビティ型のレンズ金型の各キャビティに約0.10gのモノマー混合
物を添加して1200秒にわたり硬化することにより形成した。その後、窒素パ
ージ下において重合化を行い、アンドバー社(Andover Corp.)の420PS10-25 AM
39565-02ライトフィルターにより発生した5mWcm-2のUV光により光開始し
た。
成することなく5日間にわたり各レンズを上記モノマー混合物により作成した。
している。
物がその開始剤の活性の損失による再構成を必要とする前の10時間のみにおい
てレンズを作成することができた。
メチル−3−ペンタノール中において調製した。各サンプルをUV可視化検出(
Uv-Vis detection)による逆相高速液体クロマトグラフィーにより分析して、経
時的にDMBAPOの存在を決定した。これらの結果を表1に示す。
POおよび表2において示されている種々の濃度の酸を含有している溶液を2−
プロパノール中において調製した。
て、表3において示されている結果を得た。
安定性の調査) 実施例2(レンズの形成)において記載されている種類の各モノマー混合物を
調製した。混合物1は酸の添加物を全く含有していない。混合物2は0.1重量
%の濃塩酸(37重量%または10.15M)を含有しており、混合物3は1.
0重量%の氷酢酸を含有している。各サンプルを45℃においてインキュベーシ
ョンしてから、UV可視化検出による逆相高速液体クロマトグラフィーにより分
析して、経時的にDMBAPOの存在を決定した。これらの結果を表4に示す。
のpH値の維持が結果として得られることが分かった。
Claims (17)
- 【請求項1】 シリコーン・ヒドロゲル・モノマー配合物において、 (a)シリコーン・ヒドロゲル形成用の混合物と、 (b)以下の構造を有する開始剤と、 【化1】 構造I この式において、R1 ,R2 およびR3 はそれぞれ独立してHまたはC1-12の
置換または無置換のアルキル、シクロアルキル、または芳香族部分であり、R1 ,R2 およびR3 の内の少なくとも1個は以下の構造を有しており、 【化2】 構造II この式において、R4 乃至R8 はそれぞれ独立してHまたはC1-3 の置換また
は無置換のアルキルまたはアルコキシ部分であり、さらに、 (c)酸、を添加することにより作成される配合物。 - 【請求項2】 前記酸がブレンステッド酸、ルイス酸、およびこれらの混合
物から成る群から選択される請求項1に記載の配合物。 - 【請求項3】 前記酸が弱い有機酸である請求項1に記載の配合物。
- 【請求項4】 前記酸が酢酸である請求項1に記載の配合物。
- 【請求項5】 開始剤の1モル当たりに1乃至100当量の酸を含む請求項
1に記載の配合物。 - 【請求項6】 前記酸が無機酸である請求項1に記載の配合物。
- 【請求項7】 開始剤システムを安定化する方法において、当該システムの
pH値を低下する工程を含み、当該開始剤システムが以下の構造を有する化合物
を含有している方法。 【化3】 構造I この式において、R1 ,R2 およびR3 はそれぞれ独立してHまたはC1-12の
置換または無置換のアルキル、シクロアルキル、または芳香族部分であり、R1 ,R2 およびR3 の内の少なくとも1個は以下の構造を有しており、 【化4】 構造II この式において、R4 乃至R8 はそれぞれ独立してHまたはC1-3 の置換また
は無置換のアルキルまたはアルコキシ部分である。 - 【請求項8】 前記pH値が8以下に低下される請求項7に記載の方法。
- 【請求項9】 前記pH値が酸の混合により低下される請求項7に記載の方
法。 - 【請求項10】 前記pH値がブレンステッド酸、ルイス酸、およびこれら
の混合物から成る群の内の要素の混合により低下される請求項7に記載の方法。 - 【請求項11】 0.1重量%乃至10重量%の酸が前記モノマー混合物を
含有している開始剤システムに混合される請求項7に記載の方法。 - 【請求項12】 反応性のシリコーン・マクロマーおよび以下の構造を有す
る光開始剤の混合物を含有しているシリコーン・ヒドロゲル・モノマーを安定化
するための方法において、 【化5】 構造I この式において、R1 ,R2 およびR3 はそれぞれ独立してHまたはC1-12の
置換または無置換のアルキル、シクロアルキル、または芳香族部分であり、R1 ,R2 およびR3 の内の少なくとも1個は以下の構造を有しており、 【化6】 構造II この式において、R4 乃至R8 はそれぞれ独立してHまたはC1-3 の置換また
は無置換のアルキルまたはアルコキシ部分であり、 酸を前記配合物に混合する工程を含む方法。 - 【請求項13】 0.1重量%乃至10重量%の酸が前記モノマー混合物を
含有している開始剤システムおよびマクロマーに混合される請求項12に記載の
方法。 - 【請求項14】 前記酸がブレンステッド酸、ルイス酸、およびこれらの混
合物から成る群から選択される請求項12に記載の方法。 - 【請求項15】 前記酸が弱い有機酸である請求項12に記載の方法。
- 【請求項16】 前記酸が酢酸である請求項12に記載の方法。
- 【請求項17】 前記酸が少なくとも0.25重量%の酢酸の溶液により構
成されている請求項12に記載の方法。
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