JP2582016B2 - クリーンルームにおけるガス漏れ対策装置 - Google Patents

クリーンルームにおけるガス漏れ対策装置

Info

Publication number
JP2582016B2
JP2582016B2 JP4121103A JP12110392A JP2582016B2 JP 2582016 B2 JP2582016 B2 JP 2582016B2 JP 4121103 A JP4121103 A JP 4121103A JP 12110392 A JP12110392 A JP 12110392A JP 2582016 B2 JP2582016 B2 JP 2582016B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
clean room
exhaust gas
supply
exhaust
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4121103A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05293193A (ja
Inventor
博志 土山
聡 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp filed Critical Nippon Steel Corp
Priority to JP4121103A priority Critical patent/JP2582016B2/ja
Publication of JPH05293193A publication Critical patent/JPH05293193A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2582016B2 publication Critical patent/JP2582016B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Fire-Extinguishing By Fire Departments, And Fire-Extinguishing Equipment And Control Thereof (AREA)
  • Ventilation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルームに設置
され、かつ発熱、発火などを伴う装置に対して供給する
ガスをガス漏れ検出時に自動的に停止させるためのクリ
ーンルームにおけるガス漏れ対策装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造においては、種々の工
程があるが、使用する製造装置(処理または加工を含
む)によっては発熱や発火を発生し、あるいは危険なガ
スを用いるものがある。例えば、シボラン、ホスフィ
ン、シラン、塩素、アンモニアなどのプロセスガスを用
いるCVD装置、エッチング装置などがあり、これら製
造装置は、通常、クリーンルーム内に設置されている。
【0003】このようなクリーンルームにおいて、ガス
漏れが検出された際は、有害ガスによる危険を防止する
ため、ガス源からのガス供給の停止、発火源の動作の停
止などを行うと共に、クリーンルームに放出された有害
ガスを除害するために排気除害装置を通して大気中に放
出する操作を施し、被害を最小限に止める必要がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来において
は、ガス漏れ時にガスの供給停止、発火源の動作停止、
及び有害ガスの排出を止めるための各バルブの操作は現
場作業者が手動で行っているため、対応に遅れが生じや
すく、災害を大きくする恐れがあった。この傾向は装置
の設置台数が増えるほど大きくなる。
【0005】本発明の目的は、ガス漏れ時にガス供給の
停止、装置の停止、排気系の切替えなどを自動的に行え
るようにするクリーンルームにおけるガス漏れ対策装置
を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明は、ガス源からプロセスガスの供給を受
けて発火を伴う処理を行い或いは前記ガス源から危険性
ガスの供給を受けて所定の処理を行う装置が複数に分割
したゾーンの各々に設置されるクリーンルームにおい
て、前記ゾーンの各々及び前記装置の各々の内部のガス
漏れを検知する複数のガスセンサと、有害ガスを含む排
気に対し無害化の処理を行う排気除害装置と、前記各ゾ
ーンから供給される排気を大気中または前記排気除害装
置のいずれかへ供給する複数の切替バルブと、前記ガス
センサがガス漏れを検出したときにその対応するゾーン
に関係するガス供給バルブを閉めると共に前記切替バル
ブを前記排気除害装置側へ切り換える制御部とを設ける
ようにしている。
【0007】
【作用】上記した手段によれば、いずれかのゾーンにお
いてガス漏れが検知されると、制御部はガス漏れの有っ
たゾーンに対してガス源からのガス供給を停止すると共
に、ガス漏れの有ったゾーン側からの排気を排気除害装
置に導き、無害化の処理を行ってから大気中に放出す
る。この結果、発火源の稼働は速やかに停止され、かつ
有害ガスは無害化された後に大気へ排出されるので、ク
リーンルーム内に災害が広まるのを防止し、建屋全体の
操業停止を防止できると共に大気中に有害ガスが放出さ
れるのを防止することができる。
【0008】
【実施例】図1は本発明によるクリーンルームにおける
ガス漏れ対策装置の一実施例を示すブロック図である。
なお、実際には、クリーンルーム内に設置される装置類
は数十台に及ぶが、ここでは説明の便宜上、4台のみを
図示している。
【0009】ガス漏れ検知に伴ってガス供給の停止、装
置の停止、排気系の切替えなどの制御を自動的に行う制
御部1は、マイクロコンピュータを用いて構成され、予
め作成したプログラムにしたがって制御を実行する。こ
の制御部1の制御対称となるクリーンルーム2は、内部
が複数(ここでは4つ)のゾーン7a,7b,7c,7
dに区分されている。このように区分する理由は、或る
ゾーンにガス漏れが発生して操業の続行が不可能になっ
ても、他のゾーンにおける操業が続行できるようにする
ためである。ゾーン7a,7b,7c,7dの各々には
1乃至複数の製造装置(エッチング装置、CVD装置な
どがあり、ここでは便宜上各ゾーンに1台を設置)3,
4,5,6が設置されている。
【0010】製造装置3,4,5,6に対するプロセス
ガスの供給は、ガス源8から行われ、このガス源8には
元栓としてのバルブ9(例えば、電磁バルブ)が取り付
けられている。バルブ9にはガス配管10が接続され、
このガス配管10には製造装置ごとに設けられたバルブ
11,12,13,14(例えば、電磁バルブ)を介し
て製造装置3,4,5,6の各々のガス入力部が接続さ
れている。
【0011】また、製造装置3,4,5,6の各々に
は、装置内のガス漏れを検知するためのガスセンサ1
5,16,17,18が取り付けられ、さらに、クリー
ンルーム2のゾーン7a,7b,7c,7dの各々に
は、室内に対するガス漏れの有無を検知するためのガス
センサ19,20,21,22が設置されている。製造
装置3,4,5,6の各々の装置内雰囲気排気出側に
は、排気配管23,24,25,26の各々が接続さ
れ、この排気配管の各々には切替バルブ27,28,2
9,30の各々が接続されている。切替バルブ27,2
8,29,30の各々は、同一仕様のものが用いられ、
大気側と排気除害装置31側のいずれか一方を選択でき
るように構成されている。プロセスガスを通常処理した
排ガスの無害化処理のために、排ガス配管32、および
排ガス処理装置33が製造装置に接続されている。
【0012】制御部1には、ガスセンサ15,16,1
7,18及びガスセンサ19,20,21,22の各検
知信号を取り込み、これに基づいてバルブ9,バルブ1
1〜14、及び切替バルブ27,28,29,30の各
々の開閉制御、製造装置3,4,5,6の停止制御、及
び排気除害装置31の始動制御などを実行する。
【0013】次に、以上の構成による実施例の動作につ
いて説明する。
【0014】製造装置3,4,5,6が通常稼働のとき
には、制御部1によってバルブ9及びバルブ11,1
2,13,14が開放されており、また、切替バルブ2
7,28,29,30が大気側に切替えられている。ガ
ス源8から処理装置3,4,5,6の各々にプロセスガ
スが供給(例えば1リットル/分)され、CVD処理及
びエッチング処理が行われ、反応後のガスが排ガス配管
32、及び排ガス処理装置33を介して大気中に放出さ
れる。また、クリーンルーム2および製造装置3,4,
5,6の雰囲気(ガス漏れがない時は無害)は、排気配
管23,24,25,26及び切替バルブ27,28,
29,30を介して大気中に放出される。
【0015】一方、ゾーン7a,7b,7c,7dのい
ずれかにおいてガス漏れが検知、例えば、7aでガスセ
ンサ19によってガス漏れが検知されたとする。すると
制御部1は製造装置3の稼働を停止させて発火源を止
め、同時にバルブ11を閉めると共に切替バルブ27を
排気除害装置31に切替えるように制御する。これによ
り、クリーンルーム2のゾーン7aに対してはガス源8
からの新たなガス供給は行われず、ゾーン7a及び排気
配管23内に残留する有害ガスを含む排気が排気除害装
置31に吸引される。排気除害装置31では、導入した
有害ガスを含む排気に対し無害化処理を施した後、大気
中に放出する。なお、ガスセンサ15がガス漏れを検知
した場合でも、ガスセンサ19による場合と同一の処理
が実行される。また、複数のセンサが動作した場合、そ
の各々に対応する装置が停止されると共に、ゾーン関係
のバルブ閉め及びバルブ切替が行われる。
【0016】このとき、ゾーン7b,7c,7dにあっ
ては、ガス漏れが検知されていないので、製造装置4,
5,6は稼働を続行している。ここで、仮にゾーン7
a,7b,7c,7dの全てにガス漏れが検知されたと
すると、バルブ9、バルブ11,12,13,14が同
時に閉められ、製造装置3,4,5,6の稼働を全て停
止すると共に、切替バルブ27,28,29,30の全
てが排気除害装置31側に切替えられる。
【0017】以上のように、上記した実施例によれば、
各バルブの閉塞動作及び切替動作が自動的に行われるの
で、発火源の停止及び有害ガスの拡散を最小限に留め、
かつ、建屋全体の操業停止を回避することができる。ま
た、安全性の向上が図られると共に環境保全が可能にな
る。
【0018】
【発明の効果】以上説明した通り、この発明は、ガス源
からプロセスガスの供給を受けて発火を伴う処理を行い
或いは前記ガス源から危険性ガスの供給を受けて所定の
処理を行う装置が複数に分割したゾーンの各々に設置さ
れるクリーンルームにおいて、前記ゾーンの各々及び前
記装置の各々の内部のガス漏れを検知する複数のガスセ
ンサと、有害ガスを含む排気に対し無害化の処理を行う
排気除害装置と、前記各ゾーンから供給される排気を大
気中または前記排気除害装置のいずれかへ供給する複数
の切替バルブと、前記ガスセンサがガス漏れを検出した
ときにその対応するゾーンに関係するガス供給バルブを
閉めると共に前記切替バルブを前記排気除害装置側へ切
り換える制御部とを設けるようにしたので、ガス漏れ時
にガス供給の停止、装置の停止、排気系の切替えなどが
自動的に行えるようになり、クリーンルーム内における
災害を最小限にし、かつ建屋全体の操業停止を回避でき
る。また、大気中に有害ガスが放出されるのを防止する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるクリーンルームにおけるガス漏れ
対策装置の一実施例を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 制御部 2 クリーンルーム 3,4,5,6 製造装置 7a,7b,7c,7d ゾーン 8 ガス源 9,11,12,13,14 バルブ 10 ガス配管 15,16,17,18,19,20,21,22 ガ
スセンサ 23,24,25,26 排気配管 27,28,29,30 切替バルブ 31 排気除害装置 32 排ガス配管 33 排ガス処理装置

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガス源からプロセスガスの供給を受けて
    発火を伴う処理を行い或いは前記ガス源から危険性ガス
    の供給を受けて所定の処理を行う装置が複数に分割した
    ゾーンの各々に設置されるクリーンルームにおいて、前
    記ゾーンの各々及び前記装置の各々の内部のガス漏れを
    検知する複数のガスセンサと、有害ガスに対し無害化の
    処理を行う排気除害装置と、前記各ゾーンから供給され
    る排気を大気中または前記排気除害装置のいずれかへ供
    給する複数の切替バルブと、前記ガスセンサがガス漏れ
    を検出したときにその対応するゾーンに関係するガス供
    給バルブを閉めると共に前記切替バルブを前記排気除害
    装置側へ切り換える制御部とを具備することを特徴とす
    るクリーンルームにおけるガス漏れ対策装置。
JP4121103A 1992-04-16 1992-04-16 クリーンルームにおけるガス漏れ対策装置 Expired - Lifetime JP2582016B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4121103A JP2582016B2 (ja) 1992-04-16 1992-04-16 クリーンルームにおけるガス漏れ対策装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4121103A JP2582016B2 (ja) 1992-04-16 1992-04-16 クリーンルームにおけるガス漏れ対策装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05293193A JPH05293193A (ja) 1993-11-09
JP2582016B2 true JP2582016B2 (ja) 1997-02-19

Family

ID=14802959

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4121103A Expired - Lifetime JP2582016B2 (ja) 1992-04-16 1992-04-16 クリーンルームにおけるガス漏れ対策装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2582016B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05293193A (ja) 1993-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI592212B (zh) Vacuum processing equipment
US20060104878A1 (en) Safety, monitoring and control features for thermal abatement reactor
US10203125B2 (en) Air flow rate controlling system and air flow rate controlling method
JP5580380B2 (ja) 空気圧弁の連続運転のためのソレノイド迂回システム
US8436277B2 (en) Automatic shutoff system and method for workspace enclosure environment
JP2582016B2 (ja) クリーンルームにおけるガス漏れ対策装置
JP5570468B2 (ja) プラズマ処理装置及び残留ガスの排気方法
JP2937272B2 (ja) 給排ガスの切替システム
JP2582015B2 (ja) クリーンルームにおける緊急停止装置
JP2005216911A (ja) エピタキシャル成長装置の排ガス処理システム
JPS5998295A (ja) 半導体工場などにおける警報および制御装置
JPH0779948B2 (ja) 半導体製造装置の排ガス処理装置
JP3958499B2 (ja) 半導体製造装置用排ガス処理装置及びその運転方法
JP2000081200A (ja) ガス供給システム
JP3569831B2 (ja) バーナー燃焼制御装置および方法
US7172731B2 (en) Apparatus for releasing pressure in a vacuum exhaust system of semiconductor equipment
WO2022230766A1 (ja) ガス処理システム
JPH04135647A (ja) クリーンルーム
KR200481934Y1 (ko) 유해가스 자동 처리 시스템
JPH0536673A (ja) 半導体製造装置
JPH10132198A (ja) ガス遮断装置
JPH0674399A (ja) ボンベボックス排気システム
JPH0441187Y2 (ja)
JPH02226500A (ja) 精密環境空間の防災監視装置
KR19980074910A (ko) 반도체 가스공급시스템

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19960903