KR19980068469A - 반도체 설비 통합 제어시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명은 다수의 반도체 설비를 단일 호스트 컴퓨터와 네트워크로 연결하고, 이 호스트 컴퓨터를 반도체 설비를 관리하는 모니터부와 접속시켜 다수의 반도체 설비를 통합하여 제어하므로써, 반도체 설비들에서 발생한 데이터를 관리 차원에서 공유하여 반도체 설비의 효율성을 높이고, 반도체 설비를 안정적으로 운영하는 반도체 제조설비 통합 제어 시스템에 관한 것이다.

다수의 반도체 설비를 제어하는 제어 시스템에 있어서, 다수의 반도체 제조 설비를 제어하는 제어 시스템에 있어서;

반도체 단위 공정이 진행되는 다수의 반도체 단위 설비와, 상기 반도체 단위 공정을 모니터링 및 관리하는 모니터/관리부와, 다수의 상기 반도체 단위 설비 및 상기 모니터부에 상호 접속되어 상기 모니터부의 제어에 의해 상기 반도체 단위 설비들을 제어하는 단일 호스트 컴퓨터를 포함하고 있는 것을 특징으로 한다.

Description

반도체 설비 통합 제어시스템

본 발명은 반도체 설비 통합 제어시스템에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다수의 반도체 설비를 단일 호스트 컴퓨터와 네트워크로 연결하고, 이 호스트 컴퓨터를 반도체 설비를 관리하는 모니터부와 접속시켜 다수의 반도체 설비를 통합하여 제어하므로써, 반도체 설비들에서 발생한 데이터를 관리 차원에서 공유하여 반도체 설비의 효율성을 높이고, 반도체 설비를 안정적으로 운영하는 반도체 제조설비 통합 제어 시스템에 관한 것이다.

종래의 반도체 설비들은 도 1에 도시된 바와 같이 순도가 높은 실리콘 웨이퍼에 직접적으로 물리적 공정을 진행시키는 생산 설비(10)와, 이 생산 설비(10)가 공정을 진행하면서 필요로 하는 공정 분위기를 조성하기 위한 간접 설비(20)로 구성되어 있으며, 간접 설비(20)의 일례로 반응 가스들을 공급해주는 가스 서플라이 시스템(2) 및 습식 식각과 같은 공정에서 사용되는 화학약품인 케미컬을 상기 생산 설비(10)에 공급해주는 케미컬 공급 시스템(4)등이 있으며, 기 언급한 가스 서플라이 시스템(2)에서 누설된 유독성 가스를 탐지하는 가스 누설 탐지 시스템(6)과, 반도체 생산 라인의 환경을 조절하는 환경 안전 시스템(8)이 있다.

이와 같은 다양한 반도체 설비는 극히 미소하고, 정밀하게 공정을 진행하게 되는 바, 이와 같은 이유로 반도체 생산 설비 및 간접 설비들은 사실상 수동 조작이 불가능하여 단위 공정( 예를 들어 산화 공정, 사진 식각 공정, 증착 공정, 패키지 공정 등등)을 수행하는 반도체 설비에는 공정을 정밀하게 제어하는 제어 수단을 필요로 한다.

이와 같은 이유로 대부분의 반도체 설비(10)(20)마다 반도체 설비를 정밀하게 구동시키기 위한 소프트웨어를 탑재한 독립된 마이크로 프로세서(이하, 제어 유닛;10a,2a,4a,6a, 8a)가 설치되어, 상기 제어 유닛에 의해 단위 반도체 제조 공정은 정밀하게 제어된다.

그러나, 단위 공정을 수행하는 반도체 설비마다 설치된 제어 유닛에 의해 단위 공정에서의 정밀한 제어는 가능하나, 간접 설비까지 포함된 다수 반도체 설비에서 발생한 데이터를 통합하여 관리할 수 없고, 단위 공정을 수행하는 반도체 설비마다 설치된 마이크로 프로세서(제어 유닛)에 의해 설비 비용이 증대되는 등의 문제점이 발생되고 있다.

따라서, 본 발명은 이와 같은 종래의 문제점을 감안하여 안출된 것으로 본 발명의 목적은 반도체 공정을 진행하는 반도체 설비를 하나의 호스트 컴퓨터에 연결하여 다수 반도체 설비에서 발생한 다양한 데이터(예를 들어 설비 에러, 공정 에러 등이 발생하였을 경우의 데이터)를 관리 차원에서 통합하여 관리하고, 단위 공정을 수행하는 다수의 반도체 설비에 설치된 마이크로 프로세서 대신 단일 호스트 컴퓨터를 반도체 설비에 접속시켜 설비 셋업 비용을 감소시키는데 있다.

도 1은 종래의 반도체 설비를 제어하는 제어시스템을 도시한 도면.

도 2는 본 발명에 의한 반도체 설비 통합 제어시스템을 도시한 도면.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명

40: 반도체 설비50: 모니터부60: 호스트 컴퓨터

이와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 반도체 설비 통합 제어시스템은 다수의 반도체 제조 설비를 제어하는 제어 시스템에 있어서;

반도체 단위 공정이 진행되는 다수의 반도체 단위 설비와;

상기 반도체 단위 공정을 모니터링 및 관리하는 모니터/관리부와;

다수의 상기 반도체 단위 설비 및 상기 모니터부에 상호 접속되어 상기 모니터부의 제어에 의해 상기 반도체 단위 설비들을 제어하는 단일 호스트 컴퓨터를 포함하고 있는 것을 특징으로 한다.

이하, 본 발명에 의한 반도체 설비를 통합적으로 제어하는 제어시스템을 첨부된 도 2를 참조하여 설명하면 다음과 같다.

본 발명에 의한 반도체 설비 통합 제어시스템은 전체적으로 보아 반도체 설비(40)와, 반도체 설비(40)를 모니터링(monitoring) 및 관리하는 모니터/관리부(50)와, 상기 모니터부(50)로부터 제어 신호를 입력받아 반도체 단위 설비(40)의 공정을 정밀하게 제어하는 호스트 컴퓨터(60)를 포함하고 있다.

이들중 반도체 단위 설비(40)는 다시 웨이퍼가 순환되면서 반복적으로 실제 공정이 진행되는 반도체 생산 설비(42)와 공정이 진행되도록 공정 분위기를 조성해주는 간접 설비(44)로 크게 분류할 수 있고, 이들중 간접 설비(44)는 대표적으로 다음과 같은 설비들이 있으며 이를 간략하게 설명하면 다음과 같다.

간접 설비(44)의 일례로 반도체 공정에 필요한 공정 가스의 공급 및 차단을 수행하는 가스 공급 배관의 에어 밸브를 개폐하는 밸브 조정 박스(미도시) 및 통상 가스 봄베라 불리는 가스 공급장치인 실린더 캐비닛(미도시)으로 구성된 가스 서플라이 시스템(44a)과, 화학물질을 필요로 하는 세정 및 식각등의 공정에 사용되는 케미컬등을 공급하기 위해 케미컬 서플라이 탱크(미도시)와 케미컬 누설 감지 장치(미도시) 및 폐케미컬을 처리하는 케미컬 서플라이 시스템(44b)으로 분류할 수 있다.

또한, 간접 설비(44)는 언급한 바 있는 가스 서플라이 시스템(44a)으로부터 유독성 가스의 누설을 감지하는 누설 감지 시스템(leak detector system;44c) 및, 화재의 발생 유무를 감지 및 기타 반도체 제조 공정을 간접적으로 지원하는 환경 안전 시스템(44d)등을 더 포함시킬 수 있다.

이와 같은 반도체 생산 설비(42)와 간접 설비(44)들은 다시 고용량, 고속 노드를 갖는 호스트 컴퓨터(SiFams Host Computer; Semiconductor integrated Facility management system;60)에 접속되는 바, 반도체 생산 설비(42)는 작업자가 공정을 감시 및 설정할 수 있도록 제어 패널(미도시)을 통하여 호스트 컴퓨터(60)에 접속되는 것이다.

이 호스트 컴퓨터(60)는 다시 중앙제어실(52), ERT실(54), 오피스(56)등 반도체 제조 공정을 감시 및 관리하는 모니터부(50)와 접속되어 반도체 공정 진행 상황을 모니터부(50)에서 통합하여 판단 및 제어할 수 있게 됨으로써, 단위 공정과 단위 공정 사이의 연계성에 따라서 선행 반도체 공정과 후속 반도체 공정을 연계하여 진행할 수 있는 데이터를 통합적으로 수집, 분석 가능하게 되어 설비의 효율성을 증대시킬 수 있다.

이상에서 살펴본 바와 같이, 다수의 반도체 설비를 하나의 호스트 컴퓨터와 직접 접속하여 제어하므로써, 제어시스템 구축에 필요한 설치 경비를 절감하고 다수의 컴퓨터를 통합하여 제어 가능하므로써 공정중 발생한 각종 데이터의 수집 및 분석을 효율적으로 수행하는 효과가 있다.

Claims (1)

1. 다수의 반도체 제조 설비를 제어하는 제어 시스템에 있어서;

   반도체 단위 공정이 진행되는 다수의 반도체 단위 설비와;

   상기 반도체 단위 공정을 모니터링 및 관리하는 모니터/관리부와;

   다수의 상기 반도체 단위 설비 및 상기 모니터부에 상호 접속되어 상기 모니터부의 제어에 의해 상기 반도체 단위 설비들을 제어하는 단일 호스트 컴퓨터를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 설비 통합 제어 시스템.