JPH06260379A - クリーンルームのガス監視システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体素子製造装置において製品の被害を最
小にし、センサ数の大幅な削減を可能とし、瓦斯遮断装
置を的確に駆動して瓦斯漏れの被害が大きくならないよ
うにすることにある。 【構成】 ガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上
となった場合に、該ガスセンサの反応ガス種リスト及び
ガス濃度補正係数と製造管理用コンピュータからの半導
体素子製造装置の稼働状況及びガス使用状況に関する情
報により漏洩したガス種及びその場所を推定し、その推
定情報に基づき前記ガス遮断装置を駆動するガス遮断装
置駆動手段を前記ガス監視用コンピュータに設けると共
に、漏洩したガス種及びその場所の前記推定情報に基づ
き所定の半導体素子製造装置の作動を制御する作動制御
手段を製造管理用コンピュータに設けたものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルーム内の半
導体製造工程において発生する恐れのあるガス漏れに対
処するためのクリーンルームのガス監視システムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の分野に関する技術として
は、例えば図５に示すようなものがあった。

【０００３】図５は、従来におけるクリーンルームのガ
ス監視システムを示すの概略図である。

【０００４】同図に示すが如く半導体製造工程を行うた
めのクリーンルーム１０１には、付属設備としてガスボ
ンベ１０２及び真空ポンプ１０３を有する半導体素子製
造装置１０４と、装置コントローラ１０５とが設置され
ている。半導体素子製造装置１０４と装置コントローラ
１０５とは主にＳＥＣＳ規格の通信によって結ばれ、さ
らに装置コントローラ１０５がＬＡＮ１０６を介してク
リーンルーム１０１の外部に設けられた製造装置管理ホ
ストコンピュータ１０７に接続されている。

【０００５】処理時は、装置コントローラ１０５が処理
ウェーハの製品名、ロットＮｏ、ウェーハＮｏ等を読取
り、そのデータをホストコンピュータ１０７に転送す
る。ホストコンピュータ１０７は、送られてきたデータ
をキーにしてそのウェーハに該当する処理レシピを検索
し、装置コントローラ１０５へ検索された処理レシピを
ダウンロードする。このレシピにより製造装置１０４は
各ウェーハの加工を行っている。

【０００６】また、クリーンルーム１０１は、密室構造
であり、ダストの発生や不純物の混入を抑制するため循
環式の空調を採用している。一方、クリーンルーム１０
１内に設置された製造装置１０４は有毒ガス／可燃性ガ
スを使用するものが多く、万一のガス漏れ時の被害は、
このようなクリーンルーム環境下では多大なものとなる
傾向がある。

【０００７】そのため、半導体素子製造装置１０４やそ
の付属設備であるガスボンベ１０２及び真空ポンプ１０
３には、それぞれガス漏れを検出するガスセンサ１０
８，１０９，１１０がガス種毎に装備され、これらのガ
スセンサ１０８，１０９，１１０はクリーンルーム１０
１外のガス漏れ指示警報装置１１１に接続されている。
ガスボンベ１０２でガス漏れが発生した場合は、ガスセ
ンサ１０９でガス漏れを検出し、ガス漏れ指示警報装置
１１１においてガス漏れ発生を表示すると共に、該指示
警報装置１１１のロジックによりガス漏れを起こしたボ
ンベのバルブ遮断装置１１２を駆動して、そのガスバル
ブを閉じるこれにより、ガスの漏出を止めることが一般
に行われている。なお、ガス漏れ指示警報装置１１１に
は、手動遮断スイッチ（図示省略）も設けられ、人の判
断による全ガスバルブ遮断の機能も有している。

【０００８】しかし、半導体素子製造装置１０４にガス
センサ１０８が設置されていても、完全に密閉されたガ
スボンベストッカ１０２とは異なり、製造装置１０４で
は密閉性が低いためにガス漏れ発生時には製造装置１０
４外のクリーンルーム作業環境に有毒ガスが漏洩する場
合や、他にも製造装置１０４やボンベストッカ１０２以
外の配管等でガス漏れが発生する場合もある。

【０００９】そこで、クリーンルームは循環式空調であ
って万一室内でガス漏れが発生した場合はリターン口か
ら排出されることから、リターン口にそのクリーンルー
ムで使用する全てのガス種類に対応したガスセンサを設
置し、クリーンルーム室内でのガスも漏れを総合的にモ
ニタする手法（手法１）も従来より知られている。その
一例を図６に示す。

【００１０】同図の例では、循環式空調のクリーンルー
ム２０１内には、４台の半導体素子製造装置２０２〜２
０５が設置され、その各製造装置２０２〜２０５はＬＡ
Ｎ２０６を介してクリーンルーム２０１外の製造管理コ
ンピュータ２０７と接続されている。さらに、製造装置
２０２〜２０５で使用する５種類のガスＡ〜Ｅを各種別
にそれぞれ充填したガスボンベ２０８〜２１２が設置さ
れている。

【００１１】製造装置２０２〜２０５には、使用するガ
スＡ〜Ｅに応じてガスセンサ２１３〜２１８が装着さ
れ、ガスボンベ２０８〜２１２にはガス遮断弁２１９〜
２２４が装着されている。そして、クリーンルーム２０
１の空調リターン口２２５には、ガスＡ〜Ｅにそれぞれ
対応したガスセンサ２２６〜２３０が装着されている。
これらガスセンサ２１３〜２１８，２２６〜２３０及び
ガス遮断弁２１９〜２２４はすべて多重伝送装置２３１
を介してクリーンルーム２０１外のガス監視コンピュー
タ２３２に接続されている。多重伝送装置２３１は監視
区域毎に設けられている。

【００１２】クリーンルームが複数の部屋に分かれてい
る場合において上記手法１を用いた場合を図７に示す。
同図に示すが如く、クリーンルームはＡ室、Ｂ室、Ｃ室
と３部屋に分かれており、そのうち、Ａ室のみに半導体
素子製造装置３０２が設置されている。ガスボンベ室３
０３には、ガスセンサ３０４，３０５がガス種毎に設置
され、製造装置３０２にもガスセンサ３０６が設置され
ている。さらに、各部屋の空調リターン口には、その部
屋で使用するガス種毎のガスセンサ３０７〜３１５が設
置されている。そして、それらガスセンサがガス漏れ監
視用コンピュータ３１６に接続されている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記手
法１では次のような問題点があった。

【００１４】（１）半導体素子製造装置やボンベストッ
カでは使用ガス種が限られているため、設置するガスセ
ンサも少ないが、空調リターン口ではクリーンルーム内
で使用するガスの種類に対応したすべてのガスセンサを
設置しなければならなず、ガスセンサの数が非常に多く
なる。特に、上記図７に示すようにクリーンルームが複
数の部屋に分かれているような場合では、その部屋で使
用しているガス種の全てのガスセンサを設置する必要か
あるため、部屋数が多い場合は、そのガスセンサ数は１
００以上にも及ぶこともあり、費用やメンテナンスに多
くの時間を要する。

【００１５】（２）各ガスセンサの検知ガスへの識別性
が低く、他の種類のガスと混同してしまう。即ち、所定
濃度以上のガス漏れ時は、空調リターン口に設置した検
知ガス種の異なる複数のガスセンサが反応してしまうこ
とがあり、漏洩したガス種の特定が困難であり、迅速な
対応がとれない。

【００１６】（３）半導体素子製造装置へガス漏れの情
報が伝わらないため、製造装置は供給ガスが停止しても
処理を続行したり、供給ガス不足による非常処理に移行
したりして装置処理中のウェーハに対する適切な処置が
行われない。

【００１７】（４）半導体素子製造装置でガス漏れが発
生した場合に、その製造装置にガスを供給するガスボン
ベが不明なため、該当する監視区域やクリーンルーム全
体のガスボンベに対してバルブ遮断処置を行うことにな
ってしまう。この場合、ガス漏れ時には関係ない区域の
ガスボンベまでバルブ遮断し、半導体素子製造に大きな
悪影響が出る。

【００１８】（５）クリーンルームが複数の部屋に分か
れているような場合では、各部屋の空調リターン口でガ
ス漏れを検知しても、クリーンルームが循環式空調であ
るため、漏れたガスがガス漏れが発生していない部屋に
も回り込み、他の部屋のガスセンサでも検知されてしま
い、ガス漏れが発生した部屋を確定することが困難であ
るばかりでなく、１カ所でガス漏れが発生すると他の部
屋まで影響を与えることになり、被害を大きくする。

【００１９】本発明は、上述の如き従来の問題点を解決
するためになされたもので、その目的は、半導体素子製
造装置において製品の被害を最小にし、センサ数の大幅
な削減を可能とし、瓦斯遮断装置を的確に駆動して瓦斯
漏れの被害が大きくならないようにすることにある。

【００２０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明の特徴は、循環式空調のクリーンルーム
内に設けられた半導体素子製造装置と、前記半導体素子
製造装置を管理する製造管理用コンピュータと、前記半
導体素子製造装置へガス供給を行うガスボンベストッカ
と、前記クリーンルームの空調リターン口に設けられた
ガスセンサと、前記ガス供給を遮断するためのガス遮断
装置と、ガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上と
なるガス漏洩時に前記ガス遮断装置を駆動するガス監視
用コンピュータとを備えたクリーンルームのガス監視シ
ステムにおいて、前記ガスセンサからのガス濃度信号が
所定値以上となった場合に、該ガスセンサの反応ガス種
リスト及びガス濃度補正係数と前記製造管理用コンピュ
ータからの半導体素子製造装置の稼働状況及びガス使用
状況に関する情報により漏洩したガス種及びその場所を
推定し、その推定情報に基づき前記ガス遮断装置を駆動
するガス遮断装置駆動手段を前記ガス監視用コンピュー
タに設けると共に、漏洩したガス種及びその場所の前記
推定情報に基づき所定の半導体素子製造装置の作動を制
御する作動制御手段を前記製造管理用コンピュータに設
けたものである。

【００２１】第２の発明の特徴は、第１の発明におい
て、クリーンルームの空調リターン口に設けられた複数
のガスセンサの指示濃度比率を、各ガスセンサの反応ガ
ス種及びその補正係数リストと照合し、漏洩したガス種
及びその場所の前記推定情報を生成するようにする。

【００２２】第３の発明の特徴は、循環式空調のクリー
ンルーム内に設けられた半導体素子製造装置と、前記半
導体素子製造装置を管理する製造管理用コンピュータ
と、前記半導体素子製造装置へガス供給を行うガスボン
ベストッカと、前記半導体素子製造装置及びガスボンベ
ストッカに設けられたガスセンサと、前記ガス供給を遮
断するためのガス遮断装置と、ガスセンサからのガス濃
度信号が所定値以上となった場合に前記ガス遮断装置を
駆動するガス監視用コンピュータとを備えたクリーンル
ームのガス監視システムにおいて、前記半導体素子製造
装置またはガスボンベストッカに装着されたガスセンサ
からのガス濃度信号が所定値以上となった場合に、前記
半導体素子製造装置とガスボンベストッカと供給ガスに
おける各識別情報の対応リストを参照し、その参照結果
に基づき前記ガス遮断装置を駆動するガス遮断装置駆動
手段と、前記半導体素子製造装置またはガスボンベスト
ッカに装着されたガスセンサからのガス濃度信号が所定
値以上となった場合に、該ガスセンサが装着された半導
体素子製造装置の装置名、漏洩ガス名、供給停止ガス
名、及び前記ガス遮断装置の駆動により影響を受ける半
導体素子製造装置の装置名を含むＩＤ情報を前記製造管
理用コンピュータに送るＩＤ送信手段とを前記ガス監視
用コンピュータに設けると共に、前記ＩＤ情報に基づき
所定の半導体素子製造装置の作動を制御する作動制御手
段を前記製造管理用コンピュータに設けたものである。

【００２３】第４の発明の特徴は、循環式空調のクリー
ンルーム内の所定の部屋に設けられた半導体素子製造装
置と、前記半導体素子製造装置へガス供給を行うガスボ
ンベストッカと、前記クリーンルームの各部屋の空調リ
ターン口にそれぞれ設けられたガスセンサと、前記ガス
供給を遮断するためのガス遮断装置と、前記ガスセンサ
からのガス濃度信号が所定値以上となるガス漏洩時に前
記ガス遮断装置を駆動するガス監視用コンピュータとを
備えたクリーンルームのガス監視システムにおいて、前
記ガスセンサとして多種類のガスを検知する第１のガス
センサを設置すると共にし、クリーンルーム全体の空調
リターン口には該クリーンルーム内で使用するガスの種
類ごとに検知する第２のガスセンサを複数個設置し、前
記ガス監視用コンピュータにより、前記ガス漏洩時に前
記第１のガスセンサでガス漏れ発生の部屋を確定すると
共に、前記第２のガスセンサで漏れているガスの種類を
確定し、その確定結果に基づき前記ガス遮断装置を駆動
するようにしたものである。

【００２４】第５の発明の特徴は、前記第４の発明にお
いて、前記ガス漏れ時にクリーンルームの循環式空調を
中断して、このクリーンルーム内の排気を該クリーンル
ームの外部を送出し、クリーンルームに外気を取り入れ
るようにしたものである。

【００２５】

【作用】上述の如き構成によれば、第１の発明は、クリ
ーンルームの空調リターン口で瓦斯漏れが検出された場
合は、ガス監視用コンピュータで瓦斯漏れを検知した複
数の瓦斯センサの反応瓦斯種リスト及びガス濃度補正係
数から漏洩した瓦斯種を特定し、製造管理用コンピュー
タからの半導体素子製造装置の稼働状況及びガス使用状
況により漏洩した場所を推定して供給ガスの遮断を行
い、その情報を製造管理用コンピュータに送ることで、
例えば瓦斯漏れの発生した半導体素子製造装置を安全に
停止させる。これにより、供給瓦斯停止となる半導体素
子製造装置それぞれにおいて製品の被害を最小にするこ
とができる。

【００２６】第２の発明では、複数のガスセンサの指示
濃度比率を使用するのでセンサ数の削減を可能とする。

【００２７】第３の発明では、瓦斯センサからのガス濃
度データはガス監視用コンピュータで処理及び判断さ
れ、瓦斯漏れに該当するガスボンベストッカの瓦斯遮断
装置を駆動する。

【００２８】第４の発明では、正常な状態の場合は第２
の瓦斯センサが設置された空調リターン口を排気が通ら
なようにし、各部屋の空調リターン口で瓦斯漏れを検知
した場合は、その部屋の排気を切り替えて、瓦斯漏れが
発生した部屋の排気のみが第２の瓦斯センサを設置して
あるクリーンルーム全体の空調リターン口を通過させ
る。これにより、漏れた瓦斯の種類を確定し、ガス監視
用コンピュータにより該当する瓦斯の瓦斯遮断装置を駆
動し、瓦斯漏れの被害が大きくならないようにする。

【００２９】第５の発明では、ガス漏れ時にクリーンル
ームの循環式空調を中断して、このクリーンルーム内の
排気を該クリーンルームの外部を送出し、クリーンルー
ムに外気を取り入れるようにして、瓦斯漏れが発生して
いない部屋に影響を及ばさないようにする。

【００３０】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は、本発明の第１実施例に係るクリーンルー
ムのガス監視システムを示す概略図である。

【００３１】循環式空調のクリーンルーム１の同室に設
置された４機の半導体素子製造装置２〜５は、ＬＡＮ６
を介してクリーンルーム１外の製造管理用コンピュータ
７と接続されている。さらに、製造装置２〜５で使用す
る５種類のガスＡ〜Ｅを各種別毎に充填したガスボンベ
ストッカ８〜１２が設置されている。なお、本実施例で
は上記した図５で示す装置コントローラ及び真空ポンプ
と同機能のものが設置されているが、これらの説明は省
略する。

【００３２】製造装置２はガスＡ、製造装置３はガス
Ｂ，Ｃ、製造装置４はガスＣ、及び製造装置５はガス
Ｄ，Ｅをそれぞれ使用し、これら使用するガスに対応し
て各製造装置２〜５にはガスセンサ１３〜１８が装着さ
れている。装置が使用するガスは、ガスボンベ８〜１２
に装着されたガス遮断装置１９〜２４を介して各製造装
置２〜５に供給されるようになっている。

【００３３】そして、クリーンルーム１の空調リターン
口２５には、ガスＡ用のガスセンサ２６、ガスＢ用のガ
スセンサ２７、及びガスＣ用のガスセンサ２８が装着さ
れている。

【００３４】製造装置２〜５に装着したガスセンサ１３
〜１８、ガスボンベ８〜１２に装着されたガス遮断装置
１９〜２４、及び空調リターン口２５に装着されたガス
センサ２６，２７，２８は、監視区域（半導体製造ライ
ンが複数の区域に分けられている）毎に設置された多重
伝送装置３１に接続されている。多重伝送装置３１はガ
ス漏れ監視ホストコンピュータ３２に接続され、そのガ
ス漏れ監視ホストコンピュータ３２が通信回線３３を介
して製造管理用ホストコンピュータ７に接続されてい
る。ここで、ガス漏れ監視ホストコンピュータ３２に
は、非常表示灯の点灯や緊急放送等の機能も有する。

【００３５】多重伝送装置３１は、各ガスセンサからの
入力（ガス濃度）をデジタル信号に変換の後、多重化し
てガス漏れ監視ホストコンピュータ３２に送信し、同様
に該ガス漏れ監視ホストコンピュータ３２からの指示に
より製造管理用ホストコンピュータ７は、指定のガス遮
断装置１９〜２４を駆動するようになっている。

【００３６】次に、以上のように構成されるガス監視シ
ステムの動作を説明する。

【００３７】処理手順の一例として製造装置４でガス漏
れが発生した場合を想定すると、ガスセンサ１６の信号
（ガス濃度）は多重化伝送装置３１で多重化し、ガス監
視用ホストコンピュータ３２へ送信する。ガス監視用ホ
ストコンピュータ３２は、送られたデータをガス濃度に
換算し、その濃度が事前に設定したアラームレベル以上
の場合はガス漏れと判断する。

【００３８】ガス監視用ホストコンピュータ３２が図２
に示す対応表を参照して、自動的に供給元のガスボンベ
１０のガス遮断装置２２を駆動して漏洩ガスの供給を止
める。同時に、ガス漏れが発生した製造装置名（装置Ｉ
Ｄ）、漏洩ガス名（ガスＩＤ）、供給停止ガス名（ガス
ＩＤ）、ガス停止により影響を受ける製造装置名もしく
は製造装置ＩＤ（この場合は製造装置３）を製造管理用
ホストコンピュータ７へ送信する。

【００３９】製造管理用ホストコンピュータ７は、ガス
漏れが発生した製造装置４を緊急停止させ、ガス遮断の
影響を受ける各製造装置についても現在の状況をチェッ
クし、（１）枚葉処理装置で現在処理中であれば次のウ
ェーハの処理開始を止めて製造装置を停止させる、
（２）処理待ちの製造装置の場合は次の処理割り付けを
外す、（３）処理中であるが現在の処理レシピが供給停
止ガスを使用していない場合はそのまま処理を続行す
る、等の安全と製品への被害を最小にする最適に方法を
製造装置に指示する。

【００４０】ボンベ８〜１２のいずれかからガス漏れが
発生した場合も、同様に漏洩ガスを遮断すると共に、遮
断ガスの影響を受ける製造装置をガス監視用ホストコン
ピュータ３２が製造管理用ホストコンピュータ７に知ら
せ、安全と製品への被害を最小にする最適な方法を製造
装置に指示する。また、ガスボンベ８〜１２及び製造装
置２〜５以外の例えば配管等からガスが漏洩し場合は、
空調リターン口２５に設置したガスセンサ２６〜２８で
５種類のガスを検出する。

【００４１】上述したように従来一般に、ガスセンサの
ガス識別性は低く、多種のガスに反応する。図３に示す
ように例えばガスＡ用のガスセンサは、ガスＡに反応す
る以外にガスＢに０．５の感度で反応する。つまり、ガ
スＢが１００ｐｐｍ存在する雰囲気は、ガスＡ用のガス
センサによってガスＡが５０ｐｐｍ存在する（ガスＣ；
１０００ｐｐｍであればガスＡ；３０ｐｐｍ）と判断さ
れてしまう。同様のことがガスＢ，Ｃ用のガスセンサに
もいえるため、例えば高濃度のガスＡが漏れた場合は、
ガスセンサＡ，Ｂ，Ｃ全てが反応してアラームを発生し
てしまい、従来では実際の漏洩ガス種が判別できなかっ
た。

【００４２】これに対して、本実施例ではガスセンサが
多種のガスに反応することを利用し、ガス漏れが発生し
た場合に、各ガスセンサ単独の濃度ではなく、各ガスセ
ンサ指示濃度の比率を利用する。例えば、ガスＡ，Ｂ，
Ｃ用の各ガスセンサの指示濃度が１：０．７：０．４で
あればガスＡであり、指示濃度が０．５：１：０．３で
あればガスＢであると判断する。ガス濃度が変動しても
３個のガスセンサ２６〜２８の指示濃度比率は一定であ
るため、全ガスセンサがアラームを発生するような高濃
度のガス漏れ時であっても、本実施例の手法によれば漏
出ガス種を迅速に特定することが可能となる。さらに、
ガスセンサの指示濃度比率でガス種を判断するため、空
調リターン口２５にガスＤ，Ｅ用のガスセンサを設置せ
ずともそのガス漏れを検出することができる。

【００４３】図４は、本発明の第２実施例に係るクリー
ンルームのガス監視システムを示す概略図である。

【００４４】本実施例では、クリーンルーム５１が複数
の部屋Ａ，Ｂ，Ｃに分かれ、その各部屋Ａ，Ｂ，Ｃの空
調リターン口と全体の空調リターン口にガスセンサを設
置してガス漏れを検知する場合を示している。

【００４５】Ａ室に設置されている半導体素子製造装置
５２及び付属設備（図示省略）とガスボンベ室５３に
は、ガス漏れを検知するガスセンサ５４，５５，５６が
ガス種毎に設置され、このガスセンサ５４，５５，５６
がガス漏れ監視ホストコンピュータ５７に接続されてい
る。例えば製造装置５２でガス漏れが発生した場合は、
ガスセンサ５４でガス漏れを検出し、その製造装置５２
にガスを供給しているガスボンベのバルブを閉め、ガス
の露出を止める。

【００４６】また、各部屋Ａ，Ｂ，Ｃの空調リターン口
には、他種類のガスを検知するガスセンサ５８〜６０を
それぞれ設置し、クリーンルーム全体の空調リターン口
には各ガスの種類毎にガス漏れを検知するガスセンサ６
１〜６３が設置されている。これらのガスセンサ６１〜
６３もガス漏れ監視ホストコンピュータ５７に接続され
ている。

【００４７】クリーンルームは循環式空調のため、各部
屋Ａ，Ｂ，Ｃの排気は全てリターン口を通過して循環し
ている。そのため、どこかでガス漏れが発生すれば、必
ずリターン口でガス漏れを検知することができる。さら
に、全体のリターン口に設置したガスセンサ６１〜６３
でガスの種類ごとにガス漏れを検知し、漏れているガス
の種類を確定する。

【００４８】正常時は部屋のリターン口のバルブ６４〜
６６を全て閉じてガスセンサ６１〜６３を設置したリタ
ーン口を通過しないで循環させ、ガス漏れが発生した場
合は、ガス漏れが発生した部屋のリターン口のバルブの
みを開き、その排気のみがガスセンサ６１〜６３を設置
したリターン口を通過するようにし、漏れたガスの種類
を確定する。

【００４９】各部屋Ａ，Ｂ，Ｃのリターン口に設置した
ガスセンサ５８〜６０と全体のリターン口に設置したガ
スセンサ６１〜６３とでガス漏れを検知し、ガス漏れが
発生した部屋と漏れたガスの種類を確定し、接続されて
いるガス漏れ監視ホストコンピュータ５７により該当す
るガスボンベのガス遮断装置を閉めることを可能にす
る。

【００５０】本実施例のように３部屋で３種類のガスを
使用した場合には、クリーンルームの雰囲気用のガスセ
ンサは従来では９個必要であったものを、本実施例では
６個に削減できる。実際は、部屋数及びガス種共に１０
数を越えるので、そのガスセンサの削減数ば大きなもの
となる。

【００５１】また、ガス漏れが発生した場合、循環式空
調であるクリーンルームでは、漏れたガスがクリーンル
ーム内を循環し、ガス漏れが発生していない部屋まで及
ぶ恐れがあり、危険である。そこで、ガス漏れを検知し
た場合は、バルブ６７を閉め、バルブ６８，６９を開
き、循環式空調を止める。これにより、リターン口から
の排気を排気ガス処理装置を介してクリーンルーム５１
の外に送出し、外気をフィルタ７１を介してクリーンル
ーム５１内に取り込み、漏れたガスが発生した部屋以外
へガスの流入を防止し、被害を最小限にすることができ
る。

【００５２】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、第１の発明
では、例えば瓦斯漏れの発生した半導体素子製造装置を
安全に停止させることができ、供給瓦斯停止となる半導
体素子製造装置それぞれにおいて製品の被害を最小にす
ることが可能となる。

【００５３】第２の発明では、複数のガスセンサの指示
濃度比率を使用するのでセンサ数の大幅な削減を可能と
する。

【００５４】第３の発明では、瓦斯漏れに該当するガス
ボンベストッカの瓦斯遮断装置を適格に駆動することが
可能となる。

【００５５】第４の発明では、これにより、漏れた瓦斯
の種類を確定し、ガス監視用コンピュータにより該当す
る瓦斯の瓦斯遮断装置を的確に駆動し、瓦斯漏れの被害
が大きくならないようにすることができる。

【００５６】第５の発明では、瓦斯漏れが発生していな
い部屋に影響を及ばさないようにすることが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係るクリーンルームのガ
ス監視システムを示す概略図である。

【図２】第１実施例で使用する瓦斯センサと供給瓦斯の
対応表を示す図である。

【図３】第１実施例で使用する瓦斯種と濃度補正係数の
リストを示す図である。

【図４】本発明の第２実施例に係るクリーンルームのガ
ス監視システムを示す概略図である。

【図５】従来におけるクリーンルームのガス監視システ
ムを示すの概略図である。

【図６】従来におけるクリーンルームの他のガス監視シ
ステムを示すの概略図である。

【図７】従来におけるクリーンルームの他のガス監視シ
ステムを示すの概略図である。

【符号の説明】

２〜５ 半導体素子製造装置 ８〜１２ ガスボンベストッカ １９〜２４ ガス遮断弁 １３〜１８ ガスセンサ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松澤 浩 神奈川県川崎市幸区小向東芝町１ 株式会 社東芝多摩川工場内 (72)発明者 千葉 恵里子 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地１ 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 循環式空調のクリーンルーム内に設けら
   れた半導体素子製造装置と、前記半導体素子製造装置を
   管理する製造管理用コンピュータと、前記半導体素子製
   造装置へガス供給を行うガスボンベストッカと、前記ク
   リーンルームの空調リターン口に設けられたガスセンサ
   と、前記ガス供給を遮断するためのガス遮断装置と、ガ
   スセンサからのガス濃度信号が所定値以上となるガス漏
   洩時に前記ガス遮断装置を駆動するガス監視用コンピュ
   ータとを備えたクリーンルームのガス監視システムにお
   いて、 前記ガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上となっ
   た場合に、該ガスセンサの反応ガス種リスト及びガス濃
   度補正係数と前記製造管理用コンピュータからの半導体
   素子製造装置の稼働状況及びガス使用状況に関する情報
   により漏洩したガス種及びその場所を推定し、その推定
   情報に基づき前記ガス遮断装置を駆動するガス遮断装置
   駆動手段を前記ガス監視用コンピュータに設けると共
   に、 漏洩したガス種及びその場所の前記推定情報に基づき所
   定の半導体素子製造装置の作動を制御する作動制御手段
   を前記製造管理用コンピュータに設けたことを特徴とす
   るクリーンルームのガス監視システム。
2. 【請求項２】 クリーンルームの空調リターン口に設け
   られた複数のガスセンサの指示濃度比率を、各ガスセン
   サの反応ガス種及びその補正係数リストと照合し、漏洩
   したガス種及びその場所の前記推定情報を生成するよう
   にしたことを特徴とする請求項１記載のクリーンルーム
   のガス監視システム。
3. 【請求項３】 循環式空調のクリーンルーム内に設けら
   れた半導体素子製造装置と、前記半導体素子製造装置を
   管理する製造管理用コンピュータと、前記半導体素子製
   造装置へガス供給を行うガスボンベストッカと、前記半
   導体素子製造装置及びガスボンベストッカに設けられた
   ガスセンサと、前記ガス供給を遮断するためのガス遮断
   装置と、ガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上と
   なった場合に前記ガス遮断装置を駆動するガス監視用コ
   ンピュータとを備えたクリーンルームのガス監視システ
   ムにおいて、 前記半導体素子製造装置またはガスボンベストッカに装
   着されたガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上と
   なった場合に、前記半導体素子製造装置とガスボンベス
   トッカと供給ガスにおける各識別情報の対応リストを参
   照し、その参照結果に基づき前記ガス遮断装置を駆動す
   るガス遮断装置駆動手段と、 前記半導体素子製造装置またはガスボンベストッカに装
   着されたガスセンサからのガス濃度信号が所定値以上と
   なった場合に、該ガスセンサが装着された半導体素子製
   造装置の装置名、漏洩ガス名、供給停止ガス名、及び前
   記ガス遮断装置の駆動により影響を受ける半導体素子製
   造装置の装置名を含むＩＤ情報を前記製造管理用コンピ
   ュータに送るＩＤ送信手段とを前記ガス監視用コンピュ
   ータに設けると共に、 前記ＩＤ情報に基づき所定の半導体素子製造装置の作動
   を制御する作動制御手段を前記製造管理用コンピュータ
   に設けたことを特徴とするクリーンルームのガス監視シ
   ステム。
4. 【請求項４】 循環式空調のクリーンルーム内の所定の
   部屋に設けられた半導体素子製造装置と、前記半導体素
   子製造装置へガス供給を行うガスボンベストッカと、前
   記クリーンルームの各部屋の空調リターン口にそれぞれ
   設けられたガスセンサと、前記ガス供給を遮断するため
   のガス遮断装置と、前記ガスセンサからのガス濃度信号
   が所定値以上となるガス漏洩時に前記ガス遮断装置を駆
   動するガス監視用コンピュータとを備えたクリーンルー
   ムのガス監視システムにおいて、 前記ガスセンサとして多種類のガスを検知する第１のガ
   スセンサを設置すると共に、クリーンルーム全体の空調
   リターン口には該クリーンルーム内で使用するガスの種
   類ごとに検知する第２のガスセンサを複数個設置し、 前記ガス監視用コンピュータにより、前記ガス漏洩時に
   前記第１のガスセンサでガス漏れ発生の部屋を確定する
   と共に、前記第２のガスセンサで漏れているガスの種類
   を確定し、その確定結果に基づき前記ガス遮断装置を駆
   動するようにしたことを特徴とするクリーンルームのガ
   ス監視システム。
5. 【請求項５】 前記ガス漏れ時にクリーンルームの循環
   式空調を中断して、このクリーンルーム内の排気を該ク
   リーンルームの外部を送出し、クリーンルームに外気を
   取り入れるようにした請求項４記載のクリーンルームの
   ガス監視システム。