JPH11197440A - ガス除害装置 - Google Patents
ガス除害装置Info
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- JPH11197440A JPH11197440A JP10003284A JP328498A JPH11197440A JP H11197440 A JPH11197440 A JP H11197440A JP 10003284 A JP10003284 A JP 10003284A JP 328498 A JP328498 A JP 328498A JP H11197440 A JPH11197440 A JP H11197440A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ランニングコストを低く維持でき、かつ安定
した運転ができ、安全性に優れたガス除害装置を得る。 【解決手段】 乾式ガス除害装置４と燃焼式ガス除害装
置３を併設し、燃焼式ガス除害装置３に異常が検出され
ない通常時は、この燃焼式ガス除害装置３により除害対
象ガスの除害を行う一方、燃焼式ガス除害装置３に異常
が検出された場合は、乾式ガス除害装置４により除害対
象ガスの除害を行うようにした。
した運転ができ、安全性に優れたガス除害装置を得る。 【解決手段】 乾式ガス除害装置４と燃焼式ガス除害装
置３を併設し、燃焼式ガス除害装置３に異常が検出され
ない通常時は、この燃焼式ガス除害装置３により除害対
象ガスの除害を行う一方、燃焼式ガス除害装置３に異常
が検出された場合は、乾式ガス除害装置４により除害対
象ガスの除害を行うようにした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、特殊材料ガス等
のガス除害装置に関し、特に、半導体製造に使用され、
そのまま大気に排出すると環境汚染の恐れがあるガス、
人体に危害を及ぼす恐れのあるガスの除害措置を行うガ
ス除害装置に関するものである。
のガス除害装置に関し、特に、半導体製造に使用され、
そのまま大気に排出すると環境汚染の恐れがあるガス、
人体に危害を及ぼす恐れのあるガスの除害措置を行うガ
ス除害装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば、プロセスガスを用いてウェハに
成膜処理を行う半導体製造装置におけるＣＶＤ装置で
は、使用したプロセスガスを無害なものとするべく除害
処理を行い、しかる後に大気中に排出するようにしてい
る。かかる除害処理を行うガス除害装置の例として、乾
式ガス除害装置や燃焼式ガス除害装置が知られている。
成膜処理を行う半導体製造装置におけるＣＶＤ装置で
は、使用したプロセスガスを無害なものとするべく除害
処理を行い、しかる後に大気中に排出するようにしてい
る。かかる除害処理を行うガス除害装置の例として、乾
式ガス除害装置や燃焼式ガス除害装置が知られている。
【０００３】図３、図４は、従来より、シラン（ＳｉＨ
4 ）やホスフィン（ＰＨ3 ）のプロセスガスの下、ＣＶ
Ｄ装置を用いてポリシリコンの成膜を行う場合におけ
る、これらのガス除害装置の用い方を示した概略構成図
である。図３は燃焼式ガス除害装置を用いた場合の構成
図であり、１はＣＶＤ装置、２はＣＶＤ装置１に設けら
れ、ＣＶＤ装置で使用されたガスを吸引するための真空
ポンプ、３は真空ポンプ２により吸引されたガスを除害
して排気する燃焼式ガス除害装置である。
4 ）やホスフィン（ＰＨ3 ）のプロセスガスの下、ＣＶ
Ｄ装置を用いてポリシリコンの成膜を行う場合におけ
る、これらのガス除害装置の用い方を示した概略構成図
である。図３は燃焼式ガス除害装置を用いた場合の構成
図であり、１はＣＶＤ装置、２はＣＶＤ装置１に設けら
れ、ＣＶＤ装置で使用されたガスを吸引するための真空
ポンプ、３は真空ポンプ２により吸引されたガスを除害
して排気する燃焼式ガス除害装置である。
【０００４】この燃焼式ガス除害装置は、水素、プロパ
ン等の可燃性ガスを燃焼させ、その炎や熱により、除害
対象ガスを化学反応させて除害するようにした除害装置
であり、除害効率が高く、ランニングコストが低いとい
う利点がある。
ン等の可燃性ガスを燃焼させ、その炎や熱により、除害
対象ガスを化学反応させて除害するようにした除害装置
であり、除害効率が高く、ランニングコストが低いとい
う利点がある。
【０００５】図４は、乾式ガス除害装置を用いた場合の
構成図であり、１はＣＶＤ装置、２は真空ポンプ、そし
て、４は真空ポンプ２により吸引されたガスを除外して
排気する乾式ガス除害装置である。
構成図であり、１はＣＶＤ装置、２は真空ポンプ、そし
て、４は真空ポンプ２により吸引されたガスを除外して
排気する乾式ガス除害装置である。
【０００６】この乾式ガス除害装置は、乾式除害薬剤に
より、常温で吸着や化学反応により除害対象ガスを除害
するようにした除害装置であり、薬剤が残存している限
り、燃焼式ガス除害装置に比べ低温（室温）でも除害が
行えるという利点がある。
より、常温で吸着や化学反応により除害対象ガスを除害
するようにした除害装置であり、薬剤が残存している限
り、燃焼式ガス除害装置に比べ低温（室温）でも除害が
行えるという利点がある。
【０００７】なお、ガス除害装置の使用形態として、図
５に示されるように、乾式ガス除害装置４、及び燃焼式
ガス除害装置３をシリーズに設け、乾式ガス除害装置４
によるガスの除害後に、そのガスを更に燃焼式ガス除害
装置３で除害するようにしたものが知られるが、この使
用形態は、乾式ガス除害装置のみでは除害できないガ
ス、及び燃焼式ガス除害装置のみでは除害できないガス
の双方を使用して排出する場合に、それぞれ除害できな
いガスについて他方のガス除害装置を使用するようにし
たものである。
５に示されるように、乾式ガス除害装置４、及び燃焼式
ガス除害装置３をシリーズに設け、乾式ガス除害装置４
によるガスの除害後に、そのガスを更に燃焼式ガス除害
装置３で除害するようにしたものが知られるが、この使
用形態は、乾式ガス除害装置のみでは除害できないガ
ス、及び燃焼式ガス除害装置のみでは除害できないガス
の双方を使用して排出する場合に、それぞれ除害できな
いガスについて他方のガス除害装置を使用するようにし
たものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】図３に示した燃焼式ガ
ス除害装置は、上述したように、通常運転時には、高効
率でランニングコストが低いという利点があるものの、
一方では、燃料供給が停止されたような場合や、過加熱
されたような場合は、燃焼を停止させる必要があり、こ
のような場合に、安定した除害装置として使用すること
ができない。これに対して、図４に示した乾式ガス除害
装置は、薬剤を使い切るまでは、低温度で安定した運転
ができるという利点があるものの、一方では、薬剤交換
に要する費用が高く、ランニングコストが高くなるとい
う欠点を有する。
ス除害装置は、上述したように、通常運転時には、高効
率でランニングコストが低いという利点があるものの、
一方では、燃料供給が停止されたような場合や、過加熱
されたような場合は、燃焼を停止させる必要があり、こ
のような場合に、安定した除害装置として使用すること
ができない。これに対して、図４に示した乾式ガス除害
装置は、薬剤を使い切るまでは、低温度で安定した運転
ができるという利点があるものの、一方では、薬剤交換
に要する費用が高く、ランニングコストが高くなるとい
う欠点を有する。
【０００９】そこで、この発明は、燃焼式、或いは乾式
のいずれの方式でも除害できる除害対象ガスに対して、
上述した双方の装置を併設して使用することにより、こ
れら装置の互いの欠点を補足しあうような使用形態がと
れ、もって、ランニングコストを低く維持でき、かつ安
定した運転ができ、安全性に優れたガス除害装置を得る
ことを目的としている。
のいずれの方式でも除害できる除害対象ガスに対して、
上述した双方の装置を併設して使用することにより、こ
れら装置の互いの欠点を補足しあうような使用形態がと
れ、もって、ランニングコストを低く維持でき、かつ安
定した運転ができ、安全性に優れたガス除害装置を得る
ことを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ため、この発明は、水素、プロパン等の可燃性ガスを燃
焼させ、その炎や熱により除害対象ガスを化学反応させ
て除害するようにした燃焼式ガス除害装置と、乾式除害
薬剤により、常温で吸着や化学反応により除害対象ガス
を除害するようにした乾式ガス除害装置と、通常時は前
記燃焼式ガス除害装置を運転状態とする一方、該燃焼式
ガス除害装置の異常を検出した場合は、前記乾式除害装
置を運転状態とし、前記燃焼式ガス除害装置から前記乾
式ガス除害装置へ除害対象ガスの供給を切り替えるよう
にしたコントローラとを備えたものである。
ため、この発明は、水素、プロパン等の可燃性ガスを燃
焼させ、その炎や熱により除害対象ガスを化学反応させ
て除害するようにした燃焼式ガス除害装置と、乾式除害
薬剤により、常温で吸着や化学反応により除害対象ガス
を除害するようにした乾式ガス除害装置と、通常時は前
記燃焼式ガス除害装置を運転状態とする一方、該燃焼式
ガス除害装置の異常を検出した場合は、前記乾式除害装
置を運転状態とし、前記燃焼式ガス除害装置から前記乾
式ガス除害装置へ除害対象ガスの供給を切り替えるよう
にしたコントローラとを備えたものである。
【００１１】このような構成によれば、燃焼式ガス除害
装置に異常が検出されない通常時は、この燃焼式ガス除
害装置により除害対象ガスの除害を行うことにより、ラ
ンニングコストを低く抑えることができる。一方、燃焼
式ガス除害装置に異常が検出された場合は、乾式ガス除
害装置により除害対象ガスの除害を行うことができるの
で、安定した除害運転ができることとなり、安全性にも
優れたものとすることができる。
装置に異常が検出されない通常時は、この燃焼式ガス除
害装置により除害対象ガスの除害を行うことにより、ラ
ンニングコストを低く抑えることができる。一方、燃焼
式ガス除害装置に異常が検出された場合は、乾式ガス除
害装置により除害対象ガスの除害を行うことができるの
で、安定した除害運転ができることとなり、安全性にも
優れたものとすることができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を用いて説明する。この実施の形態は、除害対象ガス
であるＳｉＨ4 やＰＨ3 のプロセスガスを用いてポリシ
リコン成膜を行うＣＶＤ装置におけるガス除害装置に例
をとって説明する。
面を用いて説明する。この実施の形態は、除害対象ガス
であるＳｉＨ4 やＰＨ3 のプロセスガスを用いてポリシ
リコン成膜を行うＣＶＤ装置におけるガス除害装置に例
をとって説明する。
【００１３】図１は実施の形態を示す全体構成図であ
る。図１において、１はＣＶＤ装置、２は真空ポンプ、
３は燃焼式ガス除害装置、４は乾式ガス除害装置であ
る。
る。図１において、１はＣＶＤ装置、２は真空ポンプ、
３は燃焼式ガス除害装置、４は乾式ガス除害装置であ
る。
【００１４】燃焼式ガス除害装置３は、除害対象ガス導
入用の配管８を介して真空ポンプ２の排気側に接続され
ている。また、乾式ガス除害装置４は、除害対象ガス導
入用の配管９を介して真空ポンプ２の排気側に接続され
ている。配管８には、この配管８を開閉するバルブ１０
が設けられ、配管９には、この配管９を開閉するバルブ
１１が設けられている。燃焼式ガス除害装置３及び乾式
ガス除害装置４は排気管１４に接続されている。
入用の配管８を介して真空ポンプ２の排気側に接続され
ている。また、乾式ガス除害装置４は、除害対象ガス導
入用の配管９を介して真空ポンプ２の排気側に接続され
ている。配管８には、この配管８を開閉するバルブ１０
が設けられ、配管９には、この配管９を開閉するバルブ
１１が設けられている。燃焼式ガス除害装置３及び乾式
ガス除害装置４は排気管１４に接続されている。
【００１５】また、図１において、５はコントローラで
あり、このコントローラ５は燃焼式ガス除害装置３、乾
式ガス除害装置４、バルブ１０、１１とそれぞれ信号線
６、７、１２、１３で接続されている。
あり、このコントローラ５は燃焼式ガス除害装置３、乾
式ガス除害装置４、バルブ１０、１１とそれぞれ信号線
６、７、１２、１３で接続されている。
【００１６】以下、実施の形態におけるコントローラ５
の制御動作について説明する。まず、ステップＳ１にお
いてバルブ１０を開くと共に、バルブ１１を閉じ、ステ
ップＳ２において燃焼式ガス除害装置３を運転を開始す
る。燃焼式ガス除害装置３の運転が始まると、ステップ
Ｓ３において、各種状態信号が検出される。
の制御動作について説明する。まず、ステップＳ１にお
いてバルブ１０を開くと共に、バルブ１１を閉じ、ステ
ップＳ２において燃焼式ガス除害装置３を運転を開始す
る。燃焼式ガス除害装置３の運転が始まると、ステップ
Ｓ３において、各種状態信号が検出される。
【００１７】ステップＳ３における状態信号の検出は、
燃焼式ガス除害装置３の異常を検出するためのもので、
コントローラ５に入力される、図示しない圧力計や流量
計の検出値に基づく燃料供給の停止、除害対象ガスのガ
ス漏れを検知するガス検知器の検出信号に基づくガス漏
れ、温度計の検出温度に基づく燃焼式ガス除害装置３の
過加熱、あるいは燃焼停止などが検出された場合に、燃
焼式ガス除害装置が異常状態にあると判断される。
燃焼式ガス除害装置３の異常を検出するためのもので、
コントローラ５に入力される、図示しない圧力計や流量
計の検出値に基づく燃料供給の停止、除害対象ガスのガ
ス漏れを検知するガス検知器の検出信号に基づくガス漏
れ、温度計の検出温度に基づく燃焼式ガス除害装置３の
過加熱、あるいは燃焼停止などが検出された場合に、燃
焼式ガス除害装置が異常状態にあると判断される。
【００１８】そして、ステップＳ４において、上述した
異常があると判断された場合は、ステップＳ５に進み、
バルブ１０を閉じて、燃焼式ガス除害装置３への除害対
象ガスの供給を停止すると共に、バルブ１１を開いて、
乾式ガス除害装置４への除害対象ガスの供給を開始す
る。そして、ステップＳ６において、乾式ガス除害装置
４の運転を開始すると共に、燃焼式ガス除害装置の運転
を停止する。なお、室温で動作する乾式ガス除害装置は
停電でも除害することができる。
異常があると判断された場合は、ステップＳ５に進み、
バルブ１０を閉じて、燃焼式ガス除害装置３への除害対
象ガスの供給を停止すると共に、バルブ１１を開いて、
乾式ガス除害装置４への除害対象ガスの供給を開始す
る。そして、ステップＳ６において、乾式ガス除害装置
４の運転を開始すると共に、燃焼式ガス除害装置の運転
を停止する。なお、室温で動作する乾式ガス除害装置は
停電でも除害することができる。
【００１９】上述した実施の形態によれば、ガス除害装
置を燃焼式と乾式の２系統併設し、通常は燃焼式ガス除
害装置を用い、万一燃焼式ガス除害装置が有害ガスを除
害できなくなったときに、乾式ガス除害装置に排気系統
が自動切替することができるので、双方の欠点を互いに
補うことができて、ランニングコストを低く維持でき、
かつ安定した運転ができ、安全性に優れたガス除害装置
を得ることができる。
置を燃焼式と乾式の２系統併設し、通常は燃焼式ガス除
害装置を用い、万一燃焼式ガス除害装置が有害ガスを除
害できなくなったときに、乾式ガス除害装置に排気系統
が自動切替することができるので、双方の欠点を互いに
補うことができて、ランニングコストを低く維持でき、
かつ安定した運転ができ、安全性に優れたガス除害装置
を得ることができる。
【００２０】なお、以上は、燃焼式でも乾式でも除害を
行うことができる除害対象ガスとしてＳｉＨ4 やＰＨ3
を例にとり、ポリシリコン成膜を行うＣＶＤ装置に適用
されるガス除害装置に例をとって説明したが、この発明
は、かかる除害対象ガスに限定されることはなく、例え
ば、ポリシリコン成膜の場合には更にＢ2Ｈ6 やＳｉＨ
6 、また、ゲルマニウム成膜の場合にはＧｅＨ4、窒化
膜成膜の場合にはＮＨ3 ，ＳｉＨ2Ｃl2にも適用できる。
行うことができる除害対象ガスとしてＳｉＨ4 やＰＨ3
を例にとり、ポリシリコン成膜を行うＣＶＤ装置に適用
されるガス除害装置に例をとって説明したが、この発明
は、かかる除害対象ガスに限定されることはなく、例え
ば、ポリシリコン成膜の場合には更にＢ2Ｈ6 やＳｉＨ
6 、また、ゲルマニウム成膜の場合にはＧｅＨ4、窒化
膜成膜の場合にはＮＨ3 ，ＳｉＨ2Ｃl2にも適用できる。
【００２１】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、この発
明によれば、燃焼式および乾式の双方のガス除害装置を
併設することにより、これら装置の互いの欠点を補足し
あうような使用形態をとるようにしたので、ランニング
コストを低く維持でき、かつ安定した運転ができ、安全
性に優れたガス除害装置を得ることができるという効果
を奏する。
明によれば、燃焼式および乾式の双方のガス除害装置を
併設することにより、これら装置の互いの欠点を補足し
あうような使用形態をとるようにしたので、ランニング
コストを低く維持でき、かつ安定した運転ができ、安全
性に優れたガス除害装置を得ることができるという効果
を奏する。
【図１】この発明の実施の形態を示す全体構成図であ
る。
る。
【図２】この発明の実施の形態の制御動作を示すフロー
チャートである。
チャートである。
【図３】従来の燃焼式ガス除害装置の使用形態を示す図
である。
である。
【図４】従来の乾式ガス除害装置の使用形態を示す図で
ある。
ある。
【図５】従来の乾式・燃焼式ガス除害装置の使用形態を
示す図である。
示す図である。
１ ＣＶＤ装置 ２ 真空ポンプ ３ 燃焼式ガス除害装置 ４ 乾式ガス除害装置 ５ コントローラ １０、１１ バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０９Ｆ 7/16 Ｇ０９Ｆ 7/16 Ｄ Ｈ０１Ｌ 21/205 Ｈ０１Ｌ 21/205
Claims (1)
- 【請求項１】 水素、プロパン等の可燃性ガスを燃焼さ
せ、その炎や熱により除害対象ガスを化学反応させて除
害するようにした燃焼式ガス除害装置と、 乾式除害薬剤により、常温で吸着や化学反応により除害
対象ガスを除害するようにした乾式ガス除害装置と、 通常時は前記燃焼式ガス除害装置を運転状態とする一
方、該燃焼式ガス除害装置の異常を検出した場合は、前
記乾式除害装置を運転状態とし、前記燃焼式ガス除害装
置から前記乾式ガス除害装置へ除害対象ガスの供給を切
り替えるようにしたコントローラとを備えてなるガス除
害装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10003284A JPH11197440A (ja) | 1998-01-09 | 1998-01-09 | ガス除害装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10003284A JPH11197440A (ja) | 1998-01-09 | 1998-01-09 | ガス除害装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11197440A true JPH11197440A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11553116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10003284A Withdrawn JPH11197440A (ja) | 1998-01-09 | 1998-01-09 | ガス除害装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11197440A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009530821A (ja) * | 2006-03-16 | 2009-08-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 軽減システムの改善された操作方法及び装置 |
| JP2010528476A (ja) * | 2007-05-25 | 2010-08-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 除害システムの効率的な運転のための方法及び装置 |
| JP2015052420A (ja) * | 2013-09-06 | 2015-03-19 | 大陽日酸株式会社 | 排気ガス処理システム |
| JP2016176095A (ja) * | 2015-03-19 | 2016-10-06 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理方法 |
| KR20200116971A (ko) | 2018-03-26 | 2020-10-13 | 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 | 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 프로그램 |
| JP2022512245A (ja) * | 2018-12-13 | 2022-02-02 | エドワーズ リミテッド | 除害方法及び装置 |
-
1998
- 1998-01-09 JP JP10003284A patent/JPH11197440A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009530821A (ja) * | 2006-03-16 | 2009-08-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 軽減システムの改善された操作方法及び装置 |
| JP2010528476A (ja) * | 2007-05-25 | 2010-08-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 除害システムの効率的な運転のための方法及び装置 |
| JP2015052420A (ja) * | 2013-09-06 | 2015-03-19 | 大陽日酸株式会社 | 排気ガス処理システム |
| JP2016176095A (ja) * | 2015-03-19 | 2016-10-06 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理方法 |
| KR20200116971A (ko) | 2018-03-26 | 2020-10-13 | 가부시키가이샤 코쿠사이 엘렉트릭 | 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 프로그램 |
| US11827982B2 (en) | 2018-03-26 | 2023-11-28 | Kokusai Electric Corporation | Processing apparatus |
| JP2022512245A (ja) * | 2018-12-13 | 2022-02-02 | エドワーズ リミテッド | 除害方法及び装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050405 |