JP2003508375A - 炭酸ジアリール製造のための触媒組成物及び方法 - Google Patents
炭酸ジアリール製造のための触媒組成物及び方法Info
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Abstract
Description
ル化反応における炭酸ジアリールの収率の向上に関する。
ーボネートを製造する際に価値のある中間体である。このポリカーボネートの製
造方法は、試薬として有毒ガスであるホスゲンを用い、また溶媒として塩化メチ
レンのような環境上有害な塩素化脂肪族炭化水素を用いる方法と比べて環境上有
利である。
簡単にするために単に「カルボニル化」ということがある)反応によって炭酸ジ
アリールを製造する各種方法が既に開示されている。一般に、このカルボニル化
反応にはかなり複雑な触媒が必要である。例えば、触媒として第VIII族重金属、
すなわち原子番号が少なくとも44の第VIII族金属であるルテニウム、ロジウム
、パラジウム、オスミウム、イリジウムもしくは白金、又はこれらの錯体を使用
する米国特許第4187242号を参照されたい。
含ませることによって改良することができる。適切な金属を主材とする助触媒の
種類は反応体の種類や触媒パッケージの他の成分を始めとする個々の反応条件に
依存するが、ある程度一般的な目安は米国特許第4187242号及び同第42
01721号に見出すことができる。
なる発展が米国特許第5498789号に開示されている。この特許によると、
臭化テトラ−n−ブチルアンモニウムによって例示される第四級のアンモニウム
ハロゲン化物又はホスホニウムハロゲン化物を触媒パッケージの一部として使用
することも必要である。トルエン、ジエチルエーテル、ジフェニルエーテル及び
アセトニトリルのような不活性溶媒として特徴付けられる化合物も存在すること
ができる。
合物を使用することができればカルボニル化反応の工業的有用性が大いに増大す
るであろう。しかし、臭化ナトリウムのような化合物を代わりに用いると、所望
の炭酸ジアリールの単離収率が低いか又は非常に低くなる。
生成することができる触媒系を開発することは重要である。かかる系は幾つか公
知である。例えば、臭化ナトリウムのようなハロゲン化物と組み合わせて、さら
にアミド又はアルキル尿素と共にパラジウム及び鉛又はマンガンの化合物を使用
することを開示している特開平10−316627号公報を参照されたい。米国
特許第5726340号及び特開平9−278716号公報には、鉛を他の金属
と組合せ、かつ上記のような不活性溶媒が存在し得る類似の系が開示されている
。しかしながら、比較的安価なハロゲン化物を使用する他の系の開発が望ましい
。
る化合物とを含む炭酸ジアリールの製造方法を提供する。また、かかる方法で有
用な触媒組成物も提供する。
の存在下で、1種以上のヒドロキシ芳香族化合物を酸素及び一酸化炭素と接触さ
せることからなる炭酸ジアリールの製造方法を提供する。ここで、本発明の触媒
物質は、 (A)原子番号44以上の第VIII族金属又はその化合物、 (B)1種以上のアルカリ金属ハロゲン化物又はアルカリ土類金属ハロゲン化物
、及び (C)1種以上のスルホン を含んでいる。
媒組成物である。
レゾール、キシレノール及びp−クミルフェノールのようなモノヒドロキシ芳香
族化合物が一般に好ましく、フェノールが最も好ましい。しかし、本発明では、
レゾルシノール、ヒドロキノン及び2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパンすなわち「ビスフェノールA」のようなジヒドロキシ芳香族化合物も使用
することができ、この場合生成物はポリカーボネートオリゴマーになる。
ェノールと反応して所望の炭酸ジアリールを形成する。これらは高純度形態で使
用してもよいし、或いは反応にマイナスの影響を及ぼすことのない窒素、アルゴ
ン、二酸化炭素又は水素のような別のガスで希釈して使用してもよい。
これら構成成分の間で反応が起こるか否かにかかわらず「成分」と定義する。し
たがって、触媒系はこれら成分及びそのあらゆる反応生成物を含み得る。
合物である。したがって、有用なパラジウム材料としては、パラジウム黒、パラ
ジウム/炭素、パラジウム/アルミナ及びパラジウム/シリカのような元素態パ
ラジウムを含有するもの、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム
、硫酸パラジウム、硝酸パラジウム、酢酸パラジウム及びパラジウム2,4−ペ
ンタンジオナトのようなパラジウム化合物、並びに一酸化炭素、アミン、ニトリ
ル、ホスフィン及びオレフィンのような化合物を含むパラジウム含有錯体がある
。多くの場合に好ましいのは、有機酸、最も普通にはC2-6脂肪族カルボン酸の
パラジウム(II)塩、及びβ−ジケトンのパラジウム(II)塩である。酢酸パラ
ジウム(II)とパラジウム(II)2,4−ペンタンジオナトが一般に最も好まし
い。上記パラジウム材料の混合物も考えられる。
しくは臭化物、例えば臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化カル
シウム又は臭化マグネシウムである。アルカリ金属臭化物が特に好ましく、臭化
ナトリウムが特に適しており比較的コストが低いので最も好ましいことが多い。
式でもよい。代表的なスルホンはジメチルスルホン、ジエチルスルホン、ジフェ
ニルスルホン及びスルホラン(すなわちテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオ
キシド)である。スルホランが好ましいことが多い。
合物である1種以上の助触媒も触媒系中に存在する。この金属は反応条件下で液
相に可溶なものが好ましい。数多くの他の金属化合物がカルボニル化用助触媒と
して活性であることが当技術分野で知られており、かかる活性を有する化合物は
いずれも、それにより炭酸ジフェニルの製造時、通常は収率が向上するのであれ
ば、本発明に従って使用できる。
、又は組み合わせて使用できる。本発明の目的から好ましい助触媒は第VIII族金
属以外、すなわち鉄、コバルト及びニッケル以外の金属を含有するものである。
特に単独又はチタンと組み合わせて使用する場合の鉛の化合物がより好ましい。
しかし、成分Cは成分Dの可能なすべての組合せで炭酸ジアリールの生成を最適
化するのに有効であるわけではないことに注意されたい。この目的で2つの組み
合わせた有効性は簡単な実験で決定することができる。
ような無機鉛塩、酢酸鉛(II)やプロピオン酸鉛(II)のようなカルボン酸鉛、
鉛(II)メトキシドや鉛(II)フェノキシドのような鉛のアルコキシド及びアリ
ールオキシド、並びに鉛(II)2,4−ペンタンジオナトのようなβ−ジケトン
の鉛塩である。上記鉛化合物の混合物も使用できる。好ましい鉛化合物は酸化鉛
(II)、鉛(II)アリールオキシド及び鉛(II)2,4−ペンタンジオナトであ
る。
トキシドやチタン(IV)フェノキシドのようなチタンのアルコキシド及びアリー
ルオキシド、並びにチタン(IV)オキシドビス(2,4−ペンタンジオナト)の
ようなβ−ジケトンのチタン塩である。上記チタン化合物の混合物も使用できる
。好ましいチタン化合物はチタン(IV)のアルコキシド、アリールオキシド及び
2,4−ペンタンジオナトである。
4−ペンタンジオナトである。上記の反応体及び触媒系に加えて、乾燥剤が反応
系に存在するのが極めて好ましい。好ましい乾燥剤は3−オングストローム(以
下「3A」とする)モレキュラーシーブにより例示されるモレキュラーシーブの
ような非反応性物質である。これらは普通、攪拌機シャフトに装着したバスケッ
ト中に入れるなどにより、他の反応体から隔離される。
族金属(通常パラジウム)が約0.1〜10000重量ppmの量で存在するこ
とが最も多く、成分Bは成分Aの第VIII族金属1当量当たり約1〜2000ミリ
モルの量で存在することが最も多い。成分Dは通常、成分Aの第VIII族金属1当
量当たり金属全体で約1〜200グラム原子の量で存在する。
解離とイオン化の程度を、恐らくはこの成分のカチオン部分と錯体を形成するこ
とによって、増大することであると考えられるが、本発明はいかなる意味でもこ
の作用理論又は他の作用理論に依存することはない。成分Cの使用量は、例えば
ターンオーバー数、すなわち存在するパラジウムの1グラム原子当たり生成する
炭酸ジアリールのモル数、の増大により示されるように所望の炭酸ジアリールの
収率を増大するのに有効な量である。この量は、ヒドロキシ芳香族化合物と成分
Cの合計量を基準にして約1〜60体積%であることが最も多い。
触媒系を装填して加熱する反応器で行うのが好ましい。反応圧力は約1〜500
気圧の範囲内であることが最も多く、約1〜150気圧であるのが好ましい。ガ
スは通常酸素が約1〜50モル%で残りが一酸化炭素である割合で供給し、いか
なる場合も安全上の理由から爆発範囲外で供給する。これらのガスは別々に導入
しても混合物として導入してもよい。反応温度は約60〜150℃の範囲が典型
的である。反応をできるだけ速くするためには、例えば米国特許第539973
4号に記載されているように、ヒドロキシ芳香族化合物の変換が完了するまで、
一酸化炭素と酸素の全ガス圧と分圧を実質的に維持するのが好ましい。
できる。米国特許第5239106号及び同第5312955号に記載されてい
るように、炭酸ジアリールとヒドロキシ芳香族化合物とのアダクトを形成し熱分
解するのが好ましいことが多い。
あっても収率の観点からは重要でないと思われる。
を、フェノールに対してパラジウム24ppm、パラジウム1当量当たり臭化ナ
トリウム270当量、及びフェノール1.86部当たりスルホラン1体積部のレ
ベルで用いて小さいバイアルでカルボニル化実験を行った。酸化鉛(II)、チタ
ン(IV)オキシドビス(2,4−ペンタンジオナト)、亜鉛2,4−ペンタンジ
オナト及び銅(II)2,4−ペンタンジオナトを単独で、又は組合せて、成分D
として使用した。各バイアルにポリテトラフルオロエチレン隔膜付きのスリット
を有するスナップキャップで蓋をし、これらのバイアルを91.7モル%の一酸
化炭素と8.3モル%の酸素の混合物で81.6気圧に加圧したオートクレーブ
に入れ、3時間100℃に加熱した。バイアルの中の炭酸ジフェニルを気相クロ
マトグラフィーで分析した。
当量当たりの当量であり、スルホランの割合はフェノールに対する体積%である
。実施例毎に2つの対照と比較する。対照1はスルホランを使わないで、それに
対応してフェノールの割合を増やし、対照2はそれに加えて、臭化ナトリウムを
等価な量の臭化テトラエチルアンモニウムに代えた。
に比べて改善が見られ、その程度は実施例4の少しの改善から実施例1と2の非
常に顕著な改善までの範囲である。実施例2と3では、ターンオーバー数が、比
較のためにより高価な第四級アンモニウムの臭化物を用いた対照2のターンオー
バー数に充分近かった。
Claims (27)
- 【請求項1】 (A)原子番号44以上の第VIII族金属又はその化合物、 (B)1種以上のアルカリ金属ハロゲン化物又はアルカリ土類金属ハロゲン化
物、及び (C)1種以上のスルホン を含んでなる、カルボニル化に有効な量の1種以上の触媒組成物の存在下で、1
種以上のヒドロキシ芳香族化合物を酸素及び一酸化炭素と接触させることを含ん
でなる、炭酸ジアリールの製造方法。 - 【請求項2】 (D)第VIII族以外の金属の化合物である1種以上の助触媒
も存在する、請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 ヒドロキシ芳香族化合物がフェノールである、請求項2記載
の方法。 - 【請求項4】 成分Aの第VIIIB族金属がパラジウムである、請求項2記載
の方法。 - 【請求項5】 成分Aが酢酸パラジウム(II)又はパラジウム(II)2,4
−ペンタンジオナトである、請求項4記載の方法。 - 【請求項6】 成分Dが酸化鉛(II)、鉛(II)アリールオキシド又は鉛(
II)2,4−ペンタンジオナトである、請求項2記載の方法。 - 【請求項7】 成分Dがチタン(IV)のアルコキシド、アリールオキシド又
は2,4−ペンタンジオナトと酸化鉛(II)、鉛(II)アリールオキシド又は鉛
(II)2,4−ペンタンジオナトとの組合せである、請求項2記載の方法。 - 【請求項8】 成分Dがチタン(IV)のアルコキシド、アリールオキシド又
は2,4−ペンタンジオナト酸化亜鉛との組合せである、請求項2記載の方法。 - 【請求項9】 成分Dが銅(II)2,4−ペンタンジオナトである、請求項
2記載の方法。 - 【請求項10】 成分Bがアルカリ金属臭化物である、請求項2記載の方法
。 - 【請求項11】 成分Bが臭化ナトリウムである、請求項10記載の方法。
- 【請求項12】 成分Cが複素環式スルホンである、請求項1記載の方法。
- 【請求項13】 成分Cがスルホランである、請求項12記載の方法。
- 【請求項14】 乾燥剤も存在する、請求項1記載の方法。
- 【請求項15】 成分Aがヒドロキシ芳香族化合物と成分Cの合計量を基準
にして前記第VIII族金属約0.1〜10000重量ppmの量で存在し、成分B
が成分Aの第VIII族金属1当量当たり約1〜2000ミリモルの量で存在し、成
分Cがヒドロキシ芳香族化合物と成分Cの合計量を基準にして1〜60体積%の
量で存在し、成分Dが成分Aの第VIII族金属1当量当たり金属合計として約1〜
200グラム原子の量で存在する、請求項2記載の方法。 - 【請求項16】 酸素の割合が酸素と一酸化炭素の合計量を基準にして約1
〜50モル%である、請求項2記載の方法。 - 【請求項17】 約1〜500気圧の範囲の圧力と約60〜150℃の範囲
の温度を維持する、請求項2記載の方法。 - 【請求項18】 (A)パラジウム又はその化合物、 (B)臭化ナトリウム、 (C)スルホラン、及び (D)1種以上の鉛化合物 を含んでなる、カルボニル化に有効な量の1種以上の触媒組成物の存在下で、フ
ェノールを酸素及び一酸化炭素と接触させることを含んでなる、炭酸ジフェニル
の製造方法。 - 【請求項19】 成分Aが酢酸パラジウム(II)又はパラジウム(II)2,
4−ペンタンジオナトであり、成分Dがジエチレングリコールジメチルエーテル
又はトリエチレングリコールジメチルエーテルである、請求項18記載の方法。 - 【請求項20】 下記成分又はそれらの反応生成物を含んでなる触媒組成物
。 (A)原子番号44以上の第VIII族金属又はその化合物、 (B)1種以上のアルカリ金属ハロゲン化物又はアルカリ土類金属ハロゲン化
物、及び (C)1種以上のスルホン。 - 【請求項21】 さらに、(D)第VIII族以外の金属の化合物である1種以
上の助触媒を含む、請求項19記載の組成物。 - 【請求項22】 成分Aが酢酸パラジウム(II)又はパラジウム(II)2,
4−ペンタンジオナトである、請求項21記載の組成物。 - 【請求項23】 成分Dが酸化鉛(II)、鉛(II)アリールオキシド又は鉛
(II)2,4−ペンタンジオナトである、請求項21記載の組成物。 - 【請求項24】 成分Dがチタン(IV)のアルコキシド、アリールオキシド
又は2,4−ペンタンジオナトと酸化鉛(II)、鉛(II)アリールオキシド又は
鉛(II)2,4−ペンタンジオナトとの組合せである、請求項21記載の組成物
。 - 【請求項25】 成分Dがチタン(IV)のアルコキシド、アリールオキシド
又は2,4−ペンタンジオナト酸化亜鉛との組合せである、請求項21記載の組
成物。 - 【請求項26】 成分Dが銅(II)2,4−ペンタンジオナトである、請求
項21記載の組成物。 - 【請求項27】 成分Bが臭化ナトリウムである、請求項21記載の組成物
。
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