JP2003528178A - Stable initiator system - Google Patents

Stable initiator system

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JP2003528178A
JP2003528178A JP2001569024A JP2001569024A JP2003528178A JP 2003528178 A JP2003528178 A JP 2003528178A JP 2001569024 A JP2001569024 A JP 2001569024A JP 2001569024 A JP2001569024 A JP 2001569024A JP 2003528178 A JP2003528178 A JP 2003528178A
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ラブ・ロバート・エヌ
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ウッド・ジョー・エム
ナンズ・イワン・エム
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Abstract

(57)【要約】 眼用レンズの作成において使用するアシルホスフィン開始剤が当該レンズを作成するために使用するモノマー混合物に酸を添加することにより安定化される。   (57) [Summary] The acylphosphine initiator used in making the ophthalmic lens is stabilized by adding an acid to the monomer mixture used to make the lens.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】 発明の背景 本発明は光開始剤の使用方法に関する。特に、本発明は眼用レンズを作成する
ための各プロセスにおいて有用な光開始剤の安定化に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to methods of using photoinitiators. In particular, the present invention relates to the stabilization of photoinitiators useful in each process for making ophthalmic lenses.

【0002】 コンタクト・レンズ等の眼用レンズは光開始による重合化反応を採用している
方法で作成される場合が多い。UVおよび可視の放射線はこれらの反応における
硬化を開始するために最も頻繁に使用されている。開始剤または開始剤システム
(この場合に開始が2種類以上の成分を含む)および上記反応の完了時にレンズ
を最終的に形成するその他の添加物を伴う各材料の混合物を調製することが望ま
しい場合が多い。これらの種類の混合物は本明細書において「モノマー混合物(
monomer mix)」と言われている。上記開始剤の安定性はモノマー混合物の作用
時間および保存寿命における重要なファクターになる可能性がある。すなわち、
このモノマー混合物の作用時間の増加が望ましく、その理由は、このことにより
開始材料の調製の必要性およびロットに対するロットの導入の可能性およびレン
ズ製造中のロット内における変更の可能性を減少できるからである。
Ophthalmic lenses such as contact lenses are often made by methods that employ a photoinitiated polymerization reaction. UV and visible radiation are most often used to initiate curing in these reactions. When it is desirable to prepare a mixture of materials with an initiator or initiator system (where the start comprises more than one component) and other additives that ultimately form the lens upon completion of the above reaction There are many. These types of mixtures are referred to herein as "monomer mixtures (
monomer mix) ". The stability of the initiator can be an important factor in the working time and shelf life of the monomer mixture. That is,
An increase in the working time of this monomer mixture is desirable because it can reduce the need for preparation of starting materials and the possibility of introducing lots into lots and the possibility of changes within the lot during lens manufacturing. Is.

【0003】 アシルホスフィンは眼用レンズを作成するために頻繁に用いられる種類の遊離
ラジカル重合において興味を引く有用な種類の開始剤である。これらの材料の多
くにおける反応機構が「リアクション・メカニズム・オブ・モノアシル−アンド
・ビスアシルホイン・オキシド・ホトイニシエーターズ・スタディド・バイ31
13C−,アンド 1H−CIDNPアンドESR(Reaction Mechanism of Mono
acyl- and Bisacylphoine Oxide Photoinitiators Studied by 31P, 13C-, and 1 H- CIDNP and ESR)」,ウルスツラ・コルクザック(Urszula Kolczak),ギ
ュンター・リスト(Gunther Rist),カート・ディートリカー(Kurt Dietliker
),およびヤコブ・ウィルツ(Jacob Wirz)著,118ジャーナル・アメリカン
・ケミカル・ソサイエティ(J. Am. Chem. Soc.),p.6477,(1996
年)において記載されている。さらに、ビスアシルホスフィンおよびそれらの使
用方法が本明細書に参考文献として含まれる米国特許第5,534,559号お
よび特開平(JP−A)8−259642号において記載されている。
[0003]   Acylphosphines are a type of free that are often used to make ophthalmic lenses.
It is a useful class of initiators of interest in radical polymerization. Many of these materials
The reaction mechanism in Ku is “Reaction Mechanism of Monoacyl-and
・ Bisacyl phoyne oxide photoinitiators study by31P
13C-, And1H-CIDNP and ESR (Reaction Mechanism of Mono
acyl- and Bisacylphoine Oxide Photoinitiators Studied by31P,13C-, and 1 H-CIDNP and ESR) ", Urszula Kolczak, Gi
Gunther Rist, Kurt Dietliker
), And Jacob Wirz, 118 Journal American
-Chemical Society (J. Am. Chem. Soc.), P. 6477, (1996
Year). In addition, bisacylphosphines and their uses
US Pat. No. 5,534,559, the usage of which is incorporated herein by reference.
And JP-A-8-259642.

【0004】 不都合にも、この種の化合物は種々の環境内において不安定になる傾向があり
、その活性な開始剤としての可能性を低下させている。欧州特許第849,29
6号はコーティングにおいて使用されるウレタン(メタ)アクリレート・ポリマ
ーの製造において使用されるビスアシルホスフィンを安定化する方法を提案して
いる。この方法は第三級アミンの存在下および錫成分の非存在下においてこの開
始剤と共に各モノマー成分を混合する処理を含む。また、特開平(JP−A)4
−6125号、特開平(JP−A)296315号、特開平(JP−A)8−1
27630号は重合化触媒として使用される錫化合物の存在下においてモノアシ
ルホスフィンの光開始剤を安定化する同様の方法を提案している。
Unfortunately, compounds of this type tend to be unstable in various environments, reducing their potential as active initiators. European Patent No. 849,29
No. 6 proposes a method of stabilizing the bisacylphosphine used in the preparation of urethane (meth) acrylate polymers used in coatings. The method involves mixing each monomer component with this initiator in the presence of a tertiary amine and in the absence of a tin component. In addition, JP-A-4
-6125, JP-A (JP-A) 296315, JP-A (JP-A) 8-1
No. 27630 proposes a similar method for stabilizing monoacylphosphine photoinitiators in the presence of tin compounds used as polymerization catalysts.

【0005】 不都合にも、これらの溶液は眼用レンズを作成するために使用されるモノマー
混合物に適用される場合に望ましくなく、この理由は、これらの溶液が当該モノ
マー混合物における種々の成分に影響を及ぼす可能性のある潜在的に有害な作用
のためである。このことは上記モノマー混合物がシリコーン・ヒドロゲル・レン
ズを作成するために使用される場合に特に言える。
Unfortunately, these solutions are undesirable when applied to the monomer mixtures used to make ophthalmic lenses, because they affect various components in the monomer mixtures. This is because of potentially harmful effects that may cause This is especially true when the monomer mixture is used to make silicone hydrogel lenses.

【0006】 従って、アシルホスフィン開始剤を安定化するための新規な方法が望まれてい
る。
Accordingly, there is a need for new methods for stabilizing acylphosphine initiators.

【0007】 発明の概要 本発明は眼用レンズを作成するための安定なモノマー混合物である。この安定
なモノマー混合物はモノマー混合物、開始剤、および酸の混合により作成されて
いる。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a stable monomer mixture for making ophthalmic lenses. This stable monomer mixture is made by mixing the monomer mixture, the initiator, and the acid.

【0008】 本発明の別の態様において、シリコーン・ヒドロゲル・モノマー配合物がシリ
コーン・ヒドロゲル・形成用の混合物、開始剤、および酸の混合により作成され
る。
In another aspect of the invention, a silicone hydrogel monomer formulation is made by mixing a silicone hydrogel forming mixture, an initiator, and an acid.

【0009】 本発明のさらに別の態様において、開始剤システムを安定化する方法が当該開
始剤システムのpHを低下することを含む。
In yet another aspect of the invention, a method of stabilizing an initiator system comprises reducing the pH of the initiator system.

【0010】 本発明のさらに別の態様において、反応性シリコーン・マクロマーおよび光開
始剤の混合物中においてシリコーン・ヒドロゲル・モノマー配合物を安定化する
ための方法が上記マクロマーおよび光開始剤の混合物に酸を混合することを含む
In yet another aspect of the invention, a method for stabilizing a silicone hydrogel monomer formulation in a mixture of a reactive silicone macromer and a photoinitiator is provided by acidifying the mixture of macromer and photoinitiator. Including mixing.

【0011】 本発明の詳細な説明 本発明の開始剤は以下の構造を有する開始剤である。[0011] Detailed Description of the Invention   The initiator of the present invention is an initiator having the following structure.

【化7】 構造I この式において、R1 ,R2 およびR3 はそれぞれ独立してHまたはC1-12
置換または無置換のアルキル、シクロアルキル、または芳香族部分であり、R1 ,R2 およびR3 の内の少なくとも1個は以下の構造を有していて、
[Chemical 7] Structure I In this formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently H or C 1-12 substituted or unsubstituted alkyl, cycloalkyl, or aromatic moieties, and R 1 , R 2 and R 3 At least one of the three has the structure:

【化8】 構造II このアシル炭素において上記Pに結合しており、R4 乃至R8 はそれぞれ独立
してHまたはC1-3 の置換または無置換のアルキルまたはアルコキシ部分である
[Chemical 8] Structure II At this acyl carbon, attached to P above, R 4 to R 8 are each independently H or C 1-3 substituted or unsubstituted alkyl or alkoxy moieties.

【0012】 上記R1 乃至R8 が置換されているそれぞれの場合において、その置換基はヒ
ドロキシまたはC1-4 のアルキル、アルコキシ、アルケニル、またはアルキニル
基を含み得る。また、窒素、イオウ、およびハロゲン原子等のヘテロ原子による
置換も可能であるが、好ましくない。
In each case where R 1 to R 8 are substituted, the substituent may comprise a hydroxy or C 1-4 alkyl, alkoxy, alkenyl, or alkynyl group. Substitution with heteroatoms such as nitrogen, sulfur, and halogen atoms is also possible, but not preferred.

【0013】 上記R1 およびR2 は共にR4 およびR8 の各置換基を伴う上記構造IIの部
分であることが好ましい。さらに、R4 およびR8 がそれぞれメトキシ基である
ことが最も好ましい。加えて、上記R3 がC1-2 のアルキル基により置換されて
いるC1-10のアルキル、アルコキシ、またはアルケニル基であることがさらに好
ましく、置換されているペンチル基であることが最も好ましい。
Both R 1 and R 2 are preferably moieties of Structure II above with the respective substituents of R 4 and R 8 . Furthermore, it is most preferred that R 4 and R 8 are each a methoxy group. In addition, R 3 is more preferably a C 1-10 alkyl, alkoxy, or alkenyl group substituted with a C 1-2 alkyl group, and most preferably a substituted pentyl group. .

【0014】 最も好ましい実施形態において、R1 およびR2 は共にR4 およびR8 がそれ
ぞれメトキシ基である上記構造IIの部分であって、R1 がトリメチルペンチル
基である。従って、最も好ましい実施形態は以下の構造を有する。
In the most preferred embodiment, R 1 and R 2 are both moieties of Structure II above where R 4 and R 8 are each a methoxy group, and R 1 is a trimethylpentyl group. Therefore, the most preferred embodiment has the following structure:

【化9】 構造III[Chemical 9] Structure III

【0015】 上記の各開始剤は単独で使用可能であり、あるいは、ベンゾイン・メチル・エ
ーテル、1−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニル・ケトン、イルガキュア18
50(Irgacure 1850)の商標の光開始剤、1−ヒドロキシ・シクロヘキシル・
フェニル・ケトン(「イルガキュア184(Irgacure 184)」として市場におい
て入手可能)、2−ベンジル−2−n−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノ
フェニル)−i−ブタノン(「イルガキュア369(Irgacure 369)」として市
場において入手可能)、1−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニル・ケトン(5
0重量%)+ベンゾフェノン(「イルガキュア500(Irgacure 500)」として
市場において入手可能)、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒ
ドロキシ・プロピル)ケトン(「イルガキュア2959(Irgacure 2959)」と
して市場において入手可能)、2,4,6−トリメチル・ベンゾイル・ジフェニ
ル・ホスフィンオキシド(TPO)(50重量%)+2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−フェニル−プロパン−1−オン(HMPP)(50重量%)(「ダロキ
ュア4265(Darocur 4265)」として市場において入手可能)、2,2−ジメ
トキシ−2−フェニルアセトフェノン(BDK)(「イルガキュア651(Irga
cure 651)」として市場において入手可能)、ビス(nl−2,4−シクロペン
タジエン−1−イル)、ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1
−イル)フェニル)チタン(CGI−784)、2−メチル−1−(4−(メチ
ルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1−オン(MMMP)(「イル
ガキュア907(Irgacure 907)」として市場において入手可能)、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン(HMPP)(「ダロキ
ュア1173(Darocur 1173)」として市場において入手可能)、またはこれら
の混合物等のような別の開始剤との組み合わせにおいて使用できる。UVおよび
可視光の開始剤システムを含む各混合物が好ましく、これらは上記モノマー混合
物におけるUV遮断剤のさらに柔軟な使用を可能にする。
Each of the above initiators can be used alone, or benzoin methyl ether, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Irgacure 18
50 (Irgacure 1850) Trademark Photoinitiator, 1-Hydroxy Cyclohexyl
Phenyl ketone (commercially available as "Irgacure 184"), 2-benzyl-2-n-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -i-butanone ("Irgacure 369 (Irgacure 369)". Available on the market), 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (5
0% by weight) + benzophenone (commercially available as "Irgacure 500"), 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxypropyl) ketone (as "Irgacure 2959"). Commercially available), 2,4,6-trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide (TPO) (50% by weight) + 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (HMPP) (50 % By weight) (available on the market as "Darocur 4265"), 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone (BDK) ("Irgacure 651 (Irgacur
cure 651) ”, bis (nl-2,4-cyclopentadien-1-yl), bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1).
-Yl) phenyl) titanium (CGI-784), 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropan-1-one (MMMP) ("Irgacure 907)" in the market Available), 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one (HMPP) (commercially available on the market as "Darocur 1173"), or mixtures thereof and the like. It can be used in combination with an initiator. Preference is given to respective mixtures which comprise UV and visible light initiator systems, which allow a more flexible use of UV blockers in the monomer mixture.

【0016】 本発明において有用な安定化剤は酸である。これらは弱い有機酸であることが
好ましいが、強い有機酸並びにルイス酸も含み得る。加えて、反応混合物中にお
いて酸を生じることのできる前駆体もまた使用できる。最も好ましい酸は酢酸、
ギ酸、プロピオン酸、およびアクリル酸である。
Stabilizers useful in the present invention are acids. These are preferably weak organic acids, but may also include strong organic acids as well as Lewis acids. In addition, precursors capable of generating acid in the reaction mixture can also be used. The most preferred acid is acetic acid,
Formic acid, propionic acid, and acrylic acid.

【0017】 無機酸は、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、ヨウ化水素酸、フッ化
水素酸、亜硫酸、硝酸、亜硝酸、亜リン酸、過塩素酸、塩素酸、亜塩素酸、ヨウ
素酸、臭素酸、ヒ酸、炭酸、水素化セレン、水素化テルル、ホスホン酸、次リン
酸、二リン酸、ピロリン酸、メタリン酸、ポリリン酸、セレン酸、亜セレン酸、
テルル酸、亜テルル酸、亜ヒ酸、アンチモン酸、亜アンチモン酸、ホウフッ素酸
(borofluoric acid)等を含む。
Examples of the inorganic acid include hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydroiodic acid, hydrofluoric acid, sulfurous acid, nitric acid, nitrous acid, phosphorous acid, perchloric acid, chloric acid, Chloric acid, iodic acid, bromic acid, arsenic acid, carbonic acid, selenium hydride, tellurium hydride, phosphonic acid, hypophosphoric acid, diphosphoric acid, pyrophosphoric acid, metaphosphoric acid, polyphosphoric acid, selenic acid, selenious acid,
Includes telluric acid, tellurous acid, arsenous acid, antimony acid, antimony acid, borofluoric acid and the like.

【0018】 また、有機酸は、例えば、ヒドロキシメタンスルホン酸、トリフルオロメタン
スルホン酸、ベータブロモエタンスルホン酸、アリルスルホン酸、2−メチル−
2−[(1−オキソ−2−プロペニル)アミノ]−1−プロパンスルホン酸、D
−10−カンファースルホン酸、ベンゼンスルホン酸、m−ニトロベンゼンスル
ホン酸、m−ベンゼンジスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、2
−ヒドロキシエタンスルホン酸、2−(シクロヘキセニルアミノ)メタンスルホ
ン酸、(3−シクロヘキセニルアミノ)メタンスルホン酸、p−エチルベンゼン
スルホン酸、アルファ−ナフタレンスルホン酸、ベータ−ナフタレンスルホン酸
、p−トルエンスルホン酸、p−クロロメチルベンゼンスルホン酸、p−フェノ
ールスルホン酸、2−ピリジルヒドロキシメタンスルホン酸、2,6−ナフタレ
ンジスルホン酸等のスルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、p−トルエンスルフィ
ン酸等の有機スルフィン酸、フェニル亜ホスホン酸、ブチル亜ホスホン酸、メチ
ル亜ホスホン酸、ジベンゼンホスフィン酸、ジブチルホスフィン酸、ベンゼンホ
スホン酸、メチルホスホン酸、フェニルホスフィン酸、メチルホスフィン酸、ジ
ベンゼンチオホスフィン酸、ジブチルチオホスフィン酸、ベンゼンチオホスホン
酸、メチルチオホスホン酸、フェニルチオホスフィン酸、メチルチオホスフィン
酸、ベンゼンチオ亜ホスホン酸、ジブチルチオ亜ホスホン酸、ジエチルジチオホ
スフェート、アルファ−ヒドロキシベンジル亜ホスホン酸、トルエン亜ホスホン
酸等の有機リン酸を含み、置換または無置換の脂肪族カルボン酸は、例えば、マ
ンデル酸、酢酸、乳酸、アスコルビン酸、フェニル酢酸、ブロモ酢酸、トリクロ
ロ酢酸、クロロジフルオロ酢酸、チオ酢酸、グリコール酢酸、グリオキシル酸、
アクリル酸、ベータ−クロロアクリル酸、シアノ酢酸、エトキシ酢酸、ベータ−
クロロプロピオン酸、パーフルオロプロピオン酸、プロピオール酸、n−酪酸、
イソ酪酸、アルファ−ヒドロキシ酪酸、クロトン酸、ムコ塩素酸、シクロプロパ
ンカルボン酸、イソ吉草酸、1−メチルシクロプロパンカルボン酸、1−シアノ
シクロプロパンカルボン酸、シクロブタンカルボン酸、シクロペンタンカルボン
酸、2−ケト酪酸、レブリン酸、ピバル酸、tert−ブチル酢酸、クマリル酸、3
−シクロヘキセンカルボン酸、ベータ−2−フリルアクリル酸、3−ピリジル酢
酸、フェニルチオ酢酸、m−クロロフェニル酢酸、o−ニトロフェニル酢酸、p
−フルオロフェニル酢酸、o−ヒドロキシフェニル酢酸、フェノキシ酢酸、o−
クロロフェノキシ酢酸、2,4−ジクロロフェノキシ酢酸、2,4,5−トリク
ロロフェノキシ酢酸、シクロヘキシル酢酸、1−メチル−1−シクロヘキサンカ
ルボン酸、6−アセトアミドヘキサン酸、ヘプチル酸、dl−テレビン酸、ベン
ゾイルギ酸、ケイ皮酸、o−クロロケイ皮酸、2,4−ジクロロケイ皮酸、m−
ニトロケイ皮酸、o−ヒドロキシケイ皮酸、d−2−フェノキシプロピオン酸、
3−フェノキシプロピオン酸、3−フェニルプロピオン酸、3−(p−ヒドロキ
シフェニル)プロピオン酸、2−(2,4,5−トリクロロフェノキシ)プロピ
オン酸、4−メトキシフェニル酢酸、p−クロロ−2−メチルフェニル酢酸、3
,4−メチレンジオキシフェニル酢酸、4−クロロ−2−メチルフェノキシ酢酸
、m−トリル酢酸、アルファ,アルファ,アルファ−トリフルオロ−m−トリル
酢酸、p−ヒドロキシフェニルピルビン酸、アルファ−シアノケイ皮酸、p−メ
トキシケイ皮酸、m−トリフルオロメチルケイ皮酸、3,4−メチレンジオキシ
ケイ皮酸、3,4−ジメトキシフェニル酢酸、(−)−アルファ−メトキシ−ア
ルファ−トリフルオロメチルフェニル酢酸、1,4−ベンズジオキサン−6−酢
酸、3−フェニル−n−酪酸、1−フェニル−1−シクロプロパンカルボン酸、
2−(p−メトキシフェニル)−アセチレン−1−カルボン酸、3−ベンゾイル
プロピオン酸、2−(p−クロロフェノキシ)−2−メチルプロピオン酸、アル
ファ−ナフチル酢酸、ベータ−ナフトキシ酢酸、3,4,5−トリメトキシフェ
ニル酢酸、ジフェニル酢酸、ビス(p−クロロフェニル)酢酸、1−メントキシ
酢酸、ジフェニレン酢酸、1−フェニルシクロペンタンカルボン酸、1−(p−
クロロフェニル)−1−シクロペンタンカルボン酸、dl−3−カンファーカル
ボン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベンジル酸、デオキシコール酸、リノー
ル酸、オレイン酸、アルファ−アセトアミドケイ皮酸等を含み、芳香族カルボン
酸は、例えば、安息香酸、サリチル酸、o−トルイル酸、アルファ,アルファ,
アルファ−トリフルオロ−m−トルイル酸、p−エチル安息香酸、2,6−ジメ
チル安息香酸、2,4,6−トリメチル安息香酸、p−tert−ブチル安息香酸、
p−ブロモメチル安息香酸、2−ビフェニルカルボン酸、4,4’−メチレンビ
ス(3−ヒドロキシ−ベータ−ナフトエ酸)、アルファ−ナフトエ酸、p−ベン
ゾイル安息香酸、フタルアミド酸、o−フタルアルデヒド酸、m−ニトロ安息香
酸、3,4−ジニトロ安息香酸、m−シアノ安息香酸、チオサリチル酸、没食子
酸、m−ヒドロキシ安息香酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、1−ヒドロキシ
−2−ナフトエ酸、o−アニス酸、3,4−ジメトキシ安息香酸、4−ヒドロキ
シ−3−メトキシ安息香酸、4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキシ安息香酸、4
−n−ブトキシ安息香酸、3−フェノキシ安息香酸、ピペロニル酸、o−アセト
アミド安息香酸、p−クロロ安息香酸、3,5−ジクロロ安息香酸、o−フルオ
ロ安息香酸、m−フルオロ安息香酸、2,6−ジフルオロ安息香酸、2,6−ジ
クロロ安息香酸、2,3,5−トリヨード安息香酸、4−クロロサリチル酸、3
−ニトロサリチル酸、5−ブロモサリチル酸、2−クロロ−3−ニトロ安息香酸
、3−クロロ−4−ヒドロキシ安息香酸、3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシ安
息香酸、3−クロロ−4−メチル安息香酸、3−メトキシ−4−ニトロ安息香酸
、3−メトキシ−4−ヒドロキシ安息香酸、3−メトキシ−4−メチル安息香酸
、3−メチル−2−ニトロ安息香酸、3−ヒドロキシ−4−ニトロ安息香酸、3
,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシ安息香酸、o−チモチン酸等を含み、
ヘテロ芳香族カルボン酸は、例えば、N−メチルピロール−2−カルボン酸、2
−フランカルボン酸、5−ブロモ−2−フランカルボン酸、ピロール−2−カル
ボン酸、3−フランカルボン酸、ニコチン酸、イソニコチン酸、シトラジン酸、
アルファ−ピコリン酸等を含み、置換または無置換の脂肪族多価カルボン酸は、
例えば、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、シュ
ウ酸、マロン酸、エチルマロン酸、ヒドロキシマロン酸、メチルコハク酸、2−
メチル−2−フェニルコハク酸、2−エチル−2−メチルコハク酸、2−イソプ
ロピルコハク酸、ブロモコハク酸、2,3−ジブロモコハク酸、アルファ−ケト
グルタル酸、3−エチル−3−メチルグルタル酸、グルタコン酸、イタコン酸、
メサコン酸、シトラコン酸、アジピン酸、ショウノウ酸、ジグリコール酸、アセ
チレンジカルボン酸、ジメチルシクロプロパンジカルボン酸等を含み、芳香族ジ
カルボン酸は、例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ホモフタル酸
、3−ニトロフタル酸、4−ヒドロキシイソフタル酸、テトラクロロフタル酸、
テトラクロロテレフタル酸、ニトロテレフタル酸、ピラジン−2,3−ジカルボ
ン酸、o−フェニレン二酢酸、5,5’−メチレン二サリチル酸等を含み、フェ
ノールは、例えば、ピクリン酸、2,4−ジニトロフェノール、2,6−ジニト
ロフェノール、2,6−ジヨード−4−ニトロフェノール、2,6−ジクロロ−
4−ニトロフェノール、2,5−ジクロロ−4−ニトロフェノール、2,6−ジ
ブロモ−4−ニトロフェノール、2−ブロモ−4−クロロ−6−ニトロフェノー
ル、2,4−ジクロロ−6−ニトロフェノール等を含み、置換または無置換のジ
チオカルバミン酸は、例えば、2−シクロヘキセニルジチオカルバミン酸、2−
シクロヘプテニルジチオカルバミン酸、メチルジチオカルバミン酸、ジメチルジ
チオカルバミン酸、エチレンビス(ジチオカルバミン酸)等を含む。
The organic acid is, for example, hydroxymethanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, beta-bromoethanesulfonic acid, allylsulfonic acid, 2-methyl-sulfonic acid.
2-[(1-oxo-2-propenyl) amino] -1-propanesulfonic acid, D
-10-camphorsulfonic acid, benzenesulfonic acid, m-nitrobenzenesulfonic acid, m-benzenedisulfonic acid, methanesulfonic acid, ethanesulfonic acid, 2
-Hydroxyethanesulfonic acid, 2- (cyclohexenylamino) methanesulfonic acid, (3-cyclohexenylamino) methanesulfonic acid, p-ethylbenzenesulfonic acid, alpha-naphthalenesulfonic acid, beta-naphthalenesulfonic acid, p-toluenesulfone Acid, p-chloromethylbenzenesulfonic acid, p-phenolsulfonic acid, 2-pyridylhydroxymethanesulfonic acid, sulfonic acid such as 2,6-naphthalenedisulfonic acid, benzenesulfinic acid, organic sulfinic acid such as p-toluenesulfinic acid , Phenylphosphonous acid, butylphosphonous acid, methylphosphonous acid, dibenzenephosphinic acid, dibutylphosphinic acid, benzenephosphonic acid, methylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, methylphosphinic acid, dibenzenethiophosphine Acid, dibutylthiophosphinic acid, benzenethiophosphonic acid, methylthiophosphonic acid, phenylthiophosphinic acid, methylthiophosphinic acid, benzenethiophosphonous acid, dibutylthiophosphonous acid, diethyldithiophosphate, alpha-hydroxybenzylphosphonous acid, toluene Substituted or unsubstituted aliphatic carboxylic acids including organic phosphoric acid such as phosphonic acid are, for example, mandelic acid, acetic acid, lactic acid, ascorbic acid, phenylacetic acid, bromoacetic acid, trichloroacetic acid, chlorodifluoroacetic acid, thioacetic acid, glycol. Acetic acid, glyoxylic acid,
Acrylic acid, beta-chloroacrylic acid, cyanoacetic acid, ethoxyacetic acid, beta-
Chloropropionic acid, perfluoropropionic acid, propiolic acid, n-butyric acid,
Isobutyric acid, alpha-hydroxybutyric acid, crotonic acid, mucochloric acid, cyclopropanecarboxylic acid, isovaleric acid, 1-methylcyclopropanecarboxylic acid, 1-cyanocyclopropanecarboxylic acid, cyclobutanecarboxylic acid, cyclopentanecarboxylic acid, 2 -Ketobutyric acid, levulinic acid, pivalic acid, tert-butylacetic acid, coumaric acid, 3
-Cyclohexenecarboxylic acid, beta-2-furylacrylic acid, 3-pyridylacetic acid, phenylthioacetic acid, m-chlorophenylacetic acid, o-nitrophenylacetic acid, p
-Fluorophenylacetic acid, o-hydroxyphenylacetic acid, phenoxyacetic acid, o-
Chlorophenoxyacetic acid, 2,4-dichlorophenoxyacetic acid, 2,4,5-trichlorophenoxyacetic acid, cyclohexylacetic acid, 1-methyl-1-cyclohexanecarboxylic acid, 6-acetamidohexanoic acid, heptyl acid, dl-tereonic acid, benzoyl Formic acid, cinnamic acid, o-chlorocinnamic acid, 2,4-dichlorocinnamic acid, m-
Nitrocinnamic acid, o-hydroxycinnamic acid, d-2-phenoxypropionic acid,
3-phenoxypropionic acid, 3-phenylpropionic acid, 3- (p-hydroxyphenyl) propionic acid, 2- (2,4,5-trichlorophenoxy) propionic acid, 4-methoxyphenylacetic acid, p-chloro-2- Methylphenylacetic acid, 3
, 4-methylenedioxyphenylacetic acid, 4-chloro-2-methylphenoxyacetic acid, m-tolylacetic acid, alpha, alpha, alpha-trifluoro-m-tolylacetic acid, p-hydroxyphenylpyruvic acid, alpha-cyanocinnamic acid , P-methoxycinnamic acid, m-trifluoromethylcinnamic acid, 3,4-methylenedioxycinnamic acid, 3,4-dimethoxyphenylacetic acid, (-)-alpha-methoxy-alpha-trifluoromethylphenyl Acetic acid, 1,4-benzdioxane-6-acetic acid, 3-phenyl-n-butyric acid, 1-phenyl-1-cyclopropanecarboxylic acid,
2- (p-methoxyphenyl) -acetylene-1-carboxylic acid, 3-benzoylpropionic acid, 2- (p-chlorophenoxy) -2-methylpropionic acid, alpha-naphthylacetic acid, beta-naphthoxyacetic acid, 3,4 , 5-trimethoxyphenylacetic acid, diphenylacetic acid, bis (p-chlorophenyl) acetic acid, 1-menthoxyacetic acid, diphenyleneacetic acid, 1-phenylcyclopentanecarboxylic acid, 1- (p-
Chlorophenyl) -1-cyclopentanecarboxylic acid, dl-3-camphorcarboxylic acid, palmitic acid, stearic acid, benzylic acid, deoxycholic acid, linoleic acid, oleic acid, alpha-acetamidocinnamic acid, etc. Examples of the acid include benzoic acid, salicylic acid, o-toluic acid, alpha, alpha,
Alpha-trifluoro-m-toluic acid, p-ethylbenzoic acid, 2,6-dimethylbenzoic acid, 2,4,6-trimethylbenzoic acid, p-tert-butylbenzoic acid,
p-Bromomethylbenzoic acid, 2-biphenylcarboxylic acid, 4,4'-methylenebis (3-hydroxy-beta-naphthoic acid), alpha-naphthoic acid, p-benzoylbenzoic acid, phthalamic acid, o-phthalaldehyde acid, m -Nitrobenzoic acid, 3,4-dinitrobenzoic acid, m-cyanobenzoic acid, thiosalicylic acid, gallic acid, m-hydroxybenzoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, o- Anisic acid, 3,4-dimethoxybenzoic acid, 4-hydroxy-3-methoxybenzoic acid, 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzoic acid, 4
-N-butoxybenzoic acid, 3-phenoxybenzoic acid, piperonyl acid, o-acetamidobenzoic acid, p-chlorobenzoic acid, 3,5-dichlorobenzoic acid, o-fluorobenzoic acid, m-fluorobenzoic acid, 2, 6-difluorobenzoic acid, 2,6-dichlorobenzoic acid, 2,3,5-triiodobenzoic acid, 4-chlorosalicylic acid, 3
-Nitrosalicylic acid, 5-bromosalicylic acid, 2-chloro-3-nitrobenzoic acid, 3-chloro-4-hydroxybenzoic acid, 3,5-dichloro-4-hydroxybenzoic acid, 3-chloro-4-methylbenzoic acid , 3-methoxy-4-nitrobenzoic acid, 3-methoxy-4-hydroxybenzoic acid, 3-methoxy-4-methylbenzoic acid, 3-methyl-2-nitrobenzoic acid, 3-hydroxy-4-nitrobenzoic acid Three
, 5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoic acid, o-thymotic acid and the like,
Heteroaromatic carboxylic acids are, for example, N-methylpyrrole-2-carboxylic acid, 2
-Furancarboxylic acid, 5-bromo-2-furancarboxylic acid, pyrrole-2-carboxylic acid, 3-furancarboxylic acid, nicotinic acid, isonicotinic acid, citrazinic acid,
Substituted or unsubstituted aliphatic polycarboxylic acid, including alpha-picolinic acid and the like,
For example, succinic acid, fumaric acid, maleic acid, malic acid, tartaric acid, citric acid, oxalic acid, malonic acid, ethylmalonic acid, hydroxymalonic acid, methylsuccinic acid, 2-
Methyl-2-phenylsuccinic acid, 2-ethyl-2-methylsuccinic acid, 2-isopropylsuccinic acid, bromosuccinic acid, 2,3-dibromosuccinic acid, alpha-ketoglutaric acid, 3-ethyl-3-methylglutaric acid, glutacon Acid, itaconic acid,
Including mesaconic acid, citraconic acid, adipic acid, camphoric acid, diglycolic acid, acetylenedicarboxylic acid, dimethylcyclopropanedicarboxylic acid, etc., and aromatic dicarboxylic acids include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, homophthalic acid, -Nitrophthalic acid, 4-hydroxyisophthalic acid, tetrachlorophthalic acid,
It includes tetrachloroterephthalic acid, nitroterephthalic acid, pyrazine-2,3-dicarboxylic acid, o-phenylenediacetic acid, 5,5'-methylenedisalicylic acid, and the like. Phenol includes, for example, picric acid and 2,4-dinitrophenol. 2,6-dinitrophenol, 2,6-diiodo-4-nitrophenol, 2,6-dichloro-
4-nitrophenol, 2,5-dichloro-4-nitrophenol, 2,6-dibromo-4-nitrophenol, 2-bromo-4-chloro-6-nitrophenol, 2,4-dichloro-6-nitrophenol And the like, and substituted or unsubstituted dithiocarbamic acid is, for example, 2-cyclohexenyldithiocarbamic acid, 2-cyclohexenyldithiocarbamic acid,
It includes cycloheptenyl dithiocarbamic acid, methyldithiocarbamic acid, dimethyldithiocarbamic acid, ethylene bis (dithiocarbamic acid) and the like.

【0019】 ルイス酸は、例えば、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、フッ化
アルミニウム、塩化アルミニウム、臭化アルミニウム、ヨウ化アルミニウム、硫
酸アルミニウム、フッ化鉄、塩化鉄、臭化鉄、硝酸鉄、硫酸鉄、フッ化ガリウム
、塩化ガリウム、フッ化アンチモン、塩化アンチモン、硫酸アンチモン、フッ化
イリジウム、塩化イリジウム、フッ化錫、塩化錫、臭化錫、ヨウ化錫、フッ化ヒ
素、塩化ヒ素、フッ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、塩化銅、塩化バ
リウム、塩化銀等を含む。
Examples of the Lewis acid include boron trifluoride, boron trichloride, boron tribromide, aluminum fluoride, aluminum chloride, aluminum bromide, aluminum iodide, aluminum sulfate, iron fluoride, iron chloride and bromide. Iron, iron nitrate, iron sulfate, gallium fluoride, gallium chloride, antimony fluoride, antimony chloride, antimony sulfate, iridium fluoride, iridium chloride, tin fluoride, tin chloride, tin bromide, tin iodide, arsenic fluoride , Arsenic chloride, zinc fluoride, zinc chloride, zinc bromide, zinc iodide, copper chloride, barium chloride, silver chloride and the like.

【0020】 本発明の実施において使用される酸は上記モノマー混合物がpH3乃至8で使
用されるようなモル濃度または濃度であることが一般に望ましい。好ましくは、
このpH値は7よりも低い。上記モノマー混合物が低下できるpH値の上限が僅
かにアルカリ性であっても、酸の添加によりそのpH値が下がり、添加しない場
合はこのpH値が維持される。いずれの場合においても、HCL(塩酸)等の一
塩基酸の場合には、約0.1重量%乃至約10重量%の酸が上記モノマー混合物
中に使用される。このことに基づいて、当該技術分野の熟練者は本発明の実施に
おいて有用な別の酸についての等価な範囲を容易に決定できる。
It is generally desirable for the acid used in the practice of this invention to be at a molar concentration or concentration such that the monomer mixture is used at pH 3-8. Preferably,
This pH value is lower than 7. Even if the upper limit of the pH value at which the monomer mixture can be lowered is slightly alkaline, the pH value is lowered by the addition of the acid, and this pH value is maintained when the acid is not added. In either case, in the case of a monobasic acid such as HCL (hydrochloric acid), about 0.1% to about 10% by weight of acid is used in the monomer mixture. Based on this, one of skill in the art can readily determine equivalent ranges for other acids that are useful in the practice of the present invention.

【0021】 本発明のレンズの作成は上記モノマー混合物の各成分をレンズ金型内における
光開始式の注入成形のようなレンズ形成の周知の方法に従って上記の開始剤およ
び安定化剤と混合することにより行なわれる。
The lenses of the present invention are prepared by mixing the components of the above monomer mixture with the above initiators and stabilizers according to well known methods of lens formation such as photoinitiated injection molding in a lens mold. Performed by.

【0022】 シリコーン・ヒドロゲルは本発明のレンズにおける使用において特に望ましい
高い酸素の浸透性を有している。上記モノマー混合物がシリコーン・ヒドロゲル
の調製のための各成分を含有している場合に、これを本明細書においてシリコー
ン・ヒドロゲル形成用の混合物と言う。シリコーン・ヒドロゲルは好ましくは少
なくとも1種類のシリコーン含有モノマーおよび少なくとも1種類の親水性モノ
マーを含有している混合物を重合することにより調製される。これらのシリコー
ン含有モノマーまたは親水性モノマーのいずれかが架橋剤として機能できるか、
あるいは、別の架橋剤を採用できる。これらの架橋剤は多数の重合性の部位を有
するモノマーである。この用語の「モノマー(monomer)」は、この意味におい
て使用される場合に、最終的なポリマー・システムを形成する場合に使用される
材料を言う。上記架橋剤は単量体、二量体、三量体、または高分子量の分子とす
ることができ、さらに最終的にそれから製造されるシリコーン・ヒドロゲルに関
するモノマーと考えることもできる。上記の重合可能な官能性は一般に2種類以
上のポリマーに対して結合して網状組織または網状組織に類似した高分子の構造
を形成する。このようなシリコーン・ヒドロゲルの形成において一般的に使用さ
れている多数のシリコーン含有の単量体ユニットが存在している。米国特許第4
,136,250号、同第4,153,641号、同第4,740,533号、
同第5,034,461号、同第5,070,215号、同第5,260,00
0号、同第5,310,779号、および同第5,358,995号は幾つかの
有用な例を提供しており、これらはそれぞれ本明細書に参考文献として含まれる
Silicone hydrogels have a high oxygen permeability that is particularly desirable for use in the lenses of the present invention. Where the monomer mixture contains the ingredients for the preparation of the silicone hydrogel, it is referred to herein as the silicone hydrogel forming mixture. Silicone hydrogels are preferably prepared by polymerizing a mixture containing at least one silicone-containing monomer and at least one hydrophilic monomer. Whether any of these silicone-containing or hydrophilic monomers can function as a crosslinker,
Alternatively, another crosslinker can be employed. These cross-linking agents are monomers having a large number of polymerizable sites. The term "monomer", when used in this sense, refers to the material used in forming the final polymer system. The crosslinker can be a monomer, dimer, trimer, or high molecular weight molecule, and can also be considered a monomer for the silicone hydrogel ultimately produced therefrom. The polymerizable functionalities described above generally bind to more than one polymer to form a network or macromolecule-like structure. There are numerous silicone-containing monomeric units commonly used in the formation of such silicone hydrogels. US Patent No. 4
, 136,250, 4,153,641, 4,740,533,
No. 5,034,461, No. 5,070,215, No. 5,260,00
No. 0, No. 5,310,779, and No. 5,358,995 provide some useful examples, each of which is incorporated herein by reference.

【0023】 シリコーン・ヒドロゲルを作成するために有用であることが既に見出されてい
る親水性モノマーはメタクリル酸およびアクリル酸等の不飽和カルボン酸、2−
ヒドロキシエチルメタクリレートおよび2−ヒドロキシエチルアクリレート等の
アクリル置換したアルコール、N−ビニル・ピロリドン等のビニル・ラクタム、
およびメタクリルアミドおよびN,N−ジメチルアクリルアミド等のアクリルア
ミドを含む。さらに別の例は米国特許第5,070,215号において開示され
ている親水性のビニル・カーボネートまたはビニル・カーボネート・モノマー、
および米国特許第4,910,277号において開示されている親水性のオキサ
ゾロン・モノマーである。
Hydrophilic monomers that have already been found to be useful for making silicone hydrogels are unsaturated carboxylic acids such as methacrylic acid and acrylic acid, 2-
Acrylic-substituted alcohols such as hydroxyethyl methacrylate and 2-hydroxyethyl acrylate, vinyl lactams such as N-vinyl pyrrolidone,
And acrylamides such as methacrylamide and N, N-dimethylacrylamide. Yet another example is the hydrophilic vinyl carbonate or vinyl carbonate monomer disclosed in US Pat. No. 5,070,215,
And hydrophilic oxazolone monomers disclosed in US Pat. No. 4,910,277.

【0024】 本発明のシリコーン・ヒドロゲル・レンズを作成するために使用されるモノマ
ー混合物の好ましい各成分は、例えば、シロキサンおよびアクリル/メタクリル
酸および各誘導体、ポリビニル、一般的に、ジエチレン・グリコール、トリエチ
レングリコール、ブチレングリコールおよびヘキサン−1,6−ジオールのジ−
またはトリ(メタ)アクリレート等の、ジ−またはトリ−ビニル・モノマー、お
よびジビニルベンゼンを含む。好ましい実施形態において、上記シロキサン成分
はポリジメチルシロキサンである。このシロキサン成分はヒドロキシエチル・メ
タクリレートまたはアクリレートの誘導体等の親水性モノマーと共に混合される
。最も好ましい実施形態において、上記モノマーはモノメタクリロキシ・プロピ
ル末端化ポリジメチルシロキサン等のモノ−アルキル末端化したポリジメチルシ
ロキサン(「mPDMS」)および2−ヒドロキシエチル・メタクリレート、メ
チル・メタクリレート、メタクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)
シラン、モノ−メタクリロキシプロピル末端化モノ−ブチル末端化ポリジメチル
シロキサン、および3−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジル・イソシア
ネートの反応生成物を含むマクロマーを含む。加えて、好ましいモノマーは、例
えば、メタクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シランすなわち「
TRIS」、N,N−ジメチル・アクリルアミドすなわち「DMA」、トリエチ
レングリコールジメタクリレートすなわち「TEGDMA」を含む。さらに、シ
リコーン・ヒドロゲルを作成するための当業界において既知の別のモノマーおよ
び架橋剤も使用可能である。
Preferred components of the monomer mixture used to make the silicone hydrogel lenses of the present invention include, for example, siloxane and acrylic / methacrylic acid and their derivatives, polyvinyl, generally diethylene glycol, triethylene. Di- of ethylene glycol, butylene glycol and hexane-1,6-diol
Or di- or tri-vinyl monomers, such as tri (meth) acrylate, and divinylbenzene. In a preferred embodiment, the siloxane component is polydimethylsiloxane. The siloxane component is mixed with a hydrophilic monomer such as hydroxyethyl methacrylate or a derivative of acrylate. In the most preferred embodiment, the monomers are mono-alkyl terminated polydimethylsiloxanes (“mPDMS”) such as monomethacryloxypropyl-terminated polydimethylsiloxane and 2-hydroxyethyl methacrylate, methyl methacrylate, methacryloxypropyl. Tris (trimethylsiloxy)
Includes macromers including the reaction product of silane, mono-methacryloxypropyl terminated mono-butyl terminated polydimethylsiloxane, and 3-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate. In addition, preferred monomers are, for example, methacryloxypropyltris (trimethylsiloxy) silane or "
TRIS ", N, N-dimethyl acrylamide or" DMA ", triethylene glycol dimethacrylate or" TEGDMA ". In addition, other monomers and crosslinkers known in the art for making silicone hydrogels can be used.

【0025】 上記mPDMSの使用は注目すべきであり、その理由は、この成分が重合処理
中にモノマーの相容性を損なうことなく減少された弾性率およびtanδ(弾性
率で割った材料の損失弾性率またはG”/G’)等の改善された機械的特性を結
果として得られるヒドロゲルに賦与する原因となると考えられるからである。現
在において主に使用されている多くのシロキサンとは異なり、mPDMSは極性
の官能性を全く有しておらず、比較的に高い分子量を有している。従って、この
組み込みを改善する測定値は好ましく受け入れられる。このmPDMSの構造は
以下のように示すことができる。
The use of the above mPDMS is notable because the component has a reduced modulus and tan δ (loss of material divided by modulus) without compromising the compatibility of the monomers during the polymerization process. It is believed to be responsible for imparting improved mechanical properties such as elastic modulus or G "/ G ') to the resulting hydrogel. Unlike many siloxanes that are currently predominantly used, mPDMS has no polar functionality and has a relatively high molecular weight, so measurements that improve this incorporation are preferred.The structure of this mPDMS is shown below. You can

【化10】 この式において、b=0乃至100であり、R57は任意のC1-10の脂肪族また
は芳香族の基であり、この基はヘテロ原子を含んでいてもよく、この場合のR57 はSiに結合している場所において官能基化されていない。C3-8 のアルキル基
が好ましく、ブチル基、特にsec−ブチル基が最も好ましい。また、R56は任意
の単一の重合可能なビニル基である。好ましくは、この基はメタクリル部分であ
るが、アクリルまたはスチレンの部分またはその他の類似の部分であってもよい
[Chemical 10] In this formula, b = 0-100 and R 57 is any C 1-10 aliphatic or aromatic group, which may contain heteroatoms, in which case R 57 is Not functionalized where bonded to Si. A C3-8 alkyl group is preferred, and a butyl group, particularly a sec-butyl group, is most preferred. R 56 is also any single polymerizable vinyl group. Preferably, this group is a methacrylic moiety, but can be an acrylic or styrene moiety or other similar moiety.

【0026】 上記モノマー混合物は上記の開始剤および酸も含む。これらはこの混合物をレ
ンズ金型またはその他のレンズ成形用の容器内に入れる前、その途中、またはそ
の後に添加できる。
The monomer mixture also includes the above initiator and acid. These can be added before, during, or after the mixture is put into a lens mold or other container for lens molding.

【0027】 また、希釈剤の存在下において上記硬化を行なうことも望ましい。適当な希釈
剤はアルカノール、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、アセトニト
リル、N,N−ジメチルアセトアミド、ヘプタン、ジメチル・スルホキシド、ア
セトン、tert−ブチル・アセテート、エチル・アセテート、イソプロピル・アセ
テート、およびN−メチル−2−ピロリドンを含む。低分子量(C5-12)のアル
カノールが好ましい。さらに、ジメチル−3−オクタノールが最も好ましい。
It is also desirable to carry out the above curing in the presence of a diluent. Suitable diluents are alkanols, N, N-dimethylformamide, acetamide, acetonitrile, N, N-dimethylacetamide, heptane, dimethyl sulfoxide, acetone, tert-butyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, and N-. Contains methyl-2-pyrrolidone. Low molecular weight (C 5-12 ) alkanols are preferred. Furthermore, dimethyl-3-octanol is most preferred.

【0028】 本発明を以下の非限定的な各実施例においてさらに説明する。[0028]   The invention is further described in the following non-limiting examples.

【0029】 実施例1(マクロマーの形成) THFにおけるTBACBの1M溶液の13.75ml、4399.78gの
THFにおける30.0gのビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、61.39
gのp−キシレン、154.28gのメチル・メタクリレートおよび1892.
13gの2−(トリメチルシロキシ)エチル・メタクリレートの溶液に、14℃
において、N2 の雰囲気下に、191.75gの1−トリメチルシロキシ−メト
キシ−2−メチルプロペンを加えた。次に、THFにおける付加的なTBACB
の30ml(0.40M)を260分の時間にわたり添加し、この時間の間にこ
の反応混合物に自然に発熱させた後に、30℃に冷却した。2−(トリメチルシ
ロキシ)エチル・メタクリレートの添加の60分後に、467.56gの2−(
トリメチルシロキシ)エチル・メタクリレート、3636.6gのPDMSおよ
び3673.84gのTRISおよび20.0gのビス(ジメチルアミノ)メチ
ルシランの溶液を加えて、その混合物を自然に発熱させた後に2時間の間に30
℃に冷却した。次に、10.0gのビス(ジメチルアミノ)メチルシラン、15
4.26gのメチル・メタクリレート、および1892.13gの2−(トリメ
チルシロキシ)エチル・メタクリレートの溶液を加えて、この混合物を再び自然
に発熱させた。2時間後に、2ガロンの無水THFを加え、上記溶液を34℃ま
で自然に冷却させから、439.69gの水、740.6gのメタノールおよび
8.8gのジクロロ酢酸の溶液を加えた。この混合物を4.5時間にわたり還流
させ、110℃においてオイル・バスにより加熱して、110℃の蒸気温度に到
達するまで、トルエンを添加して水を除去しながら、各揮発物を135℃におい
て蒸留した。
Example 1 (Formation of Macromer) 13.75 ml of a 1 M solution of TBACB in THF, 30.0 g of bis (dimethylamino) methylsilane, 61.39 in 4399.78 g of THF.
g of p-xylene, 154.28 g of methyl methacrylate and 1892.
To a solution of 13 g of 2- (trimethylsiloxy) ethyl methacrylate, 14 ° C
In, under an atmosphere of N 2, 1-trimethylsiloxy of 191.75G - plus-methoxy-2-methyl propene. Then additional TBACB in THF
30 ml (0.40 M) of was added over a period of 260 minutes, during which time the reaction mixture spontaneously exothermed before cooling to 30 ° C. 60 minutes after the addition of 2- (trimethylsiloxy) ethyl methacrylate, 467.56 g of 2- (
A solution of trimethylsiloxy) ethyl methacrylate, 3636.6 g PDMS and 3673.84 g TRIS and 20.0 g bis (dimethylamino) methylsilane was added and the mixture was allowed to spontaneously exotherm at 30 for 2 hours.
Cooled to ° C. Next, 10.0 g of bis (dimethylamino) methylsilane, 15
A solution of 4.26 g of methyl methacrylate and 1892.13 g of 2- (trimethylsiloxy) ethyl methacrylate was added and the mixture was allowed to exotherm again. After 2 hours, 2 gallons of anhydrous THF was added and the solution was allowed to cool to 34 ° C. before adding a solution of 439.69 g water, 740.6 g methanol and 8.8 g dichloroacetic acid. The mixture was refluxed for 4.5 hours and heated in an oil bath at 110 ° C. to remove each water by adding toluene until water vapor temperature of 110 ° C. was reached while adding each toluene at 135 ° C. Distilled.

【0030】 上記反応フラスコを110℃に冷却して、443gのTMIおよび5.7gの
ジブチル錫ジラウレートの溶液を加えた。この混合物を3.5時間にわたり反応
させた後に、30℃に冷却した。その後、トルエンを減圧下にエバポレーション
して白色で無水および蝋質の反応性マクロマーを得た。このマクロマーの理論的
なOH含有量は1.69ミリモル/gである。
The reaction flask was cooled to 110 ° C. and a solution of 443 g TMI and 5.7 g dibutyltin dilaurate was added. The mixture was reacted for 3.5 hours and then cooled to 30 ° C. Then, toluene was evaporated under reduced pressure to obtain a white anhydrous and waxy reactive macromer. The theoretical OH content of this macromer is 1.69 mmol / g.

【0031】 実施例2(レンズの形成) ヒドロゲルを以下のモノマー混合物(全ての量は混合物の全重量における重量
%値として計算されている)、すなわち、実施例1のマクロマー(〜18%)、
Si7-9 モノメタクリロキシ末端化ポリジメチル・シロキサン(〜28%)、メ
タクリロキシプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シランすなわち「TRIS
」(〜14%)、ジメチルアミドすなわち「DMA」(〜26%)、ヒドロキシ
・エチル・メタクリル酸「HEMA」(〜5%)、トリエチレングリコールジメ
タクリレート「TEGDMA」(〜1%)、ポリビニルピロリドン「PVP」(
〜5%)、CGI 1850(1−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニル・ケトンおよび
ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルフェニル・ホ
スフィン・オキシドの1:1(重量)混合物)の光開始剤(〜1%)、氷酢酸(
〜5%)、および少量の添加物を含む均衡量の材料により作成した。次に、20
重量%のジメチル−3−オクタノールの希釈剤の存在下に重合化を行なった。
Example 2 (Lens Formation) The hydrogel was mixed with the following monomer mixture (all amounts are calculated as wt% values in the total weight of the mixture): macromer of Example 1 (-18%).
Si 7-9 monomethacryloxy terminated polydimethyl siloxane (~ 28%), methacryloxypropyl tris (trimethylsiloxy) silane or "TRIS
(~ 14%), dimethylamide or "DMA" (~ 26%), hydroxyethyl methacrylic acid "HEMA" (~ 5%), triethylene glycol dimethacrylate "TEGDMA" (~ 1%), polyvinylpyrrolidone "PVP" (
~ 5%), CGI 1850 (1: 1 (by weight) mixture of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylphenyl phosphine oxide) Initiator (~ 1%), glacial acetic acid (
˜5%), and a balanced amount of material with small amounts of additives. Then 20
Polymerization was carried out in the presence of a diluent of wt% dimethyl-3-octanol.

【0032】 各ヒドロゲルを米国特許第4,640,489号において記載されている種類
の8個キャビティ型のレンズ金型の各キャビティに約0.10gのモノマー混合
物を添加して1200秒にわたり硬化することにより形成した。その後、窒素パ
ージ下において重合化を行い、アンドバー社(Andover Corp.)の420PS10-25 AM
39565-02ライトフィルターにより発生した5mWcm-2のUV光により光開始し
た。
Each hydrogel was cured for 1200 seconds by adding about 0.10 g of the monomer mixture to each cavity of an eight cavity lens mold of the type described in US Pat. No. 4,640,489. Formed by. After that, polymerization was carried out under a nitrogen purge, and 420PS10-25 AM manufactured by Andover Corp.
Photo-initiated by 5 mW cm -2 UV light generated by the 39565-02 light filter.

【0033】 次に、上記マクロマーまたは上記モノマー混合物におけるその他の成分を再構
成することなく5日間にわたり各レンズを上記モノマー混合物により作成した。
Each lens was then made with the monomer mixture for 5 days without reconstitution of the macromer or other components in the monomer mixture.

【0034】 この実施例は本発明による開始剤の安定化により達成できる長い処理時間を示
している。
This example shows the long processing times that can be achieved by stabilizing the initiator according to the invention.

【0035】 実施例3(比較例−酸無し) 上記モノマー混合物内に酢酸を含まずに実施例2を繰り返した。モノマー混合
物がその開始剤の活性の損失による再構成を必要とする前の10時間のみにおい
てレンズを作成することができた。
Example 3 (Comparative Example-No Acid) Example 2 was repeated without acetic acid in the monomer mixture. Lenses could only be made 10 hours before the monomer mixture needed reconstitution due to loss of activity of its initiator.

【0036】 実施例4乃至実施例8(安定性の調査) 0.8%のCGI 1850、および種々の試薬を含有している各溶液を希釈剤の3−
メチル−3−ペンタノール中において調製した。各サンプルをUV可視化検出(
Uv-Vis detection)による逆相高速液体クロマトグラフィーにより分析して、経
時的にDMBAPOの存在を決定した。これらの結果を表1に示す。
Examples 4-8 (Stability Studies) Each solution containing 0.8% CGI 1850 and various reagents was diluted with 3-fold diluent.
Prepared in methyl-3-pentanol. UV visualization detection of each sample (
The presence of DMBAPO was determined over time by analysis by reverse phase high performance liquid chromatography with Uv-Vis detection). The results are shown in Table 1.

【表1】 [Table 1]

【0037】 実施例9乃至実施例17(マクロマーの存在下における安定性の調査) 10重量%の実施例1において記載したマクロマー、0.1重量%のDMBA
POおよび表2において示されている種々の濃度の酸を含有している溶液を2−
プロパノール中において調製した。
Examples 9 to 17 (Stability study in the presence of macromer) 10% by weight of the macromer described in Example 1, 0.1% by weight DMBA.
A solution containing PO and various concentrations of the acids shown in Table 2 was added to the 2-
Prepared in propanol.

【表2】 [Table 2]

【0038】 実施例19 45℃における保管を除いて、上記実施例10乃至実施例18の手順を採用し
て、表3において示されている結果を得た。
Example 19 The procedure of Examples 10 to 18 above was adopted with the exception of storage at 45 ° C., with the results shown in Table 3.

【表3】 [Table 3]

【0039】 実施例24(マクロマーを含有しているモノマー混合物におけるDMBAPOの
安定性の調査) 実施例2(レンズの形成)において記載されている種類の各モノマー混合物を
調製した。混合物1は酸の添加物を全く含有していない。混合物2は0.1重量
%の濃塩酸(37重量%または10.15M)を含有しており、混合物3は1.
0重量%の氷酢酸を含有している。各サンプルを45℃においてインキュベーシ
ョンしてから、UV可視化検出による逆相高速液体クロマトグラフィーにより分
析して、経時的にDMBAPOの存在を決定した。これらの結果を表4に示す。
Example 24 (Investigation of DMBAPO Stability in Monomer Mixtures Containing Macromers) Each monomer mixture of the type described in Example 2 (Lens formation) was prepared. Mixture 1 contains no acid additives. Mixture 2 contained 0.1% by weight concentrated hydrochloric acid (37% by weight or 10.15M) and Mixture 3 was 1.
It contains 0% by weight glacial acetic acid. Each sample was incubated at 45 ° C. and then analyzed by reverse phase high performance liquid chromatography with UV visualization detection to determine the presence of DMBAPO over time. The results are shown in Table 4.

【表4】 [Table 4]

【0040】 この場合もDMBAPOの安定性において約3乃至8の間における開始剤溶液
のpH値の維持が結果として得られることが分かった。
Again, it was found that maintaining the pH value of the initiator solution between about 3 and 8 on the stability of DMBAPO resulted.

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Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シリコーン・ヒドロゲル・モノマー配合物において、 (a)シリコーン・ヒドロゲル形成用の混合物と、 (b)以下の構造を有する開始剤と、 【化1】 構造I この式において、R1 ,R2 およびR3 はそれぞれ独立してHまたはC1-12
置換または無置換のアルキル、シクロアルキル、または芳香族部分であり、R1 ,R2 およびR3 の内の少なくとも1個は以下の構造を有しており、 【化2】 構造II この式において、R4 乃至R8 はそれぞれ独立してHまたはC1-3 の置換また
は無置換のアルキルまたはアルコキシ部分であり、さらに、 (c)酸、を添加することにより作成される配合物。
1. A silicone hydrogel monomer blend comprising: (a) a mixture for forming a silicone hydrogel; (b) an initiator having the structure: Structure I In this formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently H or C 1-12 substituted or unsubstituted alkyl, cycloalkyl, or aromatic moieties, and R 1 , R 2 and R 3 At least one of the three has the following structure: Structure II In this formula, R 4 to R 8 are each independently a H or C 1-3 substituted or unsubstituted alkyl or alkoxy moiety, and are prepared by adding (c) an acid. Compound.
【請求項2】 前記酸がブレンステッド酸、ルイス酸、およびこれらの混合
物から成る群から選択される請求項1に記載の配合物。
2. The formulation of claim 1, wherein the acid is selected from the group consisting of Bronsted acids, Lewis acids, and mixtures thereof.
【請求項3】 前記酸が弱い有機酸である請求項1に記載の配合物。3. The formulation of claim 1, wherein the acid is a weak organic acid. 【請求項4】 前記酸が酢酸である請求項1に記載の配合物。4. The formulation according to claim 1, wherein the acid is acetic acid. 【請求項5】 開始剤の1モル当たりに1乃至100当量の酸を含む請求項
1に記載の配合物。
5. A formulation according to claim 1, which contains from 1 to 100 equivalents of acid per mole of initiator.
【請求項6】 前記酸が無機酸である請求項1に記載の配合物。6. The formulation of claim 1, wherein the acid is an inorganic acid. 【請求項7】 開始剤システムを安定化する方法において、当該システムの
pH値を低下する工程を含み、当該開始剤システムが以下の構造を有する化合物
を含有している方法。 【化3】 構造I この式において、R1 ,R2 およびR3 はそれぞれ独立してHまたはC1-12
置換または無置換のアルキル、シクロアルキル、または芳香族部分であり、R1 ,R2 およびR3 の内の少なくとも1個は以下の構造を有しており、 【化4】 構造II この式において、R4 乃至R8 はそれぞれ独立してHまたはC1-3 の置換また
は無置換のアルキルまたはアルコキシ部分である。
7. A method of stabilizing an initiator system comprising the step of lowering the pH value of the system, wherein the initiator system contains a compound having the structure: [Chemical 3] Structure I In this formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently H or C 1-12 substituted or unsubstituted alkyl, cycloalkyl, or aromatic moieties, and R 1 , R 2 and R 3 At least one of the three has the following structure: Structure II In this formula, R 4 to R 8 are each independently H or C 1-3 substituted or unsubstituted alkyl or alkoxy moieties.
【請求項8】 前記pH値が8以下に低下される請求項7に記載の方法。8. The method according to claim 7, wherein the pH value is reduced to 8 or less. 【請求項9】 前記pH値が酸の混合により低下される請求項7に記載の方
法。
9. The method according to claim 7, wherein the pH value is lowered by mixing an acid.
【請求項10】 前記pH値がブレンステッド酸、ルイス酸、およびこれら
の混合物から成る群の内の要素の混合により低下される請求項7に記載の方法。
10. The method according to claim 7, wherein the pH value is lowered by mixing elements of the group consisting of Bronsted acids, Lewis acids, and mixtures thereof.
【請求項11】 0.1重量%乃至10重量%の酸が前記モノマー混合物を
含有している開始剤システムに混合される請求項7に記載の方法。
11. The method of claim 7, wherein 0.1% to 10% by weight of acid is mixed into the initiator system containing the monomer mixture.
【請求項12】 反応性のシリコーン・マクロマーおよび以下の構造を有す
る光開始剤の混合物を含有しているシリコーン・ヒドロゲル・モノマーを安定化
するための方法において、 【化5】 構造I この式において、R1 ,R2 およびR3 はそれぞれ独立してHまたはC1-12
置換または無置換のアルキル、シクロアルキル、または芳香族部分であり、R1 ,R2 およびR3 の内の少なくとも1個は以下の構造を有しており、 【化6】 構造II この式において、R4 乃至R8 はそれぞれ独立してHまたはC1-3 の置換また
は無置換のアルキルまたはアルコキシ部分であり、 酸を前記配合物に混合する工程を含む方法。
12. A method for stabilizing a silicone hydrogel monomer containing a mixture of a reactive silicone macromer and a photoinitiator having the structure: Structure I In this formula, R 1 , R 2 and R 3 are each independently H or C 1-12 substituted or unsubstituted alkyl, cycloalkyl, or aromatic moieties, and R 1 , R 2 and R 3 At least one of the three has the following structure: Structure II In this formula, R 4 to R 8 are each independently a H or C 1-3 substituted or unsubstituted alkyl or alkoxy moiety, and the method comprises mixing an acid into the formulation.
【請求項13】 0.1重量%乃至10重量%の酸が前記モノマー混合物を
含有している開始剤システムおよびマクロマーに混合される請求項12に記載の
方法。
13. The method of claim 12, wherein 0.1 wt% to 10 wt% acid is mixed with the initiator system and macromer containing the monomer mixture.
【請求項14】 前記酸がブレンステッド酸、ルイス酸、およびこれらの混
合物から成る群から選択される請求項12に記載の方法。
14. The method of claim 12, wherein the acid is selected from the group consisting of Bronsted acids, Lewis acids, and mixtures thereof.
【請求項15】 前記酸が弱い有機酸である請求項12に記載の方法。15. The method of claim 12, wherein the acid is a weak organic acid. 【請求項16】 前記酸が酢酸である請求項12に記載の方法。16. The method of claim 12, wherein the acid is acetic acid. 【請求項17】 前記酸が少なくとも0.25重量%の酢酸の溶液により構
成されている請求項12に記載の方法。
17. The method of claim 12, wherein the acid is composed of a solution of at least 0.25% by weight acetic acid.
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