JP2003511488A - 残留単量体含量の低い重合体の製造法 - Google Patents

残留単量体含量の低い重合体の製造法

Info

Publication number
JP2003511488A
JP2003511488A JP2001528455A JP2001528455A JP2003511488A JP 2003511488 A JP2003511488 A JP 2003511488A JP 2001528455 A JP2001528455 A JP 2001528455A JP 2001528455 A JP2001528455 A JP 2001528455A JP 2003511488 A JP2003511488 A JP 2003511488A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
particles
gel
photoinitiator
gel particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001528455A
Other languages
English (en)
Inventor
サイウオー,ダグラス・エイ
ライルス,ロデリク・ジー
ホールズワース,メルビン
Original Assignee
サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン filed Critical サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン
Publication of JP2003511488A publication Critical patent/JP2003511488A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F120/00Homopolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F120/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F120/52Amides or imides
    • C08F120/54Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
    • C08F120/56Acrylamide; Methacrylamide
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F6/00Post-polymerisation treatments
    • C08F6/006Removal of residual monomers by chemical reaction, e.g. scavenging
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/02Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明によるアクリル重合体を製造する方法は、アクリル単量体と光開始剤を含む混合物を重合させることによってゲル化した重合体を生成させ;このゲル化した重合体を細粒化してゲル粒子を製造し;細粒化工程と同時にまたはその後でゲル粒子に光を照射して光開始剤を分解させる工程から成ることを特徴としている。ゲル粒子は流動床乾燥機中で乾燥させている間紫外線で照射することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (本発明の背景) 本発明の分野 本発明はゲル型重合法において残留未反応単量体含量が低い高分子量重合体を
製造する方法に関する。このような重合体は不純な水の処理を行うための凝集剤
としてしばしば使用され、また抵抗減少剤、接着剤、被膜、および織物および紙
のサイジング剤としての他の用途をもっている。
【0002】 従来技術の説明 ゲル型重合法は重合体の製造に使用することができる。即ち、全単量体の20
〜60重量%を含む水溶液を重合させ、最初は液状であった溶液からかたいゴム
状のゲルが生成させる。次にこのゲルを粉末にして大きさが約4mmの粒子にし
た後、これを乾燥して存在する水の90%を除去する。最後に乾燥した粒子を砕
いてさらに小さな粒子にし、販売に適した粒状の粉末を製造する。
【0003】 久しい以前から、ゲル型の重合法によって製造された重合体の残留単量体含量
を減少させることが望まれてきた。例えばアクリルアミドの単量体は毒性がある
と考えられており、許容されるアクリルアミド単量体含量に対し政府の規制によ
って上限が定められている。この上限は一般に意図される最終用途に依存して2
50〜1000ppmの間で変化するが、これらの用途には最終的に人が消費す
る目的の水の浄化が含まれている。しかし若干のヨーロッパ諸国における新しい
立法化によると許容される上限は100ppm程度の低い値であり、これは公知
の製造技術を用いる或る種の重合体製品に対しては達成することが困難であるか
、或いはコストがかかる値である。このような立法化のため、また飲料水の処理
のような用途で人類により取り扱われ使用される製品の毒性を低減させるという
一般的に常識的な要望のために、残留アクリルアミド含量が極めて低い(100
ppm以下)アクリルアミド重合体を製造し得る効率的な製造法が現在必要とさ
れている。
【0004】 工業的規模におけるゲル重合法では、一般に酸化還元反応開始系またはアゾ反
応開始系がしばしば互いに組み合わせられて使用される。酸化還元型反応開始剤
系重合においては、酸化剤およびそれと共に使用される還元剤、例えば過硫酸塩
(酸化剤)およびチオ硫酸塩(還元剤)の組み合わせにより生成したラジカルに
よって反応が開始される。アゾ反応開始系においては、1種またはそれ以上のア
ゾ反応開始剤、例えばアゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩を用い熱的に
ラジカルを生成させる。本明細書においては、酸化還元反応開始系という言葉は
酸化還元反応開始剤およびアゾ反応開始剤の両方を使用する重合にも適用される
ものとする。
【0005】 別法として光重合反応を使用することができ、この場合は1種またはそれ以上
の光開始剤を加え、紫外光(UV)または可視光で単量体溶液を照射する。また
酸化還元/アゾ反応開始系を光重合法と組み合わせることもできる。これらの各
ゲル重合系に対して残留単量体を低下させる方法が存在するが、いずれも固有の
欠点をもっている。
【0006】 上記の任意の重合法で製造される粉砕されたゲル中に存在する残留単量体は、
少なくとも3通りの一般的な方法で低減させることができる。その一つの方法は
例えば日本特許JP−P53−051289号記載のようなメタノールまたは他
の溶媒を使用する抽出洗浄法である。しかしこの方法は大量の可燃性溶媒を使用
するので、安全性および経済性の見地から望ましい方法ではない。
【0007】 残留単量体を低減させる他の方法は、米国特許3,755,280号、同4,
929,717号および同4,306,955号、並びに日本特許JP−P−6
1−115909号に記載されたようなアルカリ金属のメタ重亜硫酸塩および亜
硫酸塩を添加するか、或いは二酸化硫黄で処理する方法である。しかしこれらの
方法では、次の乾燥工程で、特に4よりも低いpHにおいてゲルが製造される場
合、アクリルアミドを陽イオン性のエステル単量体と共重合させる場合通常見ら
れるように、二酸化硫黄が放出される。乾燥機の中でこのような放出が起こると
、環境的に許容されない大気中への放出が起こるので高価な洗浄装置が必要とな
る。亜硫酸塩および二酸化硫黄で処理する場合の他の問題は重合体が劣化し、こ
れによって凝集剤としての性能が低下することである。
【0008】 残留単量体を低減させる第3の一般的方法は、PCT国際特許公開明細書97
/29136号および同99/07838号に記載されたようなアミダーゼ酵素
で処理する方法である。しかしアミダーゼ酵素およびアミダーゼ酵素を含む組成
物は比較的高価であり、生成物中に残った残留物は人体に対して危険であって安
全性に関する規制がかけられる可能性がある。アミダーゼによる処理の他の欠点
は低いpHにおいて製造された陽イオン性のゲルに関して効果が著しく低いこと
、および普通の方法におけるように陽イオン性のゲルの中にアジピン酸のような
有機酸が含まれていると効果がさらに低下することである。
【0009】 上記特許に記載された方法(二酸化硫黄ガスを使用する方法は除く。但しこの
場合は健康上の危険性があり、また金属製の装置を腐食する恐れがある)に関す
る一般的な問題は、これらの方法ではゲルと緊密に混合させる液体または固体の
物質を必要とすることである。そのため特殊な装置が必要になり、工業的規模で
実施することは困難である。
【0010】 酸化還元または酸化還元/アゾ重合系に関して、残留単量体含量が低い重合体
を製造する方法は幾つか存在している。米国特許4,132,844号に記載さ
れているように、しばしば随時ゲルを高温に保持するために加熱する工程と組み
合わせて重合時間を長くすることができる。しかしこの方法を選ぶと工業的規模
においては生産速度が低下し、或いは大きな工場面積が必要になる。他の方法は
酸化還元および/またはアゾ反応開始剤の量を増加させる方法であるが、この方
法では一般にゲル化した重合体の分子量が低くなり、また凝集剤としての性能も
低下する。或る種の工業的に重要なアクリルアミド共重合体、例えばアクリルア
ミドと陽イオン性のエステル単量体との共重合体においては、これらのいずれか
の方法を用いた場合、重合時間を長くし同時に酸化還元および/または酸化還元
アゾ反応開始剤の量を多くしたとしても、残留アクリルアミドを100ppmよ
りも少なくすることは困難である。
【0011】 例えば米国特許4,178,221号に記載されたような光重合法は、残留ア
クリルアミド含量が極めて低いゲル化重合体を製造し得る潜在能力をもっている
。しかしこのような方法は、酸化還元/アゾ系に比べ、光が透過して重合を開始
させることができる程度によってゲルの厚さが制限されるという著しい欠点をも
っている。この厚さは光の強度によるばかりではなく使用される光を吸収する光
開始剤または増感剤の量にも依存する。光開始剤の使用量が少ないほど光りは深
い所まで透過するが、ラジカルの生成量が少ないため、全体的な重合速度は減少
する。従って光の強度は市販の装置によって制限を受ける一定の光の強度に対し
、反応開始剤の量とゲルの厚さとの間でバランスを採って合理的な生産速度を得
ると同時に、しかもなお重合体中の残留単量体含量を低くすることが必要である
。この厚さは一般に酸化還元/アゾ系を用いて得られる厚さよりも遥かに薄く、
従って一定の工場の大きさに対する光重合法の生産速度は非常に低くなる。
【0012】 酸化還元反応開始剤と光開始剤とを組み合わせて用いることは日本特許JP−
P57−121009号および同59−133212号に記載されている。この
場合重合の最初の部分および大部分は酸化還元反応開始剤によって影響されるが
、重合の最後の部分は光開始剤と組み合わせて光で照射することによる影響を受
ける。別法としてドイツ特許19748153号記載のように酸化還元による重
合および光重合を共に起こすことができる。しかしこれらの特許に記載された方
法は上記の光重合系の欠点を克服するものではない。特にゲルの濃度は光の透過
能力によって制限を受ける。この従来法では、光重合法または酸化還元および光
重合法を組み合わせた方法のいずれかに対してゲルを生成するための逐次的な重
合過程が記載されており、光重合法または組み合わされた酸化還元光重合法では
この時間の間に照射が行われ、次いでゲルを細粒化してゲル粒子を製造した後こ
のゲル粒子を乾燥する。
【0013】 (本発明の概要) 本発明の一具体化例において本発明によるアクリル重合体を製造する方法は、
アクリル単量体と光開始剤を含む混合物を重合させることによってゲル化した重
合体を生成させ;このゲル化した重合体を細粒化してゲル粒子を製造し;細粒化
工程と同時にまたはその後でゲル粒子に光を照射して光反応開始剤を分解させる
工程から成ることを特徴としている。
【0014】 他の具体化例において本発明による水溶性のアクリルアミド重合体を製造する
方法は、アクリルアミド単量体と光開始剤とを含む水溶液を重合させることによ
りゲル化した重合体を生成させ;ゲル化した重合体を細粒化してゲル粒子を製造
し;流動床乾燥機でゲル粒子を乾燥させ;該乾燥工程の少なくとも一部の間に該
ゲル粒子を光で照射して光開始剤を分解させ、ここで該照射工程は該細粒化工程
と同時に或いはその後で行うことを特徴としている。
【0015】 さらに他の具体化例においては、アクリレート単量体を用いてアクリレート重
合体が製造される。
【0016】 (発明の詳細な説明) 本発明は残留単量体含量が低い広範囲な重合体を製造するのに使用することが
できる。本発明方法は、ゲル重合技術が使用できる範囲において、ポリアクリル
アミド、ポリアクリレートおよびすべての種類のアクリルアミドおよびアクリレ
ート共重合体を含むアクリル重合体ゲルについて使用するのに特に適している。
【0017】 単量体を重合させて重合体を製造する場合、重合体へと転化されない単量体を
得られた重合体の中の「残留単量体含量」と呼ぶことにする。本明細書において
は「残留単量体」は「未反応単量体」という言葉と互換的に使用される。これと
は対照的に重合反応に関与しない成分は残留成分または未反応成分と考えること
はできない。
【0018】 典型的なゲル化した重合体の中にはポリアクリレート、ポリアクリルアミド、
およびアクリルアミド−アクリレート共重合体を含むアクリル重合体が含まれる
。一般的に言ってこれらのゲル化した重合体は水溶性であるが、水で膨潤し得る
重合体および水に不溶な部分を含む重合体もこの中に含まれるものとする。本発
明によれば、光開始剤を含むゲル化した重合体を細粒化して粒子にし、この粒子
を紫外線で照射して未反応の単量体をさらに重合させることによって低い残留単
量体含量が得られる。
【0019】 ゲル化した重合体を生成させるのに用いられる単量体の選択は、このような単
量体が細粒化し得るゲル化した重合体を生成させることができなければならず、
またこのようなゲル化した重合体はさらに光重合して未反応の残留単量体含量を
低減することができなければならないこと以外、特別な制限はない。当業界の専
門家は下記の特定の実施例に基づきこれらの基準に合う単量体の種類を容易に理
解することができるであろう。
【0020】 非イオン性、陰イオン性および陽イオン性のアクリル重合体および好ましくは
ポリアクリルアミドを製造することができる。ポリアクリル酸の単独重合体、好
ましくはアクリルアミドの単独重合体並びに共重合体も製造することができる。
ポリアクリル酸の共重合体は1種またはそれ以上の非イオン性、陰イオン性およ
び陽イオン性の単量体をアクリル単量体、好ましくはアクリルアミドと重合させ
て製造する。
【0021】 典型的な非イオン性単量体の例はメタクリルアミド、アクリルアミド、N−置
換およびN,N−置換アクリルアミドまたはメタクリルアミド、および(メタ)
アクリル酸のエステルである。典型的な陰イオン性の単量体の例はアクリル酸お
よびその塩、メタクリル酸およびその塩、メタリルスルフォン酸、ビニルベンゼ
ンスルフォン酸およびその可溶姓の塩またはエステル、および2−アクリルアミ
ド−2−メチルプロパンスルフォン酸およびその塩である。陽イオン性の単量体
の典型的な例は塩化ジアリルジメチルアンモニウムおよびジアルキルアミノアル
キル(メタ)アクリレート、例えば2−(N,N−ジメチルアミノ)エチルアク
リレートの4級アンモニウム塩、およびジアルキルアミノアルキル(メタ)アク
リルアミドの塩である。これらの例は全部ではなく、また本発明を限定するもの
ではない。
【0022】 ポリアクリル重合体、例えばポリアクリレートおよびポリアクリル酸も製造す
ることができる。これらのアクリレートまたはアクリル酸の単独重合体および共
重合体も製造することができる。典型的なアクリレートまたはアクリル酸単量体
の例にはアクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸、メタクリル酸、
2−(N,N−ジメチルアミノ)エチルアクリレート等が含まれる。
【0023】 本発明は好適具体化例において初期重合の前に単量体水溶液に加えられる1種
またはそれ以上の光開始剤を使用する。重合は酸化還元反応開始剤の作用および
/または熱分解する1種またはそれ以上のアゾ化合物によって開始される。この
初期重合は暗所で開始することができ、残留単量体含量が以後の照射工程無しで
得られるゲル化した重合体を基にして約10,000ppm以下、好ましくは約
1000ppm以下の生成物を与える。光開始剤は反応が暗所で行われた場合初
期重合に関与するとは考えられない。何故なら後の照射をせずに得られた重合体
に関して測定した場合反応速度および重合体の性質は光開始剤の存在によって変
化しないからである。勿論光開始剤のいくつかは、その際の複雑な反応順序およ
び極端な反応条件により、初期重合反応の間不活性化させることは可能である。
α−ヒドロキシアセトフェノン構造を有する光開始剤および他のアセトフェノン
誘導体、例えばジアルコキシアセトフェノン、α−アミノアセトフェノンおよび
塩素化されたアセトフェノンを使用することができる。さらに他の適当な光開始
剤にはベンゾフェノンおよびその誘導体、特に水溶性の誘導体、例えば臭化p−
ベンゾイルベンジルトリメチルアンモニウム、およびチオキサントン誘導体、特
に水溶性のチオキサントン、例えば塩化[3−(3,4−ジメチル−9−オキソ
−9H−チオキサンテン−2−イルオキシ)−2−ヒドロキシプロピル]トリメ
チルアンモニウムが含まれる。アミン、特に水溶性のアミン、例えばメチルジエ
タノールアミンはベンゾフェノンおよび関連した化合物と組み合わせて使用する
ことができる。同様に、α−アミノアセトフェノンと組み合わせた場合チオキサ
ントン誘導体も使用することができる。
【0024】 公知の光開始剤、例えばベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベンジルケタール
、アシルフォスフィンオキシド、樟脳キノン、およびビスイミダゾールも本発明
において使用することができる。アゾ化合物、例えば典型的には360nmの領
域で吸収するアゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩またはアゾビスイソブ
チロニトリルも使用することができるが、これらは暗所における初期の重合で、
特に高固体分断熱重合に対して大部分分解し、その結果他の光開始剤に比べてこ
れらの化合物はいくぶん効果が少なくなっている。
【0025】 本発明における好適な光開始剤はヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、
2−ヒドロキシ−1−[4−(ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2−メチル−
1−プロパノン、および2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−
1−オンであり、これらはそれぞれIrgacure 184、Irgacur
e 2959、およびDarocur 1173の商品名でCiba Spec
ialty Chemicalsから市販されている。
【0026】 Irgacure 2959またはDarocur 1173はゲル重合に使
用される単量体水溶液に溶解または分散させることができ、従って容易に混入す
ることができるために好適である。他の同様な溶解または分散させ得る光開始剤
も望ましく使用される。しかし水に対する溶解度が僅かな光開始剤、例えばベン
ジルアルキルエーテルは、このような開始剤を適当な溶媒に先ず溶解し、次いで
例えば米国特許4,178,221号記載のように単量体の水溶液に混入した場
合ゲル光重合に対して効率的に機能する。従ってこのような光開始剤は、単量体
溶液に同様な方法で導入された場合、やはり本発明において同様な機能を果たす
【0027】 或る場合には、光開始剤の少なくとも一部を細粒化したゲル粒子に加えること
もできる。ゲル粒子は外部からの添加剤を或る程度透過させることができるから
、光開始剤は重合をさらに促進し残留単量体含量を低減させるのを助けるのに十
分な程度まで光開始剤を粒子の中に吸収されることができると考えられる。初期
重合の生成物を細粒化することができ、且つ未反応の単量体に対し光開始剤によ
る重合を行い残留単量体含量を低減することができる限り、本発明を実施する上
においてゲル化した重合体を製造する方法は特に限定されることはない。アクリ
ルアミド・ゲルは一般にアクリルアミド単量体および光開始剤を含む水溶液から
製造される。しかしゲル化した重合体を製造する他の方法、例えば乳化重合また
は懸濁重合を使用することもできる。このような場合、初期重合体から製造され
る混合物は懸濁液または乳化液であることができる。
【0028】 本発明方法では細粒化して照射を行うための粒子を製造するのに適した厚さの
ゲルを製造するために慣用のゲル重合技術を使用する。ゲルはベルト上で連続的
に製造することができ、或いは大型の槽または袋の中で非連続的なバッチ法で製
造することができる。過硫酸アンモニウムのような酸化剤および重亜硫酸ナトリ
ウムのような還元剤を含む標準的な酸化還元反応開始系を使用することができる
。別法として或いはこれに加えて、アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩
またはアゾビスイソブチロニトリルのようなアゾ反応開始剤を使用することもで
きる。これらの公知の開始剤の同等品を用いることもできる。例えば酸化剤のみ
を開始剤として使用することができる。酸化還元/アゾ系を使用することが特に
好適である。何故ならこれは未反応の光開始剤を含むゲル粒子を大容積規模で製
造するのに適しており、次の照射工程においてこの光開始剤を使用し残留単量体
を効果的に低減するのに適しているからである。酸化還元およびアゾ反応開始剤
使用すること自身は公知であり、本発明について使用する適当な開始剤の選択は
当業界の専門家のなし得る範囲に入るであろう。
【0029】 ゲル化した重合体を細粒化して好ましくは少なくとも90重量%が約9.5m
m未満の大きさを有する粒子を製造する。約9.5mm以上の粒子は乾燥が困難
であり、本発明において特に良好に処理できるとは期待できない。さらに好適に
は、ゲル粒子は大きさが約2〜8mmである。ここに記載された大きさは十分に
乾燥する前の粒子の最長の寸法である。照射および乾燥の工程を組み合わせた本
発明の好適な具体化例においては、ゲル粒子は乾燥するにつれて、従って照射す
るにつれて収縮することが認められる。
【0030】 或る種のゲル粒子が粒径を決定するのに通常使用される金属の篩に対し粘着し
てくっつくという事実のために、ゲル粒子の大きさの決定は複雑である。粒径分
布を決定する場合、篩に頑固にくっついたゲル粒子は計数されない。本発明によ
り得られた粒子の典型的なバッチの粒径分布は次の通りである。
【0031】 粒径(mm) 分布(重量%) >5.60 12.7 >3.35 75.2 >1.70 99.9 <1.70 0.1 好適具体化例においては、ゲル粒子の約90重量%以上は9.5mmの篩を通
過する。最も好適な具体化例においては、著しく乾燥する前のゲル粒子の約70
重量%以上が6.7mmの篩を通過する。上記のすべての場合において著しく乾
燥する前に測定を行った。
【0032】 例えば流動床乾燥機のようなゲル粒子を乾燥する任意の方法を使用することが
できる。照射工程の間光源の下でゲル粒子を振盪し、すべての粒子がゲル粒子の
床の外側の表面に何回も運ばれて直接光路の下に置かれ、他の粒子によって全く
または部分的にしか遮蔽されないようにすることが好ましい。標準的な流動床乾
燥装置によって与えられる撹拌で十分であるが、必要に応じ撹拌を行う他の機械
的な装置を使用することができる。流動床乾燥機は空気のような流動する媒体を
使用してゲル粒子を流動化させ、乾燥工程全体に亙って所望の床容積を維持する
。乾燥中の温度は粒子の床の中央部で測定して一般に約50〜100℃、好まし
くは約60〜80℃である。
【0033】 ゲル化した重合体の粉末化または細粒化、およびそれに続くまたは同時に行わ
れるゲル粒子の照射を光源の下で撹拌しながら行う方法は新規であり、初期的な
重合段階におけるゲルの厚さに制限を加えることなく残留単量体が非常に少ない
生成物を得ることができるので、工業的規模において高い生産速度が得られる。
好ましくは、細粒化されたゲル粒子を次の乾燥工程中で照射する。即ち照射と乾
燥の工程を組み合わせる。照射および乾燥工程を組み合わせると効率的な製造工
程が得られる。照射工程は乾燥工程に影響を与えないから、典型的な本発明方法
の全体の所要時間は照射を行わないで実施される標準的な酸化還元/アゾ法より
も長くはならない。ゲルの厚い部分を粉末化(細粒化)した後ゲル粒子を撹拌し
ながら照射し乾燥する方法は、同じ質量のゲルの厚い部分を照射した後粉末化し
て乾燥する方法に比べ、残留単量体含量を低減させる点で遥かに効率的であるこ
とが見出だされた。
【0034】 本発明においては、実質的に乾燥した、例えば水分含量が約20重量%未満の
ゲル粒子を照射すると極めて効率的であることが見出だされている。このことは
予想外のことである。何故なら、粒子が乾燥して水分含量が約20%の量に達す
るにつれ、部分的に透明でゴム状の状態から不透明でかたい状態に変わるからで
ある。光の透過が減少して内部粒子粘度が増加すると、このような部分的に乾燥
した粒子に対しては紫外線の照射工程は効果がなくなると以前は考えられていた
。しかしこれとは対照的に、このような乾燥した粒子の照射は残留単量体含量を
低減するのには効果があった。実用的な観点からこの発見は重要である。何故な
ら、これによって、粒子がランプの下を通過する時までに既に実質的に乾燥して
いたとしても、大量生産に使用される工業的規模の線状の流動床乾燥機の端に向
かって配置された紫外線ランプが効果を有するように紫外線照射と乾燥とを効率
的に組み合わせることができるからである。
【0035】 このような照射に対する光の最適な波長は使用される特定の光開始剤に依存す
るが、一般には光源は約200〜650nm、好ましくは約200〜400nm
(紫外領域)、最も好ましくは約320〜400nmの波長範囲の出力を有して
いる。光の出力の少なくとも或る部分は光開始剤が吸収する波長でなければなら
ない。ガラスはかなりの部分の紫外線、特に320nmより短い紫外線を吸収す
るが、紫外線はガラスの薄い断面、例えばガラス窓を直接通過して進むことがで
きる。本発明に適した典型的な光源には水銀アーク灯(低圧、中圧および高圧)
、ハロゲン化金属ランプ、および無電極水銀蒸気ランプ、例えばFusion
Systems Corporation製のものが含まれる。波長範囲326
〜401nmの光源の出力は照射されているゲル粒子の山または床の近所で測定
して約1〜約140mW/cm2の範囲でなければならない。光源の強度の好適
範囲は約2〜約20mW/cm2である。当業界の専門家には理解できるように
、工程の設計仕様はゲル化した重合体を照射するための入手可能な市販のランプ
を含む使用される装置に或る程度依存している。
【0036】 本発明においては、好適なα−ヒドロキシアセトフェノン光開始剤に対し、主
として320〜400nmの波長範囲の光源を用いて照射すると、残留単量体を
著しく減少させ、しかも生成物の溶液粘度の減少によって証明されるように分子
量の損失は僅かにすぎないことが見出だされた。主として200〜300nmの
照射線(深部紫外)を発生する光源を用いると、残留アクリルアミドの低減の観
点からすれば効果的ではあるが、溶液粘度が大きく低下する。従って紫外線照射
と乾燥を組み合わせた本発明のさらに好適な具体化例においては、深部紫外線照
射を妨げる作用をするガラス窓を通して紫外線を照射し、同時に紫外線の光源を
乾燥機の熱および湿気から保護し、また動いているゲル粒子から保護する。本明
細書においては特記しない限り強度は照射されたゲル重合体の表面の所での光の
強度を表すものとする。
【0037】 照射工程の間、光開始剤は分解することによって賦活される。ゲル粒子の中に
残留する酸化還元および/またはアゾ反応開始剤もこのような照射によって恐ら
くは少くとも或る程度は賦活され、或る程度残留単量体の低減を促進することが
できることが認められる。
【0038】 好適条件下においては、この方法により著しい分子量の低下または水に不溶な
物質の生成は起こらず、良好な凝集活性を有する高分子量の重合体を製造するこ
とができる。Brookfield粘度計を用いUL−アダプターを使用して6
0rpmで25℃において1Mの塩化ナトリウム中に0.1%の重合体を含む溶
液について測定したとき、溶液粘度が少なくとも約4.0センチポイズ(cps
)の陰イオン性および非イオン性のポリアクリルアミドを製造することができる
。同様に溶液粘度が少なくとも2.3cpsの陽イオン性のポリアクリルアミド
を製造することができる。好適なポリアクリルアミドについては生成物の固有粘
度は典型的には約5〜約40dl/gである。
【0039】 乾燥および照射が完了した後、重合体粒子を摩砕し、回収する。回収された重
合体粒子は約5〜約15重量%の水分を含んでいる。典型的には回収された粒子
は約10%の水分を含んでいる。回収された粒子の残留単量体含量は、回収され
た粒子の重量を基にして1000ppmより少ないことが好ましい。問題の残留
単量体はアクリルアミドであり、回収された重合体粒子は回収された粒子の重量
を基にして約100ppm未満のアクリルアミドしか含まないことが好適である
【0040】 下記実施例を参照して本発明をさらに詳細に例示する。
【0041】 (実施例) ゲル化した重合体は単量体、酸化還元および/またはアゾ反応開始剤および光
開始剤を含む反応混合物を下記のようにして重合させて製造した。
【0042】 ゲル化重合体の合成例I 1000ppmのIrgacure 2959、24%のアクリルアミド、1
4%の塩化アクリルオキシエチルトリメチルアンモニウム、および2%のアジピ
ン酸を含む水溶液420gから、反応開始剤として5ppmの過硫酸アンモニウ
ム、5ppmの硫酸第一鉄アンモニウム、および660ppmのアゾビス(2−
アミジノプロパン)二塩酸塩を使用し、pH3.1において陽イオン性ゲルを製
造した。直径7cm、深さ20cmの栓付きの円筒形のデュア・フラスコの中で
暗所において重合を行った。単量体溶液の最初の温度は0℃であり、重合後の最
終温度は約90℃であった。
【0043】 ゲル化重合体の合成参照例I 合成例Iと同様にして陽イオン性のゲルを製造したが、Irgacure 2
959を省略した。発熱様式(時間に対する温度のプロット)はゲル化重合体の
合成例Iの場合に比べ著しい差は見られなかった。
【0044】 ゲル化重合体の合成例II ゲル化重合体の合成例Iに記載したようにして陽イオン性のゲルを製造したが
、1000ppmのIrgacure 2959の代わりに300ppmのDa
rocur 1173を用いた。
【0045】 ゲル化重合体の合成例III ゲル化重合体の合成例Iに記載した方法で陽イオン性のゲルを製造したが、1
000ppmのIrgacure 2959の代わりに300ppmのIrga
cure 184(ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン)を用いた。
【0046】 ゲル化重合体の合成例IV 1000ppmのIrgacure 2959、24%のアクリルアミド、1
4%の塩化アクリルオキシエチルトリメチルアンモニウム、および2%のアジピ
ン酸を含む水溶液840gから、反応開始剤として5ppmの過硫酸アンモニウ
ム、5ppmの硫酸第一鉄アンモニウム、および660ppmのアゾビス(2−
アミジノプロパン)二塩酸塩を使用し、pH3.1において陽イオン性ゲルを製
造した。直径7cm、深さ30cmの栓付きの円筒形のデュア・フラスコの中で
暗所において重合を行った。単量体溶液の最初の温度は0℃であり、重合後の最
終温度は約90℃であった。
【0047】 ゲル化重合体の合成例V 上記ゲル化重合体の合成例IVに記載したのと同様にして陽イオン性のゲルを
製造したが、Irgacure 2959を1000ppmの代わりに500p
pm用いた。
【0048】 ゲル化重合体の合成例VI 上記ゲル化重合体の合成例IVに記載したのと同様にして1000ppmのI
rgacure 2959を含むそれぞれ重量840gのさらなる2種の陽イオ
ン性ゲル試料を製造した。
【0049】 ゲル化重合体の合成例VII 19%のアクリルアミド、14%のアクリル酸ナトリウム、および2000p
pmのDarocur 1173を含む水溶液840gからpH7.8において
陰イオン性ゲルを製造した。使用した酸化還元/アゾ−反応開始剤は8ppmの
過硫酸アンモニウム、5ppmの硫酸第一鉄アンモニウム、および230ppm
のアゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩であった。栓付きのデュア・フラ
スコの中で暗所において重合を行った。最初の温度は0℃であり、重合後の最終
温度は約92℃であった。
【0050】 ゲル化重合体の合成参照例II 直前のゲル化重合体の合成例VIIに従って他の陰イオン性のゲルを製造した
が、Darocur 1173光反応開始剤は使用しなかった。
【0051】 ゲル化重合体の合成例VIII ゲル化重合体の合成例Iに記載したのと同様にして陽イオン性のゲルを製造し
たが、1000ppmのIrgacure 2959の代わりに2000ppm
のDarocur 1173を用いた。
【0052】 ゲル化重合体合成例I〜VIIIおよびゲル化重合体の合成参照例IおよびI
Iで合成したゲル化重合体を処理し、得られた生成物について乾燥およびその他
の処理を行い最終生成物を得た。
【0053】 実施例1 ゲル化重合体の合成例Iから得られたゲル化重合体の第1のバッチに対しては
、暗所において16時間重合を進行させた後に、フラスコの栓を外し、直ちにフ
ラスコからゲルを取出した。直径7cm、深さ13cmの円筒形の形をしたゲル
をフラスコから取出し、1インチの立方体に切断し、この立方体を多数の4mm
の孔をもった切断用の円板を有する市販の肉挽き機に供給した。このようにして
得られた小さく切断されたゲルに切断助剤として4mlのパラフィン油を加え、
次いでゲルの塊を通常の混合機の中で約30秒間粉砕した。このようにして得ら
れた粉末状のゲルをLab−Line Instruments製の流動床乾燥
機モデル23852の中で2リットルのガラス槽乾燥ヘッドを使用して1時間7
0℃において乾燥した。
【0054】 400ワットのハロゲン化金属紫外線ランプ(UVA領域の365nmの光源
、Electrolite Corp.製のELC−4001)を流動床乾燥機
の真上に置き、1時間の全乾燥時間の間2リットルの槽の中に入ったゲル粒子を
照射する。照射を妨げないように通常は2リットルの槽の上にある袋は取り外さ
れている。紫外線の強度は輻射計を用いて乾燥機の槽の底(ゲル粒子がない所)
で測定して15mW/cm2であった。International Ligh
t社製の輻射計IL−1400を326〜401nmの範囲の光線に感度をもっ
た中紫外フォトレジスト・プローブに連結して測定を行った。
【0055】 乾燥機の槽の底から紫外線ランプのハウジングのガラス窓までの距離は32c
mであった。1時間の乾燥時間の間、通常行うように乾燥機上に送風機を配置し
粒子を空気床上で振盪させた。乾燥し照射を行った粒子をFritsch Pu
lverisette14型摩砕機で16,000rpmにおいて最後に摩砕し
て微粉末にし、篩にかけて1.70mmよりも大きな粒子を除去した。最終生成
物の性質を表1に示す。
【0056】 実施例2 ゲル化重合体の合成例Iで得られたゲル化重合体の第2のバッチに対しては、
暗所において16時間重合を進行させた後に、フラスコの栓を外し、直ちにフラ
スコからゲルを取出した。実施例1記載のようにしてゲルを切断し、摩砕し、粉
末にした。実施例1におけるようにゲル粒子を乾燥したが、乾燥を始めて20分
後に紫外線ランプを消し、次いで紫外線で照射せずに乾燥を40分続けた。最終
生成物の性質を表1に示す。
【0057】 対照例1 ゲル化重合体の合成例Iで得られたゲル化重合体の第3のバッチに対しては、
暗所において16時間最初の重合を行った後に、フラスコの栓を外し、デュア・
フラスコを400ワットのハロゲン化金属紫外線ランプ(UVA領域の365n
mの光源、Electrolite Corp.製のELC−4001)の真下
に1時間置いた。ゲルの上部表面の所で測定した紫外線の強度は20mW/cm 2 であり、ゲルの底に近いランプから等距離の所で測定した強度は15mW/c
2であった。ゲルを通しての測定は行わなかった。光線は、製造業者納入時に
紫外線ランプのハウジングの一部になっている1/16インチの厚さの蝶番え付
きのガラス窓を通過するようにした。
【0058】 1時間照射した後、円筒形をしたゲルをフラスコから取り出し、切断して立方
体にし、粉砕し、粉末化し、照射せずに流動床中で60分間乾燥した。次に乾燥
した粒子を実施例1と同様にして摩砕し、篩にかけて生成物を得た。このような
生成物の性質を表1に示す。ここで「AMD」は残留アクリルアミドを意味する
。この実施例はゲル化した重合体を細粒化する前に照射を行っているので対照例
である。
【0059】 対照例2 ゲル化重合体の合成例Iにより合成したゲル化重合体の第4のバッチに対して
は、暗所において16時間重合を行った後に、フラスコの栓を外し、フラスコか
ら直ちにゲルを取り出した。対照例1と同様にしてゲルを切断し、粉砕し、粉末
にした。実施例1と同様にしてゲル粒子を乾燥したが、紫外線ランプを消し乾燥
中ゲルを紫外線で照射しないようにした。最終生成物の性質を表1に示す。細粒
化した粒子の照射は行わなかった。
【0060】 対照例3 ゲル化重合体合成参照例I(Irgacure 2959を省いた)に従って
ゲル化重合体を製造し、暗所において16時間重合を行った後に、フラスコの栓
を外し、フラスコから直ちにゲルを取り出した。対照例1と同様にしてゲルを切
断し、粉砕し、粉末にした。実施例1と同様にしてゲル粒子を乾燥したが、1時
間の全乾燥期間中ゲル粒子を紫外線で照射した。最終生成物の性質を表1に示す
。光開始剤は存在させなかった。
【0061】 対照例4 ゲル化重合体合成例Iに従ってゲル化重合体を製造し、暗所において16時間
重合を行った後に、フラスコの栓を外し、フラスコから直ちにゲルを取り出した
。対照例1と同様にしてゲルを切断し、粉砕し、粉末にした。実施例1と同様に
してゲル粒子を乾燥したが、紫外線ランプを消し乾燥中ゲルを紫外線で照射しな
いようにした。最終生成物の性質を表1に示す。光開始剤は存在させなかった。
また照射を行わなかった。
【0062】
【表1】
【0063】 表1において本発明の実施例1および2のデータを対照例2および4と比較す
れば、残留アクリルアミド並びに陽イオン性共重合単量体が著しく減少している
ことが示され、このことは本発明方法に従って細粒化と同時にまたはその後で光
を使用して残留単量体含量を低減させることによって達成することができる。表
1のデータを参照して実施例1と対照例1とを比較すれば、細粒化の前に紫外線
で照射した場合に比べ、紫外線で照射した後に細粒化を行った方が効率が良いこ
とが示される。対照例2および4は、紫外線で照射しない場合光開始剤が存在し
ても生成物の性質に何ら著しい効果がないことを示している。対照例3および4
は光開始剤が存在しない場合には残留アクリルアミドはほんの僅かしか減少しな
いことを示している。
【0064】 実施例2で得られた結果は20分程度の短い間紫外線で照射すると、回収され
た重合体粒子の中における残留アクリルアミドの量が100ppmよりも少なく
なるという点において驚くべきことである。実施例1および2の両方はアクリル
アミドが100ppmより少ない生成物を製造する上で本発明方法の大きな効率
を例示している。実施例1および2の全工程時間は対照例4で例示されるように
紫外線照射を行わない標準的な方法に比べて長くはない。これは照射と乾燥の工
程を組み合わせた結果である。
【0065】 アクリルアミド単量体の代わりに本発明の他のアクリル単量体を用いた場合に
も同様な結果が得られた。
【0066】 表1のすべての6種の生成物に対して得られた溶液粘度は、高分子量の製品で
あるという指標になる。粉末にしたゲルを紫外線で照射するほんの僅か粘度が低
下するが、実施例2(粘度2.8cps)を対照例2および4(粘度2.9cp
s)と比較することによって例証されるように、組成および条件を正しく選択す
ることに対してはこれは些細なことに過ぎない(0.2cps以下)。このよう
な粘度の低下は凝集剤としての性能に僅かな影響しか与えない。粘度の測定のた
めに調製した溶液には不溶性の物質は観測されなかった。
【0067】 実施例3 ゲル化重合体合成例IIに従ってゲル化重合体を製造した。暗所において16
時間重合を進行させた後に、フラスコの栓を外し、フラスコから直ちにゲルを取
り出した。実施例1と同様にしてゲルを切断し、粉砕し、粉末にし、その280
gの部分に対して乾燥工程の最初の30分の間実施例1と同じ方法で紫外線を照
射した。粉末にしたゲルの残りの部分は対照例と同様に紫外線を照射せずに乾燥
した。紫外線を照射せずに製造した対照例の最終生成物は470ppmの残留A
MDを含み、粘度は3.8cpsであったが、これに対して紫外線を照射して製
造した本発明の生成物はAMDを90ppm含み、粘度は3.5cpsであった
。本実施例は単量体水溶液を調製する際300ppm程度の少量しか使用してい
ない場合でも、Darocur 1173が有用であることを示している。
【0068】 実施例4〜9ならびに対照例5および6 実施例4〜6および対照例5に対してはゲル化重合体合成例IVに従い、実施
例7〜9および対照例6に対してはゲル化重合体合成例Vに従ってゲル化重合体
を製造した。
【0069】 暗所において16時間重合を進行させた後に、フラスコの栓を外し、フラスコ
から直ちにゲルを取り出した。実施例1と同様にしてゲルを切断し、粉砕し、粉
末にし、その280gの部分に対して乾燥工程の最初の15分の間、或いは60
分間全部に亙り、下記表2に記載した異なった紫外線光源を使用して紫外線を照
射した。それぞれの試料の中の少ない25gの部分を照射せずに乾燥し、比較の
ための対照例5および6とした。300〜450nmの範囲に主要強度部分を有
するElectrolite Corporation製のUVA領域の365
nmの紫外線光源を用いた照射を、UVA光源に比べ200〜300nmの範囲
において遥かに強い光源であるUVB260nmの光源を用いた場合の照射と比
較した。即ち、近紫外領域におけるエネルギーを用いた照射を深部紫外領域のエ
ネルギーを用いた照射と比較した。UVA光源は近紫外領域(300〜400n
m)で強度が強く、UNB光源は深部紫外領域(200〜300nm)で強度が
強い。UVB光源で照射する場合には紫外線ランプのハウジングのガラス窓を取
り外した。何故ならこのガラス窓は所望の深部紫外領域の光を妨げるからである
。比較のために、ガラス窓或いはいわゆるフィルターなしでゲルの一部をUVA
光源で照射した。ガラス窓がフィルターと呼ばれるのはガラスが320nmより
短い、特に300nmより短い波長の光を遮断するからである。乾燥中、上記の
ような開いた2リットルの槽を取付た流動床乾燥機の上方32cmの所に紫外線
ランプのハウジングを置いて粒子を照射した。
【0070】
【表2】
【0071】 表2の最初の四つの項目において、残留単量体の低減に関し深部紫外線の方が
近紫外線よりも効果があることが示されている。しかしUVB光源を使用するか
或いはガラス・フィルターを取り除くことによって深部紫外線を含ませると、粘
度の低下が大きくなる。最後の二つの項目を比較すると、500ppmのIrg
acure 2959を用い、ガラス・フィルター付きのUVA光源を使用して
60分間照射した結果と、UVB光源を用い15分間照射した結果とは残留アク
リルアシド低減に関してはほぼ同等であるが、粘度については前者による処理(
UVA光源、2.9cps)または対照(3.1cps)に比べ後者による処理
(UVB光源)では著しく低くなる(2.5cps)。従って残留単量体量に関
する目標値を得るためには深部紫外線を含ませて短時間照射するよりも近紫外光
源で長時間照射する方が好適である。
【0072】 実施例10 ゲル化重合体合成例VIに従ってゲル化重合体を製造した。
【0073】 暗所において16時間重合を進行させた後に、フラスコの栓を外し、フラスコ
から直ちにゲルを取り出した。実施例1と同様にしてゲルをそれぞれ切断し、粉
砕し、粉末にし、次に一緒にして粉末にしたゲルの単一のバッチを調製した。こ
のバッチの重さそれぞれ260gの部分に対して60分間の乾燥期間の最初の1
5分間、次の15分間、第3の15分間、および最後の15分間の間、実施例1
と同様にして流動床乾燥機を使用し、その上方32cmの所に設置された紫外線
ランプ(ガラス・フィルター付きのUVA光源、15mW/cm2)を用いて照
射を行った。ゲル試料の水分量は各15分間の乾燥後に失われた重量減の測定値
および既知の最初の水分含量に基づいて計算した。またゲルの一部は比較のため
に照射せずに乾燥した。下記表3に掲げられた結果は、乾燥時間の第2の15分
間の間紫外線で照射した場合、この第2の15分間の乾燥期間が始まる時に粒子
は実質的に乾燥している(水分含量18%)にもかかわらず、最初の15分間の
間に照射すると同様の効果があることを示している。3番目の15分間での照射
はそれほど有効ではなく、4番目の15分間での照射はさらに効果が少ない。し
かし4番目の15分間の照射に対しても対照に比べ残留アクリルアミドの著しい
減少がなお観測される。
【0074】
【表3】
【0075】 実施例11および12、並びに対照例7〜9 ゲル化重合体合成例VIIおよびゲル化重合体合成参照例II記載の方法でゲ
ル試料を製造した。
【0076】 実施例1と同様にしてゲルを切断し、摩砕し粉末化した。それぞれ280gの
量の試料を400ワットのハロゲン化金属紫外線ランプ(UVA365nm光源
付のELC−4001、Electrolite Corp.)で表4記載のよ
うに15分間、5分間または0分間照射した。いくつかの試料は乾燥の開始時か
ら15mW/cm2の強度の照射に曝されたが、他の試料は乾燥の7分後に照射
された(表4に記載されているように)。表4の項目はアクリル酸ナトリウム並
びにアクリルアミド残留単量体を著しく減少させる上で本発明が有用なことを示
している。また光開始剤を存在させないで紫外線を照射すると残留単量体は若干
減少するが、その効果は光開始剤を含むゲルを照射する場合に比べ小さいことが
分かる。
【0077】
【表4】
【0078】 実施例13〜20および対照例10〜12 ゲル化重合体合成例VIII記載の方法で2000ppmのDarocur 1173を用い420gの陽イオン性ゲルを製造した。実施例1と同様にして
ゲルを切断し、粉砕し、粉末化した。実施例13〜20においては280gの試
料を採り、やはり実施例1と同様にして乾燥中400ワットのハロゲン化金属紫
外線ランプを用いて照射した。ゲルの残りの部分は紫外線照射を行わずに乾燥し
て、これを対照例10〜12とした。いくつかの実施例においてはランプとゲル
の間の距離を変えることにより紫外線照射の強度を変化させた。他の実施例にお
いては、紫外線照射の期間を変化させた。さらに幾つかの実施例においては、乾
燥開始7分間後に紫外線の照射を開始した。結果を下記表5に示す。
【0079】
【表5】
【0080】 紫外線照射の強度を増加させると、残留アクリルアミド単量体の低減度が増加
する。実施例15においては、残留アクリルアミドを80ppmに減少させるに
は8mW/cm2の強度を有する紫外線で僅か5分間照射するだけで十分であり
、実施例20においては15mW/cm2で僅か5分間照射するだけで残留アク
リルアミド単量体含量は70ppmに減少した。或る一合の強度に対し照射時間
を増加すると、残留単量体含量が減少することが分かる。
【0081】 当業界の専門家には本発明の他の具体化例および変形は明白であろう。本発明
は特許請求の範囲記載の事項以外限定されるものではない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU, AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,C N,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB ,GD,GE,GH,GM,HR,HU,ID,IL, IN,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ,L C,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD,MG ,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT, RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,T J,TM,TR,TT,UA,UG,UZ,VN,YU ,ZA,ZW (72)発明者 ホールズワース,メルビン アメリカ合衆国コネチカツト州06430フエ アフイールド・メイフエアロード79 Fターム(参考) 4J011 QA02 QA03 QA06 SA06 SA16 SA20 UA01 UA06 UA09 VA02 VA06 4J015 AA01 CA01 CA15

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)アクリル単量体と光開始剤を含む混合物を重合させる
    ことによってゲル化した重合体を生成させ; (b)このゲル化した重合体を細粒化してゲル粒子を製造し; (c)ゲル粒子に光を照射して工程(a)で加えた光開始剤を分解させる工程
    を逐次行い、 ここで工程(c)は工程(b)と同時にまたはその後で行うことを特徴とする
    アクリル重合体の製造法。
  2. 【請求項2】 工程(c)の後で重合体粒子を回収する工程をさらに含み、
    該重合体粒子は重合体粒子の重量を基にして未反応のアクリル単量体を約100
    0ppm未満の量で含んでいることを特徴とする請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 a)アクリルアミド単量体と光開始剤を含む混合物を重合さ
    せることによってゲル化した重合体を生成させ; (b)このゲル化した重合体を細粒化してゲル粒子を製造し; (c)ゲル粒子に光を照射して工程(a)で加えた光開始剤を分解させる工程
    を逐次行い、 ここで工程(c)は工程(b)と同時にまたはその後で行うことを特徴とする
    アクリルアミド重合体の製造法。
  4. 【請求項4】 工程(c)の後で重合体粒子を回収する工程をさらに含み、
    該重合体粒子は重合体粒子の重量を基にして未反応のアクリルアミドを約100
    0ppm未満の量で含んでいることを特徴とする請求項3記載の方法。
  5. 【請求項5】 該重合体粒子は重合体粒子の重量を基にして未反応のアクリ
    ルアミド単量体を約100ppm未満の量で含んでいることを特徴とする請求項
    4記載の方法。
  6. 【請求項6】 該ゲル粒子を乾燥させる工程を更に含むことを特徴とする請
    求項1または3記載の方法。
  7. 【請求項7】 該乾燥工程は該照射工程の間に行われることを特徴とする請
    求項6記載の方法。
  8. 【請求項8】 該乾燥工程は撹拌しながら行われることを特徴とする請求項
    6記載の方法。
  9. 【請求項9】 該乾燥工程は流動床乾燥機中で行われることを特徴とする請
    求項8記載の方法。
  10. 【請求項10】 該乾燥工程は該照射工程の前に始まり、その結果照射工程
    の開始時においてゲル粒子の水分含量が約25%未満であることを特徴とする請
    求項6記載の方法。
  11. 【請求項11】 ゲル化重合体を生成させる工程が酸化還元反応開始系、ア
    ゾ反応開始系または酸化還元−アゾ反応開始系を用いる重合開始を含んでいるこ
    とを特徴とする請求項1または3記載の方法。
  12. 【請求項12】 ゲル化重合体を生成させる該工程の間に少なくとも95%
    の単量体が重合体に転化されることを特徴とする請求項1または3記載の方法。
  13. 【請求項13】 ゲル化重合体を生成させる該工程の間に少なくとも99%
    の単量体が重合体に転化されることを特徴とする請求項1または3記載の方法。
  14. 【請求項14】 該混合物はアクリルアミド単量体および陽イオン性単量体
    を含んでいることを特徴とする請求項3記載の方法。
  15. 【請求項15】 該混合物単量体はアミノアルキルアクリレートおよびアミ
    ノアルキルメタクリレート四級化合物を含んでいることを特徴とする請求項14
    記載の方法。
  16. 【請求項16】 該光開始剤が波長200〜400nmの紫外線に応答して
    分解することを特徴とする請求項1または3記載の方法。
  17. 【請求項17】 光開始剤が2−ヒドロキシ−1−[4−(ヒドロキシエト
    キシ)フェニル]−2−メチル−1−プロパノンを含むことを特徴とする請求項
    16記載の方法。
  18. 【請求項18】 光開始剤が2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプ
    ロパン−1−オンを含むことを特徴とする請求項16記載の方法。
  19. 【請求項19】 光開始剤が2−ヒドロキシ−1−[4−(ヒドロキシエト
    キシ)フェニル]−2−メチル−1−プロパノンおよび2−ヒドロキシ−2−メ
    チル−1−フェニルプロパン−1−オンの混合物を含むことを特徴とする請求項
    16記載の方法。
  20. 【請求項20】 光開始剤を分解させるのに十分な波長の光を得るためにガ
    ラス・フィルターを使用する工程を含むことを特徴とする請求項16記載の方法
  21. 【請求項21】 ガラス窓を使用して光源と流動床乾燥機の内部表面とを分
    離し、光が流動床乾燥機の中に入る前にガラス窓を通過するようにして光源が乾
    燥機中のゲル粒子、熱または水分に接触することを防ぐことを特徴とする請求項
    9記載の方法。
  22. 【請求項22】 該光が約1〜約140mW/cm2の強度を有することを
    特徴とする請求項1または3記載の方法。
  23. 【請求項23】 該照射が約1分〜約120分の間行われることを特徴とす
    る請求項1または3記載の方法。
  24. 【請求項24】 該混合物が水溶液であり、約20〜約60重量%の単量体
    を含んでいることを特徴とする請求項1または3記載の方法。
  25. 【請求項25】 該ゲル粒子の少なくとも約90重量%は大きさが9.5m
    m未満であることを特徴とする請求項1または3記載の方法。
  26. 【請求項26】 該ゲル粒子の少なくとも約70重量%は大きさが約2〜8
    mmの間であることを特徴とする請求項1または3記載の方法。
  27. 【請求項27】 (a)アクリルアミド単量体と光開始剤を含む水溶液を重
    合させることによってゲル化した重合体を生成させ; (b)このゲル化した重合体を細粒化してゲル粒子を製造し; (c)該ゲル粒子を流動床乾燥機の中で乾燥させ; (d)該乾燥工程の少なくとも一部の間に該ゲル粒子に光を照射して工程(a
    )で加えた光開始剤を分解させる工程を行い、 ここで工程(c)は工程(b)と同時にまたはその後で行うことを特徴とする
    アクリルアミド重合体の製造法。
  28. 【請求項28】 照射後該ゲル粒子を粉砕し、重合体粒子の重量を基にして
    未反応アクリルアミド単量体を約100ppm未満の量で含む重合体粒子を回収
    する工程をさらに含むことを特徴とする請求項31記載の方法。
  29. 【請求項29】 該アクリル単量体がアクリレートを含むことを特徴とする
    請求項1記載の方法。
  30. 【請求項30】 該アクリル単量体がアクリル酸を含むことを特徴とする請
    求項1記載の方法。
JP2001528455A 1999-10-06 2000-09-18 残留単量体含量の低い重合体の製造法 Pending JP2003511488A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/413,351 1999-10-06
US09/413,351 US6262141B1 (en) 1999-10-06 1999-10-06 Process for the preparation of polymers having low residual monomer content
PCT/US2000/025528 WO2001025289A1 (en) 1999-10-06 2000-09-18 Preparation of low residual monomer content polymers

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003511488A true JP2003511488A (ja) 2003-03-25

Family

ID=23636908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001528455A Pending JP2003511488A (ja) 1999-10-06 2000-09-18 残留単量体含量の低い重合体の製造法

Country Status (14)

Country Link
US (1) US6262141B1 (ja)
EP (1) EP1226183B1 (ja)
JP (1) JP2003511488A (ja)
KR (1) KR100646063B1 (ja)
CN (1) CN1153785C (ja)
AT (1) ATE274001T1 (ja)
AU (1) AU771636B2 (ja)
BR (1) BR0014558B1 (ja)
CA (1) CA2386395C (ja)
DE (1) DE60013159T2 (ja)
ES (1) ES2226915T3 (ja)
MX (1) MXPA02003363A (ja)
PT (1) PT1226183E (ja)
WO (1) WO2001025289A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007533772A (ja) * 2003-08-14 2007-11-22 アシュランド・ライセンシング・アンド・インテレクチュアル・プロパティー・エルエルシー 粉末状の水溶性のカチオン性ポリマー組成物、その製造方法及びその使用
JP2008037966A (ja) * 2006-08-03 2008-02-21 Toagosei Co Ltd ポリ(メタ)アクリル酸部分中和物及びその製造方法
JP2008523173A (ja) * 2004-12-10 2008-07-03 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 更に高い表面架橋及び更に高い親水性を備えた超吸収性ポリマー粒子、並びに、真空紫外線を用いてそれらを作る方法
JP2009505738A (ja) * 2005-08-23 2009-02-12 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 真空紫外線を用いた方法により製造される表面架橋超吸収性ポリマー粒子を備えた吸収性物品
WO2009028568A1 (ja) 2007-08-28 2009-03-05 Nippon Shokubai Co., Ltd. 吸水性樹脂の製造方法

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0001883D0 (en) * 2000-01-28 2000-03-22 Ciba Spec Chem Water Treat Ltd Polymerisation process
GB0104142D0 (en) * 2001-02-20 2001-04-11 Ciba Spec Chem Water Treat Ltd Polymerisation process
US6559223B2 (en) * 2001-02-22 2003-05-06 Polytechnic University Hydrogels and methods for their production
JP3836413B2 (ja) * 2002-09-11 2006-10-25 ロレアル 合成高分子ゲルの製造方法
US20040143030A1 (en) * 2002-09-11 2004-07-22 Fumiyoshi Ikkai Method of producing synthetic polymer gel and said gel
CN1317308C (zh) 2003-03-26 2007-05-23 巴斯福股份公司 颜色稳定的超吸收性聚合物组合物
TW200500046A (en) 2003-03-26 2005-01-01 Basf Ag Color-stable superabsorbent polymer composition
US6991501B2 (en) * 2003-07-23 2006-01-31 Wilce Stephen E Paddle and method of manufacture thereof
GB0416285D0 (en) * 2004-07-21 2004-08-25 Ciba Spec Chem Water Treat Ltd Method of treating polymers
US20060128827A1 (en) * 2004-12-10 2006-06-15 The Procter & Gamble Company Absorbent members comprising modified water absorbent resin for use in diapers
US20090298963A1 (en) * 2004-12-10 2009-12-03 Nippon Shokubai Co., Ltd Method for production of modified water absorbent resin
DE102005004285A1 (de) * 2005-01-28 2006-08-03 Stockhausen Gmbh Wasserlösliche oder wasserquellbare Polymerisate, insbesondere wasserlösliche oder wasserquellbare Copolymere aus Acrylamid und mindestens einem ionischen Comonomeren mit niedrigem Restmonomerengehalt
US7822310B2 (en) * 2007-02-28 2010-10-26 Corning Cable Systems Llc Fiber optic splice trays
CN101353392B (zh) * 2007-07-27 2010-10-13 朱定洋 高分子量速溶阳离子聚丙烯酰胺的制备方法
US20110182957A1 (en) * 2008-06-19 2011-07-28 Nicoll Steven B Cellulosics for tissue replacement
US9193948B2 (en) 2008-11-12 2015-11-24 The Trustees Of The University Of Pennsylvania Biomaterials for tissue replacement
CA2880415A1 (en) 2012-04-13 2013-10-17 Basf Se New cationic polymers
CN103319653B (zh) * 2013-06-08 2015-09-16 山东水衡化工有限责任公司 一种疏水改性阳离子聚丙烯酰胺絮凝剂的制备方法
CN103467629B (zh) * 2013-10-11 2015-12-23 上海新世纪齿科材料有限公司 一种降低自由基本体聚合树脂中残留单体的方法
US10647823B2 (en) * 2018-05-16 2020-05-12 Solenis Technologies, L.P. Adiabatic gel polymerization process for the production of water-soluble polyelectrolytes
CN113698530B (zh) * 2021-10-28 2022-02-18 江苏富淼科技股份有限公司 一种高位阻系列阳离子固体型聚丙烯酰胺及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59133212A (ja) * 1983-01-21 1984-07-31 Nitto Chem Ind Co Ltd 残存モノマ−の少ないカチオン性ポリマ−の製造方法
JPH04120112A (ja) * 1990-09-07 1992-04-21 Sanyo Chem Ind Ltd 吸水性樹脂組成物及びその製造法
JPH07224118A (ja) * 1994-02-10 1995-08-22 Mitsui Toatsu Chem Inc 硬化性組成物およびその硬化方法
JPH0938057A (ja) * 1995-07-27 1997-02-10 Nippon Koden Corp 生体電極用導電性組成物の製法
JPH10298215A (ja) * 1997-04-25 1998-11-10 Nitto Chem Ind Co Ltd 水溶性重合体の製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3755280A (en) 1971-03-05 1973-08-28 American Cyanamid Co Drying of acrylamide polymer gels
FR2348227A1 (fr) 1976-04-14 1977-11-10 Rhone Poulenc Ind Perfectionnement aux procedes de preparation de polymeres acryliques hydrosolubles par photopolymerisation
JPS5351289A (en) 1976-10-20 1978-05-10 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd Treatment method of hydrous acrylamide polymers
US4132844A (en) 1977-05-23 1979-01-02 American Cyanamid Company Treatment of acrylamide polymer gel
FR2428054A1 (fr) 1978-06-09 1980-01-04 Rhone Poulenc Ind Procede de photopolymerisation pour polymeres floculants
FR2428053A2 (fr) 1978-06-09 1980-01-04 Rhone Poulenc Ind Procede de photopolymerisation pour polymeres floculants
FR2453185A1 (fr) 1979-04-05 1980-10-31 Rhone Poulenc Ind Procede de preparation de polymeres ou copolymeres acryliques hydrosolubles a poids moleculaire eleve et a faible teneur en monomere(s) residuels(s)
JPS57121009A (en) 1981-01-21 1982-07-28 Sumitomo Chem Co Ltd Preparation of water-soluble high-molecular weight polymer
US4654378A (en) * 1984-05-02 1987-03-31 Calgon Corporation Process for the manufacture of high solids, free-flowing, granular poly(dimethyldiallyl ammonium chloride)
CA1253833A (en) * 1984-11-06 1989-05-09 Akira Yada Process for preparing water-soluble polymer gel particles
JPS61115909A (ja) 1984-11-12 1986-06-03 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd アクリルアミド残量の少ないアクリルアミド系重合体細粒状物の製法
JPS62235305A (ja) * 1986-04-04 1987-10-15 Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd 高分子量アクリル系重合体の製法
DE3724709A1 (de) 1987-07-25 1989-02-02 Stockhausen Chem Fab Gmbh Verfahren zur herstellung von polymerisaten mit niedrigem restmonomergehalt
US4874827A (en) * 1988-03-09 1989-10-17 Hart Chemical Limited Production of highly-dispersible water-soluble polymers
DE3930097A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-14 Basf Ag Uv-vernetzbare copolymerisate
CA2074235C (en) * 1991-07-18 2000-02-08 Hiroshi Itoh Hardenable composition, aqueous gel and applications thereof
JP3693084B2 (ja) 1997-07-16 2005-09-07 ダイヤニトリックス株式会社 水溶性重合体の製造方法
DE19748153A1 (de) 1997-10-31 1999-05-06 Stockhausen Chem Fab Gmbh Verfahren zur Herstellung kationischer Polyelektrolyte

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59133212A (ja) * 1983-01-21 1984-07-31 Nitto Chem Ind Co Ltd 残存モノマ−の少ないカチオン性ポリマ−の製造方法
JPH04120112A (ja) * 1990-09-07 1992-04-21 Sanyo Chem Ind Ltd 吸水性樹脂組成物及びその製造法
JPH07224118A (ja) * 1994-02-10 1995-08-22 Mitsui Toatsu Chem Inc 硬化性組成物およびその硬化方法
JPH0938057A (ja) * 1995-07-27 1997-02-10 Nippon Koden Corp 生体電極用導電性組成物の製法
JPH10298215A (ja) * 1997-04-25 1998-11-10 Nitto Chem Ind Co Ltd 水溶性重合体の製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007533772A (ja) * 2003-08-14 2007-11-22 アシュランド・ライセンシング・アンド・インテレクチュアル・プロパティー・エルエルシー 粉末状の水溶性のカチオン性ポリマー組成物、その製造方法及びその使用
JP2008523173A (ja) * 2004-12-10 2008-07-03 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 更に高い表面架橋及び更に高い親水性を備えた超吸収性ポリマー粒子、並びに、真空紫外線を用いてそれらを作る方法
JP2009505738A (ja) * 2005-08-23 2009-02-12 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 真空紫外線を用いた方法により製造される表面架橋超吸収性ポリマー粒子を備えた吸収性物品
JP4813555B2 (ja) * 2005-08-23 2011-11-09 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー 真空紫外線を用いた方法により製造される表面架橋超吸収性ポリマー粒子を備えた吸収性物品
JP2008037966A (ja) * 2006-08-03 2008-02-21 Toagosei Co Ltd ポリ(メタ)アクリル酸部分中和物及びその製造方法
WO2009028568A1 (ja) 2007-08-28 2009-03-05 Nippon Shokubai Co., Ltd. 吸水性樹脂の製造方法
EP2690114A1 (en) 2007-08-28 2014-01-29 Nippon Shokubai Co., Ltd. Process for producing water-absorbing resin

Also Published As

Publication number Publication date
DE60013159D1 (de) 2004-09-23
AU7384000A (en) 2001-05-10
DE60013159T2 (de) 2004-12-30
KR20020037372A (ko) 2002-05-18
BR0014558A (pt) 2002-06-11
PT1226183E (pt) 2004-11-30
ES2226915T3 (es) 2005-04-01
EP1226183A1 (en) 2002-07-31
US6262141B1 (en) 2001-07-17
MXPA02003363A (es) 2002-08-23
BR0014558B1 (pt) 2010-12-28
CN1153785C (zh) 2004-06-16
ATE274001T1 (de) 2004-09-15
CN1377374A (zh) 2002-10-30
KR100646063B1 (ko) 2006-11-13
CA2386395C (en) 2010-07-13
EP1226183B1 (en) 2004-08-18
AU771636B2 (en) 2004-04-01
WO2001025289A1 (en) 2001-04-12
CA2386395A1 (en) 2001-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003511488A (ja) 残留単量体含量の低い重合体の製造法
CN105622847B (zh) 一种水溶性壳聚糖基絮凝剂的合成方法及其应用
US20120035294A1 (en) Process for Preparing Super Absorbent Polymers
US11192088B2 (en) Superabsorbent polymer and method for preparing the same
CA2333131A1 (en) Water-absorbing polymers having supramolecular hollow molecules, a method of producing same, and their use
CN101072817A (zh) 吸水性树脂的表面处理方法
CN108026318B (zh) 超吸收性聚合物组合物
EP3133090B1 (en) Method for preparing super absorbent resin
CN105452306B (zh) 用于制备超吸收性聚合物的方法
AU743796B2 (en) Method for producing cationic polyelectrolytes
US7615258B2 (en) Method of treating polymers
JP2003261601A (ja) 吸水性樹脂およびその製造方法
EP0733648A1 (en) Process for producing polymer particles
JPH03115313A (ja) 吸水性樹脂の製造方法
JPH0776244B2 (ja) 水可溶分の少ない吸水性樹脂の製造法
EP3135700B1 (en) Method for producing polyacrylic acid (salt)-based water-absorbent resin
JP3621554B2 (ja) 水溶性重合体の製造方法
JPS6031323B2 (ja) 水溶性ビニルポリマ−の製造方法
EP3321307B1 (en) Method for production of super-absorbent resin
JP2014043538A (ja) 水溶性重合体の製造方法、および水溶性重合体
JP2002003518A (ja) 水溶性重合体の製造方法
JP3621552B2 (ja) 水溶性重合体の製造方法
JPH08319304A (ja) 重合体粒子の製造方法
CZ20001448A3 (cs) Způsob výroby kationtových polyelektrolytů
JP2004300249A (ja) 感熱性樹脂材料の精製方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070626

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080313

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080529

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100330

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20100330

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100330

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100525

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100701

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100810