JP2022512245A - 除害方法及び装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 54
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 4
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 3
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 229920006926 PFC Polymers 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- -1 perfluoro compound Chemical class 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/346—Controlling the process
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
- B01D53/68—Halogens or halogen compounds
- B01D53/70—Organic halogen compounds
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G5/00—Incineration of waste; Incinerator constructions; Details, accessories or control therefor
- F23G5/50—Control or safety arrangements
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G7/00—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals
- F23G7/06—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases
- F23G7/061—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating
- F23G7/065—Incinerators or other apparatus for consuming industrial waste, e.g. chemicals of waste gases or noxious gases, e.g. exhaust gases with supplementary heating using gaseous or liquid fuel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
- B01D2257/206—Organic halogen compounds
- B01D2257/2066—Fluorine
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G2207/00—Control
- F23G2207/20—Waste supply
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G2208/00—Safety aspects
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G2209/00—Specific waste
- F23G2209/14—Gaseous waste or fumes
- F23G2209/142—Halogen gases, e.g. silane
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
- F23G—CREMATION FURNACES; CONSUMING WASTE PRODUCTS BY COMBUSTION
- F23G2900/00—Special features of, or arrangements for incinerators
- F23G2900/50001—Combination of two or more furnaces
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Incineration Of Waste (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
Description
図1は、一実施形態による除害装置10を示す。除害装置10は、プロセスツール30のプロセスチャンバー20A,20Bと結合する。ポンプ40A,40Bは、上流側で関連するプロセスチャンバー20A,20Bと結合し、下流側で関連するバイパスバルブ50A,50Bと結合する。バイパスバルブ50A,50Bは、下流側で切替えバルブ60と結合する。切替えバルブ60は、下流側で遮断バルブ70A,70Bと結合する。遮断バルブ70Aは、下流側で第1の除害デバイス80Aと結合する。遮断バルブ70Bは、下流側で第2の除害デバイス80Bと結合する。
20A プロセスチャンバー
20B プロセスチャンバー
30 プロセスツール
40A ポンプ
40B ポンプ
50A バイパスバルブ
50B バイパスバルブ
60 切替えバルブ
70A 遮断バルブ
70B 遮断バルブ
80A 第1の除害デバイス
80B 第2の除害デバイス
90 制御論理回路
Claims (13)
- 半導体プロセスツールからの排出流を処理するための除害装置であって、
前記排出流を受け取るように構成され、前記排出流を処理するためにアクティブモードで稼働するように動作可能な第1の除害デバイスと、
待機モードで稼働するように動作可能な第2の除害デバイスと、
前記第1の除害デバイスに関連する警報状態の指示を受け取ると、前記第2の除害デバイスを前記アクティブモードで稼働させるように動作可能な制御論理回路と、
を備える、除害装置。 - 前記警報状態は、前記第1の除害デバイスの動作特性が閾値以上に変化したことを示す、請求項1に記載の除害装置。
- 前記動作特性は、圧力、流量、センサーエラー、及びバルブエラーのうちの少なくとも1つを含む、請求項2に記載の除害装置。
- 前記第1の除害デバイス及び前記第2の除害デバイスのうちの1つに前記排出流を供給するように動作可能な切替えバルブを備える、請求項1から3のいずれか一項に記載の除害装置。
- 前記制御論理回路は、前記第1の除害デバイスに関連する前記警報状態の前記指示を受け取った後に、前記排出流を前記第2の除害デバイスに供給するために前記切替えバルブを制御するように動作可能である、請求項4に記載の除害装置。
- 前記制御論理回路は、前記第2の除害デバイスのモード状態の指示を受け取り、前記モード状態の前記指示が、前記第2の除害デバイスが前記アクティブモードで稼働していることを示す場合に、前記第2の除害デバイスに前記排出流を供給するように前記切替えバルブを制御するように動作可能である、請求項4又は5に記載の除害装置。
- 前記第2の除害デバイスの前記モード状態の前記指示は、前記第2の除害デバイスの温度の指示から決定される、請求項6に記載の除害装置。
- 前記制御論理回路は、前記第2の除害デバイスに前記排出流を供給するための前記切替えバルブの動作の後に、前記第1の除害デバイスを停止させるように動作可能である、請求項4から7のいずれか一項に記載の除害装置。
- 前記切替えバルブの上流にバイパスバルブを備え、前記警報状態は、それに関連する切替え時間を有し、前記制御論理回路は、前記第2の除害デバイスが前記切替え時間内で前記待機モードから前記アクティブモードへの切替えに失敗した場合に、前記バイパスバルブをアクティブにして、前記切替えバルブへの前記排出流の供給を防止するように動作可能である、請求項4から8に記載の除害装置。
- 前記制御論理回路は、前記第2の除害デバイスが前記アクティブモードで稼働しているとの指示を受け取ると、前記バイパスバルブを非アクティブにして、前記排出流を前記切替えバルブに供給するように動作可能である、請求項9に記載の除害装置。
- 前記切替えバルブと前記第1の除害デバイスとの間に第1の遮断バルブを備える、請求項4から10のいずれか一項に記載の除害装置。
- 前記制御論理回路は、前記第2の除害デバイスに前記排出流を供給するために、前記切替えバルブがアクティブになった後に、前記第1の除害デバイスへの前記排出流の供給を防止するために、前記第1の遮断バルブをアクティブにするように動作可能である、請求項11に記載の除害装置。
- 半導体プロセスツールからの排出流を処理する方法であって、
前記排出流を処理するためにアクティブモードで稼働する第1の除害デバイスに前記排出流を供給するステップと、
待機モードで稼働する第2の除害デバイスを提供するステップと、
前記第1の除害デバイスに関連する警報状態の指示を受け取ると、前記第2の除害デバイスを前記アクティブモードで稼働させるステップと、
を含む、方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1820319.0A GB2579788B (en) | 2018-12-13 | 2018-12-13 | Abatement apparatus |
GB1820319.0 | 2018-12-13 | ||
PCT/GB2019/053487 WO2020120947A1 (en) | 2018-12-13 | 2019-12-10 | Abatement method and apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022512245A true JP2022512245A (ja) | 2022-02-02 |
JP7488820B2 JP7488820B2 (ja) | 2024-05-22 |
Family
ID=65147252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021533476A Active JP7488820B2 (ja) | 2018-12-13 | 2019-12-10 | 除害方法及び装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220016572A1 (ja) |
EP (1) | EP3894748A1 (ja) |
JP (1) | JP7488820B2 (ja) |
KR (1) | KR20210103476A (ja) |
CN (1) | CN113167470A (ja) |
GB (1) | GB2579788B (ja) |
TW (1) | TW202103777A (ja) |
WO (1) | WO2020120947A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI788183B (zh) * | 2022-01-07 | 2022-12-21 | 財團法人工業技術研究院 | 尾氣分流系統及方法 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07275659A (ja) * | 1994-04-04 | 1995-10-24 | Sony Corp | 乾式排ガス処理装置及び乾式排ガス処理方法 |
JPH11233444A (ja) * | 1998-02-10 | 1999-08-27 | Mitsubishi Corp | 半導体製造装置用排気ダクト設備 |
JP2000249339A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-12 | Miura Co Ltd | バーナの燃焼制御方法 |
JP4966521B2 (ja) | 2005-07-22 | 2012-07-04 | 昭和電工株式会社 | 過弗化物含有排ガスの処理方法及び処理装置 |
JP4673780B2 (ja) | 2006-03-24 | 2011-04-20 | 大陽日酸株式会社 | 有害ガスの除害装置 |
GB0607616D0 (en) * | 2006-04-18 | 2006-05-31 | Boc Group Plc | Vacuum pumping system |
WO2008024446A2 (en) * | 2006-08-23 | 2008-02-28 | Applied Materials, Inc. | An interface for operating and monitoring abatement systems |
WO2008147524A1 (en) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for efficient operation of an abatement system |
US9387428B2 (en) * | 2008-02-05 | 2016-07-12 | Applied Materials, Inc. | Systems and methods for treating flammable effluent gases from manufacturing processes |
JP2009228589A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Denso Corp | 排気浄化システムおよびその排気浄化制御装置 |
WO2010024216A1 (ja) * | 2008-08-29 | 2010-03-04 | 公立大学法人大阪府立大学 | 排ガスの処理方法および処理装置 |
JP2011189228A (ja) | 2010-03-12 | 2011-09-29 | Jx Nippon Oil & Energy Corp | 排ガス処理システム |
CN102791356A (zh) * | 2010-03-12 | 2012-11-21 | 吉坤日矿日石能源株式会社 | 排气处理系统 |
HK1166441A2 (en) * | 2011-09-01 | 2012-10-26 | Hong Kong And China Gas Company Ltd | Gas appliance |
TW201328768A (zh) * | 2012-01-13 | 2013-07-16 | Auria Solar Co Ltd | 廢氣排放控制方法 |
JP6209786B2 (ja) * | 2013-09-06 | 2017-10-11 | 大陽日酸株式会社 | 排気ガス処理システム |
CN105874563A (zh) * | 2014-01-14 | 2016-08-17 | 应用材料公司 | 半导体制造中的氮氧化物的消减 |
DE102014105294A1 (de) * | 2014-04-14 | 2015-10-15 | Aixtron Se | Vorrichtung und Verfahren zur Abgasreinigung an einem CVD-Reaktor |
-
2018
- 2018-12-13 GB GB1820319.0A patent/GB2579788B/en active Active
-
2019
- 2019-12-10 JP JP2021533476A patent/JP7488820B2/ja active Active
- 2019-12-10 WO PCT/GB2019/053487 patent/WO2020120947A1/en unknown
- 2019-12-10 KR KR1020217017899A patent/KR20210103476A/ko unknown
- 2019-12-10 CN CN201980082585.7A patent/CN113167470A/zh active Pending
- 2019-12-10 EP EP19823934.5A patent/EP3894748A1/en active Pending
- 2019-12-10 US US17/413,311 patent/US20220016572A1/en active Pending
- 2019-12-13 TW TW108145753A patent/TW202103777A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20220016572A1 (en) | 2022-01-20 |
JP7488820B2 (ja) | 2024-05-22 |
GB2579788B (en) | 2021-06-30 |
WO2020120947A1 (en) | 2020-06-18 |
EP3894748A1 (en) | 2021-10-20 |
GB2579788A (en) | 2020-07-08 |
GB201820319D0 (en) | 2019-01-30 |
CN113167470A (zh) | 2021-07-23 |
TW202103777A (zh) | 2021-02-01 |
KR20210103476A (ko) | 2021-08-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221012 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A977 | Report on retrieval |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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