JPS5998293A - 半導体工場などにおける警報および制御装置 - Google Patents

半導体工場などにおける警報および制御装置

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JPS5998293A
JPS5998293A JP20688882A JP20688882A JPS5998293A JP S5998293 A JPS5998293 A JP S5998293A JP 20688882 A JP20688882 A JP 20688882A JP 20688882 A JP20688882 A JP 20688882A JP S5998293 A JPS5998293 A JP S5998293A
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JP
Japan
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gas
detector
alarm
fire
semiconductor
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JP20688882A
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English (en)
Inventor
木村 敞一
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Nohmi Bosai Ltd
Original Assignee
Nohmi Bosai Kogyo Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G08SIGNALLING
    • G08BSIGNALLING OR CALLING SYSTEMS; ORDER TELEGRAPHS; ALARM SYSTEMS
    • G08B17/00Fire alarms; Alarms responsive to explosion
    • G08B17/10Actuation by presence of smoke or gases, e.g. automatic alarm devices for analysing flowing fluid materials by the use of optical means
    • G08B17/117Actuation by presence of smoke or gases, e.g. automatic alarm devices for analysing flowing fluid materials by the use of optical means by using a detection device for specific gases, e.g. combustion products, produced by the fire

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Business, Economics & Management (AREA)
  • Emergency Management (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
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  • Fire-Detection Mechanisms (AREA)
  • Emergency Alarm Devices (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
  • Fire-Extinguishing By Fire Departments, And Fire-Extinguishing Equipment And Control Thereof (AREA)
  • Fire Alarms (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、超LSI工場などにおける製造工程におい
て発生する処理ガスの漏洩あるいは火災発生を検出し、
消火装置などの防災装置および製造工!を適切に制御す
る半導体工場などにおける警報および制御装置に関する
ものであ0 近鉱大きな飛−を遂げてbる超LSIなどの半導体工場
では、シリコンクエバに絶縁膜を設ける際、シランガス
を使用するが、このような処理ガスは有害であるととも
にその濃度が、2〜5チ以上になると空気中の酸素と反
応し着炎燃焼して危険であり、ある超LSI工場でこれ
らガス亦−蒙因と思われる火−災−i=発生し、ただb
の損害を被むつに0 この発明は以上の点にかんがみ、漏洩した処理ガ子が、
ガス自体の状態または空気中の酸素と反応し燃焼し燃焼
生成物を発生してbる状態の−ずれをも検出するように
し、事前にあるいと は火災の初期段階にblwて適切な制御が行なうことが
できる半導体工場などの警報卦よび制御装置を提供する
ものである。
以下この発明の一実施例を半導体ウェハに絶縁膜を形成
させる際に使用され、&CVD装置(Chemical
 Vapor Deposition )およびその周
辺装置に用−た場合について、図面により説明する0 第1図にbuて、1はシランガスボンベ%2ケアンモニ
アガスボンベ、3はこれらボンへe収納する格納箱、6
は配管4,5を通じてシランガスとアンモニアガスを供
給し半導体ウェハに絶縁膜を形成させる窒化膜形成装置
(CVD)、8は装置6から配管7′f通じて流出され
る未反応のシランガスに酸素を供給し強制的に酸化反応
させる。すなわち燃焼処理する除害装置、lOは除害装
置8より排気ダクト11へ放出されるガスの状蝋?監視
するために配管9間に設けられた検出箱、12は形成装
置6内を真空に−t″る真空ポンプ、13は室内の空気
を排気する排気口である。また格納箱3と検出箱10と
には、シランガスなどの処理ガスの漏洩を検出するガス
検出器G1.G2と、ガスが燃焼したことにより生ずる
燃焼生成物を検出する火災感知器DI、D2とが設けら
れる。この場合ガス検出器Gl、G2としてはガス粒子
による散乱先出 を検出する光学的なガス検知器も使用できるが、特公昭
55−14380号公報で一酸化炭素の検出素子として
知られてbる酸化第二スズの組成物中に白金黒全含有し
た金属酸化物半導体をシランガスの雰囲気中でエージン
グすると、0゜2−0.54以上の低濃度のシランガス
に応答する、この実施例に好適なガス検出器が得られる
。また燃焼生成物を検出する火災感知器として光電式煙
感知器とイオン化式煙感知器が使用できるが、縦軸にそ
れぞれの感知器の出力、横軸にシランガスの燃焼生成物
の濃度が示された第3図の特性曲線図によれば、光電式
煙感知器aよりもイオン化式煙感知器すの方がシランガ
スの燃焼生成物に対し高感度でより早期にその発生が検
出できる。さらに上記検出器Gl、G2と感知器D1.
D2は第2図に示すように、格納箱3内に設けられたガ
ス検出器Glと火災感知器Diは第1のOR回路0RI
−に、検出箱lO内に設けられたガス検出器G2は直接
また火災感知器D2はインバータIi介して第2のOR
回路OR2に接続され、それら出力は第3のOR回路O
R3に接続され、その出力は火災警報あるbは消火装置
などの防災装置あるいは半導体製造工程を適切に制御す
る図示されなり継電装置に接続される。
次に上記装置の作用につめて説明する。窒化Φ 膜形成装置6は、このげに半導体ウェハを入れ、真空ポ
ンプ12により真空にした後、シランガスボンベlとア
ンモニアガスボンベ2とを開きシランガスとアンモニア
ガスとを装置6に供給し半導体ウェハに必要な窒化膜、
すなわち絶縁膜を生成させる。また未反応ガスを含んだ
処理後のガスは除害装置8にお−て強制的に酸化反応さ
れて安全なものとして配管9を通じて排気ダクト11よ
り排出される。
一方このような状態にお−て、シランガスボンベ1より
シランガスが空気中の酸素と反応し着炎燃焼しなり程度
の少量漏れると、そのガス自体を検出しガス検出器G1
が動作し、またガスボンベ1よりシランガスが漏れる量
が多く直ちに空気中の酸素と反応し着炎燃焼してしまう
場合はその燃焼生成物により火災感知器D1が動作し、
OR回路OR1,0R3i介して図示されない火災警報
や消火装置などの防災装置あるいはこの製造工程を制御
する継電装置を動作させる。また検出箱10にお−ては
、除害装置8が正常に動作してbる間は、配管9を介し
て焼却された燃焼生成物が配管9を通じて排気ダクト1
1へ排出されるので、ガス検出器G2と火災感知器D2
はインバータ■の作用によりbずれもOR回路0Rzt
動作させなり0ところが除害装置8が故障し未処理のま
まのシランガスが放出されると、ガス検出器G2がまた
は火挺感知器D2がインバータ10作用によりOR回路
OR2を動作させ、OR回路0R3e通じて図示されな
り火災警報や消火装置などの防災装置あるbは製造工程
を制御する継電装置を動作させる。
なお上記実施例では、ガス検出器と火災感知器とを別個
に設けたが、両者を一体としかつ第2図の回路機能を組
み込むようにしてもより。
この発明は以上のように半導体製造工程など、シランガ
スなどの有毒で可燃無性の処理ガスを使用する箇所に、
処理ガス自身の漏洩を検出するガス検出器と、このガス
の燃焼による燃焼生成物を検出する火災感知器とを設は
bずれの形の漏洩にも対処できるようにしたので、阜前
にあるいは火災の初期段階において適切な制御が行なう
ことができる半導体工場などにおける警報および制御装
置が得られる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の概略図、第2図はその回
路図、第3図は光電式煙感知器とイオン化式煙感知器と
の特性曲線図である。 1・・・シランガスボンベ、3・・・格納箱、6・・・
窒化膜形成装置、8・・・除害装置、10・・・検出箱
、11・・・排気ダクト% G l * G 2・・・
ガス検出器、Dl、D2−・・燃焼生成物を検出する火
災感知島第1図 第2図 ]al 第3図 濃度

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l。半導体製造工程など、シランガスなどの有毒で可燃
    性の処理ガスを使用する箇所に、該処理ガスの漏洩を検
    出するガス検出器と、該処理ガスの燃焼生成物を検出す
    る火災感知器とを設け、検出器または感知器のいずれか
    の出力変化により警報を発するとともに消火装置などの
    防災装置および半導体製造工程などを制御することを特
    徴とする半導体工場などにおける警報および制御装置。 2、ガス検出器と出力側にインバータを備えた火災感知
    器とが排気ダクトに設けられた特許請求の範囲第1項記
    載の半導体工場などにおはる警報および制御装置。 3、ガス検出器と火災感知器とが処理ガスボンベ75f
    収納された格納箱に設けられた特許請求の範囲第1項記
    載の半導体工場などにおける警報および制御装置。 4、ガス検出器は、その検出素子が金属酸化物半導体よ
    りなる特許請求の範囲第1項なりし第3項のbずれかに
    記載された半導体工場などにかはる警報および制a装置
    。 5、火災感知器が、イオン化式煙感知器である特許請求
    の範囲第1項な−し第3項のbずれかに記載された半導
    体工場などにお汁る警報および制御装置。
JP20688882A 1982-11-27 1982-11-27 半導体工場などにおける警報および制御装置 Pending JPS5998293A (ja)

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DE8383111572T DE3381099D1 (de) 1982-11-27 1983-11-19 Alarm- und steuerungssystem einer herstellungsanlage fuer halbleiter.
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ES8505125A1 (es) 1985-04-16
EP0112492A3 (en) 1987-08-26
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