JPH10330326A - 選択性の向上した炭酸ジアリールの製造方法 - Google Patents
選択性の向上した炭酸ジアリールの製造方法Info
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- JPH10330326A JPH10330326A JP10064849A JP6484998A JPH10330326A JP H10330326 A JPH10330326 A JP H10330326A JP 10064849 A JP10064849 A JP 10064849A JP 6484998 A JP6484998 A JP 6484998A JP H10330326 A JPH10330326 A JP H10330326A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C68/00—Preparation of esters of carbonic or haloformic acids
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カルボニル化反応における炭酸ジアリールの
選択性の向上。 【解決手段】 触媒パッケージ及び活性水素を含まない
有機稀釈剤の存在下での、酸素及び一酸化炭素との反応
によりフェノールのようなヒドロキシ芳香族化合物を炭
酸ジアリールに変換する。好ましい触媒パッケージは第
VIIIＢ族金属又はその塩、無機助触媒、有機助触媒及び
塩化物又は臭化物源を含んでなる。稀釈剤の添加量は炭
酸ジアリールの選択性の向上に有効な量である。好まし
い稀釈剤は炭酸ジフェニル及びＮ−メチルピロリドンで
ある。
選択性の向上。 【解決手段】 触媒パッケージ及び活性水素を含まない
有機稀釈剤の存在下での、酸素及び一酸化炭素との反応
によりフェノールのようなヒドロキシ芳香族化合物を炭
酸ジアリールに変換する。好ましい触媒パッケージは第
VIIIＢ族金属又はその塩、無機助触媒、有機助触媒及び
塩化物又は臭化物源を含んでなる。稀釈剤の添加量は炭
酸ジアリールの選択性の向上に有効な量である。好まし
い稀釈剤は炭酸ジフェニル及びＮ−メチルピロリドンで
ある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカルボニル化による
炭酸ジアリールの製造に関する。より具体的には、本発
明はカルボニル化反応における炭酸ジアリールの選択性
の改良に関する。
炭酸ジアリールの製造に関する。より具体的には、本発
明はカルボニル化反応における炭酸ジアリールの選択性
の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】炭酸ジアリールは、溶融状態でのビスフ
ェノール類とのエステル交換反応によるポリカーボネー
ト合成のための貴重な中間体である。このポリカーボネ
ート合成法は、有毒ガスのホスゲンを反応物として用い
たり、塩化メチレンのような環境に有害な塩素化脂肪族
炭化水素を溶剤として用いる方法に比べて環境面で数々
の利点を有する。
ェノール類とのエステル交換反応によるポリカーボネー
ト合成のための貴重な中間体である。このポリカーボネ
ート合成法は、有毒ガスのホスゲンを反応物として用い
たり、塩化メチレンのような環境に有害な塩素化脂肪族
炭化水素を溶剤として用いる方法に比べて環境面で数々
の利点を有する。
【０００３】ヒドロキシ芳香族化合物と一酸化炭素及び
酸素とのカルボニル化反応により炭酸ジアリールを製造
する数々の方法が知られている。一般に、カルボニル化
反応にはかなり複雑な触媒が必要とされる。例えば、米
国特許第４１８７２４２号を参照すると、触媒は第VIII
Ｂ族金属、すなわち、ルテニウム、ロジウム、パラジウ
ム、オスミウム、イリジウム及び白金からなる群から選
択される金属、又はその錯体である。
酸素とのカルボニル化反応により炭酸ジアリールを製造
する数々の方法が知られている。一般に、カルボニル化
反応にはかなり複雑な触媒が必要とされる。例えば、米
国特許第４１８７２４２号を参照すると、触媒は第VIII
Ｂ族金属、すなわち、ルテニウム、ロジウム、パラジウ
ム、オスミウム、イリジウム及び白金からなる群から選
択される金属、又はその錯体である。
【０００４】コバルト五座配位錯体及びテルピリジンの
ような助触媒の使用を始めとする、カルボニル化反応に
おけるいっそうの進展が米国特許第５２３１２１０号、
同第５２８４９６４号及び同第５３９９７３４号に開示
されている。これらの米国特許には、触媒パッケージの
一部として、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムで例示
されるハロゲン化第四級アンモニウム又はホスホニウム
を使用することについても開示されている。かかる第四
級塩に代えてヘキサアルキルグアニジニウム塩を使用す
ることが係属中の米国仮出願第６０／０４０３００号
（特願平１０−２１３６５号に対応）に開示されてい
る。
ような助触媒の使用を始めとする、カルボニル化反応に
おけるいっそうの進展が米国特許第５２３１２１０号、
同第５２８４９６４号及び同第５３９９７３４号に開示
されている。これらの米国特許には、触媒パッケージの
一部として、臭化テトラｎ−ブチルアンモニウムで例示
されるハロゲン化第四級アンモニウム又はホスホニウム
を使用することについても開示されている。かかる第四
級塩に代えてヘキサアルキルグアニジニウム塩を使用す
ることが係属中の米国仮出願第６０／０４０３００号
（特願平１０−２１３６５号に対応）に開示されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】カルボニル化反応での
炭酸ジアリールの生成反応に付随してビフェノール類の
ような副生物が様々な割合で生成する。「選択性」パラ
メーターは所望生成物の割合を測るために用いられるも
ので、炭酸ジアリールの選択性は全反応生成物に対する
百分率として表した炭酸ジアリールの生成量である。カ
ルボニル化反応において、かかる副生物の生成を抑制し
て炭酸ジアリールの選択性を最大にすることが望まれ
る。
炭酸ジアリールの生成反応に付随してビフェノール類の
ような副生物が様々な割合で生成する。「選択性」パラ
メーターは所望生成物の割合を測るために用いられるも
ので、炭酸ジアリールの選択性は全反応生成物に対する
百分率として表した炭酸ジアリールの生成量である。カ
ルボニル化反応において、かかる副生物の生成を抑制し
て炭酸ジアリールの選択性を最大にすることが望まれ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】今回、カルボニル化反応
混合物中に稀釈剤を様々な割合（通例、全反応混合物の
約５０重量％未満）で配合することにより、炭酸ジアリ
ールの選択性を格段に向上させることができることが判
明した。したがって、本発明は、炭酸ジアリールの製造
方法であって、カルボニル化に有効な量の少なくとも１
種類の触媒物質及び選択性向上に有効な添加量の少なく
とも１種類の活性水素を含まない有機稀釈剤の存在下
で、少なくとも１種類のヒドロキシ芳香族化合物を酸素
及び一酸化炭素と接触させることを含んでなる方法に関
する。
混合物中に稀釈剤を様々な割合（通例、全反応混合物の
約５０重量％未満）で配合することにより、炭酸ジアリ
ールの選択性を格段に向上させることができることが判
明した。したがって、本発明は、炭酸ジアリールの製造
方法であって、カルボニル化に有効な量の少なくとも１
種類の触媒物質及び選択性向上に有効な添加量の少なく
とも１種類の活性水素を含まない有機稀釈剤の存在下
で、少なくとも１種類のヒドロキシ芳香族化合物を酸素
及び一酸化炭素と接触させることを含んでなる方法に関
する。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明ではどんなヒドロキシ芳香
族化合物も使用し得る。フェノール、クレゾール類、キ
シレノール類及びｐ−クミルフェノールのようなモノヒ
ドロキシ芳香族化合物が概して好ましく、フェノールが
最も好ましい。ただし、本発明ではジヒドロキシ芳香族
化合物も用いることができ、例えばレゾルシノール、ヒ
ドロキノン及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（すなわち、「ビスフェノールＡ」）など
があり、そうすると生成物はポリカーボネートである。
族化合物も使用し得る。フェノール、クレゾール類、キ
シレノール類及びｐ−クミルフェノールのようなモノヒ
ドロキシ芳香族化合物が概して好ましく、フェノールが
最も好ましい。ただし、本発明ではジヒドロキシ芳香族
化合物も用いることができ、例えばレゾルシノール、ヒ
ドロキノン及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（すなわち、「ビスフェノールＡ」）など
があり、そうすると生成物はポリカーボネートである。
【０００８】本発明の方法におけるその他の必須反応物
は酸素と一酸化炭素であり、これらはフェノールと反応
して所望の炭酸ジアリールを生じる。カルボニル化に有
効などんな触媒系も使用し得る。概して好ましい触媒成
分の一つは第VIIIＢ族金属の一つ、好ましくはパラジウ
ム、又はその化合物である。例えば、パラジウム黒又は
炭素上に沈着させた元素態パラジウムが好適であり、併
せて、ハロゲン化物、硝酸塩、カルボン酸塩、脂肪族β
−ジケトンの塩並びに一酸化炭素、アミン、ホスフィン
又はオレフィンのような化合物との錯体のようなパラジ
ウム化合物も好適である。大半の事例で好ましいのは、
有機酸（大抵はＣ2-6 脂肪族カルボン酸）のパラジウム
(II)塩並びに２，４−ペンタンジオンのようなβ−ジケ
トンのパラジウム(II)塩である。酢酸パラジウム(II)及
び２，４−ペンタンジオンのパラジウム(II)塩が概して
最も好ましい。なお、２，４−ペンタンジオン塩の触媒
成分としての使用については、本願出願人による係属中
の米国出願第０８／８２３７８４号に開示されている。
は酸素と一酸化炭素であり、これらはフェノールと反応
して所望の炭酸ジアリールを生じる。カルボニル化に有
効などんな触媒系も使用し得る。概して好ましい触媒成
分の一つは第VIIIＢ族金属の一つ、好ましくはパラジウ
ム、又はその化合物である。例えば、パラジウム黒又は
炭素上に沈着させた元素態パラジウムが好適であり、併
せて、ハロゲン化物、硝酸塩、カルボン酸塩、脂肪族β
−ジケトンの塩並びに一酸化炭素、アミン、ホスフィン
又はオレフィンのような化合物との錯体のようなパラジ
ウム化合物も好適である。大半の事例で好ましいのは、
有機酸（大抵はＣ2-6 脂肪族カルボン酸）のパラジウム
(II)塩並びに２，４−ペンタンジオンのようなβ−ジケ
トンのパラジウム(II)塩である。酢酸パラジウム(II)及
び２，４−ペンタンジオンのパラジウム(II)塩が概して
最も好ましい。なお、２，４−ペンタンジオン塩の触媒
成分としての使用については、本願出願人による係属中
の米国出願第０８／８２３７８４号に開示されている。
【０００９】触媒物質は、上記米国特許第５２３１２１
０号に開示されたタイプの無機助触媒及び／又は上記米
国特許第５２８４９６４号に開示されているタイプの有
機助触媒も含んでいるのが好ましい。無機助触媒と有機
助触媒を共に使用するのが好ましい。典型的な無機助触
媒は、コバルト(II)塩と錯体を形成し得る有機化合物の
錯体、特に五座配位錯体である。このタイプの有機化合
物の具体例は、ピリジン類、ビピリジン類、テルピリジ
ン類、キノリン類、イソキノリン類及びビキノリン類を
始めとする含窒素複素環式化合物；エチレンジアミンや
テトラアルキルエチレンジアミンのような脂肪族ポリア
ミン；クラウンエーテル；クリプタンのような芳香族又
は脂肪族アミンエーテル；並びにシッフ塩基である。特
に好ましい無機助触媒はビス[３−（サリチラルアミ
ノ）プロピル]メチルアミンとのコバルト(II)錯体であ
り、この錯体を以後「ＣｏＳＭＤＰＴ」と呼ぶ。
０号に開示されたタイプの無機助触媒及び／又は上記米
国特許第５２８４９６４号に開示されているタイプの有
機助触媒も含んでいるのが好ましい。無機助触媒と有機
助触媒を共に使用するのが好ましい。典型的な無機助触
媒は、コバルト(II)塩と錯体を形成し得る有機化合物の
錯体、特に五座配位錯体である。このタイプの有機化合
物の具体例は、ピリジン類、ビピリジン類、テルピリジ
ン類、キノリン類、イソキノリン類及びビキノリン類を
始めとする含窒素複素環式化合物；エチレンジアミンや
テトラアルキルエチレンジアミンのような脂肪族ポリア
ミン；クラウンエーテル；クリプタンのような芳香族又
は脂肪族アミンエーテル；並びにシッフ塩基である。特
に好ましい無機助触媒はビス[３−（サリチラルアミ
ノ）プロピル]メチルアミンとのコバルト(II)錯体であ
り、この錯体を以後「ＣｏＳＭＤＰＴ」と呼ぶ。
【００１０】好適な有機助触媒には、各種のテルピリジ
ン、フェナントロリン、キノリン及びイソキノリン化合
物があり、例えば２，２′：６′，２″−テルピリジ
ン、４′−メチルチオ−２，２′：６′，２″−テルピ
リジン、２，２′：６′，２″−テルピリジンＮ−オキ
シド、１，１０−フェナントロリン、２，４，７，８−
テトラメチル−１，１０−フェナントロリン、４，７−
ジフェニル−１，１０−フェナントロリン、及び３，
４，７，８−テトラメチル−１，１０−フェナントロリ
ンなどである。テルピリジン類、特に２，２′：６′，
２″−テルピリジンが概して好ましい。
ン、フェナントロリン、キノリン及びイソキノリン化合
物があり、例えば２，２′：６′，２″−テルピリジ
ン、４′−メチルチオ−２，２′：６′，２″−テルピ
リジン、２，２′：６′，２″−テルピリジンＮ−オキ
シド、１，１０−フェナントロリン、２，４，７，８−
テトラメチル−１，１０−フェナントロリン、４，７−
ジフェニル−１，１０−フェナントロリン、及び３，
４，７，８−テトラメチル−１，１０−フェナントロリ
ンなどである。テルピリジン類、特に２，２′：６′，
２″−テルピリジンが概して好ましい。
【００１１】触媒物質は塩化物又は臭化物（好ましくは
臭化物）源も含む。これは上記米国特許に開示されてい
るような第四級アンモニウム又はホスホニウム塩でも、
或いは係属中の米国仮出願第６０／０４０３００号に開
示されているような塩化又は臭化ヘキサアルキルグアニ
ジニウムでもよい。グアニジニウム塩が往々にして好ま
しく、それらにはα，ω−ビス（ペンタアルキルグアニ
ジニウム）アルカン塩も含まれる。アルキル基の炭素原
子数が２〜６の塩が好ましく、中でも臭化ヘキサエチル
グアニジニウムが特に好ましい。
臭化物）源も含む。これは上記米国特許に開示されてい
るような第四級アンモニウム又はホスホニウム塩でも、
或いは係属中の米国仮出願第６０／０４０３００号に開
示されているような塩化又は臭化ヘキサアルキルグアニ
ジニウムでもよい。グアニジニウム塩が往々にして好ま
しく、それらにはα，ω−ビス（ペンタアルキルグアニ
ジニウム）アルカン塩も含まれる。アルキル基の炭素原
子数が２〜６の塩が好ましく、中でも臭化ヘキサエチル
グアニジニウムが特に好ましい。
【００１２】本発明によれば、選択性向上に有効な量の
少なくとも１種類の有機稀釈剤が反応混合物に加えられ
る。「稀釈剤」とは、それが反応物又は触媒成分に対す
る溶媒として作用するか否かとは無関係に、反応混合物
を稀釈する物質を意味する。好適な有機稀釈剤は、ヒド
ロキシ基やアミノ基に存在しているような活性水素を含
まないものである。
少なくとも１種類の有機稀釈剤が反応混合物に加えられ
る。「稀釈剤」とは、それが反応物又は触媒成分に対す
る溶媒として作用するか否かとは無関係に、反応混合物
を稀釈する物質を意味する。好適な有機稀釈剤は、ヒド
ロキシ基やアミノ基に存在しているような活性水素を含
まないものである。
【００１３】使用し得る有機稀釈剤には、ヘキサンやオ
クタンのような脂肪族炭化水素、トルエンやキシレンの
ような芳香族炭化水素、アニソールのようなアルコキシ
芳香族化合物、ジメチルホルムアミドやＮ−メチルピロ
リドンのような双極性非プロトン性溶媒、並びに炭酸ジ
フェニルのような炭酸ジアリールである。一般に、芳香
族炭化水素はカルボニル化速度を低下させる傾向がある
ので好ましくなく、ジメチルホルムアミドは高度に精製
したものでないと活性水素原子を有する第一アミンを不
純物として含んでいる可能性があるので好ましくない。
こうしたジメチルホルムアミドについての但し書きは別
にして、好ましい化合物は双極性非プロトン性溶媒及び
炭酸ジアリールであり、Ｎ−メチルピロリドン及び炭酸
ジフェニルが最も好ましい。
クタンのような脂肪族炭化水素、トルエンやキシレンの
ような芳香族炭化水素、アニソールのようなアルコキシ
芳香族化合物、ジメチルホルムアミドやＮ−メチルピロ
リドンのような双極性非プロトン性溶媒、並びに炭酸ジ
フェニルのような炭酸ジアリールである。一般に、芳香
族炭化水素はカルボニル化速度を低下させる傾向がある
ので好ましくなく、ジメチルホルムアミドは高度に精製
したものでないと活性水素原子を有する第一アミンを不
純物として含んでいる可能性があるので好ましくない。
こうしたジメチルホルムアミドについての但し書きは別
にして、好ましい化合物は双極性非プロトン性溶媒及び
炭酸ジアリールであり、Ｎ−メチルピロリドン及び炭酸
ジフェニルが最も好ましい。
【００１４】使用する有機稀釈剤の量は選択性の向上に
有効な量である。この量は用いる稀釈剤によって異な
り、その至適範囲は簡単な実験によって決めることがで
きる。ほとんどの場合、稀釈剤の量は全反応混合物（す
なわち、反応物、触媒成分及び稀釈剤の合計）の重量を
基準にして約１〜４０重量％の範囲である。特に、炭酸
ジフェニルの好ましい添加量は一般に１０〜４０％、好
ましくは約１０〜２０％であり、Ｎ−メチルピロリドン
では約１〜２５％である。
有効な量である。この量は用いる稀釈剤によって異な
り、その至適範囲は簡単な実験によって決めることがで
きる。ほとんどの場合、稀釈剤の量は全反応混合物（す
なわち、反応物、触媒成分及び稀釈剤の合計）の重量を
基準にして約１〜４０重量％の範囲である。特に、炭酸
ジフェニルの好ましい添加量は一般に１０〜４０％、好
ましくは約１０〜２０％であり、Ｎ−メチルピロリドン
では約１〜２５％である。
【００１５】使用する第VIIIＢ族金属源の量は通例、ヒ
ドロキシ芳香族化合物約８００〜１００００モル、好ま
しくは２０００〜５０００モル当たり、約１グラム原子
の金属を与えるような量である。第VIIIＢ族金属１グラ
ム原子につき、通常約０．１〜５．０グラム原子、特に
約０．５〜１．５グラム原子のコバルト、及び約０．１
〜３．０モル、好ましくは約０．３〜１．０モルの有機
助触媒、及び約５〜１５０モル、好ましくは約２０〜５
０モルの塩化物又は臭化物源が用いられる。
ドロキシ芳香族化合物約８００〜１００００モル、好ま
しくは２０００〜５０００モル当たり、約１グラム原子
の金属を与えるような量である。第VIIIＢ族金属１グラ
ム原子につき、通常約０．１〜５．０グラム原子、特に
約０．５〜１．５グラム原子のコバルト、及び約０．１
〜３．０モル、好ましくは約０．３〜１．０モルの有機
助触媒、及び約５〜１５０モル、好ましくは約２０〜５
０モルの塩化物又は臭化物源が用いられる。
【００１６】約２〜５０モル％の酸素と残余の一酸化炭
素からなる量比のガスが反応混合物に供給される。これ
らのガスは、全圧が約１０〜２５０気圧となるように、
別々に或いは混合物として導入し得る。約６０〜１５０
℃の範囲内の反応温度が典型的である。反応容器内に
は、乾燥剤（通例モレキュラーシーブ）が存在し得る。
反応をなるべく迅速にすべく、ヒドロキシ芳香族化合物
の変換が完了するまで、反応圧を上記米国特許第５３９
９７３４号の記載にしたがって維持するのが好ましい。
素からなる量比のガスが反応混合物に供給される。これ
らのガスは、全圧が約１０〜２５０気圧となるように、
別々に或いは混合物として導入し得る。約６０〜１５０
℃の範囲内の反応温度が典型的である。反応容器内に
は、乾燥剤（通例モレキュラーシーブ）が存在し得る。
反応をなるべく迅速にすべく、ヒドロキシ芳香族化合物
の変換が完了するまで、反応圧を上記米国特許第５３９
９７３４号の記載にしたがって維持するのが好ましい。
【００１７】本発明の方法で生成する炭酸ジアリールは
慣用技術で単離し得る。米国特許第５２３９１０６号及
び同第５３１２９５５号に記載の通り、炭酸ジアリール
とヒドロキシ芳香族化合物の付加物を形成して熱分解す
るのが好ましいことが多い。
慣用技術で単離し得る。米国特許第５２３９１０６号及
び同第５３１２９５５号に記載の通り、炭酸ジアリール
とヒドロキシ芳香族化合物の付加物を形成して熱分解す
るのが好ましいことが多い。
【００１８】
【実施例】本発明を以下の実施例により例示する。各反
応物の量比は、すべての実施例で一定であると記載され
てはいるが、幾つかの例ではバッチサイズの近似のため
の変動がみられる。しかしながら、このような量比の差
が生成物の収率、変換率などに大きく影響しないことは
経験の示すところである。
応物の量比は、すべての実施例で一定であると記載され
てはいるが、幾つかの例ではバッチサイズの近似のため
の変動がみられる。しかしながら、このような量比の差
が生成物の収率、変換率などに大きく影響しないことは
経験の示すところである。
【００１９】実施例１ 上記米国特許第５３９９７３４号に記載されているよう
な定組成ガスフロー反応器系に、５５０ｍｍｏｌのフェ
ノール、３．２５ｍｍｏｌの臭化ヘキサエチルグアニジ
ニウム、０．３０７ｍｍｏｌのＣｏＳＭＤＰＴ、０．１
００ｍｍｏｌの２，２′：６′，２″−テルピリジン、
０．２８７ｍｍｏｌの酢酸パラジウム(II)及び様々な量
の炭酸ジフェニルを投入した。反応器の撹拌シャフトに
取付けたポリテトラフルオロエチレン製孔あきバスケッ
トにモレキュラーシーブ３７ｇを入れた。
な定組成ガスフロー反応器系に、５５０ｍｍｏｌのフェ
ノール、３．２５ｍｍｏｌの臭化ヘキサエチルグアニジ
ニウム、０．３０７ｍｍｏｌのＣｏＳＭＤＰＴ、０．１
００ｍｍｏｌの２，２′：６′，２″−テルピリジン、
０．２８７ｍｍｏｌの酢酸パラジウム(II)及び様々な量
の炭酸ジフェニルを投入した。反応器の撹拌シャフトに
取付けたポリテトラフルオロエチレン製孔あきバスケッ
トにモレキュラーシーブ３７ｇを入れた。
【００２０】反応器を密閉して撹拌しながら１１０℃に
加熱し、酸素１２．９モル％と一酸化炭素８７．１モル
％からなる混合ガスを３４４ｍｌ／ｍｉｎの流速及び約
４１気圧の圧力で導入した。ガスを２時間流し続け、し
かる後に反応混合物の一部を取り出して高圧液体クロマ
トグラフィーで分析した。その結果を表１に、反応混合
物に炭酸ジフェニルを全く添加しなかった対照例と対比
して示す。表１に示す炭酸ジフェニルの添加量は、添加
した炭酸ジフェニル自身を含めた全反応混合物を基準に
したものである。炭酸ジフェニルの収率は新たに生成し
た物質のものであり、最初に加えたものは除外してあ
る。
加熱し、酸素１２．９モル％と一酸化炭素８７．１モル
％からなる混合ガスを３４４ｍｌ／ｍｉｎの流速及び約
４１気圧の圧力で導入した。ガスを２時間流し続け、し
かる後に反応混合物の一部を取り出して高圧液体クロマ
トグラフィーで分析した。その結果を表１に、反応混合
物に炭酸ジフェニルを全く添加しなかった対照例と対比
して示す。表１に示す炭酸ジフェニルの添加量は、添加
した炭酸ジフェニル自身を含めた全反応混合物を基準に
したものである。炭酸ジフェニルの収率は新たに生成し
た物質のものであり、最初に加えたものは除外してあ
る。
【００２１】
【表１】
【００２２】４０％未満の添加炭酸ジフェニルを導入す
ると、炭酸ジフェニルの選択率が実質的に向上すること
が分かる。さらに、炭酸ジフェニルの添加量を多くする
と若干の収率の低下がみられるものの、炭酸ジフェニル
添加量が２０％以下ではほんの僅かな低下がみられるだ
けである。ただし、約５０％を上回ると、収率及び選択
率がかなり低下する。
ると、炭酸ジフェニルの選択率が実質的に向上すること
が分かる。さらに、炭酸ジフェニルの添加量を多くする
と若干の収率の低下がみられるものの、炭酸ジフェニル
添加量が２０％以下ではほんの僅かな低下がみられるだ
けである。ただし、約５０％を上回ると、収率及び選択
率がかなり低下する。
【００２３】実施例２ 実施例１で使用した反応器に、６３０ｍｍｏｌのフェノ
ール、３．２７ｍｍｏｌの臭化ヘキサエチルグアニジニ
ウム、０．３０４ｍｍｏｌのＣｏＳＭＤＰＴ、０．０９
６ｍｍｏｌの２，２′：６′，２″−テルピリジン、
０．２８７ｍｍｏｌの２，４−ペンタンジオナトパラジ
ウム(II)及び様々な量のＮ−メチルピロリドンを投入し
た。カルボニル化反応は実施例１と同じ条件下で実施し
た。結果を表２に示す。
ール、３．２７ｍｍｏｌの臭化ヘキサエチルグアニジニ
ウム、０．３０４ｍｍｏｌのＣｏＳＭＤＰＴ、０．０９
６ｍｍｏｌの２，２′：６′，２″−テルピリジン、
０．２８７ｍｍｏｌの２，４−ペンタンジオナトパラジ
ウム(II)及び様々な量のＮ−メチルピロリドンを投入し
た。カルボニル化反応は実施例１と同じ条件下で実施し
た。結果を表２に示す。
【００２４】
【表２】
【００２５】Ｎ−メチルピロリドンの添加によって選択
率が実質的に向上したことが分かる。さらに、かかる選
択率の向上は炭酸ジフェニルの収率の低下を犠牲にした
ものではない。
率が実質的に向上したことが分かる。さらに、かかる選
択率の向上は炭酸ジフェニルの収率の低下を犠牲にした
ものではない。
フロントページの続き (72)発明者 シェルダン・ジェイ・シェイファー アメリカ合衆国、ニューヨーク州、クリフ トン・パーク、マン・ブールヴァード、10 番
Claims (10)
- 【請求項１】 炭酸ジアリールの製造方法であって、カ
ルボニル化に有効な量の少なくとも１種類の触媒物質及
び選択性向上に有効な添加量の少なくとも１種類の活性
水素を含まない有機稀釈剤の存在下で、少なくとも１種
類のヒドロキシ芳香族化合物を酸素及び一酸化炭素と接
触させることを含んでなる方法。 - 【請求項２】 前記触媒物質が第VIIIＢ族金属又はその
化合物、無機助触媒、有機助触媒及び臭化物又は塩化物
源を含んでなる、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 前記稀釈剤が芳香族炭化水素、アルコキ
シ芳香族化合物、双極性非プロトン性溶媒又は炭酸ジア
リールである、請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 前記触媒物質が酢酸パラジウム(II)又は
２，４−ペンタンジオナトパラジウム(II)である、請求
項３記載の方法。 - 【請求項５】 前記ヒドロキシ芳香族化合物がフェノー
ルである、請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 前記無機助触媒が、五座配位錯体を形成
し得る有機化合物とコバルト(II)の塩である、請求項３
記載の方法。 - 【請求項７】 前記有機助触媒がテルピリジン、フェナ
ントロリン、キノリン又はイソキノリン化合物である、
請求項３記載の方法。 - 【請求項８】 前記臭化物又は塩化物源が臭化Ｃ2-6 ヘ
キサアルキルグアニジニウムである、請求項３記載の方
法。 - 【請求項９】 前記稀釈剤が炭酸ジフェニルである、請
求項３記載の方法。 - 【請求項１０】 前記稀釈剤がＮ−メチルピロリドンで
ある、請求項３記載の方法。
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|---|---|---|---|
| US08/823,785 US5760272A (en) | 1997-03-24 | 1997-03-24 | Method for preparing diaryl carbonates with improved selectivity |
| US08/823785 | 1997-03-24 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| EP (1) | EP0869110A1 (ja) |
| JP (1) | JPH10330326A (ja) |
| SG (1) | SG66444A1 (ja) |
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Also Published As
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