TWI788183B - 尾氣分流系統及方法 - Google Patents
尾氣分流系統及方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI788183B TWI788183B TW111100789A TW111100789A TWI788183B TW I788183 B TWI788183 B TW I788183B TW 111100789 A TW111100789 A TW 111100789A TW 111100789 A TW111100789 A TW 111100789A TW I788183 B TWI788183 B TW I788183B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- gas
- valve
- pipeline
- time point
- processor
- Prior art date
Links
Images
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
- Chimneys And Flues (AREA)
Abstract
一種尾氣分流系統,用於清除氣體管路中的殘餘氣體,包含:分流處理器、第一閥門及第二閥門。分流處理器用以從製程主機接收反應氣體的氣體資訊,其中氣體資訊包含反應氣體進入氣體管路的進氣時間點及進氣流量,分流處理器根據氣體資訊判斷延遲時間點。第一閥門用於連通氣體管路及殘餘氣體處理腔室,並根據關閉控制訊號而被關閉。第二閥門用於連通氣體管路及反應氣體處理腔室,並根據開啟控制訊號而被開啟。延遲時間點係氣體管路中的殘餘氣體的濃度低於一預設值的時間點,且分流處理器根據延遲時間點輸出關閉控制訊號及開啟控制訊號。
Description
本發明係關於一種氣體分流系統及方法。
在化工、半導體產業中,通常需要使用各種製程設備以對材料進行對應的化學反應及處理,其中所述製程設備可包含化學氣相沉積(chemical vapor deposition,CVD)設備、電漿增強化學氣相沉積(plasma-enhanced chemical vapor deposition,PECVD)設備等。
製程設備在處理的過程中及處理結束後會排出尾氣,例如為一氧化二氮(N2O)、氟(F2)、氫氣、三氟化氮(NF3)及矽甲烷(SiH4)等。因這些尾氣含大量的溫室氣體及細懸浮微粒(例如PM2.5微粒),故若這些尾氣被直接排出,便容易導致溫室效應及空氣污染的問題。
目前多數的氣體淨化裝置皆是使用高溫燃燒的方式對製程尾氣進行消除,其中一氧化二氮為半導體製程中大量被排放的溫室氣體,若直接以傳統高溫燃燒方式進行處理,將會產生大量的空氣污染衍生物(例如氮氧化物(NOx))。為了克服這個問題,一氧化二氮氣體將被個別送往不會產生及排放氮氧化物之氣體洗滌器(gas scrubber)進行處理,而不同的尾氣需要被送往對應的洗滌器。
然而,一條氣體管路通常會用於傳送不只一種尾氣且具有相當的長度,導致前一批尾氣在透過氣體管路排至洗滌器後,氣體管路中仍會殘留部分的前一批尾氣,而所述前一批尾氣便可能被排至下一批尾氣的洗滌器,使下一批尾氣的洗滌器受前一批尾氣影響。舉例而言,假設所述前一批尾氣為含氟氣體,而下一批尾氣為一氧化二氮,二批尾氣各有對應的洗滌器,若氣體管路中仍殘留含氟氣體,則含氟氣體可能會被送進處理一氧化二氮的洗滌器,導致處理一氧化二氮的洗滌器的觸媒被含氟氣體毒化,使一氧化二氮的洗滌器的使用壽命與效率降低,反之亦然。
鑒於上述,本發明提供一種以滿足上述需求的尾氣分流系統及方法。
依據本發明一實施例的一種尾氣分流系統,用於清除一氣體管路中的一殘餘氣體,該系統包含:一分流處理器,用以從一製程主機接收一反應氣體的一氣體資訊,其中該氣體資訊包含該反應氣體進入該氣體管路的一進氣時間點及一進氣流量,該分流處理器根據該氣體資訊判斷一延遲時間點,其中該延遲時間點係該氣體管路中的該殘餘氣體的濃度低於一預設值的時間點,該分流處理器並根據該延遲時間點輸出一關閉控制訊號及一開啟控制訊號;一第一閥門,用於連通該氣體管路及一殘餘氣體處理腔室,該第一閥門根據該關閉控制訊號而被關閉;以及一第二閥門,用於連通該氣體管路及一反應氣體處理腔室,該第二閥門根據該開啟控制訊號而被開啟。
依據本發明一實施例的一種尾氣分流方法,用於清除一氣體管路中的一殘餘氣體,該方法包含:以一分流處理器從一製程主機接收一反應氣體的一氣體資訊,其中該氣體資訊包含該反應氣體進入該氣體管路的一進氣時間點及一進氣流量;以該分流處理器根據該氣體資訊判斷一延遲時間點,其中該延遲時間點係該氣體管路中的該殘餘氣體的濃度低於一預設值的時間點;以及以該分流處理器根據該延遲時間點關閉對應該殘餘氣體的一第一閥門,並開啟對應該反應氣體的一第二閥門。
綜上所述,依據本發明一或多個實施例所示的尾氣分流系統及方法,可依據製程對製程腔室排出的尾氣準確地進行分流,並避免氣體管路中殘留的尾氣進入錯誤的氣體處理腔室。因此,可以避免氣體處理腔室中的觸媒被毒化,進而延長氣體處理腔室的使用壽命。
以上之關於本揭露內容之說明及以下之實施方式之說明係用以示範與解釋本發明之精神與原理,並且提供本發明之專利申請範圍更進一步之解釋。
10:分流處理器
11:第一閥門
111:第一繼電器
12:第二閥門
121:第二繼電器
21:製程主機
22:氣體濃度偵測器
31:殘餘氣體處理腔室
32:反應氣體處理腔室
G1:第一反應氣體或殘餘氣體
G2:第二反應氣體或反應氣體
GL:氣體管路
CYL1:第一鋼瓶
CYL2:第二鋼瓶
T1:第一時段
T2:第二時段
T3:第三時段
T4:第四時段
P1,P2,P3:點
S00,S01,S03,S05,S10,S11,S12,S20,S21:步驟
圖1係依據本發明一實施例所繪示的尾氣分流系統的方塊圖。
圖2係依據本發明另一實施例所繪示的尾氣分流系統的方塊圖。
圖3係依據本發明一實施例所繪示的尾氣分流方法的流程圖。
圖4A到4F係依據本發明一實施例所繪示的尾氣分流方法的示意圖。
圖5係依據本發明另一實施例所繪示的尾氣分流系統的流程圖。
圖6A係繪示未根據延遲時間點開啟及關閉閥門的實驗圖;圖6B係繪示根據延遲時間點開啟及關閉閥門的實驗圖。
以下在實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵以及優點,其內容足以使任何熟習相關技藝者了解本發明之技術內容並據以實施,且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式,任何熟習相關技藝者可輕易地理解本發明相關之目的及優點。以下之實施例係進一步詳細說明本發明之觀點,但非以任何觀點限制本發明之範疇。
請參考圖1,圖1係依據本發明一實施例所繪示的尾氣分流系統的方塊圖。
本發明的尾氣分流系統包含一分流處理器10、一第一閥門11及一第二閥門12。分流處理器10可為氣體的質量流量控制器(mass flow controller,MFC),用於根據一氣體管路(如圖2所示的氣體管路GL)中的氣體的氣體資訊,輸出控制訊號至第一閥門11及或第二閥門12。第一閥門11及第二閥門12可為單一或獨立電磁閥,用以連通或阻斷該氣體管路GL及各別的氣體處理腔室31,32。第一閥門11及第二閥門12根據分流處理器10的控制訊號而被同步或不同步
地開啟或關閉,以將氣體管路GL中的氣體輸送至對應的氣體處理腔室31,32,並同時清除氣體管路GL中的殘餘氣體。
本發明的分流處理器10內部可包含一或多個模組,例如通訊模組、資料儲存模組及控制訊號延遲模組,本發明並不予限制。通訊模組可與製程主機21或其他氣油壓裝置(如圖2的繼電器111、121)通訊,以進行資料的讀取或寫入。資料儲存模組可暫存各種資料等,例如用於暫存從製程主機接收的氣體資訊,並在所儲存的資料被輸出前,將資料轉換成輸出對象可讀取的格式。控制訊號延遲模組根據氣體資訊,計算並輸出用於控制第一閥門11及第二閥門12開啟或關閉的時間參數。
為了更具體說明本發明的尾氣分流系統,請參考圖2,其中圖2係依據本發明另一實施例所繪示的尾氣分流系統的方塊圖。圖2中所示的細連接線係用於表示元件之間的訊號連接關係,在此並不限定是有線或無線的方式;而粗體線(如氣體管路GL所示)係用於表示氣體管路的連通關係。
分流處理器10訊號可傳輸地連接於製程主機21,以從製程主機21接收資料或將資料寫入製程主機21,其中製程主機21例如是工業電腦(industrial PC,IPC)或可程式化邏輯控制器(programmable logic controller,PLC)等。分流處理器10與製程主機21之間可為透過網路通訊,分流處理器10與製程主機21之間的通訊方式亦可為Modbus通訊協定、乙太網控制自動化技術(Ether control automation technology,EtherCAT)、乙太網路(Ethernet),並採
用RJ45型連接器、RS232型連接器及RS485型連接器等的硬體介面,本發明不對分流處理器10與製程主機21之間的連接方式予以限制。
本發明的尾氣分流系統更包含一氣體濃度偵測器22,訊號可傳輸地連接於分流處理器10。氣體濃度偵測器22可為傅立葉轉換紅外光譜(Fourier-transform infrared spectroscopy,FTIR)的偵測器,或四極質譜儀(quadrupole mass spectrometer,QMS)。氣體濃度偵測器22係設置在氣體管路GL中,用於偵測氣體管路GL中的氣體種類及濃度。
氣體管路GL連通於第一閥門11及第二閥門12,用於將從製程腔室(未繪示)排出的尾氣輸送至殘餘氣體處理腔室31或反應氣體處理腔室32。
第一閥門11連通於殘餘氣體處理腔室31,其中殘餘氣體處理腔室31可以氣體洗滌器(gas scrubber)實現。第一閥門11設有一第一繼電器111,訊號可傳輸地連接於分流處理器10。分流處理器10發送控制訊號至第一繼電器111,以透過第一繼電器111開啟或關閉第一閥門11。
第二閥門12連通於反應氣體處理腔室32,其中反應氣體處理腔室32可以氣體洗滌器(gas scrubber)實現。第二閥門12設有一第二繼電器121,訊號可傳輸地連接於分流處理器10,分流處理器10發送控制訊號至第二繼電器121,以透過第二繼電器121開啟或關閉第二閥門12。以上說明是以單一氣體管路中傳輸二種不同氣體為例,若需傳輸三種或以上不同氣體時,則可對應增加閥門(包括繼電器)與氣
體處理腔室的數量,而閥門與繼電器可選擇不同類型,例如以單一繼電器控制多個閥門開啟與關閉之多孔位電磁閥產品等,本發明並不予限制。
此外,本發明的尾氣分流系統可更包含一備用分流處理器,訊號可傳輸地連接於製程主機21及第一繼電器111及第二繼電器121。備用分流處理器用以從製程主機21接收反應氣體的氣體資訊,並據以透過第一繼電器111及第二繼電器121控制第一閥門11及第二閥門12。相似地,當第一閥門11及第二閥門12是由單一繼電器控制時,備用分流處理器亦可是連接於所述單一繼電器。亦即,備用分流處理器可與分流處理器10相同,用於根據反應氣體的氣體資訊,控制對應的閥門開啟或關閉,且備用分流處理器另可用於在分流處理器10故障時取代分流處理器10,以繼續對氣體管路GL中的氣體進行分流。
需特別說明的是,殘餘氣體處理腔室31係用於處理殘餘氣體,反應氣體處理腔室32係用於處理反應氣體,其中殘餘氣體被送至氣體管路GL的時間早於反應氣體。具體地,殘餘氣體與反應氣體為不同氣體,需被排入不同的氣體處理腔室,故透過本發明的尾氣分流系統及方法可在氣體通道轉換時(依製程需求)處理氣體管路GL中的殘留氣體。因反應氣體進入氣體管路GL時,氣體管路GL中可能還有部分的殘餘氣體未被從氣體管路GL排出,故氣體管路GL中所殘留的氣體即為本實施例的殘餘氣體,而在殘餘氣體後接著進入氣體管路GL的氣體即為本實施例的反應氣體。
請接著一併參考圖2、圖3及圖4A到4F,其中圖3係依據本發明一實施例所繪示的尾氣分流方法的流程圖,而圖4A到4F係依據本發明一實施例所繪示的尾氣分流方法的示意圖。為了便於理解,圖4A到4F是將氣體繪示為從二種不同的氣體鋼瓶(第一鋼瓶CYL1及第二鋼瓶CYL2)直接進入氣體管路GL。
需先說明的是,圖4A到4F示出的第一鋼瓶CYL1儲存第一反應氣體G1,第一反應氣體G1被從第一鋼瓶CYL1輸出,經過氣體管路GL再透過第一閥門11進入第一反應氣體G1的處理腔室(即殘餘氣體處理腔室31),其中製程主機21連接於第一鋼瓶CYL1的質量流量控制器(未圖示),以根據製程控制該質量流量控制器,進而控制第一反應氣體G1的輸出狀態。相似地,圖4A到4F示出第二鋼瓶CYL2儲存第二反應氣體G2,第二反應氣體G2被從第二鋼瓶CYL2輸出,經過氣體管路GL再透過第二閥門12進入第二反應氣體G2的處理腔室(即反應氣體處理腔室32),其中製程主機21連接於第二鋼瓶CYL2的質量流量控制器(未圖示),以根據製程控制該質量流量控制器,進而控制第二反應氣體G2的輸出狀態。第一鋼瓶CYL1是先輸出第一反應氣體G1,第二鋼瓶CYL2再輸出第二反應氣體G2。另外,如前所述,因第二反應氣體G2進入氣體管路GL時,氣體管路GL中可能還有部分的第一反應氣體G1未被從氣體管路GL排出,故以下將稱氣體管路GL中所殘留的第一反應氣體G1為殘餘氣體G1,及將在第一反應氣體G1後接著進入氣體管路GL的第二反應氣體G2稱為反應氣體G2,但
是在下一製程時,第一反應氣體G1與第二反應氣體G2可能互換為反應氣體與殘餘氣體,此將由上游製程決定。
請參考圖4A、4B及圖3步驟S01「以分流處理器10從製程主機21接收反應氣體的氣體資訊」。
因製程主機21要將輸出至氣體管路GL(製程腔室)的氣體從第一鋼瓶CYL1的第一反應氣體G1切換至第二鋼瓶CYL2的第二反應氣體G2,故分流處理器10可從製程主機21接收反應氣體G2的氣體資訊,其中氣體資訊包含反應氣體G2進入氣體管路GL的一進氣時間點及一進氣流量。
具體地,因輸出至氣體管路GL的氣體將被切換至反應氣體G2,故在圖4A示出的是第一鋼瓶CYL1關閉的時間點,而此時仍留存在氣體管路GL中的氣體即為殘餘氣體G1。並且,第一閥門11仍是維持開啟狀態,以讓殘餘氣體G1流至殘餘氣體處理腔室31。同時,在圖4B,第一鋼瓶CYL1關閉,第二鋼瓶CYL2開啟,讓反應氣體G2開始流入氣體管路GL。基於圖4A及4B,進氣時間點即為第二鋼瓶CYL2開啟,反應氣體G2開始進入氣體管路GL的時間點,進氣流量則為反應氣體G2進入氣體管路GL的流量。
另外,因反應氣體G2才剛進入氣體管路GL,而尚未流至第二閥門12,故分流處理器10此時不會立即輸出開啟第二閥門12的開啟控制訊號至第二繼電器121(即第二閥門12仍是關閉狀態)。圖2的氣體濃度偵測器22可用於偵測氣體管路GL中的氣體種類及濃度,故分流處理器10可透過氣體濃度偵測器22判斷反應氣體G2是否已接
近第二閥門12,且氣體濃度偵測器22較佳係設置在氣體管路GL中往第一閥門11及第二閥門12的分岔處(未圖示),並連通製程腔室的出口。
請接著參考圖3步驟S03「以分流處理器10根據氣體資訊判斷延遲時間點」以及步驟S05「以分流處理器10根據延遲時間點關閉對應殘餘氣體G1的第一閥門11,並開啟對應反應氣體G2的第二閥門12」,其中延遲時間點是氣體管路GL中的殘餘氣體G1的濃度低於一預設值的時間點,表示在第二鋼瓶CYL2開啟後,需等到延遲時間點到達後才能關閉第一閥門11並開啟第二閥門12。預設值為殘餘氣體G1可流入反應氣體處理腔室31的最大容許量,然而本發明不對預設值的具體數值予以限制。又或者,若可流入反應氣體處理腔室31的殘餘氣體G1的最大容許量為0,則延遲時間點亦可為氣體管路GL中的殘餘氣體G1的濃度等於預設值的時間點。
延遲時間點可透過以下兩種方式判斷。
方式一:如圖4D到4E所示,反應氣體G2持續進入氣體管路GL,使氣體管路GL中的殘餘氣體G1被反應氣體G2推擠至第一閥門12。因氣體資訊包含反應氣體G2進入氣體管路GL的進氣時間點及進氣流量,分流處理器10可根據氣體資訊判斷反應氣體G2在氣體管路GL中的濃度達有效值的時間點(即殘餘氣體G1在氣體管路GL中的濃度低於預設值的時間點),並以所述時間點作為延遲時間點。換言之,所述有效值可為反應氣體G2已達氣體管路GL的分岔處時的濃度值,且因氣體資訊包含反應氣體G2進入氣體管路GL的進氣時間點,而氣體管路GL的分岔處可設有氣體濃度偵測器22,故進氣時間點與氣體濃度偵測器22測得殘餘氣體G1的濃度低於預設值的時間點(或氣體
濃度偵測器22測得反應氣體G2的濃度達有效值的時間點)之間的時間差即為進氣時間點與延遲時間點之間的時間差。
方式二:如圖4D到4E所示,氣體管路GL中的殘餘氣體G1被反應氣體G2推擠至第一閥門12。氣體濃度偵測器22可連續地偵測氣體管路GL中的氣體種類與濃度,並將偵測結果傳輸至分流處理器10,用於供分流處理器10判斷氣體管路GL中的殘餘氣體G1是否已完全(或幾乎完全)被排出。據此,分流處理器10可根據氣體濃度偵測器22的偵測結果判斷殘餘氣體G1的濃度是否低於預設值(或反應氣體G2的濃度是否達有效值),並以殘餘氣體G1的濃度低於預設值(或反應氣體G2的濃度達有效值)的時間點作為延遲時間點。
據此,如圖4F所示,分流處理器10可在延遲時間點輸出關閉控制訊號至第一繼電器111以關閉第一閥門11,並輸出開啟控制訊號至第二繼電器121以開啟第二閥門12,讓反應氣體G2進入反應氣體處理腔室32。另需說明的是,當第一閥門11及第二閥門12的開啟與關閉是由單一繼電器控制時,則分流處理器10會先輸出對應第一閥門11的關閉訊號至繼電器,以關閉第一閥門11。接著,分流處理器10再輸出對應第二閥門12的開啟訊號至繼電器,以開啟第二閥門12。
根據以上說明的內容,分流處理器10在收到反應氣體G2的氣體資訊後,可判斷接下來會進入氣體管路GL的氣體種類、進氣時間,並根據氣體資訊在延遲時間點關閉第一閥門11及開啟第二閥門12,避免殘餘氣體G1流入反應氣體處理腔室32,影響了反應氣體處理腔室32的運作。
請參考圖5,圖5係依據本發明另一實施例所繪示的尾氣分流系統的流程圖。圖5係說明第一反應氣體G1及第二反應氣體G2
交替進入氣體管路GL的實施例,且第一反應氣體G1為一氧化二氮,第二反應氣體G2為三氟化氮,故在此實施例中,需盡可能降低或完全消除通過第二閥門12的第一反應氣體G1的量。
步驟S00:判斷第一反應氣體G1或第二反應氣體G2進入氣體管路。在製程開始時,分流處理器10可判斷進入氣體管路GL的氣體種類,其中分流處理器10可是根據製程主機21提供的氣體資訊判斷進入氣體管路GL的種類。若在製程主機21的出口與氣體管路GL的連接處設有另一氣體濃度偵測器,且所述另一氣體濃度偵測器訊號可傳輸地連接於分流處理器10,則分流處理器10亦可根據所述另一氣體濃度偵測器的偵測結果判斷進入氣體管路GL的種類。
若分流處理器10在步驟S00判斷進入氣體管路GL的是第一反應氣體G1,則分流處理器10在步驟S10發出對應第一閥門11的開啟控制訊號,以開啟第一閥門11。若此時第二閥門12是關閉狀態,則分流處理器10不另外發出關閉控制訊號至第二繼電器121;若此時第二閥門12是開啟狀態,則分流處理器10發出關閉控制訊號至第二繼電器121,以關閉第二閥門12。
接著,分流處理器10在步驟S11判斷第二反應氣體G2進入氣體管路GL,分流處理器10可根據第二反應氣體G2的氣體資訊(進氣時間點及進氣流量),計算出延遲時間點。因此,分流處理器10可發出對應第一閥門11的關閉控制訊號,以於步驟S12在延遲時間點關閉第一閥門11,並發出對應第二閥門12的開啟控制訊號,以於步驟S12在延遲時間點開啟第二閥門12。在此實施例中,第二反應氣體G2即為前述的反應氣體G2,而在第二反應氣體G2進入氣體管路GL時,氣體管路GL中殘餘的第一反應氣體G1即為前述的殘餘氣體G1。
再回到步驟S00,若分流處理器10在步驟S00判斷進入氣體管路GL的是第二反應氣體G2,則分流處理器10在步驟S20發出對應第二閥門12的開啟控制訊號,以開啟第二閥門12。若此時第一閥門11是關閉狀態,則分流處理器10不另外發出關閉控制訊號至第一繼電器111;若此時第一閥門11是開啟狀態,則分流處理器10發出關閉控制訊號至第一繼電器111,以關閉第一閥門11。
接著,分流處理器10在步驟S21判斷第一反應氣體G1進入氣體管路GL,分流處理器10可於步驟S10發出開啟控制訊號至第一繼電器111,以關閉第一閥門11,並發出關閉控制訊號至第二繼電器121,以關閉第二閥門12。接下來,若第二反應氣體G2再次進入氣體管路GL(步驟S11),則分流處理器10可再次執行步驟S12。透過將圖5的控制邏輯存入分流處理器10(例如,存入分流處理器10的資料儲存模組),分流處理器10可根據進入氣體管路GL的氣體種類,在適當的時間點控制閥門的開啟及關閉,以降低或完全消除可能毒化其他殘餘氣體處理腔室的觸媒的氣體進入量。
請參考圖6A及6B,圖6A係繪示未根據延遲時間點開啟及關閉閥門的實驗圖;圖6B係繪示根據延遲時間點開啟及關閉閥門的實驗圖。在圖6A及6B中,是以三氟化氮(NF3)作為殘餘氣體G1,以一氧化二氮(N2O)作為反應氣體G2,其中以實線呈現的為殘餘氣體G1(三氟化氮)的濃度,以虛線呈現的為反應氣體G2(一氧化二氮)的濃度,且殘餘氣體G1與反應氣體G2是交替進入氣體管路GL。並且,所述濃度是指第一閥門11及第二閥門12處的氣體濃度,用於表示進入殘餘氣體處理腔室31及殘餘氣體處理腔室31的氣體種類與濃度。
在圖6A的例子中,在第一時段T1,反應氣體G2已暫停進入氣體管路GL且殘餘氣體G1已開始進入氣體管路GL(即圖5的步驟S21到步驟S10的階段),其中第一時段T1係對應於殘餘氣體處理腔室31中的氣體濃度變化。因此,殘餘氣體G1與反應氣體G2(點P1)在殘餘氣體處理腔室31中的濃度同時上升。接著,在第二時段T2(即圖5的步驟S11),分流處理器10判斷反應氣體G2進入氣體管路GL,並在反應氣體G2的進氣時間點關閉第一閥門11及開啟第二閥門12,其中第二時段T2係對應於反應氣體處理腔室32中的氣體濃度變化。因此,如圖6A的點P2所示,儘管大部分的殘餘氣體G1進入了殘餘氣體處理腔室31,在反應氣體G2進入反應氣體處理腔室32時,仍有部分的殘餘氣體G1(點P2)會進入反應氣體處理腔室32。如圖6A所示,因殘餘氣體G1進入了反應氣體處理腔室32,故反應氣體處理腔室32中的觸媒便可能被含氟的殘餘氣體G1毒化,進而降低了反應氣體處理腔室32的壽命及運作效率。
在圖6B的例子中,在第三時段T3,殘餘氣體G1已暫停進入氣體管路GL且反應氣體G2已開始進入氣體管路GL(即圖5的步驟S11),其中第三時段T3係對應於反應氣體處理腔室32中的氣體濃度變化。因此,分流處理器10在收到反應氣體G2的氣體資訊後,根據氣體資訊計算延遲時間點,並在延遲時間點關閉第一閥門11及開啟第二閥門12(即圖5的步驟S12)。換言之,反應氣體G2進入氣體管路G2的進氣時間點與關閉第一閥門11的時間點之間存在延遲時間差(在此例子中為5秒)。因此,如圖6B所示,僅有反應氣體G2進入反應氣體處理腔室32,無殘餘氣體G1進入反應氣體處理腔室32,可避
免反應氣體處理腔室32中的觸媒被含氟的殘餘氣體G1毒化,進而延長反應氣體處理腔室32的使用壽命。
相似地,在對應於殘餘氣體處理腔室31中的氣體濃度變化的第四時段T4,儘管接著進入氣體管路GL的氣體被切換為殘餘氣體G1的氣體種類,但因為一氧化二氮(N2O)的反應氣體G2不會毒化殘餘氣體處理腔室31中的觸媒,故儘管有部分的反應氣體G2(點P3)會進入殘餘氣體處理腔室31,亦不影響殘餘氣體處理腔室31的運作。
綜上所述,依據本發明一或多個實施例所示的尾氣分流系統及方法,可依據製程對製程腔室排出的尾氣準確地進行分流,並避免氣體管路中殘留的尾氣進入錯誤的氣體處理腔室。因此,可以避免氣體處理腔室中的觸媒被毒化,進而延長氣體處理腔室的使用壽命。
雖然本發明以前述之實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明。在不脫離本發明之精神和範圍內,所為之更動與潤飾,均屬本發明之專利保護範圍。關於本發明所界定之保護範圍請參考所附之申請專利範圍。
S01,S03,S05:步驟
Claims (6)
- 一種尾氣分流系統,用於清除一氣體管路中的一殘餘氣體,該系統包含:一分流處理器,用以接收一反應氣體的一氣體資訊,其中該氣體資訊包含該反應氣體進入該氣體管路的一進氣時間點及一進氣流量,該分流處理器根據該氣體資訊判斷一延遲時間點,其中該延遲時間點係該氣體管路中的該殘餘氣體的濃度低於一預設值的時間點,該分流處理器並根據該延遲時間點輸出一控制訊號;一第一閥門,用於連通該氣體管路及一殘餘氣體處理腔室,該第一閥門根據該控制訊號而被關閉或開啟;以及一第二閥門,用於連通該氣體管路及一反應氣體處理腔室,該第二閥門根據該控制訊號而被開啟或關閉,其中該氣體管路上設有一氣體濃度偵測器,該氣體濃度偵測器訊號可傳輸地連接於該分流處理器,且該氣體濃度偵測器用於偵測該氣體管路中的該反應氣體或該殘餘氣體的濃度。
- 如請求項1所述的尾氣分流系統,其中該分流處理器訊號可傳輸地連接於該第一閥門的一第一繼電器及該第二閥門的一第二繼電器,該分流處理器將該控制訊號傳輸至該第一繼電器,以關閉或開啟該第一閥門,該分流處理器將該控制訊號傳輸至該第二繼電器,以開啟或關閉該第二閥門。
- 如請求項2所述的尾氣分流系統,其中該第一繼電器與該第二繼電器為一單一繼電器。
- 如請求項2所述的尾氣分流系統,更包含一備用分流處理器,用以接收該反應氣體的該氣體資訊,並訊號可傳輸地連接於該第一繼電器及該第二繼電器。
- 如請求項3所述的尾氣分流系統,更包含一備用分流處理器,用以接收該反應氣體的該氣體資訊,並訊號可傳輸地連接於該單一繼電器。
- 一種尾氣分流方法,用於清除一氣體管路中的一殘餘氣體,該方法包含:以一分流處理器接收一反應氣體的一氣體資訊,其中該氣體資訊包含該反應氣體進入該氣體管路的一進氣時間點及一進氣流量;以該分流處理器根據該氣體資訊判斷一延遲時間點,其中該延遲時間點係該氣體管路中的該殘餘氣體的濃度低於一預設值的時間點;以及以該分流處理器根據該延遲時間點輸出一控制訊號到對應該殘餘氣體的一第一閥門,及或到對應該反應氣體的一第二閥門,其中該氣體管路上設有一氣體濃度偵測器,該氣體濃度偵測器訊號可傳輸地連接於該分流處理器,且該氣體濃度偵測器用於偵測該氣體管路中的該反應氣體或該殘餘氣體的濃度。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111100789A TWI788183B (zh) | 2022-01-07 | 2022-01-07 | 尾氣分流系統及方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW111100789A TWI788183B (zh) | 2022-01-07 | 2022-01-07 | 尾氣分流系統及方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI788183B true TWI788183B (zh) | 2022-12-21 |
TW202328557A TW202328557A (zh) | 2023-07-16 |
Family
ID=85795254
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW111100789A TWI788183B (zh) | 2022-01-07 | 2022-01-07 | 尾氣分流系統及方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TWI788183B (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130237063A1 (en) * | 2012-03-09 | 2013-09-12 | Seshasayee Varadarajan | Split pumping method, apparatus, and system |
CN109750274A (zh) * | 2017-11-01 | 2019-05-14 | 长鑫存储技术有限公司 | 半导体生产设备及半导体工艺方法 |
TW202103777A (zh) * | 2018-12-13 | 2021-02-01 | 英商愛德華有限公司 | 減量 |
CN112534563A (zh) * | 2018-06-15 | 2021-03-19 | 朗姆研究公司 | 用于从衬底处理系统的排放装置的泵去除沉积物的清洁系统 |
-
2022
- 2022-01-07 TW TW111100789A patent/TWI788183B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130237063A1 (en) * | 2012-03-09 | 2013-09-12 | Seshasayee Varadarajan | Split pumping method, apparatus, and system |
CN109750274A (zh) * | 2017-11-01 | 2019-05-14 | 长鑫存储技术有限公司 | 半导体生产设备及半导体工艺方法 |
CN112534563A (zh) * | 2018-06-15 | 2021-03-19 | 朗姆研究公司 | 用于从衬底处理系统的排放装置的泵去除沉积物的清洁系统 |
TW202103777A (zh) * | 2018-12-13 | 2021-02-01 | 英商愛德華有限公司 | 減量 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202328557A (zh) | 2023-07-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6740166B2 (en) | Thin film deposition apparatus for semiconductor | |
US20040187777A1 (en) | CVD apparatus | |
TW201440161A (zh) | 用於基板處理腔室之氣體供應系統及其方法 | |
JP2003212517A (ja) | ガス供給システム及びガス供給方法 | |
TWI788183B (zh) | 尾氣分流系統及方法 | |
KR100875333B1 (ko) | 반도체 제조 장치 및 반도체 제조 방법 | |
JP2010207771A (ja) | 排ガス処理装置および排ガス処理方法 | |
KR20220078116A (ko) | 배기 가스 처리 시스템 | |
KR20210041340A (ko) | 반도체 제조 장치의 배기 시스템 및 배기 방법 | |
JP7369290B2 (ja) | 舶用ディーゼルエンジン用高圧scrガス交換圧力安定化システム及びそれを備えた船舶 | |
JPH10312968A (ja) | 排気切換方法及び排気切換装置 | |
KR20210125066A (ko) | 디젤 엔진 고압 scr 환기 압력 안정화 시스템 | |
CN115948723A (zh) | Mocvd排气系统及清理方法 | |
WO2021090737A1 (ja) | 排ガス処理装置 | |
KR102343068B1 (ko) | 가스 배출 장치 | |
CN100549224C (zh) | 将气体输送至一个腔和将气体从腔排出的装置 | |
JP2010161150A (ja) | ガス排気ライン切り換え機構およびガス排気ライン切り換え方法 | |
JP3050195B2 (ja) | Cvd装置の排気ガス処理方法及び装置 | |
KR102338068B1 (ko) | 제해 기능 부착 건식 진공 펌프 | |
KR100280467B1 (ko) | 반도체웨이퍼증착장비의배관정화장치 | |
CN112128428B (zh) | 一种配气阀岛及废气处理设备的配气方法 | |
JP2023094696A (ja) | 排ガスの除害装置 | |
JP2005216911A (ja) | エピタキシャル成長装置の排ガス処理システム | |
JP6174316B2 (ja) | 除害装置 | |
CN113384979A (zh) | 用于选择性废气处置的方法及系统 |