KR20060026261A - 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템 - Google Patents
유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060026261A KR20060026261A KR1020040075117A KR20040075117A KR20060026261A KR 20060026261 A KR20060026261 A KR 20060026261A KR 1020040075117 A KR1020040075117 A KR 1020040075117A KR 20040075117 A KR20040075117 A KR 20040075117A KR 20060026261 A KR20060026261 A KR 20060026261A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- gas
- gas supply
- pressure
- toxic
- supply system
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
- F17C13/04—Arrangement or mounting of valves
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
Abstract
유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템을 제시한다. 본 발명에 따르면, 유독 가스 유출을 긴급 차단하기 위해, 가스 공급부에서 제조 장비로 공급되는 가스의 압력이 급락하는 현상을 감지하는 압력 검출부를 가스 공급부 쪽에 설치하고, 압력 검출부에서 검출된 가스 압력 급락에 의해 가스 공급 제어 밸브가 잠기도록 제어하여, 가스 공급 배관으로의 가스 공급이 긴급 차단되도록 한다.
가스 공급 박스, 밸브, 유독 가스, 가스 유출, 압력 급락
Description
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템을 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면이다.
본 발명은 반도체 제조 설비에 가스를 공급하는 시스템(system)에 관한 것으로, 특히, 유독 가스 유출이 발생되었을 때 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하는 반도체 제조 설비는 여러 종류의 반응 가스들을 사용하고 있다. 이러한 반응 가스들을 반도체 제조 설비에 공급하기 위한 설비로 가스 공급 시스템이 도입되고 있다. 가스 공급 시스템은 가스 공급 박스(gas supply box)로 일컬어지는 가스 공급부와, 가스 공급부로부터 제공되는 가스를 반도체 제조 설비에까지 이송되는 통로인 가스 공급 배관을 포함하여 구성된다.
가스 공급 배관이 원하지 않게 절단되거나 또는 결손(feeting open)될 경우, 가스 공급 배관으로부터 가스 유출이 발생되게 된다. 그런데, 반도체 제조 설비에 요구되는 가스는 유독성 가스가 많아, 이러한 가스 유출이 대형 사고를 유발할 수 있다. 또한, 가스 공급 배관의 이상 이외에도 가스 공급 배관 및 가스 공급 시스템을 관리하는 작업자의 실수로 유독 가스가 유출될 경우, 이러한 가스 유출을 인위적으로 차단하기 전까지는 이러한 유독 가스 유출이 계속될 수 있다. 이에 따라, 유독 가스 유출에 따른 대형 사고가 발생될 수 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 가스 공급 시스템에서 유독 가스가 원하지 않게 유출되어 대형 사고가 발생되는 것을 효과적으로 방지할 수 있는 장치를 제공하는 데 있다.
상기의 기술적 과제들을 달성하기 위한 본 발명의 일 관점은, 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템을 제시한다.
상기 가스 공급 시스템은 반도체 소자 제조 장비에 가스를 공급하는 통로인 가스 공급 배관, 상기 가스 공급 배관으로 상기 가스를 공급하는 가스 공급부, 상기 가스 공급부로부터 상기 가스 공급 배관으로의 가스 공급을 제어하는 제어 밸브, 상기 가스 공급부에서 공급되는 상기 가스의 압력의 급락 현상을 감지하는 압력 검출부, 및 상기 압력 검출부에서 검출된 상기 가스 압력 급락에 의해 상기 제어 밸브가 잠기도록 제어하는 제어부를 포함하여 구성될 수 있다.
여기서, 상기 압력 검출부는 상기 가스 공급부쪽에서의 상기 가스의 압력 변화를 감시하는 것일 수 있다.
본 발명에 따르면, 가스 공급 시스템에서 유독 가스가 원하지 않게 유출되어 대형 사고가 발생되는 것을 효과적으로 방지할 수 있도록 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 장치를 포함하는 가스 공급 시스템을 제공할 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들로 인해 한정되어지는 것으로 해석되어져서는 안되며, 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것으로 해석되는 것이 바람직하다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템을 설명하기 위해서 개략적으로 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 가스 공급 시스템은 유독 가스 유출을 긴급 차단하도록 구성된다. 예컨대, 가스 공급 시스템은 가스 공급부(100)를 포함하여 구성된다. 가스 공급부(100)는 예컨대 가스 공급 박스(gas supply box) 형태로 구성될 수 있다. 이러한 가스 공급부(100)는 가스 공급원(gas source:110)을 포함하고 있으며, 이러한 가스 공급원(110)에 가스 공급 배관(200)이 연결된다.
반도체 소자 제조 장비(300)에 가스를 공급하는 통로인 가스 공급 배관(200)은 반도체 소자 제조 장비(300)와 가스 공급원(110)을 연결하는 역할을 한다. 이때, 가스 공급원(110) 쪽 가스 공급 배관(200) 부분에 제어 밸브(control valve:150)가 설치되어, 가스 공급부(100)로부터 가스 공급 배관(200)으로의 가스 공급을 제어한다. 또한, 가스 공급부(100) 단에는, 예컨대, 가스 공급원(110) 쪽 가스 공급 배관(200) 부분에는 압력 검출부(170)가 연결되어, 가스 공급부(100) 단에서의 가스 압력의 변화를 지속적으로 감지한다.
가스 공급 배관(200) 등에서 가스가 원하지 않게 유출될 경우, 가스 공급부(100) 쪽의 가스 공급 압력은 갑자기 급락되게 된다. 따라서, 이러한 가스의 공급 압력의 급락을 압력 검출부(170)가 검출하고, 이러한 압력 급락 현상의 발생을 제어부(190)에 알리게 된다. 제어부(190)는 압력 검출부(170)에서 검출된 가스 압력 급락에 의해 제어 밸브(150)가 잠기도록 제어한다. 이에 따라, 가스 공급 배관(200) 등에 원하지 않게 가스 유출되더라도 즉각 제어 밸브(150)가 잠길 수 있어, 가스의 공급 또는/ 및 가스의 유출이 긴급히 차단될 수 있다. 따라서, 유독 가스의 지속적인 유출에 의해서 대형 사고가 발생되는 것을 근원적으로 방지할 수 있다.
상술한 본 발명에 따르면, 유독 가스 공급 박스에서 반도체 소자 제조 설비 쪽으로 공급하는 압력을 검출(reading)하되 설비 쪽 가스 배관이 원하지 않게 열린 경우 가스 배관의 가스가 방출되며 압력이 떨어지는 것을 검출하여, 이러한 가스 알력 급락을 이용하여 가스 공급을 긴급 차단할 수 있다. 가스 공급 박스의 공급 압력이 갑자기 떨어질 경우 가스 공급 박스에서 설비 쪽으로 가스를 공급하는 밸브를 잠가 더 이상의 가스 누출을 방지하여 대형 사고를 방지할 수 있다. 이와 함께, 압력 급락을 감지함으로써, 가스 배관의 절단 또는 손상 여부를 확인할 수 있다. 또한, 가스의 대기 중 방출 여부를 확인할 수 있다.
이상, 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.
Claims (2)
- 반도체 소자 제조 장비에 가스를 공급하는 통로인 가스 공급 배관;상기 가스 공급 배관으로 상기 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 가스 공급부로부터 상기 가스 공급 배관으로의 가스 공급을 제어하는 제어 밸브;상기 가스 공급부에서 공급되는 상기 가스의 압력의 급락 현상을 감지하는 압력 검출부; 및상기 압력 검출부에서 검출된 상기 가스 압력 급락에 의해 상기 제어 밸브가 잠기도록 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
- 제1항에 있어서,상기 압력 검출부는 상기 가스 공급부쪽에서의 상기 가스의 압력 변화를 감시하는 것을 특징으로 하는 가스 공급 시스템.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040075117A KR20060026261A (ko) | 2004-09-20 | 2004-09-20 | 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040075117A KR20060026261A (ko) | 2004-09-20 | 2004-09-20 | 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060026261A true KR20060026261A (ko) | 2006-03-23 |
Family
ID=37137693
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040075117A KR20060026261A (ko) | 2004-09-20 | 2004-09-20 | 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20060026261A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014137121A1 (ko) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | 박광호 | 반도체 및 디스플레이 제조 설비용 매뉴얼 밸브의 제어 및 모니터링 장치 |
CN113154408A (zh) * | 2021-03-19 | 2021-07-23 | 中国辐射防护研究院 | 一种放射性废物焚烧系统应急泄爆装置 |
-
2004
- 2004-09-20 KR KR1020040075117A patent/KR20060026261A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014137121A1 (ko) * | 2013-03-05 | 2014-09-12 | 박광호 | 반도체 및 디스플레이 제조 설비용 매뉴얼 밸브의 제어 및 모니터링 장치 |
CN113154408A (zh) * | 2021-03-19 | 2021-07-23 | 中国辐射防护研究院 | 一种放射性废物焚烧系统应急泄爆装置 |
CN113154408B (zh) * | 2021-03-19 | 2023-03-21 | 中国辐射防护研究院 | 一种放射性废物焚烧系统应急泄爆装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2813856B2 (ja) | シリンダ付ガス供給装置 | |
NO338712B1 (no) | Anordning og fremgangsmåte for beskyttelse av et brønnhode | |
JP2006321041A (ja) | 内圧防爆システム | |
KR20180134756A (ko) | Efem 가스 재순환 | |
US8746272B2 (en) | Solenoid bypass system for continuous operation of pneumatic valve | |
BRPI0609311A2 (pt) | válvula de fácil manutenção para sistema de combate a incêndio | |
KR20060026261A (ko) | 유독 가스 유출을 긴급 차단할 수 있는 가스 공급 시스템 | |
KR100905710B1 (ko) | 반도체 제조 공정으로 가스를 공급하기 위한 가스 운반시스템 | |
KR101275890B1 (ko) | 가스분배 공급장치 | |
KR102671473B1 (ko) | 방폭 기능이 구비된 반도체 장비의 케미컬 공급 장치 | |
JP5016229B2 (ja) | 逆流防止装置 | |
JP7493543B2 (ja) | ガス処理システム | |
KR20060028874A (ko) | 가스 공급 시스템 | |
KR101271123B1 (ko) | 가스 공급장치 | |
WO2022230766A1 (ja) | ガス処理システム | |
KR100688263B1 (ko) | 액화석유가스용 안전고압호스 | |
KR101635853B1 (ko) | 저장탱크의 슬러지 제거용 압력 유지장치 | |
TW442632B (en) | Device and method for preventing any gas supply system interruption | |
KR20020080925A (ko) | 반도체장치 제조설비의 가스 공급시스템 | |
JPH0536673A (ja) | 半導体製造装置 | |
KR20130131614A (ko) | 용접용 가스의 공급 제어 시스템 및 방법 | |
KR100258819B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 코팅장비에 사용되는 케미칼 공급방법 | |
KR20040003472A (ko) | 에어동작 밸브의 구동장치 | |
JP2012202587A (ja) | ガスリファイニングシステム | |
KR20020087615A (ko) | 가스 봄브 캐비닛 시스템의 가스 누출 검사 방법 및 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |