JPH07263292A - ガス漏れ監視システム - Google Patents

ガス漏れ監視システム

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JPH07263292A
JPH07263292A JP5040294A JP5040294A JPH07263292A JP H07263292 A JPH07263292 A JP H07263292A JP 5040294 A JP5040294 A JP 5040294A JP 5040294 A JP5040294 A JP 5040294A JP H07263292 A JPH07263292 A JP H07263292A
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JP
Japan
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gas
gas suction
leak
suction pipes
sensors
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JP5040294A
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Hironori Sonobe
浩徳 園部
Mamoru Shibuya
衛 渋谷
Shinobu Oonakahara
忍 大中原
Eriko Chiba
恵里子 千葉
Makoto Amamiya
誠 雨宮
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ガスセンサ/配線等の取り付け/取り外し工
事を不要とし、少ないガスセンサ数でガス漏れ発生場所
の特定を迅速に行うことが可能で、ガス漏れ発生時の人
的、物的被害を最小にすることが可能なガス漏れ監視シ
ステムを提供する。 【構成】 ダウンフロー方式循環空調を行うクリーンル
ームのガス漏れを監視するガス漏れ監視システムにおい
て、グレーティングの下部に配設され、所定の間隔で第
1のガス吸引穴が穿設された複数本の第1のガス吸引パ
イプと、前記各第1のガス吸引パイプとその第1のガス
吸引穴の付近でそれぞれ交差して配設され、その各交差
箇所に第2のガス吸引穴が穿設された複数本の第2のガ
ス吸引パイプと、前記各第1及び第2のガス吸引パイプ
の一端部にそれぞれ配された複数のガスセンサと、前記
各ガスセンサからのアラーム信号とガス濃度によりガス
漏れ発生位置を特定するガス漏れ位置特定手段とを備え
たことにある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子の製造等を
行うクリーンルームのガス漏れ監視システムに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の製造は、ダストの発生や不
純物の混入を抑制するために密閉構造のクリーンルーム
内で行われ、そのクリーンルームの空調は図4に示すよ
うにダウンフロー方式循環空調が採用されている。
【0003】図4において、このクリーンルーム100
の下部にはグレーティング101が設けられている。グ
レーティング101は、空調のための穴が多数穿設され
たダウンフロー構造の床板であり、その上にオペレータ
によって操作される半導体素子製造装置(以下、単に製
造装置という)102,103が設置されている。この
クリーンルーム100は、送風機107によりフィルタ
104を通過してクリーンルーム100内に送り込まれ
た空気が、グレーティング101を通り抜けて再度送風
機107でクリーンルーム100内に送り込まれるダウ
ンフロー方式の循環空調が行われている。
【0004】一方、クリーンルーム100内に設置され
た製造装置102,103は、有毒ガス/可燃性ガスを
使用するものが多く、万一のガス漏れ発生時には、上述
のような密閉構造と循環式空調のクリーンルーム環境下
では、その被害が甚大となる傾向がある。そのため、各
製造装置102,103やその付属装置あるいはオペレ
ータ108の作業エリアには、ガス漏れを検出する吸引
式ガスセンサ109,110,111がガス種毎に装備
されている。
【0005】そして、これらのガスセンサ109,11
0,111は、ガス漏れ監視コンピュータ121に電気
的に接続され、加えてガス漏れ監視コンピュータ121
には警報機122、ガスバルブ遮断装置123及び製造
装置緊急停止装置124が接続されている。
【0006】このようなガス漏れ監視システムが設けら
れたクリーンルーム100において、例えば、製造装置
102でガス漏れが発生した場合には、ガス漏れ監視コ
ンピュータ121は、ガスセンサ109でガス漏れを検
出し、さらに警報機122によってガス漏れ発生を表示
すると共に、ガスバルブ遮断装置123により、製造装
置102へのガスの供給を止め、また製造装置102の
稼働に問題があると判断した場合は、製造装置緊急停止
装置124に指示して製造装置102の作動を停止する
などの処理を行う。
【0007】このガス漏れ監視コンピュータ121には
手動遮断スイッチも設けられ、この手動遮断スイッチを
人の判断により操作し、全ガス供給元バルブを遮断する
機能も有している。
【0008】また、製造装置102,103にガスセン
サ109,110がそれぞれ設置されていても、完全に
密閉されたガスボンベストッカなどとは異なり、製造装
置102,103では密閉性が低いため、ガス漏れ発生
時には製造装置外のクリーンルーム作業環境に有毒ガス
が漏洩する場合や、他にも製造装置102,103やボ
ンベストッカ以外の配管等でガス漏れが発生する場合も
ある。
【0009】そこで、クリーンルーム100は循環式空
調であって、室内でガス漏れが発生した場合はリターン
口105から排出されることから、リターン口105に
当該クリーンルーム100で使用されるガス種類全ての
ガスセンサ112を設置し、クリーンルーム100内で
のガス漏れを総合的にモニタすることも行われている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のガス漏れ監視システムでは次のような問題点があっ
た。 (1)各製造装置内にガスセンサを設置するに際し、製
造装置の搬入/搬出毎にガスセンサを取り付け/取り外
しを行わなければならないため、その工事に多大な費用
を要するばかりか、配線の度重なる変更がガス漏れ監視
システムの信頼性を低下させる要因ともなっていた。 (2)リターン口105に取り付けられたガスセンサ1
12でガス漏れが発生した部屋の特定は可能であるが、
部屋内では製造装置と一部の作業エリアのみにガスセン
サが設置されているだけなので、ガスセンサがない場所
でのガス漏れは、発生場所の特定に時間がかかり被害を
大きくしていた。 (3)ガス漏れ位置を特定するためには、一定間隔でガ
スセンサを配置する必要があるが、ダウンフロー方式循
環空調を採用しているクリーンルームでは、漏洩ガスが
横方向へはほとんど広がらないため、多大なガスセンサ
を配置しなければならず、費用やメンテナンスの点で実
現が困難であった。 (4)ガス漏れが発生した場合に、ガス漏れが発生した
場所が不明であるため、該当する区域やクリーンルーム
全体のガス供給元バルブを遮断したり、あるいはその中
の製造装置の緊急停止を行う必要がある。そのため、軽
微なガス漏れ発生時には、直接関係のない区域までガス
供給元バルブの遮断や製造装置の停止が行われることに
なり、半導体素子の製造に大きな悪影響が生じていた。
【0011】本発明は、上述の如き従来の問題点を解決
するためになされたもので、その目的は、製造装置の搬
入/搬出に伴うガスセンサ/配線等の取り付け/取り外
し工事を不要とするガス漏れ監視システムを提供するこ
とである。また、その他の目的は、少ないガスセンサ数
でガス漏れ発生場所の特定を迅速に行うことが可能なガ
ス漏れ監視システムを提供することである。さらにその
他の目的は、ガス漏れ発生時の人的、物的被害を最小に
することが可能なガス漏れ監視システムを提供すること
である。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第1の発明の特徴は、ガス使用機器が設置されるダ
ウンフロー構造のグレーティングを有しダウンフロー方
式循環空調を行うクリーンルームのガス漏れを監視する
ガス漏れ監視システムにおいて、前記グレーティングの
下部に配設され、所定の間隔で第1のガス吸引穴が穿設
された複数本の第1のガス吸引パイプと、前記各第1の
ガス吸引パイプとその第1のガス吸引穴の付近でそれぞ
れ交差して配設され、その各交差箇所に第2のガス吸引
穴が穿設された複数本の第2のガス吸引パイプと、前記
各第1及び第2のガス吸引パイプの一端部にそれぞれ配
された複数のガスセンサと、前記各ガスセンサからのア
ラーム信号とガス濃度によりガス漏れ発生位置を特定す
るガス漏れ位置特定手段とを備えたことにある。
【0013】上記目的を達成するために、第2の発明の
特徴は、ガス使用機器が設置されるダウンフロー構造の
グレーティングを有しダウンフロー方式循環空調を行う
クリーンルームのガス漏れを監視するガス漏れ監視シス
テムにおいて、前記グレーティングの下部に配設され、
各々の先端同士が所定の距離を置くように長さの異なる
複数本の第1のガス吸引パイプを束ねて構成された複数
の第1のガス吸引パイプ群と、各々の先端同士が所定の
距離を置くように長さの異なる複数本の第2のガス吸引
パイプを束ねて構成され、該各第2のガス吸引パイプの
先端が該第1のガス吸引パイプの先端付近にそれぞれ位
置するように前記各第1のガス吸引パイプ群の交差方向
に配設された複数の第2のガス吸引パイプ群と、前記各
第1及び第2のガス吸引パイプ群の一端部にそれぞれ配
された複数のガスセンサと、前記各ガスセンサからのア
ラーム信号とガス濃度によりガス漏れ発生位置を特定す
るガス漏れ位置特定手段とを備えたことにある。
【0014】また、上述の第1または第2の発明におい
て、前記ガス漏れ位置特定手段は、少なくとも前記各ガ
スセンサの設置位置及びガス漏れ検出エリアに関する配
置データを登録していることが望ましい。
【0015】
【作用】上述の如き構成の第1の発明によれば、ガス漏
れ発生時において、ダウンフロー方式循環空調が漏洩ガ
スが横方向にほとんど広がらないことを利用し、漏洩ガ
スはガス漏れ発生位置付近の第1及び第2のガス吸引穴
から該当する第1及び第2のガス吸引パイプへ吸い込ま
れる。そして、その第1及び第2のガス吸引パイプに取
り付けられている複数のガスセンサからのアラーム信号
とガス濃度により、ガス漏れ位置特定手段は、例えば予
め登録されているガスセンサの設置位置及びガス漏れ検
出エリアに関する配置データを参照にしてガス漏れ発生
位置を特定する。
【0016】上述の如き構成の第2の発明によれば、ガ
ス漏れ発生時において、漏洩ガスはガス漏れ発生位置付
近の第1及び第2のガス吸引パイプの先端から吸い込ま
れ、これに該当する第1及び第2のガス吸引パイプ群に
取り付けられている複数のガスセンサからのアラーム信
号とガス濃度により、ガス漏れ位置特定手段は、例えば
予め登録されているガスセンサの設置位置及びガス漏れ
検出エリアに関する配置データを参照にしてガス漏れ発
生位置を特定する。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は、本発明の第1実施例に係るガス漏れ監視
システムを備えたクリーンルームの断面図である。
【0018】図1において、従来と同様にクリーンルー
ム1の下部には、ダンフロー構造のグレーティング2が
設けられ、そのグレーティング2の上には、製造装置
3,4が設置されている。また、クリーンルーム1の天
井部には空調用のフィルタ5が取り付けられ、前記グレ
ーティング2の下部の空調リターン口6から前記フィル
タ5の上部に亘って空調リターンダクト7が設けられて
いる。また、その空調リターンダクト7の途中には送風
機8が設けられている。なお、クリーンルーム1内の製
造装3,4はオペレータ9によって操作される。
【0019】本実施例のクリーンルーム1は、従来と同
様に、送風機8によってフィルタ5を通過してクリーン
ルーム1内に送り込まれた空気が、グレーティング2を
通り抜けて再度送風機8でクリーンルーム1内に送り込
まれるダウンフロー方式の循環空調を行うようになって
いる。
【0020】一方、前記グレーティング2の下部には、
図2に示すように、第1のガス吸引パイプ21〜25が
所定間隔を置いて5列配置され、その第1のガス吸引パ
イプ21〜25上に直交して第2のガス吸引パイプ31
〜35が5列配置されている。
【0021】そして、第1のガス吸引パイプ21〜25
の上部には、それぞれ5個ずつ第1のガス吸引穴21a
〜21e,22a〜22e,23a〜23e,24a〜
24e,25a〜25eが所定の間隔を置いて穿設さ
れ、同様に第2のガス吸引パイプ31〜35の上部に
も、それぞれ5個ずつ第2のガス吸引穴31a〜31
e,32a〜32e,33a〜33e,34a〜34
e,35a〜35eが所定の間隔を置いて穿設されてい
る。そして、これらの第1及び第2のガス吸引穴21a
〜25e,31a〜35eが、第1と第2のガス吸引パ
イプ21〜25,31〜35の交差箇所付近に位置する
ようになっている。
【0022】各々の交差箇所付近の雰囲気は、第1及び
第2のガス吸引穴21a〜25e,31a〜35eから
吸い込まれ、各第1及び第2のガス吸引穴21a〜25
e,31a〜35eからの雰囲気取り込み量が等しくな
るように、各吸引穴径は異なって設定されている。これ
は、各ガス吸引穴からの雰囲気取り込み量が異なると、
同量のガスが漏洩した場合でも、場所によってガスセン
サが検知するガス濃度が変化し、ガス漏れ検出感度が場
所によって異なってしまう点を考慮したためである。こ
れによって、各ガス吸引穴21a〜25e,31a〜3
5eからの吸引ガスの配管抵抗は同じ値になる。
【0023】さらに、第1と第2のガス吸引パイプ21
〜25,31〜35はクリーンルーム1の外部に延設さ
れており、その各一端部にはそれぞれ吸引式ガスセンサ
41〜45,51〜55が取り付けられ、それらガスセ
ンサ41〜45,51〜55がガス漏れ監視コンピュー
タ61に電気的に接続されている。
【0024】ガスセンサ41〜45,51〜55は、Z
nOやSnO2 などの半導体薄膜の電気抵抗がガスの導
入によって変化する現象を利用してガスを検知するもの
であり、ガス濃度に応じた電気信号をアラーム信号とし
てガス漏れ監視コンピュータ61へ供給するようになっ
ている。
【0025】ガス漏れ監視コンピュータ61には、各ガ
スセンサ41〜45,51〜55の設置位置や検出エリ
ア等に関する配置データが予め記憶されている。即ち、
本実施例では、各5列の第1及び第2のガス吸引パイプ
21〜25,31〜35を配置しているので、クリーン
ルーム1内の検出エリアは5×5の25ゾーンに分割さ
れている。
【0026】そして、ガス漏れ監視コンピュータ61
は、各ガスセンサ41〜45,51〜55からのアラー
ム信号を受取り、前記配置データを参照してガス漏れ発
生地点を判断する機能を有するほか、各ガスセンサから
のアラーム信号の強弱を比較することによりガス濃度を
比較する機能が設けられている。
【0027】さらに、ガス漏れ監視コンピュータ61に
は、警報機62、ガスバルブ遮断装置63及び製造装置
緊急停止装置64が電気的に接続され、これらの機器が
ガス漏れ監視コンピュータ61の指示により作動するよ
うになっている。
【0028】なお、図1の第1のガス吸引パイプの図示
の部分は、簡略化のため図2に示す第1のガス吸引パイ
プ23の長手方向に沿った断面を示している。
【0029】次に、以上のように構成されるガス漏れ監
視システムの動作を説明する。例えば、図2の左上部付
近でガス漏れが発生した場合は、その位置のグレーティ
ング2の下部に設置された第1のガス吸引パイプ21の
第1のガス吸引穴21aから漏洩ガスが吸い込まれる。
すると、ガスセンサ41はガス漏れを検知してアラーム
信号を発し、このアラーム信号がガス漏れ監視コンピュ
ータ61へ供給される。同様にほぼ同じ位置に第2のガ
ス吸引穴31aを有する第2のガス吸引パイプ31のガ
スセンサ51もアラーム信号をガス漏れ監視コンピュー
タへ出力する。
【0030】ダウンフロー方式の循環空調では、漏洩ガ
スは横方向にはほとんど広がらないため、他のガス吸引
穴を通して他のガス吸引穴パイプに入ることは少なく、
従って通常は他のガスセンサが反応することはない。従
って、ガス漏れ監視コンピュータ61は、ガスセンサ4
1,51からアラーム信号を受け取り、記憶しているこ
の第1及び第2のガス吸引パイプ21,31の配置デー
タから、ガス漏れ発生場所は図2の左上部と判断し、ガ
ス漏れが特定される。
【0031】しかし、高濃度のガスが漏洩した場合は、
3か所以上のガスセンサからアラーム信号が発生する可
能性があり、その場合は、各センサのガス濃度を比較し
て最高濃度を示した所がガス漏れ地点であると特定す
る。
【0032】こうしてガス漏れ発生場所が特定される
と、ガス漏れ監視コンピュータ61は、警報機62によ
り作業者への適切な指示(避難など)を行うと共に、こ
の位置に設置されている製造装置に関する配置データに
より、ガスバルブ遮断装置63に指示して該当するガス
供給元のバルブ遮断を行う。さらに、製造装置可動状況
及びガス使用状況により判断して、製造装置緊急停止装
置64に指示してガス漏れの発生した製造装置を安全に
停止させる。
【0033】このように本実施例では、各5列の第1及
び第2のガス吸引パイプ21〜25,31〜35を配置
しているので、クリーンルーム1を5×5の25ゾーン
に分割して、どの位置でガス漏れが発生したかを特定す
ることが可能である。従来、25ゾーンでのガス漏れ位
置を特定する場合は25個のガスセンサを必要とした
が、本実施例では10個で済むため、ガスセンサの設置
費用、メンテナンスに要する費用を大幅に削減すること
ができる。特に、クリーンルームの部屋が大型化し、ゾ
ーン数を増加したい場合にその効果は一層顕著となる。
即ち、10×10列の100ゾーンの場合では、20個
のガスセンサで済み、従来に比べて80個の削減するこ
とができる。
【0034】従来では数百個のガスセンサが必要となる
ため実質上設置することができなかった大規模なクリー
ンルームにおいても、ガスセンサを設置することが可能
となるため、大規模クリーンルームにおけるガス漏れ発
生時の迅速な対応が実施できるようになる。
【0035】また、本実施例では、製造装置3,4を設
置する前に既に第1及び第2のガス吸引パイプ21〜2
5,31〜35がグレーティング2の下部に施設されて
いるため、従来のような製造装置の搬出/搬入毎の製造
装置へのガスセンサの取り付け/取り外し作業が不要と
なり、工事費の削減と、度重なる変更作業によるシステ
ムの信頼性の低下も防止することができる。
【0036】さらに、ガスセンサは、通常、半年毎にメ
ンテナンスが必要となっているが、クリーンルーム内の
各製造装置にばらばらに設置されいてた従来とは異な
り、クリーンルーム1の外部の指定位置に設置されてい
るため、そのメンテナンスが極めて容易となり、メンテ
ナンス費用を削減することができる。
【0037】また、本実施例では、ガス漏れ発生場所を
的確に特定することができるので、直接関係のない区域
までのガス供給元バルブの遮断や製造装置の停止を行わ
ないでも済み、半導体素子の製造工程において製品の被
害を最小にすることができる。
【0038】なお、本実施例では、各5列の第1及び第
2のガス吸引パイプ21〜25,31〜35を交差配置
して25ゾーンに分割した場合を示したが、この列数に
制限はなく、また第1及び第2のガス吸引パイプの各列
数が異なっても構わない。
【0039】さらに、本実施例では、各ガス吸引穴から
の雰囲気取り込み量を一定するために、ガス吸引穴の穴
径を変化させるようにしたが、これ以外に例えば雰囲気
取り込み量を一定するための治具を設置するようにして
もよい。
【0040】図3は、本発明の第2実施例に係るガス漏
れ監視システムを備えたクリーンルームの要部平面図で
あり、上記第1実施例の図2に対応したクリーンルーム
下部のガス吸引パイプ構造を示すものである。
【0041】本実施例のグレーティング2の下部には、
各々の先端同士が所定の距離を置くように長さの異なる
4本の第1のガス吸引パイプ71a〜71dを束ねて構
成された第1のガス吸引パイプ群71が設置され、これ
と同一構成の第1のガス吸引パイプ72a〜72dから
構成された第1のガス吸引パイプ群72、第1のガス吸
引パイプ73a〜73dから構成された第1のガス吸引
パイプ群73、及び第1のガス吸引パイプ74a〜74
dから構成された第1のガス吸引パイプ群74が所定の
間隔を隔てて平行に配設されている。
【0042】さらに、この第1のガス吸引パイプ群71
〜74と直交する方向に、これと同一構成の第2のガス
吸引パイプ群81〜84が配設されている。第2のガス
吸引パイプ群81は、第2のガス吸引パイプ81a〜8
1dから構成され、同様にして第2のガス吸引パイプ群
82は第2のガス吸引パイプ82a〜82d、第2のガ
ス吸引パイプ群83は第2のガス吸引パイプ83a〜8
3d、及び第2のガス吸引パイプ群84は第2のガス吸
引パイプ84a〜84dから構成されている。そして、
前記第1と第2のガス吸引パイプとは、その各先端が互
いに近接するように配置されている。
【0043】また、第1と第2のガス吸引パイプ群71
〜74,81〜84の各一端部には、吸引式ガスセンサ
91〜98がそれぞれ取り付けられ、そのガスセンサ9
1〜98がガス漏れ監視コンピュータ61に電気的に接
続されている。
【0044】そして、各々の第1及び第2のガス吸引パ
イプ群71〜74,81〜84を構成する第1及び第2
のガス吸引パイプの先端部から雰囲気が吸い込まれる。
本実施例においても上記第1実施例と同様に雰囲気取り
込み量が等しくなるように、各第1と第2のガス吸引パ
イプの直径等に変化を持たせるようにする。
【0045】このように構成しても、上記第1実施例と
同様の作用効果を有する。
【0046】なお、上記第1及び第2実施例では、説明
を簡略にするためガスの種類を1種類としたが、これは
複数種であってもよく、この場合は、第1及び第2のガ
ス吸引パイプ21〜25,31〜35、あるいは第1と
第2のガス吸引パイプ群71〜74,81〜84の各一
端部に該当する各種ガスセンサをそれぞれ取り付けるよ
うにする。
【0047】
【発明の効果】以上詳細に説明したように第1及び第2
の発明によれば、次のような効果を有する。 (1)従来のゾーン毎にガスセンサを配した場合に比
べ、より少ないガスセンサで同様のガス漏れ位置特定の
機能を有することができるので、ガスセンサの設置費
用、メンテナンスに要する費用を大幅に削減することが
できる。さらに、工事費の削減と、度重なる変更作業に
よるシステムの信頼性の低下も防止することができる。 (2)ガス漏れ発生場所を的確に特定することができる
ので、ガス漏れ発生時の迅速な対応が実施できる。これ
により、直接関係のない区域までのガス供給元バルブの
遮断や製造装置の停止を行わないでも済み、製造工程に
おいて製品の被害を最小にすることができると共に、適
切な避難指示を行えるため、人的被害も最小にすること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係るガス漏れ監視システ
ムを備えたクリーンルームの断面図である。
【図2】第1実施例のクリーンルームの要部平面図であ
る。
【図3】本発明の第2実施例に係るガス漏れ監視システ
ムを備えたクリーンルームの要部平面図である。
【図4】従来のガス漏れ監視システムを備えたクリーン
ルームの断面図である。
【符号の説明】
1 クリーンルーム 2 グレーティング 3,4 製造装置 21〜25 第1のガス吸引パイプ 31〜35 第2のガス吸引パイプ 21a〜25e 第1のガス吸引穴 31a〜35e 第2のガス吸引穴 41〜45,51〜55 ガスセンサ 61 ガス漏れ監視コンピュータ 71〜74 第1のガス吸引パイプ群 71a〜74d 第1のガス吸引パイプ 81〜84 第2のガス吸引パイプ群 81a〜84d 第2のガス吸引パイプ 91〜98 ガスセンサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大中原 忍 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1 株式会 社東芝多摩川工場内 (72)発明者 千葉 恵里子 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 雨宮 誠 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガス使用機器が設置されるダウンフロー
    構造のグレーティングを有しダウンフロー方式循環空調
    を行うクリーンルームのガス漏れを監視するガス漏れ監
    視システムにおいて、 前記グレーティングの下部に配設され、所定の間隔で第
    1のガス吸引穴が穿設された複数本の第1のガス吸引パ
    イプと、 前記第1のガス吸引穴の付近で前記各第1のガス吸引パ
    イプとそれぞれ交差して配設され、その各交差箇所に第
    2のガス吸引穴が穿設された複数本の第2のガス吸引パ
    イプと、 前記各第1及び第2のガス吸引パイプの一端部にそれぞ
    れ配された複数のガスセンサと、 前記各ガスセンサからのアラーム信号とガス濃度により
    ガス漏れ発生位置を特定するガス漏れ位置特定手段とを
    備えたことを特徴とするガス漏れ監視システム。
  2. 【請求項2】 ガス使用機器が設置されるダウンフロー
    構造のグレーティングを有しダウンフロー方式循環空調
    を行うクリーンルームのガス漏れを監視するガス漏れ監
    視システムにおいて、 前記グレーティングの下部に配設され、各々の先端同士
    が所定の距離を置くように長さの異なる複数本の第1の
    ガス吸引パイプを束ねて構成された複数の第1のガス吸
    引パイプ群と、 各々の先端同士が所定の距離を置くように長さの異なる
    複数本の第2のガス吸引パイプを束ねて構成され、該各
    第2のガス吸引パイプの先端が前記第1のガス吸引パイ
    プの先端付近にそれぞれ位置するように前記各第1のガ
    ス吸引パイプ群の交差方向に配設された複数の第2のガ
    ス吸引パイプ群と、 前記各第1及び第2のガス吸引パイプ群の一端部にそれ
    ぞれ配された複数のガスセンサと、 前記各ガスセンサからのアラーム信号とガス濃度により
    ガス漏れ発生位置を特定するガス漏れ位置特定手段とを
    備えたことを特徴とするガス漏れ監視システム。
  3. 【請求項3】 前記ガス漏れ位置特定手段は、少なくと
    も前記各ガスセンサの設置位置及びガス漏れ検出エリア
    に関する配置データを登録していることを特徴とする請
    求項1または請求項2記載のガス漏れ監視システム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2017002215A1 (ja) * 2015-06-30 2017-01-05 三菱電機株式会社 冷媒漏洩検知システム

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