JP2003502451A - ビスフェノール−ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難燃剤 - Google Patents

ビスフェノール−ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難燃剤

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diphenyl phosphate
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ハロツド，ウイリアム・ビー
クロブカー，ダブリユー・デイルク
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アルベマール・コーポレーシヨン
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    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
    • C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
    • C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
    • C08K5/521—Esters of phosphoric acids, e.g. of H3PO4
    • C08K5/523—Esters of phosphoric acids, e.g. of H3PO4 with hydroxyaryl compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/06—Phosphorus compounds without P—C bonds
    • C07F9/08—Esters of oxyacids of phosphorus
    • C07F9/09—Esters of phosphoric acids
    • C07F9/12—Esters of phosphoric acids with hydroxyaryl compounds

Abstract

(57)【要約】 ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）とそのダイマーを含んでなり、前者がＨＰＬＣで定量された７８から８７面積％と８５から９０未満の正規化された面積％を持ち、この正規化された面積％がビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）とダイマーの全ＨＰＬＣ面積を基準とする難燃剤が開示されている。また、この難燃剤は、低イソプロペニルフェニルジフェニルホスフェート含量と低トリフェニルホスフェート含量も有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明の背景 本発明は、高ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）含量を持つ
新規な液体難燃剤に関する。
【０００２】 ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）は、通常可燃性の樹脂で
の使用によく知られた難燃剤であり、難燃性のポリカーボネート／アクリロニト
リル−ブタジエンスチレン（ＰＣ／ＡＢＳ）組成物に特に有用である。また、こ
れは、ポリフェニレンオキサイド／スチレン組成物での難燃剤としても用途があ
る。
【０００３】 当業界には、ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）の製造方法
と方法の改良が満ち溢れている。例えば、米国特許第２，５２０，０９０号、第
５，２８１，７４１号、第５，７５０，７５６号、英国特許第７３４，７６７号
及びＷＯ９８／３５９７０を参照して欲しい。
【０００４】 過去の努力にも拘わらず、室温での結晶化に抵抗性があるが、高いホスフェー
ト含量と極めて低い不純物含量を持つ、液体ビスフェノール−Ａビス（ジフェニ
ルホスフェート）をベースとした難燃剤に対するニーズがなお存在する。このよ
うなニーズに取り組むことは本発明の目的である。また、改良したビスフェノー
ル−Ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難燃剤を提供することも
本発明の目的である。本発明のビスフェノール−Ａビス（ジフェニルジホスフェ
ート）を含有する樹脂配合物を提供することは本発明の更なる目的である。本発明 最も広範な意味で、本発明は、室温、すなわち２０から２５℃で液体であり、
そして長時間にわたって結晶の生成に抵抗性がある、ビスフェノール−Ａビス（
ジフェニルホスフェート）モノマーをベースとした難燃剤を提供する。好ましい
形において、本発明は、ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）とそ
のダイマーを含んでなり、前者がＨＰＬＣで定量された７８から８７面積％と８
５から９０未満の正規化された面積％を持ち、この正規化された面積％がビスフ
ェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）とダイマーの全ＨＰＬＣ面積を基準
とする難燃剤を提供する。
【０００５】 加えて、本発明は、低イソプロペニルフェニルジフェニルホスフェート含量を
持つ、ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難燃
剤を提供する。
【０００６】 更に、本発明は、低トリフェニルホスフェート含量を持つ、ビスフェノール−
Ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難燃剤を提供する。
【０００７】 なお更に、本発明は、室温、すなわち２０から２５℃で液体であって、結晶の
生成に抵抗性があり、そして高リン含量、低イソプロペニルフェニルジフェニル
ホスフェート含量と低トリフェニルホスフェート含量を持つ、ビスフェノール−
Ａビス（ジフェニルホスフェート）モノマーをベースとした難燃剤を提供する。
【０００８】 本発明の難燃剤のこれら及び他の特徴を下記に更に充分に述べる。本発明のビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難 燃剤の詳細な説明 室温で、そしてこの難燃剤があるレベルのビスフェノール−Ａビス（ジフェニ
ルホスフェート）のダイマーを含有することを特定することにより、これが液体
であり、そして結晶化に抵抗性があるように、ビスフェノール−Ａビス（ジフェ
ニルホスフェート）をベースとした高リンの難燃剤を設計することが可能である
ことを見出した。この発見は、この難燃剤のビスフェノール−Ａビス（ジフェニ
ルホスフェート）含量が高い場合、すなわちＨＬＰＣにより９０＋面積％である
場合には、この難燃剤は室温で固体であるか、あるいは固体でない場合には、極
めて粘稠であり、そして貯蔵中に結晶を形成する傾向を持つ液体であることがで
きることを示す研究に基づいている。（表示しない限り、すべての面積％はＨＰ
ＬＣにより定量される）このように、ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホス
フェート）、すなわちモノマーの純度が特定量の不純物の存在により低下し得る
場合には、固体の形の形成または結晶化が液体の形で起こる傾向を避けることが
できると推論された。この不純物は、難燃剤の品質または使用中の性能に悪影響
を及ぼすものであることはできない。加えて、この不純物は、溶媒またはこのモ
ノマーがそれを液体相に保持するための融点降下剤として作用しなければならな
い。理想的な不純物は、ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）の
ダイマーであることが見出された。このダイマーは、固体難燃剤の形成または結
晶化を液体の形で減じるのみならず、難燃剤の全リン含量に寄与するものでもあ
る。（ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）のトリマーもダイマ
ーと同じ機能に寄与する不純物であることが指摘されている。しかしながら、ト
リマーの存在量は通常極めて少なく、本発明の難燃剤を定義する時は、ダイマー
に焦点を当てる）このダイマーは、ＰＯＣｌ3とビスフェノール−Ａを反応させ
、続いてフェノールと第１の反応生成物とを反応ことによりビスフェノール−Ａ
ビス（ジフェニルホスフェート）を製造する方法の製品であるので、系内で容易
に得られる。しかしながら、いかなる量のダイマーもこの目的に好適でない。
【０００９】 ダイマーの必要量は、この難燃剤中のビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホ
スフェート）の量と抱き合わせになっている。本発明の難燃剤に対しては、ビス
フェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）の量は、７８から８７面積％、
好ましくは８０から８５面積％、最も好ましくは８２から８５面積％の範囲内に
ある。ダイマーの必要量は、ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート
）に対して正規化された面積％を与える量であって、８３から９０％未満、好ま
しくは８５から８９％、最も好ましくは８５から８８％の範囲内である量である
。再度であるが、この正規化された面積％は、このビスフェノールＡビス（ジフ
ェニルホスフェート）とこのダイマーに対する全ＨＰＬＣ面積を基準とする。上
述したよりも少量のダイマーを使用すると、その有用な効果は減じられ、多量の
ダイマーを使用すると、難燃剤の性質と樹脂配合物でのその使用は影響を受ける
。ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）を製造するのに使用され
る各ビスフェノール−Ａ分子に対しては、２個のリン置換基が存在し、それに対
してダイマーを製造するのに使用されるビスフェノール−Ａの各分子に対しては
、１．５個のリン置換基が存在するに過ぎない。この２つの構造式によりこれは
明白になる。モノマーと呼ぶことができるビスフェノール−Ａビス（ジフェニル
ホスフェート）分子は構造：
【００１０】
【化１】
【００１１】 を有し、これはビスフェノール−Ａ成分当り２個のリン置換基を持つ。
【００１２】 ダイマーは構造：
【００１３】
【化２】
【００１４】 を有し、これは２個のビスフェノール−Ａ成分当り３個のリン置換基を持つ。
【００１５】 本発明の難燃剤中のダイマーの量は、１０から１３面積％、好ましくは１１か
ら１３面積％、最も好ましくは１２から１３面積％の範囲内である。
【００１６】 また、本発明の難燃剤は、トリマー含量も有し、このトリマーは構造：
【００１７】
【化３】
【００１８】 を持つ。
【００１９】 ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難燃剤が
室温で液体であり、そして貯蔵時に結晶化に抵抗性があることを決定する時のダ
イマー含量（またはトリマー含量）が演じる役割は従来技術で報告されていない
。加えて、本発明の必要なダイマー含量を具体的に得るための既知の従来技術の
方法は存在しない。本発明の難燃剤を製造する方法を下記に開示する。
【００２０】 また、本発明の難燃剤は、極めて低いイソプロペニルフェニルジフェニルホス
フェート含量も特徴とする。この化合物は、樹脂配合物業界の一部では存在を最
少としなければならない有害不純物として考えられている。本発明の難燃剤は、
好ましくは０．０１面積％以下のこの不純物を含有する。この不純物に対する構
造は：
【００２１】
【化４】
【００２２】 である。粗製品の前駆体を本発明の最終難燃剤へと洗浄するだけでは、このイソ
プロペニルフェニルジフェニルホスフェート含量は低下しないことが判明した。
最終難燃剤中のこの不純物の含量は、製造のシーケンスにおいて早期に決定され
ると考えられる。この面についての更なるディスカッションは下記に見られる。
【００２３】 ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難燃剤中
に見出される、広く認められ、また特に面倒な不純物はトリフェニルホスフェー
トである。この不純物は樹脂配合物中で「液体を出す（ｊｕｉｃｅ）」傾向があ
り、そして配合物の物理的性能に悪影響を及ぼす。本発明の難燃剤は、約２．５
面積％未満、好ましくは約２．０面積％未満のトリフェニルホスフェートを含有
するので、有利である。最も好ましいのは、約１．５面積％未満のこの不純物を
含有する難燃剤である。
【００２４】 本発明の難燃剤は、洗浄及び中和後、約２．０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満、好ましく
は約０．１５ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の酸価を有する。
【００２５】 本発明の難燃剤の融点範囲は、室温以下、すなわち２０−２５℃であることが
判かる。
【００２６】 本発明の難燃剤は、室温で粘稠な油として最もよく表される。これらの粘度は
、２５℃で１６，０００から１８，５００ｃＰ、４０℃で２２００から２４００
ｃＰ、また１００℃で４０−６０ｃＰの範囲内である。本発明のビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）をベースとした難 燃剤の製造方法 本発明の難燃剤は２ステッププロセスで製造される。第１のステップは、過剰
のオキシハロゲン化リンを入れた反応器にビスフェノール−Ａを時間をかけて徐
々に添加することにより、中間体のビスフェノール−Ａのジホスホロテトラクロ
リデートと特定の範囲でのダイマー（及びトリマー）を製造することを伴う。こ
のハロゲン化物は臭素または塩素と触媒量の金属ハロゲン化物、例えば塩化マグ
ネシウムである。
【００２７】 ダイマーに対する所望のモノマーの関係を得ることは、このプロセスの第１の
ステップでのビスフェノール−Ａに対するＰＯＣｌ3のモル比と選ばれたプロセ
ス触媒に依存することが実験的研究により示された。また、更なる研究は、激し
い攪拌とビスフェノール−Ａ添加速度が製造されるモノマーの量を増加させるこ
とができることも示唆した。
【００２８】 ビスフェノール−Ａに対するＰＯＣｌ3の比は、３．５：１から４．５：１の
範囲内であることが好ましい。これらの比は、化学量論的量以上の大過剰のＰＯ
Ｃｌ3を規定する。このような過剰は追加の目的に機能する。すなわち過剰のＰ
ＯＣｌ3はこのプロセス用の溶媒として作用する。このように、他のプロセス溶
媒は有機あるいはそれ以外であれ、必要でない。
【００２９】 好ましい触媒は、両方のプロセスステップで使用するＭｇＣｌ2である。第１
のステップで使用される触媒量は、概ね、供給されるビスフェノール−Ａの重量
基準で０．０１から４．０重量％の量である。第２のステップにおいては、この
触媒が第１のステップで使用されるものと同じ場合には、提供される最初の触媒
は、反応物中に残ったままで、第２のステップに充分である。第２のステップ触
媒が第１のステップ触媒と異なる場合には、この反応物に供給されるビスフェノ
ール−Ａの重量基準で約０．８重量％の触媒が提供される。他の好適な触媒は、
塩化アルミニウム、塩化カルシウム、塩化亜鉛及び四塩化チタン等の金属ハロゲ
ン化物を含む。
【００３０】 このビスフェノール−Ａは増分的あるいは連続的にＰＯＣｌ3に添加されるこ
とが好ましい。前述のように、ＰＯＣｌ3へのビスフェノール−Ａのフィード速
度を調節することによりモノマー／ダイマーの関係、すなわちビスフェノール−
Ａビス（ジフェニルホスフェート）の正規化された面積％に影響を及ぼすことが
できることが実験的な研究により示唆された。この傾向は、ビスフェノール−Ａ
の高速な添加がモノマーの製造を有利にすることを示唆している。特別な組のプ
ロセスパラメーターに対して、また特別な反応器サイズと配置に対して、最良の
ビスフェノール−Ａ供給速度は、試行錯誤により決定されると考えられる。
【００３１】 ビスフェノール−Ａの添加の間と後で、発生するに従ってＨＣｌを反応物から
取り除く。
【００３２】 ビスフェノール−Ａの添加時の反応物温度は８５から１０６℃の範囲内に保た
れて、ＰＯＣｌ3とビスフェノール−Ａの間の反応が急速に進行することを確保
する。ビスフェノール−Ａの添加が完結した後、この反応物は、反応が完結した
とみなされる迄保持される。このビスフェノール−Ａのフィード及び温度維持の
時間は、一緒で３から６時間、更に普通には４から５時間の範囲とすることがで
きる。このビスフェノール−Ａのフィード及び温度維持の間にこの温度が低すぎ
て、例えば７０℃以下である場合には、ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホ
スフェート）をベースとした最終製品は、多量のイソプロペニルフェニルジフェ
ニルホスフェートを含有すると考えられる。低温はＰＯＣｌ3とビスフェノール
−Ａの間の反応を遅くし、それによりビスフェノール−Ａ反応試剤がフェノール
とイソプロペニルフェノールに分解する機会を多くし、これが今度はＰＯＣｌ3
と反応して、イソプロペニルフェニルジフェニルホスフェートを生成すると理論
付けられる。
【００３３】 ＨＣｌ発生を注目することによりモニターすることができるが、すべての、あ
るいは本質的にすべてのビスフェノール−ＡをＰＯＣｌ3と反応させた後に、こ
の反応物を加熱して、減圧下で過剰のＰＯＣｌ3を留去する。約５０トルの圧力
を使用することができる。５０℃に始まり、１５０から１６０℃で終わる蒸留缶
温度が好適である。あるいは、加熱された反応物を窒素等の不活性ガスによりス
トリッピングすることにより、このＰＯＣｌ3を除去することができる。ＰＯＣ
ｌ3は反応物中で37Ｐ−ＮＭＲにより検出されるので、この蒸留は通常＜３．５
モル％のリン迄継続する。残存ＰＯＣｌ3は第２ステップで添加されるフェノー
ルと反応して、所望しない不純物のトリフェニルホスフェートを生じるために、
反応物中のＰＯＣｌ3の量を最少迄低減させることが重要である。第２のステッ
プに行く反応物中に残るＰＯＣｌ3が少ない程、トリフェニルホスフェート濃度
は低い。
【００３４】 第２のステップにおいては、ＰＯＣｌ3蒸留からの得られる中間体製品（モノ
マー、ダイマー及びトリマー）は、前述の触媒のいずれか一つの存在下でフェノ
ールと反応する。このフェノールは、溶融状態で、１３０から１６０℃の温度に
ある中間体反応物に供給される。フェノールのフィード量は、第１のステップで
供給されたビスフェノール−Ａのモル当り３．８から４の、好ましくは約３．９
モルのフェノールを供給する。この反応物は、ＨＣｌの更なる発生が検出されな
くなる迄、１３０から１８０℃の温度に保たれる。ある場合には、最後のＨＣｌ
が検出された後、反応が本当に完結したことを確かめるために少量のフェノール
を添加するのが有利である。ＮＭＲにより確認された場合、あるいはこの添加の
後発生ＨＣｌが検出されない場合には、この反応は完結していると確認される。
第２ステップに対するこの反応時間（上記の温度での）は、概ね、２４時間以内
であり、好ましくは３時間未満の添加時間を含む約６時間で起こる。
【００３５】 反応が完結したとみなされた後は、この反応物を有機溶媒に溶解し、水酸化ナ
トリウムまたは水酸化カリウムなどの苛性により洗浄する。また、多数回の水洗
浄も使用される。各洗浄の後、相分離が起こる。この洗浄の後、減圧下で加熱す
ることにより有機溶媒を除去する。通常の有機溶媒は、メチルシクロヘキサン、
トルエン、キシレン、シクロヘキサン、ヘプタン、及び２つあるいはそれ以上の
前出の溶媒のいずれかの混合物である。最も好ましいのは、メチルシクロヘキサ
ンのトルエンの５０重量％のミックスである。本発明の特徴を例示する実施例 次の実施例は本発明の原理を例示する。実施例Ｉ及びＴＶ−ＸＩは本発明のも
のである。実施例ＩＩ及びＩＩＩは比較実験であり、本発明のものでない。使用
される略号は、ＤＰＰ＝ジフェニルホスフェート；ＴＰＰ＝トリフェニルホスフ
ェート；ＩＰＰ＝イソプロペニルフェニルジフェニルホスフェート；及びＢＰＡ
ＤＰ＝ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）である。ＢＰＤＡＰ
正規化された面積％を
【００３６】
【数１】
【００３７】 により計算した。
【００３８】 実施例Ｉ ステップ１ ４つ口の２０００ｍｌ丸底フラスコにメカニカルスターラー、アリーンコンデ
ンサー（水道水を冷媒に使用）の頂部に重ねたフリードリッヒコンデンサー、及
び熱電対挿入口を設けた。このガラス容器を乾燥し、窒素により掃気した。発生
するＨＣｌを吸収するために、コンデンサーとスクラバー溶液（水または苛性が
働く）を連結するラインの中に窒素流（０．５−１．０ＳＣＦＨ）を供給するこ
とにより、フラスコの内容物の上に窒素ブランケットを保持した。スクラバー溶
液を入れたフラスコを天秤の上に置いて、発生したＨＣｌの重量を求めた。この
缶にＰＯＣｌ3（１２２６ｇ，７．９９モル）と無水塩化マグネシウム（３．５
６ｇ，３７．４ミリモル）を添加した。この反応混合物を９８℃迄加温し、ＢＰ
Ａ（４５６ｇ，２．００モル）を下記の表に示すように部分にわけて添加した。
【００３９】
【表１】
【００４０】 反応混合物の試料を1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）により調べ、それは、すべてのＢＰ
Ａが反応したことを示した。
【００４１】 このコンデンサースタックを１体の蒸留取り出し／コンデンサーにより置き換
えた。このメカニカルスターラーをマグネチックスターラーにより置き換え、こ
のコンデンサーを−１５℃で不凍液により冷却した。５３−１５６℃の缶温度で
３３−６１℃／５０トールでの真空蒸留により過剰のＰＯＣｌ3を除去した。蒸
留物の滴下の間に約３０秒要するようになったならば、この蒸留を終了した。５
８４ｇの透明な、無色の回収ＰＯＣｌ3を得た。31ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）は、蒸
留缶残渣が約０．８モル％のＰＯＣｌ3を含むことを示した。ステップ２ このマグネチックスターラーをメカニカルスターラーに置き換え、蒸留取り出
し／コンデンサーに代わってスタックのコンデンサーを戻した。オフセットアダ
プターの上の２５０ｍｌのジャケット付きの添加漏斗を２０００ｍｌのフラスコ
の上に載せた。発生するＨＣｌを吸収するために、コンデンサーとスクラバー溶
液（水または苛性が働く）を連結するラインの中に窒素流（０．２−１．０ＳＣ
ＦＨ）を供給することにより、フラスコの内容物の上に窒素ブランケットを保持
した。スクラバー溶液を入れたフラスコを天秤の上に置いて、発生したＨＣｌの
重量を求めた。約１４５℃に加温される迄この反応混合物を攪拌し、溶融フェノ
ール（７５２ｇ，７．９９モル）を下記の表に示すように添加した。
【００４２】
【表２】
【００４３】 この反応混合物（１３６２ｇ）を１０００ｇのトルエンと１００４ｇのメチル
シクロヘキサンの混合物と共にジャケット付きの洗浄ケットル（底部排出口とメ
カニカルスターラー付きの５リットルの４ツ口フラスコ）に移した。この反応混
合物を、６０−７２℃で３００ｇの１０重量％の水酸化カリウム水溶液（他の実
験はすべて１０重量％の水酸化ナトリウム水溶液を使用した。４３４ｇの水相を
得た。ｐＨ〜１４）、３００ｇの５重量％の水酸化カリウム水溶液（３３４ｇの
水相を得た。ｐＨ〜１４）、３０１ｇの水道水（３０４ｇの水相を得た。ｐＨ〜
１１）、３０２ｇの水道水（３０４ｇの水相を得た。ｐＨ〜８）、そして次に３
０２ｇの水道水（３０７ｇの水相を得た。ｐＨ〜７）により洗浄した。３１５７
ｇの有機相を得、これを重力濾過した（Ｗｈａｔｍａｎ２Vペーパー）。揮発分
をロータリーエバポレーターで除去した（２トール／９０℃）。残存溶媒を真空
オーブン中１５０℃／２トールで除去して、１１８９ｇの僅かに曇った無色の製
品を粘稠な油として得た。ＨＰＬＣ分析による製品は、０．０７面積％のＤＰＰ
、０．１１面積％のフェノール、０．４９面積％の半エステル、０．００２面積
％のＩＰＰ、８４．１７面積％のＢＰＡＤＰ、１２．３５面積％のダイマー、及
び１．５３面積％のトリマーを含有していた。ＢＰＡＤＰに対する８７．２の正
規化された面積％を計算した。
【００４４】 実施例ＩＩ及びＩＩＩ （比較例） １／４の規模で行い、実験室のガラス容器を使用したことを除いて、実施例Ｉ
に類似した方法で実施例ＩＩを行った。実施例ＩＩＩを実施例Ｉの方法で行った
。実施例Ｉ及びＩＩのプロセスパラメーターを表ＩＩＩに示す。
【００４５】 実施例ＩＶ−ＩＸ （本発明） 実施例ＩＶ−ＩＸを実施例Ｉの方法で行った。実施例ＩＶ−ＩＸのプロセスパ
ラメーターを表ＩＩＩに示す。
【００４６】
【表３】
【００４７】
【表４】
【００４８】 実施例Ｘ （本発明）ステップ１ オキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3，３０６．７ｇ、２．０モル）とＭｇＣｌ2（０．
９５ｇ，０．０１モル）をコンデンサー付きの１Ｌの丸底フラスコに添加した（
８．５℃）。この反応物を窒素のジャケットの下９０−９５℃で攪拌した。１１
４．９ｇ（合計０．５０モル）のＢＰＡを６回に分けて１．５時間にわたって添
加した。１０５℃で３時間を追加した後、水スクラバー中での発生ＨＣｌの重量
（３５．８ｇのＨＣｌを捕捉、理論値の９８％）により反応完結を示した。次に
、３１Ｐ−ＮＭＲを用いてＰＯＣｌ3を検出しなくなる迄、過剰のＰＯＣｌ3を蒸
留により反応物から除去した。ステップ２ 反応器をジャケット付きの添加漏斗と添加漏斗からの窒素ジャケット入口によ
り再配置した。反応器ネック中の膨張片により水のトラップ中に発生ＨＣｌを通
し、その重量を反応の進行のモニターにも使用した。溶融フェノール（１７４．
１ｇ，１．９モル、７２℃）を１２８−１３４℃に保った反応器中に１．５時間
にわたって滴加し、そして添加後、反応を１４８℃で追加の３時間進行させ、続
いて粗製品をＮＭＲとＨＰＬＣにより分析した。粗製品の全反応物収量は３２２
．１ｇであった（９２．３％収率，制限試剤としてのＢＰＡと共に）。ＨＰＬＣ
は、６９．９％のＢＰＡＤＰ、９．０７％のオリゴマー、１１．０％の不明分、
２．３５％のＰｈＯＨを示した。ＴＰＰを検出せず、ＩＰＰレベルは＜０．０１
％であった。ＢＰＡＤＰに対する８８．５の正規化された面積を計算した。
【００４９】 ２８６．４ｇを４８３．５ｇの混合溶媒（５０重量％メチルシクロヘキサン：
トルエン）中に溶解し、次に各々１５０ｇの２つの部分の１０重量％のＮａＯＨ
により洗浄することにより、この粗ＢＰＡＤＰを精製した。各洗浄の後、７０℃
で相分離が起った。次に、この有機相を３つの部分の水により洗浄し、各洗浄の
後水相から分離した。この有機相の溶媒除去と乾燥を、蒸留と窒素ストリッピン
グにより行った。精製ステップでの有機相回収は、９１．３重量％であった。残
存溶媒を真空オーブン中で除去した（１２時間，３０ｍｍＨｇ；１４０℃）。Ｈ
ＰＬＣによる製品分析は、８４．７面積％のＢＰＡＤＰ、１２．０面積％のダイ
マー、１．４６面積％のトリマー、＜０．０１面積％のＩＰＰ、０．１１面積％
の半エステル、０．２７面積％のＤＰＰを示した。
【００５０】 実施例ＸＩ （本発明） ４１３．１ｇのＰＯＣｌ3、１７６．６ｇのビスフェノールＡ、１．５１ｇの
ＭｇＣｌ2、及び３０５．９ｇのフェノール（３．２５モル）を使用したことを
除いて、実施例Ｘの手順に従った。この最終製品は、８０．５面積％のビスフェ
ノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）、１１．９面積％のダイマー、１．
５７面積％のトリマー、＜０．０１面積％イソプロペニル−フェニルジフェニル
ホスフェート及び１．６１面積％のトリフェニルホスフェートを含有していた。ＨＰＬＣ分析 方法 ここで示す面積％値を得るのに使用したＨＰＬＣの方法を下記に述べる。この
方法は、逆相Ｃ１８カラム上でのアセトニトリル／水勾配と共に２５４ｎｍでの
ＵＶ検出を使用する 試料をアセトニトリル中にほぼ２５００ｐｐｍの濃度で溶解する。次に、この
溶液の一部分をオートサンプラーのバイアルに移す。小部分（１０μＬ）をＨＰ
ＬＣ中に注入し、勾配条件下で２５４ｎｍの波長で分析した。クロマトグラムの
すべてのピークについて面積％値を計算する。不純物のＤＰＰ、フェノール、Ｂ
ＰＡ、及びＴＰＰについて外部標準参照材料が入手できる。これらの参照材料の
溶液を１００ｐｐｍの濃度で作製する。下記に掲げた条件に従って各々を注入し
、分析する。これらの参照ピークの各々について応答係数を計算して、これらの
不純物に対する重量％値を試料クロマトグラムから計算することを可能にする。
一つの不純物のＩＰＰを定量して、クロマトグラムの残りのピークよりも著しく
大きいＵＶ応答を得た。他の分析方法を用いてこれを定量した。この材料につい
ては参照標準が入手できないので、このピークの面積値を８で割って、次に、こ
のクロマトグラムについての面積％値を再計算する。
【００５１】 この装置の詳細、試験条件、ピーク及び対応する保持時間を下記に掲げる。ＨＰＬＣ装置 ２元勾配溶離が可能な多種溶媒送達システム、２５４ｎｍでのＵＶ検出、１０
μＬの試料注入が可能な自動試料注入器を備えた任意の好適なＨＰＬＣシステム
。示した面積％値を得るのに使用したＨＰＬＣ装置はＨｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋ
ａｒｄ Ｍｏｄｅｌ １０９０であった。ＨＰＬＣ条件 装置条件を次の通り設定する。 カラム：Ｗａｔｅｒｓ Ｎｏｖａｐａｋ（４ｕｍ）Ｃｌ８（３．９ｘ７５ｍｍ） 温度：外気 流量：１．０ｍＬ／分 検出器波長：２５４ｎｍ 注入容積：１０μＬ 分析時間：３０分勾配プロフィール ： 時間（分） ％水 ％Ａアセトニトリル ０ ６０ ４０ ７ ５ ９５ １２ ５ ９５ １８ ６０ ４０ ３０ ６０ ４０化合物及び近似の保持時間 ＤＰＰ ０．４分 フェノール ０．９分 ＢＰＡ １．９分 ＴＰＰ ５．４分 半エステル ６．２分 ＩＰＰ ７．３分 ＢＰＡＤＰ ８．２分 ｎ−２ １０．０分 ｎ−３ １２．４分 本発明の難燃剤は、広範な種々のポリマー樹脂で使用され得る。前記したよう
に、これらは、ポリカーボネートとアクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブ
レンド（ＰＣ／ＡＢＳ）で、そしてポリフェニレンオキサイド含有ブレンド、特
に耐衝撃性ポリスチレン（ＰＰＯ／ＨＩＰＳ）とのブレンドで有用である。本発
明の難燃剤が有用である他の樹脂は、ポリフェニルレンオキサイド、耐衝撃性ポ
リスチレン、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリビニルクロライド、アクリ
ロニトリル−ブタジエン−スチレン及びポリブチレンテレフタレートである。本
発明の難燃剤は、概ね、樹脂中で全樹脂配合物の全重量基準で７から２０重量％
の範囲の量で使用される。また、本発明の難燃剤は、他の配合成分と組み合わせ
た使用にも好適である。例えば、可塑剤、衝撃性変成剤、酸化防止剤、ＵＶ安定
剤、顔料、充填剤を使用してもよい。従来技術を参照することによって、樹脂配
合物に好適な添加剤である更なる成分は識別される。

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）とそのダ
    イマーを含んでなり、前者がＨＰＬＣで定量された７８から８７面積％と８５か
    ら９０未満の正規化された面積％を持ち、この正規化された面積％が該ビスフェ
    ノールＡビス（ジフェニルホスフェート）と該ダイマーの全ＨＰＬＣ面積を基準
    とする難燃剤。
  2. 【請求項２】 該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）が該難
    燃剤の８５から８８の正規化された面積％を含んでなる請求項１に記載の難燃剤
    。
  3. 【請求項３】 該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）が該難
    燃剤の８６から８８の正規化された面積％を含んでなる請求項１に記載の難燃剤
    。
  4. 【請求項４】 加えて、ＨＰＬＣにより測定して、０．０５から２．５面積
    ％のトリフェニルホスフェートが存在する請求項１に記載の難燃剤。
  5. 【請求項５】 該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）に対す
    るＨＰＬＣ面積％が８０から８５面積％である請求項１に記載の難燃剤。
  6. 【請求項６】 該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）が該難
    燃剤の８５から８８の正規化された面積％を含んでなる請求項５に記載の難燃剤
    。
  7. 【請求項７】 該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）が該難
    燃剤の８６から８８の正規化された面積％を含んでなる請求項５に記載の難燃剤
    。
  8. 【請求項８】 加えて、ＨＰＬＣにより測定して、０．０５から２．５面積
    ％のトリフェニルホスフェートが存在する請求項５に記載の難燃剤。
  9. 【請求項９】 ＨＰＬＣにより測定して、大量のビスフェノールＡビス（ジ
    フェニルホスフェート）と約０．０１面積％以下のイソプロペニルフェニルジフ
    ェニルホスフェートを含んでなる難燃剤。
  10. 【請求項１０】 加えて、ビスフェノールＡビス（ジフェニル）ホスフェー
    トのダイマーが存在し、該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）が
    ＨＰＬＣで定量された７８から８７面積％と８５から９０未満の正規化された面
    積％を持ち、該正規化された面積％が該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホス
    フェート）と該ダイマーの全ＨＰＬＣ面積を基準とする請求項９に記載の難燃剤
    。
  11. 【請求項１１】 該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）が該
    製品の８５から８８の正規化された面積％を含んでなる請求項１０に記載の難燃
    剤。
  12. 【請求項１２】 該ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）が該
    製品の８６から８８の正規化された面積％を含んでなる請求項１０に記載の難燃
    剤。
  13. 【請求項１３】 加えて、ＨＰＬＣにより測定して、０．０５から２．５面
    積％のトリフェニルホスフェートが存在する請求項９に記載の難燃剤。
  14. 【請求項１４】 通常可燃性の樹脂と該組成物に難燃性品質を付与するのに
    充分な量の請求項１に記載の難燃剤を含んでなる組成物。
  15. 【請求項１５】 通常可燃性の樹脂と該組成物に難燃性品質を付与するのに
    充分な量の請求項９に記載の難燃剤を含んでなる組成物。
  16. 【請求項１６】 該樹脂が熱可塑性樹脂である請求項１４に記載の組成物。
  17. 【請求項１７】 該樹脂がポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエ
    ン−スチレンのブレンドとポリフェニレンオキサイド／ポリスチレンのブレンド
    からなる群から選ばれる請求項１４に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 該樹脂が熱可塑性樹脂である請求項１５に記載の組成物。
  19. 【請求項１９】 該樹脂がポリカーボネート／アクリロニトリル−ブタジエ
    ン−スチレンのブレンドとポリフェニレンオキサイド／ポリスチレンのブレンド
    からなる群から選ばれる請求項１５に記載の組成物。
  20. 【請求項２０】 ビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）とそ
    のダイマーを含有する難燃性製品を製造する方法であって、該方法が、ビスフェ
    ノール−Ａを化学量論的過剰のＰＯＣｌ3と触媒量の触媒に８５から１０６℃の
    温度で添加して、第１の反応物を形成することを含んでなり、ビスフェノール−
    Ａの添加速度が生成したビスフェノール−Ａモノマーとそのダイマーのジホスホ
    ロテトラクロリデートの量が該ジホスホロテトラクロリデートに対して８５から
    ９０未満の正規化された面積％を与えるようなものであり、そして生成したジホ
    スホロテトラクロリデートとそのダイマーとフェノールとを反応させて、該ジホ
    スホロテトラクロリデートモノマーに対する正規化された面積％の値に実質的に
    等しい量でビスフェノール−Ａビス（ジフェニルホスフェート）モノマーを生成
    することを含んでなり、すべての正規化された面積％の値が該モノマーとその関
    連ダイマーを基準としたものである製造方法。
  21. 【請求項２１】 該ジホスホロテトラクロリデートの該フェノールとの反応
    に先立ち、第１の反応物のＰＯＣｌ3含量が約３．５モル％以下に低減される請
    求項２０に記載の方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016204528A (ja) * 2015-04-23 2016-12-08 株式会社Adeka 難燃性水系ポリウレタン樹脂組成物、及びそれを塗布してなる難燃性ポリエステル系繊維

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3926938B2 (ja) * 1998-12-03 2007-06-06 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 難燃性ポリカーボネート樹脂組成物
DE10036057A1 (de) * 2000-07-25 2002-02-07 Bayer Ag Flammwidrige Polycarbonat-Zusammensetzungen
US6399685B1 (en) * 2000-12-11 2002-06-04 Albemarle Corporation Purification of arylene polyphosphate esters
DE10100591A1 (de) * 2001-01-09 2002-07-11 Bayer Ag Phosphorhaltiges Flammschutzmittel und Flammwidrige thermoplastische Formmassen
US7303810B2 (en) * 2001-03-05 2007-12-04 3Form, Inc. Fire-resistant architectural resin materials
US7691470B2 (en) * 2001-03-05 2010-04-06 3Form Laminate structure with polycarbonate sheets
US7008700B1 (en) 2001-03-05 2006-03-07 3-Form Architectural laminate panel with embedded compressible objects and methods for making the same
US6667355B2 (en) * 2001-08-30 2003-12-23 Pabu Services, Inc. Higher alkylated triaryl phosphate ester flame retardants
DE10216736A1 (de) * 2002-04-16 2004-02-05 Bayer Ag Flammschutzmittel für Polymere enthaltend eine Mischung aus zwei verschiedenen Arylphosphaten, deren Herstellung und deren Verwendung
CN1708503A (zh) * 2002-10-26 2005-12-14 阿克苏诺贝尔公司 低聚磷酸酯组合物结晶的延迟
US20060046017A1 (en) 2004-09-01 2006-03-02 3Form Architectural glass panels with embedded objects and methods for making the same
US20060068317A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Klei Steven R Poly(arylene ether) composition
WO2007056456A1 (en) * 2005-11-08 2007-05-18 Supresta Llc Flame retardant composition and hydrolysis-susceptible resin containing same
US20070254991A1 (en) * 2006-04-28 2007-11-01 Saadat Hussain Phosphorus-containing tetrabromobisphenol A
TW200813197A (en) * 2006-07-07 2008-03-16 Albemarle Corp Phosphorous-based flame retardant recovery method
BRPI0811211A8 (pt) 2007-05-08 2016-04-26 3Form Inc Sistema de cor multivariado com aplicação de textura
US8968611B2 (en) * 2008-06-09 2015-03-03 Adeka Corporation Process for solidification of phosphoric ester-based flame retardants
CN101348500B (zh) * 2008-08-19 2012-02-22 山东默锐化学有限公司 一种双酚a双(二苯基磷酸酯)的制备方法
KR101013666B1 (ko) * 2008-09-18 2011-02-10 한밭대학교 산학협력단 컴퓨터용 방열장치
EP2358816B1 (en) * 2008-12-08 2021-03-24 SABIC Global Technologies B.V. Flame retardant polycarbonate compositions, method of manufacture thereof, and articles therefrom
WO2011054862A1 (de) 2009-11-05 2011-05-12 Bayer Materialscience Ag Platten aus polycarbonat mit verbesserter flammwidrigkeit
TWI382988B (zh) * 2009-12-25 2013-01-21 Grand Tek Advance Material Science Co Ltd 有機矽磷酸酯及其製作方法
CN101831308A (zh) * 2010-04-19 2010-09-15 江苏大明科技有限公司 一种高分子量固体磷酸酯阻燃剂及其制备方法和应用
CN101993586B (zh) * 2010-11-30 2012-10-10 金发科技股份有限公司 一种阻燃的聚碳酸酯/abs材料
TWI410446B (zh) 2011-01-05 2013-10-01 Grand Tek Advance Material Science Co Ltd 含磷酚醛樹脂與其形成方法及含磷配方
SE535836C2 (sv) * 2011-10-21 2013-01-08 Perstorp Ab Ny fosfatförening
USD691289S1 (en) 2012-09-05 2013-10-08 3Form, Inc. Panel with cut and aligned thatch interlayer
CN104829647B (zh) * 2014-04-10 2016-08-24 北京理工阻燃科技有限公司 一种含磷聚醚酯的制备方法及应用
US10240030B2 (en) * 2014-12-02 2019-03-26 Sabic Global Technologies B.V. Article comprising a high flow polyetherimide composition
CN104962059B (zh) * 2015-06-18 2016-11-02 金发科技股份有限公司 一种聚碳酸酯组合物及其制备方法
CN106699805B (zh) * 2016-12-15 2019-02-01 衢州普信新材料有限公司 一种双酚a双（二苯基磷酸酯）的制备方法
CN108676282A (zh) * 2018-05-18 2018-10-19 武汉理工大学 一种环保阻燃型pvc/abs合金及其制备方法
CN111040457B (zh) * 2019-12-27 2022-05-06 广东精一塑胶实业有限公司 一种用于塑料的固化包覆阻燃防水剂的制备方法
CN112142779B (zh) * 2020-10-13 2023-01-13 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种双酚a双(磷酸二芳酯)的快速制备方法

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2520090A (en) 1947-12-30 1950-08-22 Monsanto Chemicals Polyphosphates of divalent aryl hydrocarbons
GB734767A (en) 1952-01-10 1955-08-10 Lankro Chem Ltd New neutral orthophosphate esters
US3174931A (en) 1961-12-05 1965-03-23 Sinclair Research Inc Grease compositions
US3360591A (en) 1962-07-31 1967-12-26 Mobil Oil Corp Diphosphates of divalent aryl hydrocarbons
US3254973A (en) 1962-07-31 1966-06-07 Socony Mobil Oil Co Inc Gasolines and phosphorus-containing additives therefor
US3317636A (en) 1964-01-10 1967-05-02 American Cyanamid Co O, o, o', o'-tetramethyl o, o'-thiodi-p-phenylene phosphorothioate
JPS5051154A (ja) 1973-09-06 1975-05-07
AU8671075A (en) 1974-12-06 1977-05-26 Gen Electric Flame retardant, non-dripping composition of polyphenylene ether and acrylonitrile - butadiene-styrene
GB2043083A (en) 1979-03-06 1980-10-01 Gen Electric Flame retardant polyphenylene ether compositions
US4223100A (en) 1979-04-18 1980-09-16 Mobay Chemical Corporation Flame retardant aromatic polycarbonate with good mechanical properties and melt stability
DE3277772D1 (en) 1981-09-09 1988-01-14 Sumitomo Naugatuck Thermoplastic composition
JPS5924736A (ja) 1982-08-02 1984-02-08 Adeka Argus Chem Co Ltd 難燃性ポリスチレン系樹脂組成物
JPS5945351A (ja) 1982-09-08 1984-03-14 Adeka Argus Chem Co Ltd 難燃性組成物
EP0103230B1 (de) 1982-09-10 1988-06-22 Bayer Ag Flammwidrige Polymermischungen
JPS59202240A (ja) 1983-05-02 1984-11-16 Daihachi Kagaku Kogyosho:Kk 難燃性熱可塑性樹脂組成物
DE3523314A1 (de) 1985-06-29 1987-01-02 Bayer Ag Thermoplastische polycarbonatformmassen
JPS63117057A (ja) 1986-10-31 1988-05-21 Daihachi Kagaku Kogyosho:Kk 難燃性耐熱性芳香族ビニル系樹脂組成物
DE3700208A1 (de) 1987-01-07 1988-07-21 Bayer Ag Phosphorhaltige oligomere und polymere mit polyphenylenetherbloecken sowie mischungen anderer kunststoffe mit ihnen
DE3819081A1 (de) 1988-06-04 1989-12-07 Bayer Ag Flammwidrige, schlagzaehe polycarbonat-formmassen
CA1334695C (en) 1988-09-07 1995-03-07 Jurou Ohzeki Electroless plating-susceptive, fire retardant polyphenylene ether resin
US5204394A (en) 1988-09-22 1993-04-20 General Electric Company Polymer mixture having aromatic polycarbonate, styrene I containing copolymer and/or graft polymer and a flame-retardant, articles formed therefrom
USRE36188E (en) 1989-09-20 1999-04-06 General Electric Company Polymer mixture having aromatic polycarbonate styrene I containing copolymer and/or graft polymer and a flame-retardant, articles formed therefrom
US5281741A (en) 1990-11-13 1994-01-25 Fmc Corporation Process for preparing aryldiphosphate esters
JPH0598118A (ja) 1991-10-14 1993-04-20 Asahi Chem Ind Co Ltd スチレン系難燃耐熱耐衝撃性樹脂組成物
JP3137400B2 (ja) 1992-01-16 2001-02-19 旭化成工業株式会社 ポリフェニレンエーテル系難燃樹脂組成物
US5278279A (en) 1992-03-11 1994-01-11 Daicel Chemical Industries, Ltd. Process for producing (co)polycarbonate with transesterification catalyst and compound
EP0611798B1 (en) 1992-08-06 1998-10-21 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Resin composition
US5420327A (en) 1992-09-14 1995-05-30 Akzo Nobel N.V. Process for forming hydrocarbyl bisphosphate compound
DE4328656A1 (de) 1993-08-26 1995-03-02 Bayer Ag Flammwidrige, spannungsrißbeständige Polycarbonat-ABS-Formmassen
US5750756A (en) 1994-11-01 1998-05-12 Akzo Nobel Nv Process for the formation of hydrocarbyl bis(hydrocarbyl phosphate)
US5952408A (en) 1994-12-01 1999-09-14 Cheil Industries, Inc. Flameproof thermoplastic resin compositions
JPH0995610A (ja) 1995-09-30 1997-04-08 Nippon G Ii Plast Kk 難燃樹脂組成物
WO1997047361A1 (en) * 1996-06-12 1997-12-18 Southwest Research Institute Fire extinguishing trash can liner
US5756798A (en) 1996-06-13 1998-05-26 Great Lakes Chemical Corporation Process to prepare aryldiphosphoric esters
JP3558458B2 (ja) 1996-07-10 2004-08-25 旭化成ケミカルズ株式会社 アリール燐酸エステルの製造方法
IL131379A0 (en) 1997-02-14 2001-01-28 Great Lakes Chemical Corp A flame retardant polymer resin containing bisaryl diphosphate and a method for making the same
DE59707291D1 (de) * 1997-02-17 2002-06-20 Bessey & Sohn Spanneinrichtung
MY121010A (en) 1997-08-29 2005-12-30 Sabic Innovative Plastics Ip Polycarbonate resin composition
TW455605B (en) 1998-02-13 2001-09-21 Gen Electric Flame retardant carbonate polymer composition with improved hydrolytic stability
WO1999055771A1 (en) 1998-04-29 1999-11-04 Great Lakes Chemical Corporation Continuous process for the manufacture of phosphoric acid esters

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016204528A (ja) * 2015-04-23 2016-12-08 株式会社Adeka 難燃性水系ポリウレタン樹脂組成物、及びそれを塗布してなる難燃性ポリエステル系繊維

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