JP3808596B2 - 精製空気供給システム - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、化学物質や水分を極力少なくした空気(以下、「精製空気」という)で、電子部品製造装置自体や、電子部品の保管庫、および電子部品製造装置と電子部品搬送装置との間で電子部品を移送するためのインターフェース部など、クリーンルーム内に設置されているが当該クリーンルーム内の雰囲気とは隔離されたエンクロージャ部内の不純空気をパージするための精製空気供給システムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造工場における製造プロセスは、クリーンルーム内に設置された半導体製造装置によって行われている。半導体デバイスが形成される際の基板となる半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)の、半導体製造装置に対する搬入出は、半導体製造装置に接続されているインターフェース部を通じて行われる。そして未処理のウエハ、並びに前記半導体製造装置での処理が終わったウエハは、通常ウエハカセット(単に「カセット」とも呼ばれるている)内に複数枚(例えば25枚)収納された状態で、搬送ロボットなどの搬送装置によってカセット単位で運搬され、インターフェース部の所定の載置部には、カセット単位で載置される。
【0003】
ところでクリーンルーム内の空気中にも、クリーンルーム構成材や他の半導体製造装置から生ずる微量の有機物、酸・塩基性ガス、ボロン、リン等の化学汚染物質が浮遊している。このような化学汚染物質が、前記したウエハの表面等に付着すると、デバイスの電気特性が変化したり、所期の機能が得られなくなるなど、歩留まりが低下するおそれがある。そのため、従来は、例えば前記インターフェース部をパネル材等で気密に閉鎖して、クリーンルーム内の雰囲気から隔離されたエンクロージャ部とし、空気精製装置によって処理した精製空気をこのエンクロージャ部に供給して、エンクロージャ部内をこの精製空気によってパージするための精製空気供給システムを使用していた。
【0004】
図6に示した精製空気供給システム211は、一過性の供給システムであり、外気やクリーンルーム内の空気(以下、「導入空気」という)を、クリーンルームの床下空間に設置した空気精製装置212内の送風機213で吸込み、二段に配置したフィルタ214、215を通過させて処理し、その後エンクロージャ部Ecに供給すると共に、エンクロージャ部Ecの雰囲気はそのまま排気するようにしていた。
【0005】
このような一過性の供給システムでは、精製度が比較的高くない導入空気を、空気精製装置212内において、要求される精製度にまで高める必要があるため、図6に示したようにフィルタ214、215を二段に設置しなければならないという問題がある。
【0006】
そのためこれを改善する手法として、図7に示したような、いわゆる循環式の精製空気供給システム221が提案されている。この精製空気供給システム221における空気精製装置222は、送風機223と一段のフィルタ224を備え、エンクロージャ部Ecの雰囲気の一部を還気RAとして、送風機223の上流側へと戻して、導入空気と混合させて循環させる方式である。かかる循環式の精製空気供給システム221では、たとえフィルタ224の除去効率が低いものであっても、還気RAを再処理して使用しているので、精製度の高い空気を供給することが可能となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら図7に示した循環式の精製空気供給システム221であっても、次のような問題がある。すなわち、エンクロージャ部Ecを構築するパネルの接続部の隙間や、ウエハの出し入れ時にできる開口等から空気がリークした場合、空気の一部が再循環せずに供給システム外に排出される。またエンクロージャ部Ecの内部と外部との差圧を一定にする際の、循環系の還気RAの空気量を制御する場合も同様な結果となる。したがっていずれにしても供給する空気の一部が再循環しないから、還気RAが不足する。
【0008】
その結果、空気精製装置222には、不足した循環空気を補給するため、例えばクリーンルーム内の空気などの導入空気を導入することになる。この場合、還気RAに比べて水分や化学汚染物質を多く含んだ導入空気の導入量が前記リーク等によって変動すると、空気精製装置222の出口空気の精製度が変動してしまう。たとえばエンクロージャ部Ecへのウエハの出入り時の際にリーク量が増加する場合には、導入空気の導入量も増加し、空気精製装置222の出口空気の精製度は一時的に悪くなってしまうのである。
【0009】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、基本的には循環方式の精製空気供給システムを採用するが、前記したようなエンクロージャ部からのリークがあっても、精製度の安定した精製空気を供給できるようにして、前記問題の解決を図ることを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、請求項1の精製空気供給システムは、クリーンルーム内にあって当該クリーンルーム内の雰囲気から隔離されたエンクロージャ部に、精製空気を供給するシステムであって、送風機とフィルタ装置とを備えた空気精製装置と、前記エンクロージャ部に、前記フィルタ装置を通過した精製空気を前記送風機によって供給する給気管と、前記エンクロージャ部内の雰囲気の一部を還気として、前記フィルタ装置の上流側に戻すための還気管と、前記フィルタ装置に通ずる導入空気の導入管とを有し、さらに前記空気精製装置内における導入管に、導入空気精製用フィルタ装置が介装され、さらに前記エンクロージャ部内の圧力を検出する圧力センサを備え、前記エンクロージャ部内は正圧になるように制御され,前記エンクロージャ部からのリークが通常時よりも多くなった際には、当該圧力センサからの信号に基づき、前記エンクロージャ部内の不純物濃度を一定の濃度以下となるように、還気及び導入空気の流量を制御するように構成されたことを特徴としている。
【0011】
このような精製空気供給システムによれば、リーク等によって還気の空気量が不足して、導入空気を通常よりも多く導入する場合でも、この導入空気は最終のフィルタ装置に直接導入されず、その前段にある導入空気精製用フィルタ装置によって処理された後に前記フィルタ装置に導入される。したがって、最終のフィルタ装置に導入されるのは、そのように導入空気精製用フィルタ装置によって一次精製処理された後の空気と、エンクロージャ部からの還気であるから、精製度は安定したものとなっている。したがって、リーク等があってもエンクロージャ部には一定の精製度の精製空気を供給することができる。
【0012】
しかも還気に比べて導入空気、すなわち外気やクリーンルーム内の空気の導入量は少ないので、導入空気精製用フィルタ装置の処理量は少なくて済み、図5に示した従来の単なる二段接続フィルタにおける前段のフィルタ214よりも、導入空気精製用フィルタ装置を小型化することができる。またそれに伴って運転コスト、並びに設備コストも低減できる。
【0013】
フィルタ装置、導入空気精製用フィルタ装置には、各々条件に応じて任意のもの、例えば減湿用、酸性ガス用、アルカリ性ガス用、有機ガス用のものを使用できるが、エンクロージャ部の有機物に対する仕様が厳しいときには、導入空気精製用フィルタ装置に減湿用乾式ロータを使用し、フィルタ装置には減湿用乾式ロータに固定式活性炭フィルタを組み合わせたものを使用することが好ましい。また湿度に対する仕様が厳しい場合には、導入空気精製用フィルタ装置には減湿用乾式ロータを使用し、フィルタ装置には減湿用乾式ロータに固定式ゼオライトフィルタを組み合わせたものを使用することが提案できる。
【0014】
なお本願各請求項でいうところのエンクロージャ部とは、既述したインターフェース部や、半導体製造装置をはじめとする各種電子部品製造装置、電子部品の保管庫、検査装置など、エンクロージャ部内に設置される装置の如何を問わず、クリーンルーム内にあって、さらにこのクリーンルーム内の雰囲気とは隔離された閉鎖空間を有するものをいう。
【0015】
請求項2の精製空気供給システムは、還気が戻されてエンクロージャ部に最終の精製空気を供給する空気精製装置と、導入空気精製用フィルタ装置によって導入空気を精製するプレ空気精製装置とを別体としたことを特徴としている。このような精製空気供給システムによれば、設置のレイアウトの自由度が高い。
【0016】
以上の各精製空気供給システムにおいては、還気の空気の流量が変動しても、一定の給気量と精製度を確保することができる。この場合、例えばエンクロージャ部内の圧力は、クリーンルーム内の圧力よりも1〜2mmAq程度高くするように制御することで、クリーンルーム内に浮遊している汚染物質のエンクロージャ部内への流入を防止できる。
【0017】
具体的な制御の方法については、例えば空気精製装置内における還気管や導入管に制御弁を介装し、エンクロージャ部内の圧力を検出する圧力センサからの信号に基づいてこれらの弁の開度を制御する方法が挙げられる。
【0018】
エンクロージャ部が複数ある場合には、1台の空気精製装置から複数のエンクロージャ部に給気管と還気管を接続して供給することももちろん可能であるが、例えば請求項3や請求項4に記載した精製空気供給システムのようにシステムを構築すれば、最終の空気精製装置がエンクロージャ部に近接して設置できるため、循環経路が短くなり、経路でのリークや、管材及びそれらの接合材からの不純物の発生を少なくできるので好適である。
【0019】
すなわち、請求項3に記載した精製空気供給システムは、クリーンルーム内にあって当該クリーンルーム内の雰囲気から隔離された複数のエンクロージャ部に、精製空気を供給するシステムであって、送風機とフィルタ装置とを備えた、前記エンクロージャ部の数に対応した複数の空気精製装置と、各エンクロージャ部に、対応する空気精製装置のフィルタ装置を通過した精製空気を送風機によって供給する複数の給気管と、各エンクロージャ部内の雰囲気の一部を還気として、対応する空気精製装置のフィルタ装置の上流側に戻すための複数の還気管と、前記各空気精製装置のフィルタ装置に通ずる対応する複数の導入空気の導入管とを有し、前記各導入管は、上流側の主導入管から分岐されたものであり、この主導入管にはプレ空気精製装置を備え、当該プレ空気精製装置には、導入空気精製用フィルタ装置と、当該導入空気精製用フィルタ装置を通過した空気を、前記各空気精製装置に供給するための送風機が設けられ、さらに各エンクロージャ部内の圧力を個別に検出する圧力センサを備え、各エンクロージャ部内は正圧になるように制御され,前記各エンクロージャ部からのリークが通常時よりも多くなった際には、当該圧力センサからの信号に基づき、当該エンクロージャ部内の不純物濃度を一定の濃度以下となるように、各空気精製装置への還気及び導入空気の流量を各空気精製装置毎に制御するように構成されたことを特徴としている。
【0020】
かかる精製空気供給システムによれば、1台のプレ空気精製装置によって精製された後の導入空気を、複数の空気精製装置へと供給することができる。なおこの場合、複数の空気精製装置が要求する導入空気量に対応するため、各空気精製装置の要求量の合計に応じて、プレ空気精製装置の送風機を、例えばインバータ制御することによって送風量を制御することが好ましい。
【0021】
この請求項3の精製空気供給システムは、プレ空気精製装置から供給されるいわば一次精製された導入空気を、分岐させて各空気精製装置に供給するように構成したが、これに代えて請求項4のように、プレ空気精製装置から供給される一次精製処理された導入空気をループ状に循環させ、この循環系に各空気精製装置への供給路を接続するように構成してもよい。
【0022】
すなわち請求項4の精製空気供給システムは、プレ空気精製装置における導入空気精製用フィルタ装置を通過した空気を、この導入空気精製用フィルタの上流側に戻す循環路を有し、各空気精製装置への導入経路を、この循環路に接続したことを特徴としている。
【0023】
なおこの場合、循環路には、例えば各空気精製装置が必要とする合計の一次精製済み導入空気に、同時使用率を乗じた一定の流量を維持するための定流量弁を介装したり、あるいは循環路の入口付近に設置した圧力センサの信号に基づいて、循環路の流量を制御する制御弁を設けるなどして、各空気精製装置が要求する流量の一次精製済み導入空気を常に供給できるように構成することが好ましい。この場合もプレ空気精製装置における送風機をインバータ制御して、循環路を流れる一次精製済み導入空気の流量を制御するようにしてもよい。なお前記同時使用率は、例えば全てのエンクロージャ部が同時に例えばウエハの出し入れをすることはないことに鑑み、例えばウエハの出し入れ等によって同時にエンクロージャ部が開口する確率(実際にはある程度の幅を持っている)に危険率を考慮して想定したものであり、例えば実際の現場で実測したり、あるいはシミュレーション等で算出したものを使用することができる。かかる同時使用率の概念を用いて稼働させることにより、効率のいいまた省エネ効果の高い稼働を実現することができる。
【0024】
以上の請求項4の精製空気供給システムにおいても、請求項5に記載したように、各エンクロージャ部内の圧力を個別に検出する圧力センサを設け、これら各圧力センサからの個々の信号に基づいて、各空気精製装置への還気の流量や導入空気(一次精製済み導入空気)の各流量を、各空気精製装置毎に制御すれば、還気の空気の流量が変動しても、各エンクロージャ部に対しては一定の給気量と精製度とを確保することができる。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の好ましい実施の形態を説明する。図1は、第1の実施の形態にかかる精製空気供給システム1の系統の概略を示しており、この精製空気供給システム1における空気精製装置2内には、外気導入管3を通じてファン5によって導入された外気を一次精製処理する、外気用精製フィルタ6を有している。また外気用精製フィルタ6の下流側における外気導入管3には、制御弁V1が介装されている。
【0026】
外気用精製フィルタ6によって一次精製処理された外気は、循環空気用精製フィルタ7によって二次精製された後、給気管8によってエンクロージャ部Ecに供給される。
【0027】
エンクロージャ部Ec内の雰囲気は、排気・リーク9によって一部排気され、残りは、還気として、還気管10を通じて空気精製装置2に戻される。構成に即して具体的にいえば、還気管10は制御弁V1の下流側にて、外気導入管3と接続されている。また空気精製装置2内における還気管10には、制御弁V2が介装されている。なお排気・リーク9の量は、還気の量よりも少ない。
【0028】
エンクロージャ部Ec内の圧力は、圧力センサ11によって検出され、その圧力信号は、制御装置12へと出力される。制御装置12はこの圧力信号に基づき、エンクロージャ部Ec内が予め設定された圧力となるように、制御弁V1、V2の開度を調整する制御を実施するようになっている。本実施形態にかかる精製空気供給システム1においては、エンクロージャ部Ecの内部が、外部よりも1〜2mmAq程度高くなるように制御される。
【0029】
制御弁V1、V2の制御については、例えば次のようにして実施される。エンクロージャ部Ec内での水分や化学不純物の発生量をM(一定)とし、エンクロージャ部Ecへの給気量をQiとし、給気中の不純物濃度を便宜上0とすれば、エンクロージャ部Ec内の不純物濃度Zは、定常状態においてZ=M/Qiとなる。したがってエンクロージャ部Ec内の不純物濃度Zを、濃度のモニタリングを行うことなしに一定の不純物濃度以下にしようとすれば、Qiを一定にする必要がある。
【0030】
したがって例えばウエハ等の出し入れ時など、エンクロージャ部Ecのドアやシャッタが開放して通常時よりもリークが多くなったときなどには、制御弁V2を閉じて正圧(陽圧)に保つ制御が行われる。制御弁V2が閉じられたということは、還気量が少なくなることであるから、給気量Qiを一定にするには導入空気量を増加する必要があり、制御弁V1を開放する操作が実行される。したがって、制御弁V2はエンクロージャ部Ec内の圧力を検出して制御され、そのとき制御弁V1は、給気管8内の圧力又は流量に検出して制御されるか、あるいは制御弁V2とは逆の動作を行うように制御される。
【0031】
第1の実施形態にかかる精製空気供給システム1は以上のように構成されており、循環空気用精製フィルタ7によって二次精製処理された精製空気は、給気管8によってエンクロージャ部Ec内に供給され、エンクロージャ部Ec内の雰囲気は、当該精製空気によってパージされる。
【0032】
そしてパージ給気管8からの供給量から、排気・リーク9の排気量を差し引いた雰囲気の量が、還気管10を経由して、循環空気用精製フィルタ7の上流側へと戻される。他方、エンクロージャ部Ec内は、所定の正圧に制御されるので、排気・リーク9の排気量に応じた外気が、外気導入管3を通じて空気精製装置2内に導入され、外気用精製フィルタ6によって当該外気は一次精製処理される。そして一次精製処理された外気は、還気と混合された後循環空気用精製フィルタ7へと送風され、そこで二次精製処理された後、再び、給気としてエンクロージャ部Ec内へと供給される。
【0033】
ここでエンクロージャ部Ecに対して物品の搬入出があり、そのことに伴って排気・リーク9の排気量が変動すれば、それに対応して導入する外気の量も変動するが、当該外気は、循環空気用精製フィルタ7を通過する前に、外気用精製フィルタ6によって一次精製処理される。したがって、かかる変動によって給気管8から供給される精製空気の精製度が変動することはなく、エンクロージャ部Ecに供給される給気の精製度は安定している。しかも制御装置12の制御によって、エンクロージャ部Ec内の圧力は、常に所定の正圧となるように制御されているので、排気・リーク9が変動しても、一定の精製度の下で一定量の給気が供給される。
【0034】
前記実施形態は、エンクロージャ部Ecが1つの場合について説明したが、もちろんエンクロージャ部が複数ある場合でも、1台の空気精製装置で容易に対応することが可能である。例えば3つのエンクロージャ部Ec1〜Ec3がある第2の実施形態を図2に基づいて説明する。なお以下の説明、並びに図2において、前記第1実施形態で引用した符号と同一の符号で示される部材等は、前記第1の実施形態のものと同一の部材構成を示している。
【0035】
この図2に示したシステムにおいては、空気精製装置2からのメインの給気管8aに、各エンクロージャ部Ec1〜Ec3に給気するための分岐給気管8b、8c、8dが各々接続され、メインの給気管8aには、定流量弁15が介装されている。また各分岐給気管8b、8c、8dには、対応する例えば手動の流量調節弁16a、16b、16cが介装されている。
【0036】
また各エンクロージャ部Ec1〜Ec3からの還気は、分岐還気管10b、10c、10dを通じてなされ、これら分岐還気管10b、10c、10dは、メインの還気管10aに接続されて、空気精製装置2へと戻されるようになっている。また分岐還気管10b、10c、10dには、制御弁V3が介装されており、各エンクロージャ部Ec1〜Ec3内の圧力を検出している圧力センサ11からの圧力信号に基づいて、制御装置12によってその開度が制御され、エンクロージャ部Ec1〜Ec3内の圧力は所定の値に制御される。
【0037】
このような構成の第2の実施形態にかかる精製空気供給システムによっても、基本的には前記第1の実施形態と同様に、各エンクロージャ部Ec1〜Ec3に対して物品の搬入出等があって排気・リーク9の排気量が変動した結果、導入する外気の量が変動しても、当該外気は循環空気用精製フィルタ7を通過する前に、外気用精製フィルタ6によって一次精製処理される。したがって、メインの給気管8並びに分岐給気管8b、8c、8dから供給される精製空気の精製度が変動することはなく、各エンクロージャ部Ec1〜Ec3に供給される給気の精製度は安定している。しかも制御装置12の制御によって、各エンクロージャ部Ec1〜Ec3内の圧力は、常に所定の正圧となるように制御できるから、排気・リーク9が変動しても、一定の精製度の下で一定量の給気が供給される。
【0038】
次に第3の実施形態にかかる精製空気供給システムについて説明すると、図3に示したように、この第3の実施形態にかかる精製空気供給システム21も、3つのエンクロージャ部Ec1〜Ec3に精製空気を同時に供給できるシステムとして構築されている。なお以下の説明においても、第1の実施形態における同一の部材、同一の機能を有する要素は、同一の符号を用いることで、重複した説明を省略する。
【0039】
一次空気精製装置22内には、外気導入管23を通じてファン24によって導入された外気を一次精製処理する、外気用精製フィルタ25が設けられている。そしてこの外気用精製フィルタ25によって一次精製処理された外気は、主導入管26へと送られる。主導入管26は、3つの副導入管27、28、29に分岐され、各副導入管27、28、29は、各々エンクロージャ部Ec1〜Ec3に対応して設置されている3台の二次空気精製装置31、32、33へと送られるようになっている。
【0040】
これら3台の二次空気精製装置31、32、33は、いずれも同一構造であり、例えばエンクロージャ部Ec1に精製空気を供給する二次空気精製装置31について、その詳細を説明すると、副導入管27によって導入された一次精製処理済み外気は、ファン34によって循環空気用精製フィルタ35へと送られ、さらに給気管36によってエンクロージャ部Ec1に供給される。
【0041】
エンクロージャ部Ec1内の雰囲気は、排気・リーク9によって一部排気され、残りは還気管37を通じて一次空気精製装置31に還気として戻されるように、還気管37は、副導入管の制御弁V1の下流側にて、副導入管27と接続されている。また二次空気精製装置31内における還気管37には、制御弁V2が介装されている。
【0042】
これら制御弁V1、V2は、前記第1の実施の形態の場合と同様、エンクロージャ部Ec1内の圧力を検出している圧力センサ11からの圧力信号に基づき、エンクロージャ部Ec1内が予め設定された圧力(例えば外部よりも1〜2mmAq程度高い圧力)となるように、制御装置38によって制御される。
【0043】
制御装置38は、圧力センサ11からの圧力信号に基づき副導入管27から導入すべき一次精製処理済み外気の導入量を演算し、その結果をインバータコントローラ41に出力するようになっている。他の二次空気精製装置32、33の制御装置38も、同様に、各々対応する副導入管28、29から導入すべき一次精製処理済み外気の導入量を演算し、その結果を各々インバータコントローラ41に出力するようになっている。
【0044】
インバータコントローラ41は、これら3つの制御装置38から入力された、各二次空気精製装置31、32、33が必要とする一次精製済み外気の導入量の合計量に基づき、当該合計量を充足する量の風量を送出するように、一次空気精製装置22のファン24を制御するインバータに所定の制御信号を出力するようになっている。
【0045】
第3の実施形態にかかる精製空気供給システム21は、以上のように構成されており、この精製空気供給システム21によれば、前記第1の実施形態と同様、各エンクロージャ部Ec1〜Ec3において排気・リーク9の変動があっても、一定の精製度の下で一定量の精製空気を供給することができる。この精製空気供給システム21によれば、最終の空気精製装置がエンクロージャ部に近接して設置できるため、循環経路が短くなり、経路でのリークや、管材、ならびにそれらの接合材からの不純物の発生を少なくできる。しかも1台の一次空気精製装置22によって、3台の二次空気精製装置31、32、33に対して、一次精製処理した空気を同時に供給することができるから、設備機器を最小限に抑えることが可能である。そのうえ一次空気精製装置22のファン24は、各二次空気精製装置31、32、33が必要とする一次精製処理済み外気の導入量に基づいてインバータ制御されているので、省エネ効果も高い。また一次空気精製装置22と二次空気精製装置31、32、33とが別体であるから、設置の際のレイアウトの自由度が高い。
【0046】
このような第3の実施形態にかかる精製空気供給システム21は、例えば半導体デバイス製造工場のクリーンルームにおいて、図4に示したような態様で適用することができる。図4は、前記精製空気供給システム21が適用された半導体製造工場のクリーンルームCR内の様子を示しており、このクリーンルームCR内においては、ウエハに対して所定の処理を行う半導体製造装置51が設置されている。この半導体製造装置51に対するウエハWの搬入出は、半導体製造装置51に接続されているインターフェース部52を通じて行われるが、このインターフェース部52はパネル材等で気密に閉鎖され、エンクロージャ部Ecを構成している。なおこのインターフェース部52に対しては、ウエハWを複数収納したカセットC単位で行われ、当該カセットCは、ウエハ搬送ロボット53によって運搬される。
【0047】
前記カセットCは、いわゆる気密閉鎖型のカセットであって、インターフェース部52の所定位置に載置することで、カセットC側の所定のシャッタ(図示せず)が開放し、それと同時にインターフェース部52側の搬送口54が開放する構成となっている。
【0048】
精製空気供給システム21における一次空気精製装置22、及び二次空気精製装置31、32、33(二次空気精製装置32、33は図示せず)は、クリーンルームCRの床下空間UCに設置されている。そして給気管36は、エンクロージャ部Ecの上部に接続され、還気管37は、エンクロージャ部Ecの下部に接続されている。エンクロージャ部Ec内にさらにレベルの高い精製空気を供給する必要があるときには、図示のようにエンクロージャ部Ec内の上部に別途フィルタ装置55を設け、給気管36から供給される精製空気をさらにこのフィルタ装置55によって精製処理して、ダウンフローとしてインターフェース部52に供給するようにしてもよい。
【0049】
このような態様で第3の実施形態にかかる精製空気供給システム21が適用された場合、たとえカセットCを所定位置に載置してエンクロージャ部Ecの搬送口54が開口したときや、ウエハWを半導体製造装置51に対して搬入出する際に半導体製造装置51側のシャッタが開口した場合など、エンクロージャ部Ec内の圧力が変動して、還気管37からの還気量が変動し、それに伴って導入する外気量が変動しても、二次空気精製装置31には、一次空気精製装置22によって一次精製処理された空気が供給されるので、給気管36からエンクロージャ部Ec内に供給される精製空気の精製度は安定している。しかも図3に示した圧力センサ11からの圧力信号に基づいて、還気量や一次精製処理された空気の導入量が制御されているので、エンクロージャ部Ec内は、常に所定の正圧に保たれる。
【0050】
また一次空気精製装置22から供給される一次精製処理された空気は、主導入管26から分岐した他の副導入管28、29を通じて、他のエンクロージャ部に対しても供給することができるから、エンクロージャ部毎に一次空気精製装置22を設置する必要はなく、限られたスペースであるクリーンルームCRの床下空間UCを有効に利用することができる。
【0051】
前記第3の実施形態にかかる精製空気供給システム21においては、図3に示したように、一次空気精製装置22から主導入管26を通じて供給される一次精製処理された空気を副導入管27、28、29に分岐させて、各々対応する3台の二次空気精製装置31、32、33に送るようにしていたが、このような分岐方式に代えて、図5に示した第4の実施形態にかかる精製空気供給システム61のように、一次空気精製装置62において一次精製された外気が循環する循環路63から、必要に応じて個別に取り出すようにしてもよい。なお以下、第1、第2の各実施形態における同一の部材、同一の機能を有する要素は、同一の符号を用いることで、重複した説明を省略している。
【0052】
すなわちこの第4の実施形態にかかる精製空気供給システム61における一次空気精製装置62内にも、外気導入管64を通じてファン65によって導入された外気を精製する、外気用精製フィルタ66が設けられているが、この外気用精製フィルタ66によって一次精製処理された外気は、一次空気精製装置62を出て再び外気用精製フィルタ66へと戻される循環路63に供給されるようになっている。そして二次空気精製装置31、32、33へと通ずる3つの副導入管27、28、29は、各々この循環路63に接続されている。
【0053】
前記循環路63における上流側、すなわち一次空気精製装置62の出口付近(循環路63の最下流側に接続されている副導入管29の接続部よりも上流であればよい)には、定流量弁67が介装されている。この定流量弁67は、二次空気精製装置31、32、33が必要とする合計の一次精製処理済み外気に、同時使用率を乗じた一定の流量を維持するための機能を備えたいわゆる自力弁を使用している。
【0054】
かかる構成を有する第4の実施形態にかかる精製空気供給システム61によっても、前記第3の実施形態にかかる精製空気供給システム21と同様、各エンクロージャ部Ec1〜Ec3の排気・リーク9に変動があっても各エンクロージャ部Ec1〜Ec3に対しては、一定の精製度の下で一定量の精製空気を供給することができる。また制御装置12によって各エンクロージャ部Ec1〜Ec3は所定の正圧に保たれる。
【0055】
もちろん1台の一次空気精製装置62によって、3台の二次空気精製装置31、32、33に対して、一次精製処理した空気を供給することができるから、設備機器を最小限に抑えることが可能である。しかも定流量弁67によって、3台の二次空気精製装置31、32、33が必要とする一次精製処理済み外気が確保されているので、ファン65をインバータ制御することなく、各エンクロージャ部Ec1〜Ec3に必要量の精製空気を供給することが可能である。
【0056】
なお定流量弁67については、前記したような自力弁に限らず、通常の制御弁を使用することもできる。その場合、循環路63における下流側、すなわち一次空気精製装置62への入口付近(循環路63の最下流側に接続されている副導入管27の接続部よりも下流であればよい)に設置した循環路63中の流量を検出するための圧力センサや流量センサなどの検出装置68からの信号に基づいて、当該制御弁を制御すればよい。
【0057】
【発明の効果】
請求項1〜5の発明によれば、エンクロージャ部からの還気の空気量が変動しても、精製度の安定した精製空気を該エンクロージャ部へ供給することができる。またさらに運転に要する費用を従来より低減させることが可能である。特に請求項2の精製空気供給システムによれば、設置のレイアウトの自由度が高い。また還気の空気の流量が変動しても、一定の給気量と精製度を確保することができる。請求項3〜5の精製空気供給システムによれば、複数のエンクロージャ部に精製空気を供給する場合に、必要な設備機器の数を減少させたり装置構成を簡略化することができ、また設置スペースをも節約することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施の形態にかかる精製空気供給システムの系統の概略を示す説明図である。
【図2】本発明の第2の実施の形態にかかる精製空気供給システムの系統の概略を示す説明図である。
【図3】本発明の第3の実施の形態にかかる精製空気供給システムの系統の概略を示す説明図である。
【図4】第3の実施の形態にかかる精製空気供給システムを半導体製造工場のクリーンルーム内に適用した例を示す説明図である。
【図5】本発明の第4の実施の形態にかかる精製空気供給システムの系統の概略を示す説明図である。
【図6】従来の一過性の精製空気供給システムの系統の概略を示す説明図である。
【図7】従来の循環方式の精製空気供給システムの系統の概略を示す説明図である。
【符号の説明】
1 精製空気供給システム
2 空気精製装置
3 外気導入管
5 ファン
6 外気用精製フィルタ
7 循環空気用精製フィルタ
8 給気管
10 還気管
11 圧力センサ
12 制御装置
Ec エンクロージャ部
V1、V2 制御弁
Claims (5)
- クリーンルーム内にあって当該クリーンルーム内の雰囲気から隔離されたエンクロージャ部に、精製空気を供給するシステムであって、
送風機とフィルタ装置とを備えた空気精製装置と、
前記エンクロージャ部に、前記フィルタ装置を通過した精製空気を前記送風機によって供給する給気管と、
前記エンクロージャ部内の雰囲気の一部を還気として、前記フィルタ装置の上流側に戻すための還気管と、
前記フィルタ装置に通ずる導入空気の導入管とを有し、
さらに前記空気精製装置内における導入管に、導入空気精製用フィルタ装置が介装され、
さらに前記エンクロージャ部内の圧力を検出する圧力センサを備え、
前記エンクロージャ部内は正圧になるように制御され,
前記エンクロージャ部からのリークが通常時よりも多くなった際には、当該圧力センサからの信号に基づき、前記エンクロージャ部内の不純物濃度を一定の濃度以下となるように、還気及び導入空気の流量を制御するように構成されたことを特徴とする、精製空気供給システム。 - クリーンルーム内にあって当該クリーンルーム内の雰囲気から隔離されたエンクロージャ部に、精製空気を供給するシステムであって、
送風機とフィルタ装置とを備えた空気精製装置と、
前記エンクロージャ部に、前記フィルタ装置を通過した精製空気を前記送風機によって供給する給気管と、
前記エンクロージャ部内の雰囲気の一部を還気として、前記フィルタ装置の上流側に戻すための還気管と、
前記フィルタ装置に通ずる導入空気の導入管とを有し、
さらに前記導入管経路中にプレ空気精製装置を備え、前記プレ空気精製装置には、導入空気精製用フィルタ装置と、当該導入空気精製用フィルタ装置を通過した空気を前記空気精製装置に供給するための送風機が設けられ、
さらに前記エンクロージャ部内の圧力を検出する圧力センサを備え、
前記エンクロージャ部内は正圧になるように制御され,
前記エンクロージャ部からのリークが通常時よりも多くなった際には、当該圧力センサからの信号に基づき、前記エンクロージャ部内の不純物濃度を一定の濃度以下となるように、還気及び導入空気の流量を制御するように構成されたことを特徴とする、精製空気供給システム。 - クリーンルーム内にあって当該クリーンルーム内の雰囲気から隔離された複数のエンクロージャ部に、精製空気を供給するシステムであって、
送風機とフィルタ装置とを備えた、前記エンクロージャ部の数に対応した複数の空気精製装置と、
各エンクロージャ部に、対応する空気精製装置のフィルタ装置を通過した精製空気を送風機によって供給する複数の給気管と、
各エンクロージャ部内の雰囲気の一部を還気として、対応する空気精製装置のフィルタ装置の上流側に戻すための複数の還気管と、
前記各空気精製装置のフィルタ装置に通ずる対応する複数の導入空気の導入管とを有し、
前記各導入管は、上流側の主導入管から分岐されたものであり、この主導入管にはプレ空気精製装置を備え、当該プレ空気精製装置には、導入空気精製用フィルタ装置と、当該導入空気精製用フィルタ装置を通過した空気を、前記各空気精製装置に供給するための送風機が設けられ、
さらに各エンクロージャ部内の圧力を個別に検出する圧力センサを備え、
各エンクロージャ部内は正圧になるように制御され,
前記各エンクロージャ部からのリークが通常時よりも多くなった際には、当該圧力センサからの信号に基づき、当該エンクロージャ部内の不純物濃度を一定の濃度以下となるよう に、各空気精製装置への還気及び導入空気の流量を各空気精製装置毎に制御するように構成されたことを特徴とする、精製空気供給システム。 - クリーンルーム内の複数のエンクロージャ部に精製空気を供給するシステムであって、
送風機とフィルタ装置とを備えた、前記エンクロージャ部の数に対応した複数の空気精製装置と、
各エンクロージャ部に、対応する空気精製装置のフィルタ装置を通過した精製空気を送風機によって供給する複数の給気経路と、
各エンクロージャ部内の雰囲気の少なくとも一部を還気として、対応する空気精製装置のフィルタ装置の上流側に戻すための複数の還気経路と、
前記各空気精製装置のフィルタ装置に通ずる複数の導入空気の導入経路と、
導入空気精製用フィルタ装置、並びに当該導入空気精製用フィルタ装置を通過した空気を前記各空気精製装置に供給するための送風機とを備えたプレ空気精製装置と、
前記プレ空気精製装置の導入空気精製用フィルタ装置を通過した空気を、この導入空気精製用フィルタの上流側に戻す循環路とを有し、
前記各空気精製装置への導入経路は、この循環路に接続されていることを特徴とする、精製空気供給システム。 - 各エンクロージャ部内の圧力を個別に検出する圧力センサを備え、これら各圧力センサからの個々の信号に基づいて、各空気精製装置への還気及び/又は導入空気の流量を各空気精製装置毎に制御するように構成されたことを特徴とする、請求項4に記載の精製空気供給システム。
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