JPS5998293A - 半導体工場などにおける警報および制御装置 - Google Patents
半導体工場などにおける警報および制御装置Info
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- JPS5998293A JPS5998293A JP20688882A JP20688882A JPS5998293A JP S5998293 A JPS5998293 A JP S5998293A JP 20688882 A JP20688882 A JP 20688882A JP 20688882 A JP20688882 A JP 20688882A JP S5998293 A JPS5998293 A JP S5998293A
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- G08B—SIGNALLING OR CALLING SYSTEMS; ORDER TELEGRAPHS; ALARM SYSTEMS
- G08B17/00—Fire alarms; Alarms responsive to explosion
- G08B17/10—Actuation by presence of smoke or gases, e.g. automatic alarm devices for analysing flowing fluid materials by the use of optical means
- G08B17/117—Actuation by presence of smoke or gases, e.g. automatic alarm devices for analysing flowing fluid materials by the use of optical means by using a detection device for specific gases, e.g. combustion products, produced by the fire
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、超LSI工場などにおける製造工程におい
て発生する処理ガスの漏洩あるいは火災発生を検出し、
消火装置などの防災装置および製造工!を適切に制御す
る半導体工場などにおける警報および制御装置に関する
ものであ0 近鉱大きな飛−を遂げてbる超LSIなどの半導体工場
では、シリコンクエバに絶縁膜を設ける際、シランガス
を使用するが、このような処理ガスは有害であるととも
にその濃度が、2〜5チ以上になると空気中の酸素と反
応し着炎燃焼して危険であり、ある超LSI工場でこれ
らガス亦−蒙因と思われる火−災−i=発生し、ただb
の損害を被むつに0 この発明は以上の点にかんがみ、漏洩した処理ガ子が、
ガス自体の状態または空気中の酸素と反応し燃焼し燃焼
生成物を発生してbる状態の−ずれをも検出するように
し、事前にあるいと は火災の初期段階にblwて適切な制御が行なうことが
できる半導体工場などの警報卦よび制御装置を提供する
ものである。
て発生する処理ガスの漏洩あるいは火災発生を検出し、
消火装置などの防災装置および製造工!を適切に制御す
る半導体工場などにおける警報および制御装置に関する
ものであ0 近鉱大きな飛−を遂げてbる超LSIなどの半導体工場
では、シリコンクエバに絶縁膜を設ける際、シランガス
を使用するが、このような処理ガスは有害であるととも
にその濃度が、2〜5チ以上になると空気中の酸素と反
応し着炎燃焼して危険であり、ある超LSI工場でこれ
らガス亦−蒙因と思われる火−災−i=発生し、ただb
の損害を被むつに0 この発明は以上の点にかんがみ、漏洩した処理ガ子が、
ガス自体の状態または空気中の酸素と反応し燃焼し燃焼
生成物を発生してbる状態の−ずれをも検出するように
し、事前にあるいと は火災の初期段階にblwて適切な制御が行なうことが
できる半導体工場などの警報卦よび制御装置を提供する
ものである。
以下この発明の一実施例を半導体ウェハに絶縁膜を形成
させる際に使用され、&CVD装置(Chemical
Vapor Deposition )およびその周
辺装置に用−た場合について、図面により説明する0 第1図にbuて、1はシランガスボンベ%2ケアンモニ
アガスボンベ、3はこれらボンへe収納する格納箱、6
は配管4,5を通じてシランガスとアンモニアガスを供
給し半導体ウェハに絶縁膜を形成させる窒化膜形成装置
(CVD)、8は装置6から配管7′f通じて流出され
る未反応のシランガスに酸素を供給し強制的に酸化反応
させる。すなわち燃焼処理する除害装置、lOは除害装
置8より排気ダクト11へ放出されるガスの状蝋?監視
するために配管9間に設けられた検出箱、12は形成装
置6内を真空に−t″る真空ポンプ、13は室内の空気
を排気する排気口である。また格納箱3と検出箱10と
には、シランガスなどの処理ガスの漏洩を検出するガス
検出器G1.G2と、ガスが燃焼したことにより生ずる
燃焼生成物を検出する火災感知器DI、D2とが設けら
れる。この場合ガス検出器Gl、G2としてはガス粒子
による散乱先出 を検出する光学的なガス検知器も使用できるが、特公昭
55−14380号公報で一酸化炭素の検出素子として
知られてbる酸化第二スズの組成物中に白金黒全含有し
た金属酸化物半導体をシランガスの雰囲気中でエージン
グすると、0゜2−0.54以上の低濃度のシランガス
に応答する、この実施例に好適なガス検出器が得られる
。また燃焼生成物を検出する火災感知器として光電式煙
感知器とイオン化式煙感知器が使用できるが、縦軸にそ
れぞれの感知器の出力、横軸にシランガスの燃焼生成物
の濃度が示された第3図の特性曲線図によれば、光電式
煙感知器aよりもイオン化式煙感知器すの方がシランガ
スの燃焼生成物に対し高感度でより早期にその発生が検
出できる。さらに上記検出器Gl、G2と感知器D1.
D2は第2図に示すように、格納箱3内に設けられたガ
ス検出器Glと火災感知器Diは第1のOR回路0RI
−に、検出箱lO内に設けられたガス検出器G2は直接
また火災感知器D2はインバータIi介して第2のOR
回路OR2に接続され、それら出力は第3のOR回路O
R3に接続され、その出力は火災警報あるbは消火装置
などの防災装置あるいは半導体製造工程を適切に制御す
る図示されなり継電装置に接続される。
させる際に使用され、&CVD装置(Chemical
Vapor Deposition )およびその周
辺装置に用−た場合について、図面により説明する0 第1図にbuて、1はシランガスボンベ%2ケアンモニ
アガスボンベ、3はこれらボンへe収納する格納箱、6
は配管4,5を通じてシランガスとアンモニアガスを供
給し半導体ウェハに絶縁膜を形成させる窒化膜形成装置
(CVD)、8は装置6から配管7′f通じて流出され
る未反応のシランガスに酸素を供給し強制的に酸化反応
させる。すなわち燃焼処理する除害装置、lOは除害装
置8より排気ダクト11へ放出されるガスの状蝋?監視
するために配管9間に設けられた検出箱、12は形成装
置6内を真空に−t″る真空ポンプ、13は室内の空気
を排気する排気口である。また格納箱3と検出箱10と
には、シランガスなどの処理ガスの漏洩を検出するガス
検出器G1.G2と、ガスが燃焼したことにより生ずる
燃焼生成物を検出する火災感知器DI、D2とが設けら
れる。この場合ガス検出器Gl、G2としてはガス粒子
による散乱先出 を検出する光学的なガス検知器も使用できるが、特公昭
55−14380号公報で一酸化炭素の検出素子として
知られてbる酸化第二スズの組成物中に白金黒全含有し
た金属酸化物半導体をシランガスの雰囲気中でエージン
グすると、0゜2−0.54以上の低濃度のシランガス
に応答する、この実施例に好適なガス検出器が得られる
。また燃焼生成物を検出する火災感知器として光電式煙
感知器とイオン化式煙感知器が使用できるが、縦軸にそ
れぞれの感知器の出力、横軸にシランガスの燃焼生成物
の濃度が示された第3図の特性曲線図によれば、光電式
煙感知器aよりもイオン化式煙感知器すの方がシランガ
スの燃焼生成物に対し高感度でより早期にその発生が検
出できる。さらに上記検出器Gl、G2と感知器D1.
D2は第2図に示すように、格納箱3内に設けられたガ
ス検出器Glと火災感知器Diは第1のOR回路0RI
−に、検出箱lO内に設けられたガス検出器G2は直接
また火災感知器D2はインバータIi介して第2のOR
回路OR2に接続され、それら出力は第3のOR回路O
R3に接続され、その出力は火災警報あるbは消火装置
などの防災装置あるいは半導体製造工程を適切に制御す
る図示されなり継電装置に接続される。
次に上記装置の作用につめて説明する。窒化Φ
膜形成装置6は、このげに半導体ウェハを入れ、真空ポ
ンプ12により真空にした後、シランガスボンベlとア
ンモニアガスボンベ2とを開きシランガスとアンモニア
ガスとを装置6に供給し半導体ウェハに必要な窒化膜、
すなわち絶縁膜を生成させる。また未反応ガスを含んだ
処理後のガスは除害装置8にお−て強制的に酸化反応さ
れて安全なものとして配管9を通じて排気ダクト11よ
り排出される。
ンプ12により真空にした後、シランガスボンベlとア
ンモニアガスボンベ2とを開きシランガスとアンモニア
ガスとを装置6に供給し半導体ウェハに必要な窒化膜、
すなわち絶縁膜を生成させる。また未反応ガスを含んだ
処理後のガスは除害装置8にお−て強制的に酸化反応さ
れて安全なものとして配管9を通じて排気ダクト11よ
り排出される。
一方このような状態にお−て、シランガスボンベ1より
シランガスが空気中の酸素と反応し着炎燃焼しなり程度
の少量漏れると、そのガス自体を検出しガス検出器G1
が動作し、またガスボンベ1よりシランガスが漏れる量
が多く直ちに空気中の酸素と反応し着炎燃焼してしまう
場合はその燃焼生成物により火災感知器D1が動作し、
OR回路OR1,0R3i介して図示されない火災警報
や消火装置などの防災装置あるいはこの製造工程を制御
する継電装置を動作させる。また検出箱10にお−ては
、除害装置8が正常に動作してbる間は、配管9を介し
て焼却された燃焼生成物が配管9を通じて排気ダクト1
1へ排出されるので、ガス検出器G2と火災感知器D2
はインバータ■の作用によりbずれもOR回路0Rzt
動作させなり0ところが除害装置8が故障し未処理のま
まのシランガスが放出されると、ガス検出器G2がまた
は火挺感知器D2がインバータ10作用によりOR回路
OR2を動作させ、OR回路0R3e通じて図示されな
り火災警報や消火装置などの防災装置あるbは製造工程
を制御する継電装置を動作させる。
シランガスが空気中の酸素と反応し着炎燃焼しなり程度
の少量漏れると、そのガス自体を検出しガス検出器G1
が動作し、またガスボンベ1よりシランガスが漏れる量
が多く直ちに空気中の酸素と反応し着炎燃焼してしまう
場合はその燃焼生成物により火災感知器D1が動作し、
OR回路OR1,0R3i介して図示されない火災警報
や消火装置などの防災装置あるいはこの製造工程を制御
する継電装置を動作させる。また検出箱10にお−ては
、除害装置8が正常に動作してbる間は、配管9を介し
て焼却された燃焼生成物が配管9を通じて排気ダクト1
1へ排出されるので、ガス検出器G2と火災感知器D2
はインバータ■の作用によりbずれもOR回路0Rzt
動作させなり0ところが除害装置8が故障し未処理のま
まのシランガスが放出されると、ガス検出器G2がまた
は火挺感知器D2がインバータ10作用によりOR回路
OR2を動作させ、OR回路0R3e通じて図示されな
り火災警報や消火装置などの防災装置あるbは製造工程
を制御する継電装置を動作させる。
なお上記実施例では、ガス検出器と火災感知器とを別個
に設けたが、両者を一体としかつ第2図の回路機能を組
み込むようにしてもより。
に設けたが、両者を一体としかつ第2図の回路機能を組
み込むようにしてもより。
この発明は以上のように半導体製造工程など、シランガ
スなどの有毒で可燃無性の処理ガスを使用する箇所に、
処理ガス自身の漏洩を検出するガス検出器と、このガス
の燃焼による燃焼生成物を検出する火災感知器とを設は
bずれの形の漏洩にも対処できるようにしたので、阜前
にあるいは火災の初期段階において適切な制御が行なう
ことができる半導体工場などにおける警報および制御装
置が得られる効果がある。
スなどの有毒で可燃無性の処理ガスを使用する箇所に、
処理ガス自身の漏洩を検出するガス検出器と、このガス
の燃焼による燃焼生成物を検出する火災感知器とを設は
bずれの形の漏洩にも対処できるようにしたので、阜前
にあるいは火災の初期段階において適切な制御が行なう
ことができる半導体工場などにおける警報および制御装
置が得られる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例の概略図、第2図はその回
路図、第3図は光電式煙感知器とイオン化式煙感知器と
の特性曲線図である。 1・・・シランガスボンベ、3・・・格納箱、6・・・
窒化膜形成装置、8・・・除害装置、10・・・検出箱
、11・・・排気ダクト% G l * G 2・・・
ガス検出器、Dl、D2−・・燃焼生成物を検出する火
災感知島第1図 第2図 ]al 第3図 濃度
路図、第3図は光電式煙感知器とイオン化式煙感知器と
の特性曲線図である。 1・・・シランガスボンベ、3・・・格納箱、6・・・
窒化膜形成装置、8・・・除害装置、10・・・検出箱
、11・・・排気ダクト% G l * G 2・・・
ガス検出器、Dl、D2−・・燃焼生成物を検出する火
災感知島第1図 第2図 ]al 第3図 濃度
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l。半導体製造工程など、シランガスなどの有毒で可燃
性の処理ガスを使用する箇所に、該処理ガスの漏洩を検
出するガス検出器と、該処理ガスの燃焼生成物を検出す
る火災感知器とを設け、検出器または感知器のいずれか
の出力変化により警報を発するとともに消火装置などの
防災装置および半導体製造工程などを制御することを特
徴とする半導体工場などにおける警報および制御装置。 2、ガス検出器と出力側にインバータを備えた火災感知
器とが排気ダクトに設けられた特許請求の範囲第1項記
載の半導体工場などにおはる警報および制御装置。 3、ガス検出器と火災感知器とが処理ガスボンベ75f
収納された格納箱に設けられた特許請求の範囲第1項記
載の半導体工場などにおける警報および制御装置。 4、ガス検出器は、その検出素子が金属酸化物半導体よ
りなる特許請求の範囲第1項なりし第3項のbずれかに
記載された半導体工場などにかはる警報および制a装置
。 5、火災感知器が、イオン化式煙感知器である特許請求
の範囲第1項な−し第3項のbずれかに記載された半導
体工場などにお汁る警報および制御装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20688882A JPS5998293A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 半導体工場などにおける警報および制御装置 |
EP19830111572 EP0112492B1 (en) | 1982-11-27 | 1983-11-19 | Alarm and control system for semiconductor manufacturing plants |
DE8383111572T DE3381099D1 (de) | 1982-11-27 | 1983-11-19 | Alarm- und steuerungssystem einer herstellungsanlage fuer halbleiter. |
ES527814A ES527814A0 (es) | 1982-11-27 | 1983-11-25 | Sistema de alarma y control para plantas de fabricacion de semiconductores |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20688882A JPS5998293A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 半導体工場などにおける警報および制御装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5998293A true JPS5998293A (ja) | 1984-06-06 |
Family
ID=16530706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20688882A Pending JPS5998293A (ja) | 1982-11-27 | 1982-11-27 | 半導体工場などにおける警報および制御装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0112492B1 (ja) |
JP (1) | JPS5998293A (ja) |
DE (1) | DE3381099D1 (ja) |
ES (1) | ES527814A0 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03241824A (ja) * | 1990-02-20 | 1991-10-29 | Fujitsu Ltd | 減圧気相成長装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR910000246Y1 (ko) * | 1984-07-11 | 1991-01-18 | 히로시 세끼 | 복합화재 검출기 |
WO2005091238A2 (en) * | 2004-03-23 | 2005-09-29 | Du Plessis Jacobus Petrus Fran | Fire preventing or extinguishing system for an appliance |
US20140358300A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-12-04 | Macronix International Co., Ltd. | Portable Control System for Cylinder Cabinet |
Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JPS4826497A (ja) * | 1971-08-10 | 1973-04-07 | ||
JPS5323195A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-03 | Otsuka Kagaku Yakuhin | Method of treating flame resistance for inflammable organic material and flame resisting composition |
JPS5721350A (en) * | 1980-05-28 | 1982-02-04 | Naarden International Nv | Perfume composition and use |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR2180423B3 (ja) * | 1972-04-17 | 1975-06-20 | Securitex Sarl | |
FR2226813A5 (en) * | 1973-04-04 | 1974-11-15 | Cifal | Inflammable product fire prevention system - has IR radiation detector injecting cooling fluid and operating alarm |
US3955186A (en) * | 1974-05-17 | 1976-05-04 | Compugraphic Corporation | Character image generation apparatus and CRT phototypesetting system |
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US4219806A (en) * | 1978-09-15 | 1980-08-26 | American District Telegraph Company | Dual alarm gas detector |
US4267889A (en) * | 1978-12-27 | 1981-05-19 | Williams Robert M | Explosion suppression system for fire or explosion susceptible enclosure |
US4369647A (en) * | 1980-03-21 | 1983-01-25 | New Cosmos Electric Company Limited | Gas leakage detector |
-
1982
- 1982-11-27 JP JP20688882A patent/JPS5998293A/ja active Pending
-
1983
- 1983-11-19 EP EP19830111572 patent/EP0112492B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-11-19 DE DE8383111572T patent/DE3381099D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1983-11-25 ES ES527814A patent/ES527814A0/es active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4826497A (ja) * | 1971-08-10 | 1973-04-07 | ||
JPS5323195A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-03 | Otsuka Kagaku Yakuhin | Method of treating flame resistance for inflammable organic material and flame resisting composition |
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JPH03241824A (ja) * | 1990-02-20 | 1991-10-29 | Fujitsu Ltd | 減圧気相成長装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES8505125A1 (es) | 1985-04-16 |
EP0112492A2 (en) | 1984-07-04 |
ES527814A0 (es) | 1985-04-16 |
DE3381099D1 (de) | 1990-02-15 |
EP0112492B1 (en) | 1990-01-10 |
EP0112492A3 (en) | 1987-08-26 |
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