JP2003278664A - 真空ポンプの制御装置及び真空装置 - Google Patents
真空ポンプの制御装置及び真空装置Info
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- F04B2203/02—Motor parameters of rotating electric motors
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)
- Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空装置の稼動状態に応じて真空ポンプの回
転数を変化させることにより真空ポンプによる消費電力
を抑える。 【解決手段】 条件設定部４は真空装置１０の稼動状態
と真空装置１０を排気する真空ポンプ２の回転速度との
関係を設定している。この関係は真空ポンプ２の回転速
度が必要以上の回転速度にならないように適当な値に設
定されている。制御部６は真空装置１０の稼動状態に対
応したＳ１〜Ｓｎなどの外部信号を入力し、その外部信
号に対応した真空ポン２プの回転速度を条件設定部４か
ら読み出して出力するものである。インバータ８は制御
部６の出力に基づき真空ポンプの回転速度を制御する。
転数を変化させることにより真空ポンプによる消費電力
を抑える。 【解決手段】 条件設定部４は真空装置１０の稼動状態
と真空装置１０を排気する真空ポンプ２の回転速度との
関係を設定している。この関係は真空ポンプ２の回転速
度が必要以上の回転速度にならないように適当な値に設
定されている。制御部６は真空装置１０の稼動状態に対
応したＳ１〜Ｓｎなどの外部信号を入力し、その外部信
号に対応した真空ポン２プの回転速度を条件設定部４か
ら読み出して出力するものである。インバータ８は制御
部６の出力に基づき真空ポンプの回転速度を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空ポンプの制御
装置と真空装置に関し、特に長時間にわたって連続運転
される真空装置における真空ポンプの制御に関するもの
である。そのような真空装置の一例は、半導体製造プロ
セスにおいて基板に各種薄膜を堆積したり、基板を加工
したりする際に使用される真空装置である。
装置と真空装置に関し、特に長時間にわたって連続運転
される真空装置における真空ポンプの制御に関するもの
である。そのような真空装置の一例は、半導体製造プロ
セスにおいて基板に各種薄膜を堆積したり、基板を加工
したりする際に使用される真空装置である。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造プロセスで使用される真空装
置の一例では、試料である半導体ウエハを導入したり取
り出したりするロボットを備えた搬送チャンバに、エッ
チング装置、薄膜堆積装置、その他のプロセスチャンバ
がゲートを介して接続され、また搬送チャンバには試料
のウエハを交換するロードロック室がゲートを介して接
続されている。各プロセスチャンバやロードロック室は
開閉バルブを備えた排気経路を介して真空ポンプに接続
されており、搬送チャンバも含めてプロセスチャンバも
ロードロック室も真空排気される。
置の一例では、試料である半導体ウエハを導入したり取
り出したりするロボットを備えた搬送チャンバに、エッ
チング装置、薄膜堆積装置、その他のプロセスチャンバ
がゲートを介して接続され、また搬送チャンバには試料
のウエハを交換するロードロック室がゲートを介して接
続されている。各プロセスチャンバやロードロック室は
開閉バルブを備えた排気経路を介して真空ポンプに接続
されており、搬送チャンバも含めてプロセスチャンバも
ロードロック室も真空排気される。
【０００３】例えばロードロック室について考えると、
試料を交換するために大気に開放された状態から真空排
気する期間、ロボットによりウエハを交換する期間、ロ
ードロック室が閉じられている期間というように、種々
の稼動状態がある。それらの期間は排気経路の開閉バル
ブの開閉操作により、排気能力が調節される。
試料を交換するために大気に開放された状態から真空排
気する期間、ロボットによりウエハを交換する期間、ロ
ードロック室が閉じられている期間というように、種々
の稼動状態がある。それらの期間は排気経路の開閉バル
ブの開閉操作により、排気能力が調節される。
【０００４】そのような真空装置の稼動中は、製造途中
で真空ポンプのモータが停止して真空装置の真空状態を
維持できなくなると、処理中の製品などが不良になる。
そのため、そような事態を避ける必要から真空ポンプは
連続して常時駆動するように制御されている。しかもそ
の回転速度は、真空装置の動作状態によらず、常に一定
になるように設定されている。
で真空ポンプのモータが停止して真空装置の真空状態を
維持できなくなると、処理中の製品などが不良になる。
そのため、そような事態を避ける必要から真空ポンプは
連続して常時駆動するように制御されている。しかもそ
の回転速度は、真空装置の動作状態によらず、常に一定
になるように設定されている。
【０００５】真空装置の真空状態を維持しながら真空ポ
ンプを過負荷から保護するために、真空ポンプを駆動し
ているモータの消費電力の値が所定値以上になるとモー
タの回転数を低下させることが提案されている（特開２
０００−1１０７３５号公報参照）。また真空ポンプの
運転中に変化するケース温度やモータの電流値などの物
理量を測定し、この測定値がある設定値に達すると警報
を発することにより、ポンプが停止する事態に至る前に
保守を促すようにすることも提案されている（特開平５
−１１８２８９号公報参照）。
ンプを過負荷から保護するために、真空ポンプを駆動し
ているモータの消費電力の値が所定値以上になるとモー
タの回転数を低下させることが提案されている（特開２
０００−1１０７３５号公報参照）。また真空ポンプの
運転中に変化するケース温度やモータの電流値などの物
理量を測定し、この測定値がある設定値に達すると警報
を発することにより、ポンプが停止する事態に至る前に
保守を促すようにすることも提案されている（特開平５
−１１８２８９号公報参照）。
【０００６】これらの提案は、真空ポンプを過負荷から
保護することにより、真空装置が真空状態を維持できな
くなる事態を避けることが目的であり、真空ポンプでの
消費電力を抑えるという意図はない。
保護することにより、真空装置が真空状態を維持できな
くなる事態を避けることが目的であり、真空ポンプでの
消費電力を抑えるという意図はない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】真空ポンプを一定の回
転速度で駆動していると、真空装置の稼動状態によって
は真空ポンプは必要以上の回転数で回転している場合が
起こる。真空装置の稼動中は真空ポンプを停止すること
はできないが、稼動状態によっては必要以上の回転数で
駆動していることになり消費電力の無駄が発生してい
る。そこで、本発明は真空装置の稼動状態に応じて真空
ポンプの回転数を変化させることにより真空ポンプによ
る消費電力を抑えることを目的とするものである。
転速度で駆動していると、真空装置の稼動状態によって
は真空ポンプは必要以上の回転数で回転している場合が
起こる。真空装置の稼動中は真空ポンプを停止すること
はできないが、稼動状態によっては必要以上の回転数で
駆動していることになり消費電力の無駄が発生してい
る。そこで、本発明は真空装置の稼動状態に応じて真空
ポンプの回転数を変化させることにより真空ポンプによ
る消費電力を抑えることを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空ポンプを
駆動するモータの電流値などではなく、真空装置の真空
状態を所定の状態に維持するための排気経路の開閉バル
ブなどからの外部信号に基づいて真空装置の稼動状態を
判定し、判定した稼動状態に対応して、予め設定してお
いた適当な回転速度になるように真空ポンプを制御し
て、必要以上の回転数での真空ポンプ駆動を避けること
によって消費電力を抑えるようにする。ここで、外部信
号とは、真空ポンプ以外から発生する信号の意味であ
る。
駆動するモータの電流値などではなく、真空装置の真空
状態を所定の状態に維持するための排気経路の開閉バル
ブなどからの外部信号に基づいて真空装置の稼動状態を
判定し、判定した稼動状態に対応して、予め設定してお
いた適当な回転速度になるように真空ポンプを制御し
て、必要以上の回転数での真空ポンプ駆動を避けること
によって消費電力を抑えるようにする。ここで、外部信
号とは、真空ポンプ以外から発生する信号の意味であ
る。
【０００９】本発明の真空装置及び真空ポンプ制御装置
の概要を図１に示す。条件設定部４は真空装置１０の稼
動状態と真空装置１０を排気する真空ポンプ２の回転速
度との関係を設定している。この関係は真空ポンプ２の
回転速度が必要以上の回転速度にならないように適当な
値に設定されている。制御部６は真空装置１０の稼動状
態に対応した開閉バルブからの信号Ｓ１〜Ｓｎなどの外
部信号を入力し、その外部信号に対応した真空ポン２プ
の回転速度を条件設定部４から読み出して出力するもの
である。インバータ８は制御部６の出力に基づき真空ポ
ンプの回転速度を制御する。また本発明の真空装置１０
は、そのような制御装置６により制御される真空ポンプ
２を備えたものである。
の概要を図１に示す。条件設定部４は真空装置１０の稼
動状態と真空装置１０を排気する真空ポンプ２の回転速
度との関係を設定している。この関係は真空ポンプ２の
回転速度が必要以上の回転速度にならないように適当な
値に設定されている。制御部６は真空装置１０の稼動状
態に対応した開閉バルブからの信号Ｓ１〜Ｓｎなどの外
部信号を入力し、その外部信号に対応した真空ポン２プ
の回転速度を条件設定部４から読み出して出力するもの
である。インバータ８は制御部６の出力に基づき真空ポ
ンプの回転速度を制御する。また本発明の真空装置１０
は、そのような制御装置６により制御される真空ポンプ
２を備えたものである。
【００１０】本発明では、制御部６はＳ１〜Ｓｎなどの
外部信号から真空装置１０の稼動状態を判定し、それに
対応して条件設定部４から設定回転速度を呼び出して、
真空ポンプ２の回転速度がその設定回転速度になるよう
にインバータ８を介して真空ポンプ２の回転を制御する
ので、条件設定部４に消費電力を抑えるように条件設定
をしておくことにより、真空ポンプ２による無駄な電力
消費を抑えることができる。
外部信号から真空装置１０の稼動状態を判定し、それに
対応して条件設定部４から設定回転速度を呼び出して、
真空ポンプ２の回転速度がその設定回転速度になるよう
にインバータ８を介して真空ポンプ２の回転を制御する
ので、条件設定部４に消費電力を抑えるように条件設定
をしておくことにより、真空ポンプ２による無駄な電力
消費を抑えることができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明が対象にする真空装置の一
例は、真空ポンプとの間に開閉バルブをもつ複数の排気
経路を備えたものである。その場合、外部信号の一例は
開閉バルブを制御する信号を含んでいる。
例は、真空ポンプとの間に開閉バルブをもつ複数の排気
経路を備えたものである。その場合、外部信号の一例は
開閉バルブを制御する信号を含んでいる。
【００１２】本発明が対象になる真空装置の他の一例
は、真空ポンプとの間に開閉バルブをもつ複数の排気経
路を備えたものであるが、それらの開閉バルブはそれぞ
れ開閉状態を検知するセンサを備えたものである。その
場合、外部信号の一例はそれらのセンサからの信号を含
んだものとすることができる。
は、真空ポンプとの間に開閉バルブをもつ複数の排気経
路を備えたものであるが、それらの開閉バルブはそれぞ
れ開閉状態を検知するセンサを備えたものである。その
場合、外部信号の一例はそれらのセンサからの信号を含
んだものとすることができる。
【００１３】複数の排気経路の開閉バルブの状態は真空
装置の稼動状態を表しているので、それらの開閉バルブ
の開閉動作に関連して得られる信号から真空装置の稼動
状態を判定することができ、それに基づいて、真空ポン
プの回転数を設定されたように制御すれば消費電力を抑
えることができる。
装置の稼動状態を表しているので、それらの開閉バルブ
の開閉動作に関連して得られる信号から真空装置の稼動
状態を判定することができ、それに基づいて、真空ポン
プの回転数を設定されたように制御すれば消費電力を抑
えることができる。
【００１４】インバータを備えた真空ポンプ制御装置で
あっても、インバータが故障したり、インバータを介し
て真空ポンプを制御するのに適さない条件下では、イン
バータを介さずに真空ポンプを制御できるように、制御
部はインバータを介さずに真空ポンプを所定の一定速度
で回転させる直送運転モードも取りうるものであること
が好ましい。直送運転モードをとる場合の例として、電
源投入時や、インバータや内部制御回路からの信号が予
め設定された条件になったときなどを挙げることができ
る。
あっても、インバータが故障したり、インバータを介し
て真空ポンプを制御するのに適さない条件下では、イン
バータを介さずに真空ポンプを制御できるように、制御
部はインバータを介さずに真空ポンプを所定の一定速度
で回転させる直送運転モードも取りうるものであること
が好ましい。直送運転モードをとる場合の例として、電
源投入時や、インバータや内部制御回路からの信号が予
め設定された条件になったときなどを挙げることができ
る。
【００１５】
【実施例】図２は本発明を半導体製造装置において、半
導体ウエハを処理装置に出し入れするためのロードロッ
ク室の真空ポンプを制御する制御装置に適用した第１の
実施例を表わしたものである。
導体ウエハを処理装置に出し入れするためのロードロッ
ク室の真空ポンプを制御する制御装置に適用した第１の
実施例を表わしたものである。
【００１６】ウエハの交換を行うロボット１２を備えた
搬送室（ハンドリングモジュールとも呼ばれる）１４
に、薄膜堆積やエッチングなどの処理を行う複数台のプ
ロセスチャンバ１６ａ〜１６ｃが接続されている。搬送
室１４にはさらに外部から処理しようとするウエハを導
入し、処理済みのウエハを取り出すためにロードロック
室１８ａ，１８ｂも接続されている。処理済ウエハが高
温であるため、ウエハを冷却をするためにクーリングチ
ャンバ２０が設けられている。プロセスチャンバ１６ａ
〜１６ｃ、クーリングチャンバ及びロードロック室１８
ａ，１８ｂと搬送室１４の間には開閉可能で、気密を保
って閉じることのできるゲートバルブ機構などのインタ
ーフェースが設けられている。
搬送室（ハンドリングモジュールとも呼ばれる）１４
に、薄膜堆積やエッチングなどの処理を行う複数台のプ
ロセスチャンバ１６ａ〜１６ｃが接続されている。搬送
室１４にはさらに外部から処理しようとするウエハを導
入し、処理済みのウエハを取り出すためにロードロック
室１８ａ，１８ｂも接続されている。処理済ウエハが高
温であるため、ウエハを冷却をするためにクーリングチ
ャンバ２０が設けられている。プロセスチャンバ１６ａ
〜１６ｃ、クーリングチャンバ及びロードロック室１８
ａ，１８ｂと搬送室１４の間には開閉可能で、気密を保
って閉じることのできるゲートバルブ機構などのインタ
ーフェースが設けられている。
【００１７】プロセスチャンバ１６ａ〜６ｃ及びロード
ロック室１８ａ，１８ｂのそれぞれには真空ポンプにつ
ながる排気経路が設けられている。この実施例ではロー
ドロック室１８ａ，１８ｂの排気経路に設けられた開閉
バルブＶ１〜Ｖ４の状態に基づいて、真空装置としての
ロードロック室１８ａ，１８ｂの稼動状態を判定し、そ
の排気経路につながるロードロック用ドライポンプ２２
の回転速度を制御する制御装置を示す。
ロック室１８ａ，１８ｂのそれぞれには真空ポンプにつ
ながる排気経路が設けられている。この実施例ではロー
ドロック室１８ａ，１８ｂの排気経路に設けられた開閉
バルブＶ１〜Ｖ４の状態に基づいて、真空装置としての
ロードロック室１８ａ，１８ｂの稼動状態を判定し、そ
の排気経路につながるロードロック用ドライポンプ２２
の回転速度を制御する制御装置を示す。
【００１８】ロードロック室１８ａ，１８ｂとポンプ２
２の間は排気経路２４ａと２４ｂでそれぞれ接続されて
おり、また排気経路２４ａ，２４ｂはそれぞれ２本の排
気経路に分岐し、それぞれの分岐した排気経路に設けら
れた開閉バルブＶ１〜Ｖ４の開閉により、排気能力を調
節できるようになっている。排気経路２４ａの分岐した
２つの排気経路の内径は、開閉バルブＶ２が設けられて
いる排気経路の方が開閉バルブＶ１が設けられている排
気経路よりも大きくなっていて、開閉バルブＶ２のある
方が排気能力が大きい。排気経路２４ｂについては、開
閉バルブＶ４が設けられている排気経路の方が開閉バル
ブＶ３が設けられている排気経路よりも内径が大きくな
っていて、開閉バルブＶ４のある方が排気能力が大き
い。
２の間は排気経路２４ａと２４ｂでそれぞれ接続されて
おり、また排気経路２４ａ，２４ｂはそれぞれ２本の排
気経路に分岐し、それぞれの分岐した排気経路に設けら
れた開閉バルブＶ１〜Ｖ４の開閉により、排気能力を調
節できるようになっている。排気経路２４ａの分岐した
２つの排気経路の内径は、開閉バルブＶ２が設けられて
いる排気経路の方が開閉バルブＶ１が設けられている排
気経路よりも大きくなっていて、開閉バルブＶ２のある
方が排気能力が大きい。排気経路２４ｂについては、開
閉バルブＶ４が設けられている排気経路の方が開閉バル
ブＶ３が設けられている排気経路よりも内径が大きくな
っていて、開閉バルブＶ４のある方が排気能力が大き
い。
【００１９】開閉バルブＶ１〜Ｖ４の開閉動作は、ニュ
ーマチックボード２６から配管を経て送られる空気圧に
より制御される。その配管にはそれぞれ圧力スイッチＰ
Ｓ１〜ＰＳ４が設けられており、それらの圧力スイッチ
ＰＳ１〜ＰＳ４の検出信号は外部信号となって、バルブ
Ｖ１〜Ｖ４の開閉状態を検知するのに利用することがで
きる。
ーマチックボード２６から配管を経て送られる空気圧に
より制御される。その配管にはそれぞれ圧力スイッチＰ
Ｓ１〜ＰＳ４が設けられており、それらの圧力スイッチ
ＰＳ１〜ＰＳ４の検出信号は外部信号となって、バルブ
Ｖ１〜Ｖ４の開閉状態を検知するのに利用することがで
きる。
【００２０】また、ニューマチックボード２６からは、
配管を通して空気圧を送るための制御信号が電気信号と
して生成しており、その電気信号も外部信号となって、
バルブＶ１〜Ｖ４の開閉状態を検知するのに利用するこ
とができる。
配管を通して空気圧を送るための制御信号が電気信号と
して生成しており、その電気信号も外部信号となって、
バルブＶ１〜Ｖ４の開閉状態を検知するのに利用するこ
とができる。
【００２１】３０はポンプ２２の制御装置であるインバ
ータユニットであり、主要な機構としてインバータ３６
と制御部であるＣＰＵユニット３８を備えている。イン
バータ３６はポンプ２２のモータに駆動電力を与えてモ
ータを回転させるとともに、入力信号により駆動電力の
周波数を変化させてモータの回転数を変化させるように
ポンプ２２の回転速度を可変に制御するものである。イ
ンバータ３６にはＡＣ２００Ｖの入力電源がＡＣリアク
トル３４で高調波成分が除去されて供給され、インバー
タ３６はＣＰＵユニット３８からの指示により所定の周
波数の駆動電源にしてポンプ２２に供給する。パルス電
力変換器３２はポンプ２２に供給された電力を消費電力
に変換するものである。
ータユニットであり、主要な機構としてインバータ３６
と制御部であるＣＰＵユニット３８を備えている。イン
バータ３６はポンプ２２のモータに駆動電力を与えてモ
ータを回転させるとともに、入力信号により駆動電力の
周波数を変化させてモータの回転数を変化させるように
ポンプ２２の回転速度を可変に制御するものである。イ
ンバータ３６にはＡＣ２００Ｖの入力電源がＡＣリアク
トル３４で高調波成分が除去されて供給され、インバー
タ３６はＣＰＵユニット３８からの指示により所定の周
波数の駆動電源にしてポンプ２２に供給する。パルス電
力変換器３２はポンプ２２に供給された電力を消費電力
に変換するものである。
【００２２】真空装置の稼動状態と真空ポンプの回転速
度の関係は、設定パネル４２からＣＰＵユニット３８に
設定される。設定された条件は表示パネル４４に表示さ
れる。セレクタスイッチ４６は、ＣＰＵユニット３８か
らの指示により、ポンプ２２の駆動をインバータ３６を
介して行うか、インバータ３６を介さずに一定周波数で
駆動する直送運転モードにするかを切り替えるものであ
る。ＣＰＵユニット３８には２００ＶのＡＣ電源から２
４ＶのＤＣ電源を作成する電源回路４０によってＤＣ２
４Ｖが供給される。
度の関係は、設定パネル４２からＣＰＵユニット３８に
設定される。設定された条件は表示パネル４４に表示さ
れる。セレクタスイッチ４６は、ＣＰＵユニット３８か
らの指示により、ポンプ２２の駆動をインバータ３６を
介して行うか、インバータ３６を介さずに一定周波数で
駆動する直送運転モードにするかを切り替えるものであ
る。ＣＰＵユニット３８には２００ＶのＡＣ電源から２
４ＶのＤＣ電源を作成する電源回路４０によってＤＣ２
４Ｖが供給される。
【００２３】ロードロック室１８ａ，１８ｂの稼動状態
を検知するために、開閉バルブＶ１〜Ｖ４を駆動する配
管の圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出信号を外部信号
として取り込む端子台４８が設けられており、端子台４
８により取り込まれた外部信号がＣＰＵユニット３８に
供給される。
を検知するために、開閉バルブＶ１〜Ｖ４を駆動する配
管の圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出信号を外部信号
として取り込む端子台４８が設けられており、端子台４
８により取り込まれた外部信号がＣＰＵユニット３８に
供給される。
【００２４】ロードロック室１８ａ，１８ｂの稼動状態
を検知するための他の方法として、ニューマチックボー
ド２６から外部に出力される開閉バルブ駆動電気信号が
インバータユニット３０内のターミナルリレーボックス
５０を経てＣＰＵユニット３８に取り込まれる。
を検知するための他の方法として、ニューマチックボー
ド２６から外部に出力される開閉バルブ駆動電気信号が
インバータユニット３０内のターミナルリレーボックス
５０を経てＣＰＵユニット３８に取り込まれる。
【００２５】ＣＰＵユニット３８と表示パネル４４は図
１における制御部６と条件設定部４を実現している。図
１におけるインバータ８はインバータ３６、ポンプ２は
ポンプ２２、真空装置１０はロードロック室１８ａ，１
８ｂにそれぞれ対応している。また、図１における外部
信号Ｓ１〜Ｓｎは圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出信
号とニューマチックボード２６から出力される開閉バル
ブ駆動電気信号に対応している。
１における制御部６と条件設定部４を実現している。図
１におけるインバータ８はインバータ３６、ポンプ２は
ポンプ２２、真空装置１０はロードロック室１８ａ，１
８ｂにそれぞれ対応している。また、図１における外部
信号Ｓ１〜Ｓｎは圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出信
号とニューマチックボード２６から出力される開閉バル
ブ駆動電気信号に対応している。
【００２６】この実施例におけるロードロック室１８
ａ，１８ｂの動作を説明する。ロードロック室１８ａに
ついて説明すると、大気状態から真空引きする際には、
まず開閉バルブＶ１が開き開閉バルブＶ２が閉じた状態
で粗引きを行われる。ある真空度まで到達すると、開閉
バルブＶ１が閉じられ、開閉バルブＶ２が開いて設定真
空度まで真空引きが行われる。真空引き終了後は開閉バ
ルブＶ２も閉じられてその真空状態が維持される。もし
ウエハ処理中にロードロック室の真空度が設定真空度か
ら外れた場合は、再度開閉バルブＶ２が開き設定真空度
まで真空引きされる。ロードロック室１８ｂについても
同様に、大気状態からの粗引きには開閉バルブＶ４が閉
じられ開閉バルブＶ３が開けられ、設定真空度以降の真
空引きには開閉バルブＶ３が閉じられ開閉バルブＶ４が
開けられる。真空引き終了後は開閉バルブＶ４も閉じら
れてその真空状態が維持される。
ａ，１８ｂの動作を説明する。ロードロック室１８ａに
ついて説明すると、大気状態から真空引きする際には、
まず開閉バルブＶ１が開き開閉バルブＶ２が閉じた状態
で粗引きを行われる。ある真空度まで到達すると、開閉
バルブＶ１が閉じられ、開閉バルブＶ２が開いて設定真
空度まで真空引きが行われる。真空引き終了後は開閉バ
ルブＶ２も閉じられてその真空状態が維持される。もし
ウエハ処理中にロードロック室の真空度が設定真空度か
ら外れた場合は、再度開閉バルブＶ２が開き設定真空度
まで真空引きされる。ロードロック室１８ｂについても
同様に、大気状態からの粗引きには開閉バルブＶ４が閉
じられ開閉バルブＶ３が開けられ、設定真空度以降の真
空引きには開閉バルブＶ３が閉じられ開閉バルブＶ４が
開けられる。真空引き終了後は開閉バルブＶ４も閉じら
れてその真空状態が維持される。
【００２７】両方のロードロック室１８ａと１８ｂを同
時に使用する場合は、粗引きは同時に始められるが、真
空引きは一方のロードロック室の真空引きが終了した後
に、他方のロードロック室の真空引きが始められる。真
空引きが終了してすべての開閉バルブが閉じられた状態
はアイドリング状態になるが、ポンプ２２は回転を続け
る。
時に使用する場合は、粗引きは同時に始められるが、真
空引きは一方のロードロック室の真空引きが終了した後
に、他方のロードロック室の真空引きが始められる。真
空引きが終了してすべての開閉バルブが閉じられた状態
はアイドリング状態になるが、ポンプ２２は回転を続け
る。
【００２８】インバータユニット３０は開閉バルブＶ１
〜Ｖ４の開閉状態を圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出
信号又はニューマチックボード２６からの電気信号によ
り検知し、その開閉状態に応じてポンプ２２の回転速度
を調節する。例えば、開閉バルブＶ１〜Ｖ４が全て閉じ
ているアイドリング時はインバータ３６はポンプ２２の
回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転する。開閉バルブＶ
１〜Ｖ４の少なくとも１つが開いている場合には、イン
バータ３６はポンプ２２の回転数を３０Ｈｚから５０Ｈ
ｚ又は６０Ｈｚに上昇させて高速回転で運転する。
〜Ｖ４の開閉状態を圧力スイッチＰＳ１〜ＰＳ４の検出
信号又はニューマチックボード２６からの電気信号によ
り検知し、その開閉状態に応じてポンプ２２の回転速度
を調節する。例えば、開閉バルブＶ１〜Ｖ４が全て閉じ
ているアイドリング時はインバータ３６はポンプ２２の
回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転する。開閉バルブＶ
１〜Ｖ４の少なくとも１つが開いている場合には、イン
バータ３６はポンプ２２の回転数を３０Ｈｚから５０Ｈ
ｚ又は６０Ｈｚに上昇させて高速回転で運転する。
【００２９】この実施例は、インバータユニットに異常
が発生した場合にもポンプ２２が運転を継続するように
直送運転モードを備えている。図３はインバータを介し
た駆動とインバータを介さない直送運転モードの切替え
を行う動作を示したものである。ここでは、次の（１）
から（４）の４つの状態のときにインバータを介さずに
直送運転モードに入るようにＣＰＵユニット３８に設定
されている。
が発生した場合にもポンプ２２が運転を継続するように
直送運転モードを備えている。図３はインバータを介し
た駆動とインバータを介さない直送運転モードの切替え
を行う動作を示したものである。ここでは、次の（１）
から（４）の４つの状態のときにインバータを介さずに
直送運転モードに入るようにＣＰＵユニット３８に設定
されている。
【００３０】（１） 起動時、所定の時間までの間。す
なわち、電源投入後、内蔵制御回路が自己診断後、正常
に立ち上がるまでの間、又はポンプのモータの起動が完
了するまでの間である。この間はインバータが正常に動
作しないことがあるためである。
なわち、電源投入後、内蔵制御回路が自己診断後、正常
に立ち上がるまでの間、又はポンプのモータの起動が完
了するまでの間である。この間はインバータが正常に動
作しないことがあるためである。
【００３１】（２） 荷負荷などでインバータから異常
一括信号が出た場合。 （３） インバータによる運転中にインバータからのフ
ィードバックが途切れた場合。 （４） 制御回路駆動用のＤＣ電源の異常や制御回路の
中枢であるシーケンサの故障時など内蔵制御回路の故障
が生じた場合。
一括信号が出た場合。 （３） インバータによる運転中にインバータからのフ
ィードバックが途切れた場合。 （４） 制御回路駆動用のＤＣ電源の異常や制御回路の
中枢であるシーケンサの故障時など内蔵制御回路の故障
が生じた場合。
【００３２】（２）〜（４）は運転中の異常であり、イ
ンバータによる制御が支障をきたす虞れがあるので、こ
れらの場合は直ちに５０Ｈｚ又は６０Ｈｚによる直送運
転モードの切り替えられる。
ンバータによる制御が支障をきたす虞れがあるので、こ
れらの場合は直ちに５０Ｈｚ又は６０Ｈｚによる直送運
転モードの切り替えられる。
【００３３】図４（Ａ）は条件設定部に条件設定を行う
設定パネル４２の例を示したものである。ここでは４つ
の開閉バルブＶ１〜Ｖ４に関連した圧力スイッチＰＳ１
〜ＰＳ４又はニューマチックボード２６からの４つの駆
動電気信号が数字１，２，３，４の４チャネルの信号と
して表示されている。それらの４つの信号の組合わせに
よりポンプ２２の回転速度を何Ｈｚにするかを設定す
る。一般的な例として、図示の場合は２チャンネルの信
号１と２が入力されたときは回転速度２である３０Ｈｚ
に設定することを示している。
設定パネル４２の例を示したものである。ここでは４つ
の開閉バルブＶ１〜Ｖ４に関連した圧力スイッチＰＳ１
〜ＰＳ４又はニューマチックボード２６からの４つの駆
動電気信号が数字１，２，３，４の４チャネルの信号と
して表示されている。それらの４つの信号の組合わせに
よりポンプ２２の回転速度を何Ｈｚにするかを設定す
る。一般的な例として、図示の場合は２チャンネルの信
号１と２が入力されたときは回転速度２である３０Ｈｚ
に設定することを示している。
【００３４】図４（Ｂ）は運転モードを切り替える際の
タイマ設定を行なう設定パネル４２の例を示したもので
ある。ここでは５０Ｈｚ又は６０Ｈｚによる直送運転モ
ードの他に、４段階の速度に設定できることを示してい
る。４つの外部入力信号からどの設定回転速度に移行す
るかがＣＰＵユニット３８で判定され、このタイマ設定
により設定された移行待ち時間の後にその回転速度に切
り替えられる。いま、例えば速度１を６０Ｈｚ、速度２
を３０Ｈｚに設定したものとする。この例では、起動時
は１０秒間直送運転モードを行った後にインバータモー
ドの運転に切り替えられる。
タイマ設定を行なう設定パネル４２の例を示したもので
ある。ここでは５０Ｈｚ又は６０Ｈｚによる直送運転モ
ードの他に、４段階の速度に設定できることを示してい
る。４つの外部入力信号からどの設定回転速度に移行す
るかがＣＰＵユニット３８で判定され、このタイマ設定
により設定された移行待ち時間の後にその回転速度に切
り替えられる。いま、例えば速度１を６０Ｈｚ、速度２
を３０Ｈｚに設定したものとする。この例では、起動時
は１０秒間直送運転モードを行った後にインバータモー
ドの運転に切り替えられる。
【００３５】図４（Ａ），（Ｂ）のように設定された場
合に、インバータモードの運転中に回転速度を移行する
際の動作を図５に示す。外部入力信号１〜４を取り込
み、その信号の組合せが設定されているものかどうかを
判定する。外部入力信号１〜４の組合せが設定された以
外の入力であった場合や、設定そのものの重複があった
場合は、３秒後に強制的に速度１に移行する。外部入力
信号１〜４の組合せが設定された入力であった場合には
タイマ設定された時間の後にその設定された回転速度に
移行する。たとえば、外部入力信号１と２に同時に入力
があった場合は、８０秒後に速度２の３０Ｈｚになり、
それ以外の入力（無入力を含む）があれば、３秒後に速
度１の６０Ｈｚになる。
合に、インバータモードの運転中に回転速度を移行する
際の動作を図５に示す。外部入力信号１〜４を取り込
み、その信号の組合せが設定されているものかどうかを
判定する。外部入力信号１〜４の組合せが設定された以
外の入力であった場合や、設定そのものの重複があった
場合は、３秒後に強制的に速度１に移行する。外部入力
信号１〜４の組合せが設定された入力であった場合には
タイマ設定された時間の後にその設定された回転速度に
移行する。たとえば、外部入力信号１と２に同時に入力
があった場合は、８０秒後に速度２の３０Ｈｚになり、
それ以外の入力（無入力を含む）があれば、３秒後に速
度１の６０Ｈｚになる。
【００３６】図６は本発明を図２の半導体製造装置にお
ける１つのプロセスチャンバ１６を真空排気する真空ポ
ンプを制御する制御装置に適用した第２の実施例を表わ
したものである。図２の半導体製造装置における全ての
プロセスチャンバ１６ａ〜１６ｃには図６に示されるの
と同じポンプ及び制御装置が設けられている。
ける１つのプロセスチャンバ１６を真空排気する真空ポ
ンプを制御する制御装置に適用した第２の実施例を表わ
したものである。図２の半導体製造装置における全ての
プロセスチャンバ１６ａ〜１６ｃには図６に示されるの
と同じポンプ及び制御装置が設けられている。
【００３７】プロセスチャンバ１６を真空排気するため
にプロセスチャンバ用ドライポンプ１２２につながる排
気経路が設けられている。その排気経路には排気能力を
調整するＡＰＣ（オートプロセスコントロール）用の絞
り弁１２４が設けられており、絞り弁１２４の開度でプ
ロセスチャンバ１６の真空度を制御できるようになって
いる。
にプロセスチャンバ用ドライポンプ１２２につながる排
気経路が設けられている。その排気経路には排気能力を
調整するＡＰＣ（オートプロセスコントロール）用の絞
り弁１２４が設けられており、絞り弁１２４の開度でプ
ロセスチャンバ１６の真空度を制御できるようになって
いる。
【００３８】プロセスチャンバ１６には４種類のプロセ
スガスが導入されるようになっている。プロセスチャン
バ１６に接続されている４つの開閉バルブＶ５〜Ｖ８は
それらのプロセスガス導入経路の最終段の開閉バルブで
ある。この実施例はそれらの開閉バルブＶ５〜Ｖ８の状
態に基づいて、真空装置としてのプロセスチャンバ１６
の稼動状態を判定し、ドライポンプ１２２の回転速度を
制御する制御装置である。
スガスが導入されるようになっている。プロセスチャン
バ１６に接続されている４つの開閉バルブＶ５〜Ｖ８は
それらのプロセスガス導入経路の最終段の開閉バルブで
ある。この実施例はそれらの開閉バルブＶ５〜Ｖ８の状
態に基づいて、真空装置としてのプロセスチャンバ１６
の稼動状態を判定し、ドライポンプ１２２の回転速度を
制御する制御装置である。
【００３９】開閉バルブＶ５〜Ｖ８の開閉動作は、ニュ
ーマチックボード１２６から配管を経て送られる空気圧
により制御される。その配管にはそれぞれ圧力スイッチ
ＰＳ５〜ＰＳ８が設けられており、それらの圧力スイッ
チＰＳ５〜ＰＳ８の検出信号は外部信号となって、バル
ブＶ５〜Ｖ８の開閉状態を検知するのに利用することが
できる。
ーマチックボード１２６から配管を経て送られる空気圧
により制御される。その配管にはそれぞれ圧力スイッチ
ＰＳ５〜ＰＳ８が設けられており、それらの圧力スイッ
チＰＳ５〜ＰＳ８の検出信号は外部信号となって、バル
ブＶ５〜Ｖ８の開閉状態を検知するのに利用することが
できる。
【００４０】また、ニューマチックボード１２６から
は、配管を通して空気圧を送るための制御信号が電気信
号として生成しており、その電気信号も外部信号となっ
て、バルブＶ５〜Ｖ８の開閉状態を検知するのに利用す
ることができる。
は、配管を通して空気圧を送るための制御信号が電気信
号として生成しており、その電気信号も外部信号となっ
て、バルブＶ５〜Ｖ８の開閉状態を検知するのに利用す
ることができる。
【００４１】１３０はポンプ１２２の制御装置であるイ
ンバータユニットであり、図２の実施例におけるインバ
ータユニット３０と同じ構成をしているので、インバー
タユニット１３０内部の機構又は機能にはインバータユ
ニット３０におけるものの参照数字を１００番台に変え
ることによって同じ内容であることを示し、説明は省略
する。
ンバータユニットであり、図２の実施例におけるインバ
ータユニット３０と同じ構成をしているので、インバー
タユニット１３０内部の機構又は機能にはインバータユ
ニット３０におけるものの参照数字を１００番台に変え
ることによって同じ内容であることを示し、説明は省略
する。
【００４２】図１の各部との対応関係も図２の実施例と
同様である。この実施例におけるプロセスチャンバ１６
の動作を説明する。プロセスチャンバ１６はパージとク
リーニングの後、高真空に排気される。その後、プロセ
スチャンバ用ドライポンプ１２２に切り替えられる。プ
ロセス工程においては、所定のバルブＶ５〜Ｖ８のいず
れかが開かれて所定のプロセスガスがプロセスチャンバ
１６に導入され、絞り弁１２４の開度が調節されてプロ
セスチャンバ１６内のプロセスガス圧力が調節されて所
定のプロセスが開始される。
同様である。この実施例におけるプロセスチャンバ１６
の動作を説明する。プロセスチャンバ１６はパージとク
リーニングの後、高真空に排気される。その後、プロセ
スチャンバ用ドライポンプ１２２に切り替えられる。プ
ロセス工程においては、所定のバルブＶ５〜Ｖ８のいず
れかが開かれて所定のプロセスガスがプロセスチャンバ
１６に導入され、絞り弁１２４の開度が調節されてプロ
セスチャンバ１６内のプロセスガス圧力が調節されて所
定のプロセスが開始される。
【００４３】この実施例はバルブＶ５〜Ｖ８の開閉状態
に基づいてドライポンプ１２２の回転速度を制御するも
のである。ＣＰＵユニット１３８にはすべての開閉バル
ブＶ５〜Ｖ８が閉じられた状態のときはポンプ１２２の
回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転し、開閉バルブＶ５
〜Ｖ８のいずれかが開いている場合には、ポンプ２２の
回転数を６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）の高速回転で運転す
るように設定されているものとする。
に基づいてドライポンプ１２２の回転速度を制御するも
のである。ＣＰＵユニット１３８にはすべての開閉バル
ブＶ５〜Ｖ８が閉じられた状態のときはポンプ１２２の
回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転し、開閉バルブＶ５
〜Ｖ８のいずれかが開いている場合には、ポンプ２２の
回転数を６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）の高速回転で運転す
るように設定されているものとする。
【００４４】この実施例でも、図３に示したのと同様
に、インバータユニット１３０に異常が発生した場合に
もポンプ１２２が運転を継続するように直送運転モード
を備えている。
に、インバータユニット１３０に異常が発生した場合に
もポンプ１２２が運転を継続するように直送運転モード
を備えている。
【００４５】ＣＰＵユニット１３８への条件設定及びタ
イマ設定は、図４（Ａ），（Ｂ）により説明したのと同
様に行われており、この場合にはすべての開閉バルブＶ
５〜Ｖ８が閉じられた状態のときはポンプ１２２の回転
数を３０Ｈｚの低速回転で運転し、開閉バルブＶ５〜Ｖ
８のいずれかが開いている場合には、ポンプ２２の回転
数を６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）の高速回転で運転するよ
うに設定されているものとする。
イマ設定は、図４（Ａ），（Ｂ）により説明したのと同
様に行われており、この場合にはすべての開閉バルブＶ
５〜Ｖ８が閉じられた状態のときはポンプ１２２の回転
数を３０Ｈｚの低速回転で運転し、開閉バルブＶ５〜Ｖ
８のいずれかが開いている場合には、ポンプ２２の回転
数を６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）の高速回転で運転するよ
うに設定されているものとする。
【００４６】インバータモードの運転中に回転速度を移
行する際の動作は図５に示されたものと同様である。プ
ロセスチャンバ１６が高真空に排気された真空引きが終
了し、ドライポンプ１２２に切り替えられて、すべての
開閉バルブＶ５〜Ｖ８が閉じられた状態はアイドリング
状態である。アイドリング時はインバータ１３６はポン
プ１２２の回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転される。
開閉バルブＶ５〜Ｖ８の少なくとも１つが開いている場
合には、インバータ３６はポンプ２２の回転数を３０Ｈ
ｚから６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）に上昇させて高速回転
で運転される。
行する際の動作は図５に示されたものと同様である。プ
ロセスチャンバ１６が高真空に排気された真空引きが終
了し、ドライポンプ１２２に切り替えられて、すべての
開閉バルブＶ５〜Ｖ８が閉じられた状態はアイドリング
状態である。アイドリング時はインバータ１３６はポン
プ１２２の回転数を３０Ｈｚの低速回転で運転される。
開閉バルブＶ５〜Ｖ８の少なくとも１つが開いている場
合には、インバータ３６はポンプ２２の回転数を３０Ｈ
ｚから６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）に上昇させて高速回転
で運転される。
【００４７】また、プロセス中のポンプ１２２の回転数
は６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）で固定しなくても、それよ
り低速の回転数に下げることは可能である。ただし、こ
の実施例のように、絞り弁１２４によりＡＰＣによりプ
ロセスチャンバ１６の真空度を制御している場合は、Ａ
ＰＣで圧力を制御できる範囲でポンプ１２２の回転数を
低下させることができる。
は６０Ｈｚ（又は５０Ｈｚ）で固定しなくても、それよ
り低速の回転数に下げることは可能である。ただし、こ
の実施例のように、絞り弁１２４によりＡＰＣによりプ
ロセスチャンバ１６の真空度を制御している場合は、Ａ
ＰＣで圧力を制御できる範囲でポンプ１２２の回転数を
低下させることができる。
【００４８】本発明が対象とする真空装置は、実施例に
示した半導体製造プロセスの装置に限らず、真空ポンプ
を長時間にわたって連続して運転する装置においては本
発明を適用すれば無駄な消費電力を抑えることができ
る。
示した半導体製造プロセスの装置に限らず、真空ポンプ
を長時間にわたって連続して運転する装置においては本
発明を適用すれば無駄な消費電力を抑えることができ
る。
【００４９】また、本発明により無駄な消費電力を抑え
た効果を、１ケ付当たりの金額として表示したり、二酸
化炭素削減効果に換算して表示したりすることにより、
消費電力削減効果を直感的に把握することができる。
た効果を、１ケ付当たりの金額として表示したり、二酸
化炭素削減効果に換算して表示したりすることにより、
消費電力削減効果を直感的に把握することができる。
【００５０】
【発明の効果】本発明では、真空装置の稼動状態と真空
装置を排気する真空ポンプの回転速度との関係を予め設
定しておき、真空装置の稼動状態に対応した外部信号を
入力し、その外部信号に対応した真空ポンプの回転速度
を設定しておいた条件から読み出し、インバータにより
真空ポンプの回転速度を制御するようにしたので、消費
電力を抑えるように真空ポンプの回転速度を制御するこ
とができる。
装置を排気する真空ポンプの回転速度との関係を予め設
定しておき、真空装置の稼動状態に対応した外部信号を
入力し、その外部信号に対応した真空ポンプの回転速度
を設定しておいた条件から読み出し、インバータにより
真空ポンプの回転速度を制御するようにしたので、消費
電力を抑えるように真空ポンプの回転速度を制御するこ
とができる。
【００５１】真空装置の稼動状態を検知するために、真
空装置に設けられた複数の排気経路の開閉バルブを制御
する信号を外部信号として利用すれば、真空装置の稼動
状態を容易に判定することができる。
空装置に設けられた複数の排気経路の開閉バルブを制御
する信号を外部信号として利用すれば、真空装置の稼動
状態を容易に判定することができる。
【００５２】また、それらの排気経路の開閉バルブが開
閉状態を検知するセンサを備えている場合には、それら
のセンサからの信号を外部信号として利用しても真空装
置の稼動状態を容易に判定することができる。
閉状態を検知するセンサを備えている場合には、それら
のセンサからの信号を外部信号として利用しても真空装
置の稼動状態を容易に判定することができる。
【００５３】インバータを介さずに真空ポンプを所定の
一定速度で回転させる直送運転モードも取りうるもので
ある場合には、インバータが故障したり、インバータを
介して真空ポンプを制御するのに適さない条件下であっ
ても真空ポンプが停止する事態を回避することができ
る。本発明による制御装置が設けられている真空ポンプ
を備えた真空装置は、真空ポンプの不必要な高速回転に
よる無駄な消費電力を抑えることができる。
一定速度で回転させる直送運転モードも取りうるもので
ある場合には、インバータが故障したり、インバータを
介して真空ポンプを制御するのに適さない条件下であっ
ても真空ポンプが停止する事態を回避することができ
る。本発明による制御装置が設けられている真空ポンプ
を備えた真空装置は、真空ポンプの不必要な高速回転に
よる無駄な消費電力を抑えることができる。
【図１】 本発明の真空装置及び真空ポンプ制御装置の
概要を示すブロック図である。
概要を示すブロック図である。
【図２】 一実施例を示す概略構成図である。
【図３】 同実施例においてインバータを介した駆動と
インバータを介さない直送運転モードの切替えを行う動
作を示すフローチャート図である。
インバータを介さない直送運転モードの切替えを行う動
作を示すフローチャート図である。
【図４】 （Ａ）は条件設定を行う設定パネルの一例を
示す図、（Ｂ）は運転モードを切り替える際のタイマ設
定を行なう設定パネルの一例を示す図である。
示す図、（Ｂ）は運転モードを切り替える際のタイマ設
定を行なう設定パネルの一例を示す図である。
【図５】 インバータモードの運転中に回転速度を移行
する際の動作を示すフローチャート図である。
する際の動作を示すフローチャート図である。
【図６】 他の実施例を示す概略構成図である。
２ 真空ポンプ
４ 条件設定部
６ 制御部
８，３６，１３６ インバータ
１０ 真空装置
１２ ロボット
１４ 搬送室
１６，１６ａ〜１６ｃ プロセスチャンバ
１８ａ，１８ｂ ロードロック室
２０ クーリングチャンバ
２２，１２２ ドライポンプ
２４ａ，２４ｂ 排気経路
２６，１２６ ニューマチックボード
３０，１３０ インバータユニット
３８，１３８ ＣＰＵユニット
４２ 設定パネル
４４ 表示パネル
４８，１４８ 端子台
５０ ターミナルリレーボックス
１２４ 絞り弁
ＰＳ１〜ＰＳ８ 圧力スイッチ
Ｖ１〜Ｖ８ 開閉バルブ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 3H031 DA02 EA09 EA13 FA37
3H045 AA09 AA38 BA02 BA12 BA31
BA37 BA41 DA07 DA11 DA43
EA04 EA17 EA26 EA34
3H076 AA16 AA21 BB28 BB31 CC07
CC51
Claims (7)
- 【請求項１】 真空装置の稼動状態と真空装置を排気す
る真空ポンプの回転速度との関係を設定する条件設定部
と、 前記真空装置の稼動状態に対応した外部信号を入力し、
その外部信号に対応した真空ポンプの回転速度を前記条
件設定部から読み出し出力する制御部と、 前記制御部の出力に基づき前記真空ポンプの回転速度を
制御するインバータとを備えたことを特徴とする真空ポ
ンプの制御装置。 - 【請求項２】 前記真空装置は前記真空ポンプとの間に
開閉バルブをもつ複数の排気経路を備えたものであり、 前記外部信号は前記開閉バルブを制御する信号を含んで
いる請求項１に記載の真空ポンプの制御装置。 - 【請求項３】 前記真空装置は前記真空ポンプとの間に
開閉バルブをもつ複数の排気経路を備えたものであり、
かつ前記開閉バルブはそれぞれ開閉状態を検知するセン
サを備えており、 前記外部信号は前記センサからの信号を含んでいる請求
項１に記載の真空ポンプの制御装置。 - 【請求項４】 前記制御部は前記インバータを介さずに
前記真空ポンプを所定の一定速度で回転させる直送運転
モードも取りうるものである請求項１から３のいずれか
に記載の真空ポンプの制御装置。 - 【請求項５】 前記制御部は電源投入時に直送運転モー
ドをとる請求項４に記載の真空ポンプの制御装置。 - 【請求項６】 前記制御部は前記インバータ及び内部制
御回路からも信号を入力し、それらの信号が予め設定さ
れた条件になったときにも直送運転モードをとる請求項
４又は５に記載の真空ポンプの制御装置。 - 【請求項７】 真空ポンプとの間に開閉バルブをもつ複
数の排気経路を備え前記真空ポンプにより排気される真
空装置において、 前記真空ポンプには請求項１から６のいずれかに記載の
制御装置が設けられていることにより稼動状態に応じて
真空ポンプの回転速度を変化させることを特徴とする真
空装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007010851A1 (ja) * | 2005-07-21 | 2007-01-25 | Nabtesco Corporation | 真空システム及びその運転方法 |
| JP2007071200A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-03-22 | Ebara Corp | 真空排気装置および真空排気方法、基板の加工装置および基板の加工方法 |
| JP2008019740A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ |
| JP2009103124A (ja) * | 2007-10-25 | 2009-05-14 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | 真空ポンプを含む装置およびその運転方法 |
| JP2009530819A (ja) * | 2006-03-16 | 2009-08-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 電子デバイス製造システムにおける圧力制御方法及び装置 |
| WO2012042800A1 (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-05 | 株式会社アルバック | ロードロック装置、排気制御装置及びロードロック装置の動作方法 |
| JP2012154315A (ja) * | 2011-01-05 | 2012-08-16 | Orion Machinery Co Ltd | 真空ポンプの運転方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2010528475A (ja) * | 2007-05-25 | 2010-08-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 電子デバイス製造システムを組み立てる及び運転する方法及び装置 |
| CN101678407A (zh) * | 2007-05-25 | 2010-03-24 | 应用材料股份有限公司 | 用于减量系统的有效操作的方法与装置 |
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| US8668868B2 (en) * | 2007-10-26 | 2014-03-11 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for smart abatement using an improved fuel circuit |
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| EP2373265B1 (en) | 2008-11-07 | 2016-03-09 | Abbott Medical Optics Inc. | Controlling of multiple pumps |
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| EP2376035B1 (en) | 2008-11-07 | 2016-12-14 | Abbott Medical Optics Inc. | Automatically switching different aspiration levels and/or pumps to an ocular probe |
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| EP2376036B1 (en) * | 2008-11-07 | 2018-01-03 | Abbott Medical Optics Inc. | Adjustable foot pedal control for ophthalmic surgery |
| DE102008062054B4 (de) | 2008-12-12 | 2019-05-29 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | Anordnung mit Vakuumpumpe und Verfahren zum Betrieb einer Vakuumpumpe |
| US9492317B2 (en) | 2009-03-31 | 2016-11-15 | Abbott Medical Optics Inc. | Cassette capture mechanism |
| GB2492065A (en) * | 2011-06-16 | 2012-12-26 | Edwards Ltd | Noise reduction of a vacuum pumping system |
| DE102011088974A1 (de) * | 2011-12-19 | 2013-06-20 | Continental Automotive Gmbh | Verfahren zur Anlaufsteuerung einer elektrischen Unterdruckpumpe |
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| CN102852772B (zh) * | 2012-05-07 | 2016-06-15 | 辽宁省电力有限公司沈阳供电公司 | 高效抽真空泵 |
| CN105673526B (zh) * | 2016-04-07 | 2018-09-18 | 上海华力微电子有限公司 | 一种分子泵及其控制方法 |
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| BE1028135B1 (nl) * | 2020-03-10 | 2021-10-11 | Atlas Copco Airpower Nv | Werkwijze en inrichting voor het regelen van de pompsnelheid, computerprogramma en een door een computer leesbaar medium waarop het computerprogramma is opgeslagen daarbij toegepast en een pomp |
| WO2021259461A1 (en) * | 2020-06-24 | 2021-12-30 | Pierburg Pump Technology Gmbh | Motor vehicle vacuum pump |
Family Cites Families (7)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5893494A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Ulvac Corp | 真空ポンプの作動制御装置 |
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| JPS62102883A (ja) | 1985-10-30 | 1987-05-13 | Hitachi Ltd | 廃液濃縮器 |
| JPS62102883U (ja) * | 1985-12-20 | 1987-06-30 | ||
| JPH05118289A (ja) | 1991-09-05 | 1993-05-14 | Ebara Corp | 真空ポンプの保護装置 |
| JPH05231381A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-07 | Hitachi Ltd | ドライ真空ポンプの真空排気容量制御方法とその装置並びにドライ真空ポンプおよび半導体製造用真空処理装置 |
| JP2000110735A (ja) * | 1998-10-01 | 2000-04-18 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | ポンプ保護装置、ポンプ保護方法及びポンプ装置 |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007010851A1 (ja) * | 2005-07-21 | 2007-01-25 | Nabtesco Corporation | 真空システム及びその運転方法 |
| JP2007071200A (ja) * | 2005-08-12 | 2007-03-22 | Ebara Corp | 真空排気装置および真空排気方法、基板の加工装置および基板の加工方法 |
| JP2009530819A (ja) * | 2006-03-16 | 2009-08-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 電子デバイス製造システムにおける圧力制御方法及び装置 |
| JP2008019740A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Shimadzu Corp | ターボ分子ポンプ |
| JP2009103124A (ja) * | 2007-10-25 | 2009-05-14 | Pfeiffer Vacuum Gmbh | 真空ポンプを含む装置およびその運転方法 |
| WO2012042800A1 (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-05 | 株式会社アルバック | ロードロック装置、排気制御装置及びロードロック装置の動作方法 |
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