JP2000081200A

JP2000081200A - ガス供給システム

Info

Publication number: JP2000081200A
Application number: JP26898098A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Shinya; 浩新屋; Takeshi Wakabayashi; 剛若林; Haruhiko Komatsu; 晴彦小松; Shinichi Watanabe; 伸一渡辺; Kohei Murata; 興平村田; Takashi Hasebe; 貴司長谷部; Hirochika Yamamoto; 弘親山元
Original assignee: Taisei Corp; Tokyo Electron Ltd; Air Liquide Japan GK
Current assignee: Taisei Corp; Tokyo Electron Ltd; Air Liquide Japan GK
Priority date: 1998-09-07
Filing date: 1998-09-07
Publication date: 2000-03-21
Anticipated expiration: 2018-09-07
Also published as: JP4304323B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ガス供給システムの周辺にガス検知器が配置
されているため、ガス検知器によってガス漏れを検出し
てもガス供給システム（特に配管）のガス漏れ箇所を特
定することが難しく、ガス漏れ箇所の特定及びガス漏れ
該当箇所の配管交換等の修繕作業に多大な時間を要し、
処理装置の停止時間が長くなる。【解決手段】本発明のガス供給システムは、第１、第
２配管２、４を介してシリンダ１の処理用ガスを処理装
置６へ供給するもので、第１筐体８と第２筐体９を第１
配管２及び第１外管１１からなる二重管構造で接続し、
第２筐体９と第３筐体１０を第２配管４及び第２外管１
２からなる二重管構造で接続し、二重管構造の隙間
δ₁、δ₂に従って第２筐体９側から第１、第３筐体８、
１０内へ窒素ガスを供給し、第１、第２配管１、４で漏
れた処理用ガスを第１、第３筐体８、１０内のガス検知
器１７で検出することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば種々の処理
装置に対して種々の処理用ガスを供給する際に好適に用
いられるガス供給システム関する。

【０００２】

【従来の技術】この種のガス供給システムは例えば半導
体製造工場において用いられている。半導体製造工場の
クリーンルーム内には熱処理装置、成膜処理装置あるい
はエッチング処置装置等の各種の処理装置が配置され、
それぞれの処理装置では各種のプロセスガスが用いられ
る。プロセスガスとしては無機系化合物や有機系化合物
が用いられ、これらの中にはモノシランや六フッ化タン
グステン等の無機系化合物やトリメチルアルミニウム等
の有機系化合物のような有害なガスが比較的多いため、
半導体製造工場内のガス供給システム周辺の要所要所に
はガス検知器が配置され、ガス検知器によってガス供給
システムの配管等からのガス漏れを検出し、有害ガスの
漏洩の有無を常に監視している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ガス供給システムの場合には、配管が一重構造であるた
め、配管においてガス漏れが発生すれば周辺に配置され
たガス検知器によってガス漏れを検出することができる
が、配管のガス漏れ箇所までは特定することが難しく、
仮に石鹸膜等を用いてガス漏れ箇所を特定できるにして
も、特定するまでに多大な時間が必要になり、更に、配
管の修繕、交換作業が必要になり、処理装置の停止時間
が長くなるという課題があった。

【０００４】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、ガス漏れ箇所を迅速に特定し、配管の修
繕、交換作業を迅速に行うことができ、処理装置の停止
時間を格段に短縮することができるガス供給システムを
提供することを目的としている。また、ガス供給ライン
のバルブを遠隔操作できると共にガス漏洩箇所を瞬時に
知ることができ、安全性に優れたガス供給システムを併
せて提供することを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
のガス供給システムは、処理用ガスを供給するガス供給
源と、このガス供給源と第１配管を介して接続された集
合バルブと、この集合バルブの下流側で第２配管を介し
て接続された遮断バルブとを備え、上記集合バルブ及び
遮断バルブを介して上記ガス供給源から処理装置へ処理
用ガスを供給するガス供給システムであって、上記ガス
供給源、集合バルブ及び遮断バルブをそれぞれ収納する
第１、第２、第３筐体と、第１筐体と第２筐体を互いに
接続すると共に第１配管との間に第１隙間を介在させて
二重管構造を形成する第１外管と、第２筐体と第３筐体
を互いに接続すると共に第２配管との間に第２隙間を介
在させて二重管構造を形成する第２外管と、第２筐体側
から第１、第３筐体内へ第１、第２隙間を介して不活性
ガスを供給する不活性ガス供給源と、少なくとも第１、
第３筐体内に設けられて上記処理用ガスを検出するガス
検知器とを備えたこと特徴とするものである。

【０００６】また、本発明の請求項２に記載のガス供給
システムは、請求項１に記載の発明において、第１、第
２外管に対して加熱用テープを巻き付けたことを特徴と
するものである。

【０００７】また、本発明の請求項３に記載のガス供給
システムは、請求項１または請求項２に記載の発明にお
いて、第２筐体内に除害装置を設けると共にこの除害装
置と上記集合バルブを接続したことを特徴とするもので
ある。

【０００８】また、本発明の請求項４に記載のガス供給
システムは、第１筐体内に収納されて処理用ガスを供給
するガス供給源と、このガス供給源と第１配管を介して
接続され且つ第２筐体内に収納された集合バルブと、こ
の集合バルブの下流側で第２配管を介して接続され第３
筐体内に収納された遮断バルブとを備えたガス供給シス
テムであって、上記各ガス供給源のバルブ、集合バルブ
及び遮断バルブそれぞれの遠隔操作を行う遠隔操作装置
を設け、上記遠隔操作装置を介して上記各バルブをそれ
ぞれ開閉操作することを特徴とするものである。

【０００９】また、本発明の請求項５に記載のガス供給
システムは、第１筐体内に収納されて処理用ガスを供給
するガス供給源と、このガス供給源と第１配管を介して
接続され且つ第２筐体内に収納された集合バルブと、こ
の集合バルブの下流側で第２配管を介して接続され第３
筐体内に収納された遮断バルブと、上記第１配管とで二
重配管を形成し且つ第１筐体と第２筐体を連結する第１
外管と、上記第２配管とで二重配管を形成し且つ第２筐
体と第３筐体を連結する第２外管と、上記各筐体内にそ
れぞれ配設されたガス検知器とを備えたガス供給システ
ムであって、上記各ガス検知器を介して上記二重配管で
のガス漏洩を監視する監視装置を設け、上記監視装置を
介して上記各ガス検知器を監視することを特徴とするも
のである。

【００１０】また、本発明の請求項６に記載のガス供給
システムは、第１筐体内に収納されて処理用ガスを供給
するガス供給源と、このガス供給源と第１配管を介して
接続され且つ第２筐体内に収納された集合バルブと、こ
の集合バルブの下流側で第２配管を介して接続され第３
筐体内に収納された遮断バルブと、上記第１配管とで二
重配管を形成し且つ第１筐体と第２筐体を連結する第１
外管と、上記第２配管とで二重配管を形成し且つ第２筐
体と第３筐体を連結する第２外管と、上記各筐体内にそ
れぞれ配設されたガス検知器とを備えたガス供給システ
ムであって、上記各ガス供給源のバルブ、集合バルブ及
び遮断バルブそれぞれの遠隔操作を行うと共に上記各ガ
ス検知器を介して上記二重配管でのガス漏洩を監視する
遠隔操作装置を設け、上記ガス検知器のガス検出に基づ
いて上記遠隔操作装置が作動してガス漏洩箇所に関連す
る上記各バルブを自動的に閉じることを特徴とするもの
である。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、図１〜図７に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。本実施形態のガス供給シ
ステムは、図１の（ａ）に示すように、シリンダキャビ
ネット（Ｃ／Ｃ）内に設けられ且つ所定の処理用ガスを
供給するシリンダ１と、このシリンダ１と第１配管２を
介して接続された集合バルブ３と、この集合バルブ３の
下流側で第２配管４を介して接続された遮断バルブ５
と、遮断バルブ５と処理装置（Ｍ／Ｃ）６を接続する第
３配管７とを備え、第１、第２、第３配管２、４、７か
らなるガス供給ラインの集合バルブ３及び遮断バルブ５
を介してシリンダ１から処理装置６へ処理用ガスを供給
するようにしてある。シリンダ１には例えばエアバルブ
１Ａが付設され、このエアバルブ１Ａは遠隔操作できる
ようにしてある。集合バルブ３は複数（図１の（ａ）で
は４個）の分配用エアバルブ３Ａ〜３Ｄを有し、各分配
用エアバルブ３Ａ〜３Ｄは遠隔操作により開きシリンダ
１の処理用ガスを４箇所へ分配できるようにしてある。
更に、遮断バルブ５も遠隔操作できるエアバルブからな
っている。

【００１２】また、上記集合バルブ３の分配用エアバル
ブ３Ａ及び遮断バルブ５の上流側には圧力計３１がそれ
ぞれ配設され、集合バルブ３及び遮断バルブ５直前の処
理用ガス圧をそれぞれ検出するようにしてある。一方の
圧力計３１は第２筐体（Ｂ／Ｂ）９内に配置され、他方
の圧力計３２は第３筐体（Ｓ／Ｂ）１０内に配置されて
いる。

【００１３】上記シリンダ１、集合バルブ３及び遮断バ
ルブ５はいずれも第１、第２、第３筐体８、９、１０内
に収納され、外部から遮断されている。そして、第１、
第２筐体８、９は第１配管２を囲む第１外管１１を介し
て接続され、第２、第３筐体９、１０は第２配管４を囲
む第２外管１２を介して接続されている。更に云えば、
第１筐体８には第１配管２が貫通する開口部が形成さ
れ、この開口部は第１配管２より大径で第１外管１１の
外径より若干小径に形成されている。第２筐体９には第
１、第２配管２、４がそれぞれ貫通する開口部が形成さ
れ、これらの開口部はいずれも各配管２、４より大径で
第１、第２外管１１、１２の外径より若干小径に形成さ
れている。第３筐体１０には第２、第３配管４、７がそ
れぞれ貫通する開口部が形成され、第２配管４の開口部
は第２外管１２の外径より若干小径に形成され、第３配
管７の開口部は第３配管７より若干小径に形成されてい
る。

【００１４】第１筐体８と第２筐体９はそれぞれの開口
部で第１外管１１を介して互いに気密に接続され、第１
配管２と第１外管１１とで二重配管構造が形成されてい
る。第１外管１１と第１配管２との間には後述する不活
性ガス（例えば、窒素ガス）が流れる隙間δ₁が形成さ
れ、第１外管１１は一端が第１筐体８の開口部を貫通し
てその内部で開口し、他端が第２筐体９の開口部を貫通
しその内部で隙間δ₁を封止している。また、第２筐体
９と第３筐体１０もそれぞれの開口部で第２外管１２を
介して互いに気密に接続され、第２配管４と第２外管１
２とで二重配管構造が形成されている。また、第２外管
１２と第２配管４との間にも窒素ガスが流れる隙間δ₂
が形成され、第２外管１２は一端が第２筐体９の開口部
を貫通してその内部で隙間δ₁を封止し、他端が第３筐
体１０の開口部を貫通してその内部で開口している。第
１、第２外管１１、１２は例えばフッ素系樹脂等の耐熱
性、耐食性にある合成樹脂によって形成されている。

【００１５】また、第１、第２外管１１、１２の外周面
には図１の（ｂ）に示すように加熱用テープ１１Ａ、１
２Ａが巻き付けられ、各外管１１、１２内を流れる窒素
ガスを加熱し、ひいては第１、第２配管２、４内を流れ
る処理用ガスを加熱するようにしてある。これにより有
機金属化合物等のように低蒸気圧性のガスを処理用ガス
として用いた場合でも第１、第２配管２、４内で処理用
ガスの再液化を確実に防止するようにしてある。隙間δ
₁、δ₂には予め所定温度まで加熱した窒素ガスを供給す
ることが好ましい。

【００１６】そして、第１外管１１と第２外管１２は第
２筐体９の近傍において連通管１３を介して互いに接続
され、連通管１３を介して第１外管１１内の隙間δ₁と
第２外管１３の隙間δ₂が互いに連通している。連通管
１３には配管１４を介して窒素ガスの供給源が接続さ
れ、配管１４及び連通管１３を介して各隙間δ₁、δ₂内
へ窒素ガスを供給するようにしてある。従って、配管１
４及び連通管１３を介して窒素ガスを供給すると、第
１、第２外管１１、１２内の隙間δ₁、δ₂が第２筐体９
内で封止されているため、窒素ガスは第２筐体９側から
第１、第３筐体８、１０側へ隙間δ₁、δ₂に沿って流
れ、第１、第２外管１１、１２の開口から第１、第３筐
体８、１０内へそれぞれ流入するようにしてある。

【００１７】第１、第３筐体８、１０には排気管１５、
１６がそれぞれ接続され、各排気管１５、１６から第
１、第２外管１１、１２内の隙間δ₁、δ₂から第１、第
３筐体８、１０内に流入した窒素ガスを排出するように
してある。また、図示してないが、これらの排気管１
５、１６は途中で互いに接続され、第１、第２筐体８、
９からの窒素ガスが合流するようにしてある。

【００１８】更に、第１、第２、第３筐体８、９、１０
内には処理用ガスを検出するガス検知器１７がそれぞれ
配設され、これらのガス検知器１７を介して第１、第
２、第３筐体８、９、１０内で処理用ガスを検出するよ
うにしてある。ガス検知器１７は使用される処理用ガス
の種類に応じて選定して設置されている。例えば、二種
類の処理用ガスを使用する場合には、後述するようにそ
れぞれの処理用ガスを個別に検出するガス検知器が設け
られている。従って、万一、第１、第２配管２、４にお
いてガス漏れが発生した場合には、第１、第２配管２、
４と第１、第２外管１１、１２間の各隙間δ₁、δ₂に沿
って窒素ガスが流れているため、各配管１１、１２内で
漏出した処理用ガスが窒素ガスをキャリアガスとしてそ
れぞれの隙間δ₁、δ₂に沿って流れ、第１、第３筐体
８、１０内へ流入し、各筐体８、１０内でガス検知器１
７、１７によって処理用ガスを検出するようにしてあ
る。これらのガス検知器１７は、いずれもクリーンルー
ム内の複数箇所に配設された後述の遠隔操作装置及びパ
イロットライト等の警報装置に接続され、ガス検知器１
７でガス漏れを検出した時、これらの遠隔操作装置及び
警報装置を介してガス漏れを報知すると共に漏洩箇所に
関連する上記各バルブ１Ａ、３、５を閉じ、その時点か
ら処理用ガスの供給を停止し、ガス漏れを最小限に止め
るようにしてある。

【００１９】更に、第２筐体９内には処理用ガスを無害
化する除害装置１８が配設され、この除害装置１８はエ
アバルブ１９を介して分配用エアバルブ３Ａの第２配管
４に接続されている。除害装置１８には第２筐体９を貫
通する排気管２０が接続され、無害化したガスを排気管
２０を介して外部へ排気するようにしてある。この無害
化ガスは窒素ガスと合流するようにしても良い。勿論、
処理装置６にも除害装置２１が接続され、処理装置６か
ら排気される処理後のガスを無害化して排出するように
してある。

【００２０】上記ガス供給システムは例えば図２に示す
ようにクリーンルーム棟内に設けて使用される。ガス供
給システムについては上述したため、ここでは図２に示
すクリーンルーム棟を中心に説明する。クリーンルーム
棟５０には空調機やシリンダ１を収納した第１筐体８が
配置された機械棟６０が隣接している。そして、クリー
ンルーム棟５０は二階が処理装置６が配置されたクリー
ンルーム５１として形成され、一階が集合バルブ３を収
納した第２筐体９等の補機類が配置された補機室５２と
して形成されている。クリーンルーム５１と補機室５２
は、図２に示すように、剛性の高いパネル５３によって
遮断されている。パネル５３の上方には所定の隙間５４
を介してフリーアクセスフロア５５が形成され、このフ
リーアクセスフロア５５は例えばグレーティングパネル
を敷き詰めて形成されている。この隙間５４内には遮断
バルブ５を収納した第３筐体１０が配置されている。ク
リーンルーム５１の天井上側にはプレナムスペース５６
が形成され、天井に配設された高性能フィルタ５７でプ
レナムスペース５６内の清浄度を上げた清浄空気を下降
流でクリーンルーム５１内へ供給するようにしてある。
この清浄空気は白抜きの矢印で示したようにパネル５３
の補機室５２側の面及びクリーンルーム５１側壁に沿っ
て形成されたリターンダクト５８を介してクリーンルー
ム５１、フリーアクセスフロア５５及びその下方の隙間
５４を循環するようにしてある。つまり、クリーンルー
ム５１の空気は一定の流れ方向を持ち、特定の領域（リ
ターンダクト５８）を必ず通過する。このリターンダク
ト５８にもガス検知器１７が配置され、万一、クリーン
ルーム５１内でガス漏れが発生した場合でも、そのガス
が空気流に従ってリターンダクト５８を通過するのでガ
ス漏れを検出することができる。

【００２１】また、本実施形態の図３に示すようにガス
供給システムは遠隔操作モニタ２２を有し、遠隔操作モ
ニタ２２を介して処理装置６の稼働状態に即して処理用
ガスを供給し、停止すると共にガスの供給状況を監視す
るようにしてある。即ち、処理装置６は例えば除害装置
１８が正常に動作し得る状態（READY状態）であるか否
かを示す装置状態信号を遠隔操作モニタ２２の受信手段
へ送信する送信手段（図示せず）を備え、また、遠隔操
作モニタ２２は受信手段で受けた装置状態信号に基づい
てシリンダ１のバルブ１Ａ、集合バルブ３及び遮断バル
ブ５それぞれの開閉信号を送信する送信手段を備えてい
る。従って、遠隔操作モニタ２２は、処理装置６の送信
手段から装置状態信号を受信すると、バルブ１Ａ、集合
バルブ３の該当分配用エアバルブ３Ａ（図１参照）を開
閉操作し、処理用ガスを供給したり、停止したりするよ
うにしてある。

【００２２】ところで、上記遠隔操作モニタ２２は表示
画面を有し、この表示画面に図４に示す遠隔操作画面２
２Ａや装置別状態監視画面２２Ｂ等を表示するようにし
てある。また、第１、第２、第３筐体８、９、１０それ
ぞれには遠隔操作モニタ２２の遠隔操作モードとマニュ
アル操作モードを選択する選択スイッチ（図示せず）が
付設され、全ての選択スイッチで遠隔操作モードを選択
して初めて遠隔操作モニタ２２が機能するようにしてあ
り、いずれか一つの選択スイッチがマニュアル操作モー
ドであれば遠隔操作モニタ２２による遠隔操作が機能し
ないようにしてある。更に、中央監視室５９内には中央
監視装置（図示せず）に配置され、中央監視装置の表示
画面に表示された作業者登録画面５２Ａを用いて各クリ
ーンルーム５１内に設置された種々の処理装置６及びそ
れぞれの担当作業者の名前等のＩＤデータやパスワード
等のデータを予め入力して登録し、登録データを中央監
視装置のファイル５２Ｂで記憶するようにしてある。そ
して、遠隔操作モニタ２２は中央監視装置５２に接続さ
れ、ファイル５２Ｂから登録データを読み込み、例えば
遠隔操作画面２２Ａや装置別状態監視画面２２Ｂ等を表
示画面に表示するようにしてある。

【００２３】図４に示す遠隔操作画面２２Ａには例えば
所定の処理装置（Ｍ／Ｃ）の担当作業者のＩＤデータを
表示する領域、ガスボンベ１のバルブ１Ａ、集合バルブ
３及び遮断バルブ５を操作する操作領域、及びその処理
装置（Ｍ／Ｃ）でのガス使用量（Ｌ）を入力する領域が
表示され、それぞれの領域のキーを操作することで所定
の処理装置のガス供給を開始し、停止しあるいは中止で
きるようにしてある。そして、操作領域の開始キーを操
作すると、その左側に示した装置別状態監視画面２２Ｂ
を表示画面に表示するようにしてある。装置別状態監視
画面２２Ｂには開始キーによって操作された処理装置
（Ｍ／Ｃ）及びこの処理装置（Ｍ／Ｃ）に接続された各
種のガス供給ラインを表示するようにしてある。そし
て、表示された処理装置（Ｍ／Ｃ）に用いる処理用ガス
やキャリアガスを装置別状態監視画面２２Ｂの操作キー
（Ｃ／Ｃ）で操作すると、そのガス供給ラインのガスボ
ンベ１のバルブ１Ａ、集合バルブ３及び遮断バルブ５が
自動的に開き、処理装置（Ｍ／Ｃ）が稼働するようにな
っている。

【００２４】更に、遠隔操作モニタ２２の表示画面には
図５に示すオーバービュー警報監視画面２２Ｃを表示す
るようにしてある。このオーバービュー警報監視画面２
２Ｃにはクリーンルーム棟５０内に配置された全てのガ
ス検知器１７の検出の有無を示すガス検出マーク（同図
では●印で示してある）及をそれぞれの設置場所と共に
表示するようにしてある。そして、例えばあるガス検知
器１７においてガスの漏洩を検出した場合にはそのガス
検知器１７に該当するガス検出マークが点滅し、ガス漏
洩場所が瞬時に一目で判るようになっている。このよう
にガス漏洩が検出されると、遠隔操作モニタ２２を介し
てガス漏洩場所に関連する各バルブ１Ａ、３、５を自動
的に閉じるようになっている。

【００２５】また、ガス供給システムで二種類の処理用
ガスを二台の処理装置に分配する場合には例えば図６に
示すシステム構成になる。尚、図６では一方のシリンダ
１及び集合バルブ３のみを図示し、他方のものは省略し
てある。このシステムでは図６に示すように、シリンダ
１側の集合バルブ３の分配用エアバルブ３Ａには第２外
管１２Ａで囲まれた第２配管４Ａを介して処理装置６Ａ
の遮断バルブ５Ａが接続され、分配用バルブ３Ｂには第
２外管１２Ｂで囲まれた第２配管４Ｂを介して処理装置
６Ｂの遮断バルブ５Ｂが接続され、一方の処理用ガスを
シリンダ１から処理装置６Ａ、６Ｂへそれぞれ分配して
供給するようにしてある。また、他方のシリンダ側の集
合バルブの各分配用エアバルブ（共に図示せず）には第
２配管４Ｃ、４Ｄがそれぞれ接続され、図示しない集合
バルブが収納された第２筐体と遮断バルブ５Ｃ、５Ｄが
収納された第３筐体１０Ａ、１０Ｂは同図に示すように
第２外管１２Ｃ、１２Ｄによって互いに接続されてい
る。そして、第１筐体８及び第２筐体９内にはそれぞれ
シリンダ１の処理用ガスを検出するガス検知器１７Ａが
設置され、第３筐体１０Ａ、１０Ｂ内及び処理装置６
Ａ、６Ｂには二種類の処理用ガスをそれぞれ個別に検出
するガス検知器１７Ａ、１７Ｂが設置されている。そし
て、各ガス検知器１７Ａ、１７Ｂには警報装置２３が接
続され、いずれかのガス検知器１７Ａ、１７Ｂで処理用
ガスを検出すると警報装置２３が点灯したり、警報を発
するようにしてある。

【００２６】次に、本実施形態のガス供給システムの動
作について説明する。処理装置６を稼働させるために
は、作業者が第１、第２、第３筐体８、９、１０それぞ
れの選択スイッチで遠隔操作モニタ２２の遠隔操作モー
ドを選択して遠隔操作モニタ２２を作動させると、図７
に示すように遠隔操作モニタ２２では第１筐体８の選択
スイッチで遠隔操作モードが選択されたか否かを判断し
（ステップＳ１）、遠隔操作モードが選択されている
と、ガスボンベ１に電気的あるいは機械的な異常がある
か否かを判断する（ステップＳ２）。異常がなければ第
２筐体９の遠隔操作モードが選択されているか否かを判
断した後（ステップＳ３）、集合バルブ３に異常がある
か否かを判断する（ステップＳ４）。集合バルブ３に異
常がなければ第３筐体の遠隔操作モードが選択されてい
るか否かを判断した後（ステップＳ５）、遮断バルブ５
に異常があるか否かを判断する（ステップＳ６）。異常
がなければ処理装置６がREADY状態であるか否かを判断
した後（ステップＳ７）、処理装置６のガス供給ライン
のガス検知器１７でガス漏洩が検出されたか否かを判断
し（ステップＳ８）、ガス漏洩が無ければ遠隔操作モニ
タ２２の表示画面に遠隔操作画面２２Ａ（図４参照）が
表示され（ステップＳ９）、ガス供給ラインの遠隔操作
が可能になる。

【００２７】ステップ８においてガス漏洩を検出した場
合には遠隔操作モニタ２２による入力を禁止した後（ス
テップＳ１０）、ガス漏洩に関連するバルブを自動的に
閉じ（ステップＳ１１）、ガス漏洩箇所をオーバービュ
ー警報監視画面２２Ｃへ表示し（ステップＳ１２）、処
理装置６を稼働する前にガス漏洩を検出することができ
る。また、ステップＳ１において選択スイッチが遠隔操
作モードになっていなければマニュアル操作モードが選
択されている旨を遠隔操作モニタ２２の表示画面に表示
する（ステップＳ１３）。更に、ステップＳ２、Ｓ４、
Ｓ６において異常があると判断した場合、あるいはステ
ップＳ３、Ｓ５、Ｓ７において遠隔操作モードが選択さ
れていないと判断した場合には「異常あり」あるいは
「遠隔操作不可能」と表示画面に表示する（ステップＳ
１４）。

【００２８】遠隔操作可能な状態で、作業者が遠隔操作
画面２２Ａ上でＩＤデータやパスワード等のデータを入
力し、操作領域の開始キーを操作すると、遠隔操作画面
２２Ａから装置別状態監視画面２２Ｂへ切り替わる。こ
の装置別状態監視画面２２Ｂ上で処理装置６で使用する
処理用ガスやキャリアガス等のガス種（画面では「Ｃ／
Ｃ」で表示されている）を入力すると、そのガス供給ラ
インにおけるシリンダ１のエアバルブ１Ａ、集合バルブ
３の分配用エアバルブ３Ａがそれぞれ開き、処理装置６
へ処理用ガスやキャリアガス等を供給する。これにより
処理装置６では半導体ウエハに対して所定の処理を施
す。

【００２９】この際、窒素ガスの供給源から配管１４及
び連通管１３を介して第１、第２外管１１、１２内の隙
間δ₁、δ₂へ窒素ガスが流入する。窒素ガスは第２筐体
９側から第１、第３筐体８、１０に向かって隙間δ₁、
δ₂に沿って流れ、各筐体８、１０内へ流出し、それぞ
れの内部に充満した後排気管１５、１６から排気され
る。万一、半導体ウエハの処理中に第１配管２あるいは
第２配管４の溶接継ぎ目等から処理用ガスが漏れた場合
には、漏れた処理用ガスは第１、第２外管１１、１２内
の隙間δ₁、δ₂を流れる窒素ガスをキャリアガスとして
第１筐体８または第３筐体１０内へ流入する。第１筐体
８内または第３筐体１０内には処理用ガスを検出するガ
ス検知器１７が設置されているため、それぞれのガス検
知器１７で処理用ガスを検出し、第１配管２または第２
配管４におけるガス漏れを警報装置を介してオペレータ
に知らせる。また、第２筐体９内の集合バルブ３の周辺
でガス漏れがあった場合にはその内部に設置されたガス
検知器１７により処理用ガスを検出し、第２筐体９内で
のガス漏れを警報装置を介してオペレータに知らせる。

【００３０】しかも、遠隔操作モニタ２２の表示画面に
オーバービュー警報監視画面２２を表示することでガス
漏洩に関連するガス検出マークが点滅し、瞬時にしてガ
ス漏洩場所を知ることができる。更に、ガス漏洩が検出
されると、遠隔操作画面２２Ａ等の画面での入力操作が
禁止されると共に、漏洩場所に関連するバルブ１Ａ、
３、５を自動的に閉じる。

【００３１】従って、オペレータは第１配管２、第２配
管４、第２筐体９のいずれかでのガス漏れを速やかに知
ることができ、ガス漏れに該当する配管を迅速に特定す
ることができ、ガス漏洩に関連するバルブが自動的に閉
じ、ガス供給が停止する。従って、その後には特定され
た配管系の修復や不良部品等を速やかに交換することが
できる。第１配管２あるいは第２配管４を交換する場合
には、集合バルブ３に付帯するエアバルブ１９を開き、
除害装置１８を介して配管内の処理用ガスを無害化して
パージする。

【００３２】処理用ガスが六フッ化タングステン等のよ
うに常温では液体で蒸気圧が低い処理用ガスの場合に
は、窒素ガスを予め加熱し、加熱された窒素ガスを第
１、第２外管１１、１２の隙間δ₁、δ₂へ供給すると共
に各配管１１、１２を加熱用テープ１１Ａ、１２Ａによ
って加熱し、窒素ガスを介して第１、第２配管２、４を
加熱して各配管２、４内での処理用ガスの再液化を防止
し、安定したガスの供給を行う。このように窒素ガスを
介して加熱することで各配管２、４をムラなく加熱して
局所的に再液化してしまうポイントを低減することがで
きる。

【００３３】以上説明したように本実施形態によれば、
シリンダ１、集合バルブ３及び遮断バルブ５をそれぞれ
第１、第２、第３筐体８、９、１０内に収納し、また、
第１筐体８と第２筐体９を互いに第１外管１１で接続す
ると共に第１外管１１と第１配管２との間に隙間δ₁が
介在する二重管構造として形成し、第２筐体９と第３筐
体１０を互いに第２外管１２で接続すると共に第２外管
１２と第２配管４との間に隙間δ₂が介在する二重管構
造として形成し、更に、第２筐体９側から第１、第３筐
体８、１０内へ二重管構造の隙間δ₁、δ₂を介して窒素
ガスを供給し、第１、第３筐体８、１０内のガス検知器
１７、１７で処理用ガスを検出するようにしたため、例
えば第１配管２で処理用ガスのガス漏れがあれば、その
処理用ガスは第２筐体９から第１筐体８へ流れる窒素ガ
スに伴って第１筐体８内へ流入し、その内部に設置され
たガス検知器１７で処理用ガスを検出し、ガス漏れ箇所
が第１配管２であることを速やかに特定することがで
き、その配管２を迅速に交換することができ、ひいては
処理装置６の停止時間を格段に短縮することができる。

【００３４】また、本実施形態によれば、第１、第２外
管１１、１２に対して加熱用テープ１１Ａ、１２Ａを巻
き付けたため、その内部を流れる窒素ガスを加熱するこ
とができ、処理用ガスが低蒸気圧性のガスであっても第
１、第２配管２、４内での再液化を防止し、処置装置６
へ処理用ガスの供給を安定化することができる。

【００３５】また、第２筐体９内に除害装置１８を設け
ると共にこの除害装置１８と第２配管４を接続したた
め、第１、第２、第３配管２、４、７のいずれを交換す
る場合であっても、その内部の処理用ガスを除害装置１
８からパージすることにより、処理用ガスを無害化する
ことができ、交換作業の安全を確保することができる。

【００３６】また、本実施形態によれば、シリンダ１の
バルブ１Ａ、集合バルブ３及び遮断バルブ５それぞれの
遠隔操作を行う遠隔操作モニタ２２を設け、この遠隔操
作モニタ２２を介して上記各バルブ１Ａ、３、５を遠隔
操作するようにしたため、処理用ガスが危険性のあるガ
スであっても従来のように作業者が各バルブ１Ａ、３、
５を直接開閉操作する必要がなく、各バルブ１Ａ、３、
５から離れた場所で遠隔操作することができ、常に作業
者の安全を確保することができる。

【００３７】しかも、各ガス検知器１７を介して二重配
管（第１配管２と第１外管１１、第２配管４と第２外管
１２）でのガス漏洩を監視する遠隔操作モニタ２２を設
け、この遠隔操作モニタ２２を介して各ガス検知器１７
を監視するようにしたため、処理用ガスのガス漏洩が判
った時には、オーバービュー警報監視画面２２Ｃによっ
てガス漏洩場所を瞬時にして知ることができ、緊急時の
対応を迅速化することができる。

【００３８】尚、本発明は上記実施形態に何等制限され
るものではなく、必要に応じて適宜設計変更を加えるこ
とができる。

【００３９】

【発明の効果】本発明の請求項１〜請求項３に記載の発
明によれば、ガス漏れ箇所を迅速に特定し、配管の修
繕、交換作業を迅速に行うことができ、処理装置の停止
時間を格段に短縮することができるガス供給システムを
提供することができる。

【００４０】また、本発明の請求項４〜請求項６に記載
の発明によれば、ガス供給ラインのバルブを遠隔操作で
きると共にガス漏洩箇所を瞬時に知ることができ、安全
性に優れたガス供給システムを併せて提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のガス供給システムの一実施形態を示す
概念図である。

【図２】図１に示すガス供給システムをクリーンルーム
に設けた例を示す概念図である。

【図３】図１に示すガス供給システムの遠隔操作モニタ
に関連するブロック図である。

【図４】図３に示す遠隔操作モニタの表示画面を示す図
である。

【図５】図３に示す遠隔操作モニタの表示画面を示す図
である。

【図６】本発明のガス供給システムの他の実施形態を示
す概念図である。

【図７】遠隔操作モニタが作動する時のフローチャート
を示す図である。

【符号の説明】

１シリンダ（ガス供給源）２第１配管３集合バルブ４第２配管５遮断バルブ６処理装置８第１筐体９第２筐体１０第３筐体１１第１外管１１Ａ加熱テープ１２第２外管１２Ａ加熱テープ１３連通管１４配管（不活性ガス供給用）１７ガス検知器１８除害装置２２遠隔操作モニタ（遠隔操作装置）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者新屋浩熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番東京エレクトロン九州株式会社内 (72)発明者若林剛東京都港区赤坂五丁目３番６号東京エレクトロン株式会社内 (72)発明者小松晴彦東京都府中市住吉町２丁目30番７号東京エレクトロンロジスティクス株式会社内 (72)発明者渡辺伸一東京都府中市住吉町２丁目30番７号東京エレクトロンロジスティクス株式会社内 (72)発明者村田興平東京都新宿区西新宿一丁目25番１号大成建設株式会社内 (72)発明者長谷部貴司東京都新宿区西新宿一丁目25番１号大成建設株式会社内 (72)発明者山元弘親兵庫県加古郡播磨町新島16番Ｆターム(参考） 2G067 AA11 BB37 CC04 3J071 AA02 BB11 BB14 CC06 DD22 EE06 EE28 EE38 FF11

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理用ガスを供給するガス供給源と、こ
のガス供給源と第１配管を介して接続された集合バルブ
と、この集合バルブの下流側で第２配管を介して接続さ
れた遮断バルブとを備え、上記集合バルブ及び遮断バル
ブを介して上記ガス供給源から処理装置へ処理用ガスを
供給するガス供給システムであって、上記ガス供給源、
集合バルブ及び遮断バルブをそれぞれ収納する第１、第
２、第３筐体と、第１筐体と第２筐体を互いに接続する
と共に第１配管との間に第１隙間を介在させて二重管構
造を形成する第１外管と、第２筐体と第３筐体を互いに
接続すると共に第２配管との間に第２隙間を介在させて
二重管構造を形成する第２外管と、第２筐体側から第
１、第３筐体内へ第１、第２隙間を介して不活性ガスを
供給する不活性ガス供給源と、少なくとも第１、第３筐
体内に設けられて上記処理用ガスを検出するガス検知器
とを備えたこと特徴とするガス供給システム。
【請求項２】第１、第２外管に対して加熱用テープを
巻き付けたことを特徴とする請求項１に記載のガス供給
システム。
【請求項３】第２筐体内に除害装置を設けると共にこ
の除害装置と上記集合バルブを接続したことを特徴とす
る請求項１または請求項２に記載のガス供給システム。
【請求項４】第１筐体内に収納されて処理用ガスを供
給するガス供給源と、このガス供給源と第１配管を介し
て接続され且つ第２筐体内に収納された集合バルブと、
この集合バルブの下流側で第２配管を介して接続され第
３筐体内に収納された遮断バルブとを備えたガス供給シ
ステムであって、上記各ガス供給源のバルブ、集合バル
ブ及び遮断バルブそれぞれの遠隔操作を行う遠隔操作装
置を設け、上記遠隔操作装置を介して上記各バルブをそ
れぞれ開閉操作することを特徴とするガス供給システ
ム。
【請求項５】第１筐体内に収納されて処理用ガスを供
給するガス供給源と、このガス供給源と第１配管を介し
て接続され且つ第２筐体内に収納された集合バルブと、
この集合バルブの下流側で第２配管を介して接続され第
３筐体内に収納された遮断バルブと、上記第１配管とで
二重配管を形成し且つ第１筐体と第２筐体を連結する第
１外管と、上記第２配管とで二重配管を形成し且つ第２
筐体と第３筐体を連結する第２外管と、上記各筐体内に
それぞれ配設されたガス検知器とを備えたガス供給シス
テムであって、上記各ガス検知器を介して上記二重配管
でのガス漏洩を監視する監視装置を設け、上記監視装置
を介して上記各ガス検知器を監視することを特徴とする
ガス供給システム。
【請求項６】第１筐体内に収納されて処理用ガスを供
給するガス供給源と、このガス供給源と第１配管を介し
て接続され且つ第２筐体内に収納された集合バルブと、
この集合バルブの下流側で第２配管を介して接続され第
３筐体内に収納された遮断バルブと、第１配管とで二重
配管を形成し且つ第１筐体と第２筐体を連結する第１外
管と、第２配管とで二重配管を形成し且つ第２筐体と第
３筐体を連結する第２外管と、上記各筐体内にそれぞれ
配設されたガス検知器とを備えたガス供給システムであ
って、上記各ガス供給源のバルブ、集合バルブ及び遮断
バルブそれぞれの遠隔操作を行うと共に上記各ガス検知
器を介して上記二重配管でのガス漏洩を監視する遠隔操
作装置を設け、上記ガス検知器のガス検出に基づいて上
記遠隔操作装置が作動してガス漏洩箇所に関連する上記
各バルブを自動的に閉じることを特徴とするガス供給シ
ステム。