JP2015052420A - 排気ガス処理システム - Google Patents

Abstract

【課題】予備の除害装置に接続された経路内に残留する空気中の酸素ガス濃度を低減できる排気ガス処理システムを提供する。【解決手段】設備から排出され酸素ガスと反応可能な成分を有する排気ガスが流れる排気経路Ｌ１と、排気経路Ｌ１に設けられ、通常時に排気ガスが流れる主排気経路Ｌ２と、燃焼除害装置２が異常停止した際に排気ガスが流れる副排気経路Ｌ３とを切り替える切替弁４と、主排気経路Ｌ２に設けられた燃焼式除害装置２と、副排気経路Ｌ３に設けられた乾式除害装置３と、副排気経路Ｌ３の切替弁４近くに接続され、副排気経路Ｌ３内へ常時不活性ガスを供給する不活性ガス供給経路Ｌ４と、を備えることを特徴とする排気ガス処理システムを採用する。【選択図】図１

Description

本発明は、排気ガスの処理システムに関するものである。

一般的に、半導体、液晶、太陽電池およびＬＥＤなどの電子デバイスの成膜に用いられるＣＶＤ装置では、原料ガスとして、可燃性ガス、自然発火性ガス、毒性ガス、腐食性ガスおよび地球温暖化ガスなど、生物や環境に悪影響を与えるガスが用いられている。これらの原料ガスは、供給されたガスの全てがＣＶＤ装置内で消費されるのではなく、そのほとんどは排気ガスとして、大量にＣＶＤ装置から排出されている。

可燃性ガス、自然発火性ガス、毒性ガス、腐食性ガスおよび地球温暖化ガスなど、生物や環境に悪影響を与えるガスが含まれた排気ガスは、未処理でそのまま大気に放出することはできないため、一般的に、これらのガスはそれぞれ無害化できる各種除害装置で除害されたのち、大気中に放出されている。

ところで、特許文献１には、除害装置の一例として、生物や環境に悪影響を与えるガスを燃焼させることで無害化する燃焼式除害装置が記載されている。

また、特許文献２には、別の除害装置の一例として、生物や環境に悪影響を与えるガスと物理的もしくは化学的吸着反応をする除害剤を用いて、生物や環境に悪影響を与えるガスを吸着し無害化する乾式除害装置が記載されている。

さらに、近年、上述した除害装置を複数種類あるいは複数台組み合わせた、排気ガス処理システムが構築されている。これらの排気ガス処理システムでは、通常時に除害を行う主除害装置として燃焼式除害装置（特許文献１を参照）などが設けられ、主除害装置が異常停止したときなどの非常時に除害を行う副除害装置として乾式除害装置（特許文献２を参照）などを設けられているのが、一般的である。

図３に、従来の一般的な排気ガス処理システム２００の構成を示す。図３に示すように、従来の排気ガス処理システム２００は、減圧ＣＶＤ装置１０１から排出された排気ガスが流れる排気経路Ｌ１０１と、排気経路Ｌ１０１の二次側端に設けられた切替弁１０４と、切替弁１０４の二次側にそれぞれ接続された主排気経路Ｌ１０２および副排気経路Ｌ１０３と、主排気経路Ｌ１０２の二次側端に設けられた燃焼式除害装置１０２と、副排気経路Ｌ１０３の二次側端に設けられた乾式除害装置１０３と、各除害装置の後段にそれぞれ排気ファン１０５、１０６を備えて概略構成されている。

ここで、切替弁１０４は、燃焼式除害装置１０２と信号線ｃ１０１で接続されている。通常時では排気ガスを主排気経路Ｌ１０２へ供給し、非常時では自動的に排気ガスを副排気経路Ｌ１０３へと切り替えて供給する。なお、非常時とは、燃焼式除害装置１０２で故障が起こり、燃焼式除害装置１０２が異常停止したときなどである。

燃焼式除害装置１０２は、通常時に排気ガスの除害を行う。また、燃焼式除害装置１０２の後段には、排気ファン１０５が設けられている。一方、乾式除害装置１０３は、非常時に排気ガスの除害を行う。また、乾式除害装置１０３の後段には、排気ファン１０６が設けられている。

ところで、一般的に、減圧ＣＶＤ装置１０１から排出される排気ガスの圧力は大気圧より低く、通常時では燃焼式除害装置１０２の後段に設けられた排気ファン１０５によって、排気ガスを燃焼式除害装置１０２に引き込みながら除害を行っている。一方、副排気経路Ｌ１０３では、通常時は閉塞しており、非常時に排気ファン１０６が起動して、負圧を確保して、減圧ＣＶＤ１０１から排出される排ガスを導入する。

次に、従来の排気ガス処理システム２００の除害方法を説明する。
通常時では、切替弁１０４は主排気経路Ｌ１０２側に開かれ、燃焼式除害装置１０２および排気ファン１０５は動作し、排気ガスを除害している。排気ファン１０５は、規定の排気能力で動作している。

これに対して、副排気経路Ｌ１０３側は、いつでも除害できる待機状態である。具体的には、乾式除害装置１０３には新しい除害剤が充填され、排気ファン１０６は停止している。

ここで、燃焼式除害装置１０２が異常停止して非常時となった場合、切替弁１０４は燃焼式除害装置１０２からの信号を受信して、自動的に副排気経路Ｌ１０３側に切り替わるとともに排気ファン１０６が起動する。ほぼ同時に、排気ファン１０５は止められる。

一方、排気ガスが流れるようになった副排気経路Ｌ１０３側では、乾式除害装置１０３に排気ガスを導入することで、排気ガスを除害する。この状況下で、減圧ＣＶＤ装置１０１を安全に停止させ，原料ガスの供給も止められる。

特開２０１２−２０７８８８号公報 特開平６−０４７２６９号公報

ところで、減圧ＣＶＤ装置などの排気ガス中には、原料ガスであるモノシランやジシランなど、空気中の酸素ガス成分と反応する自然発火性ガスが含まれている場合がある。また、上記原料ガスを希釈するためのベースガスとして反応性が高い可燃性ガスの水素ガスが含まれている場合が多い。

ここで、従来の排気ガス処理システム２００では、副排気経路Ｌ１０３側は、経路内が閉塞されており、大気圧の空気が残留した状態であった。よって、排気ガスの供給が主排気経路Ｌ１０２から副排気経路Ｌ１０３に切り替わった際に、副排気経路Ｌ１０３内に残留している、空気成分である酸素ガスと、排気経路Ｌ１０１内から流れる排気ガスに含まれるモノシランやジシランなどの自然発火性ガスや、高濃度の水素ガスなどとが混合し、反応する恐れがあった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、副排気経路内に残留する酸素ガス濃度を低減することができる排気ガス処理システムを提供することを課題とする。

本発明は以下の構成を備える。
請求項１に係る発明は、設備から排出され、酸素ガスと反応可能な成分を有する排気ガスが流れる排気経路と、
前記排気経路に設けられ、通常時に前記排気ガスが流れる主排気経路と、主除害装置が異常停止した際に当該排気ガスが流れる副排気経路とを切り替える経路切替手段と、
前記主排気経路に設けられた主除害装置と、
前記副排気経路に設けられた副除害装置と、
前記副排気経路の前記経路切替手段近くに接続され、当該副排気経路内へ常時不活性ガスを供給する不活性ガス供給経路と、を備えることを特徴とする排気ガス処理システムである。

また、請求項２に係る発明は、前記副排気経路内の前記経路切替手段付近のガス成分濃度を測定する濃度測定手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の排気ガス処理システムである。

また、請求項３に係る発明は、前記不活性ガス供給経路が、前記ガス成分濃度の測定値に基づいて前記不活性ガスの供給量を自動的に制御する流量制御手段を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の排気ガス処理システムである。

また、請求項４に係る発明は、前記不活性ガスが、窒素ガスまたは希ガスであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムである。

また、請求項５に係る発明は、前記設備が、減圧ＣＶＤ装置であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムである。

また、請求項６に係る発明は、前記主除害装置が、燃焼式除害装置またはヒーター加熱式除害装置であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムである。

また、請求項７に係る発明は、前記副除害装置が、乾式除害装置または湿式除害装置であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の排気ガス処理システムである。

本発明の排気ガス処理システムによれば、排気経路と、主排気経路と、主除害装置が異常停止した際に排気ガスが流れる副排気経路とを切り替える経路切替手段と、副排気経路の経路切替手段近くに接続され、副排気経路内へ常時不活性ガスを供給する不活性ガス供給経路と、を備え、副排気経路内を常時不活性ガスでパージし続けることができるため、副排気経路内に残留する空気を低減することができる。したがって、排気経路内に残留する排気ガス中の酸素ガスと反応可能な成分と、副排気経路内に残留する酸素ガスとで反応が起こらないようにすることが可能となる。

本発明を適用した第１の実施形態である排気ガス処理システムの構成図である。 本発明を適用した第２の実施形態である排気ガス処理システムの構成図である。 従来の排気ガス処理システムの構成図である。

以下、本発明を適用した第一の実施形態である排気ガス処理システム１００について、図面を用いて説明する。
図１に、本発明の第一の実施形態である排気ガス処理システム１００の構成を示す。図１に示すように、排気ガス処理システム１００は、減圧ＣＶＤ装置（設備）１から排出された排気ガスが流れる排気経路Ｌ１と、排気経路Ｌ１の二次側端に設けられた切替弁（経路切替手段）４と、切替弁４の二次側にそれぞれ接続された主排気経路Ｌ２および副排気経路Ｌ３と、主排気経路Ｌ２の二次側端に設けられた燃焼式除害装置（主除害装置）２と、副排気経路Ｌ３の二次側端に設けられた乾式除害装置（副除害装置）３と、副排気経路Ｌ３の切替弁４近くに設けられた酸素濃度計（濃度測定手段）７と、各除害装置の後段にそれぞれ排気ファン５，６と、高圧ガス容器８と、上流側で高圧ガス容器８と下流側で副排気経路Ｌ３の切替弁４近くに接続された不活性ガス供給経路Ｌ４と、不活性ガス供給経路Ｌ４に設けられた減圧弁９およびマスフローコントローラ（流量制御手段）１０と、を備えて概略構成されている。

ここで、排気経路Ｌ１、切替弁４、主排気経路Ｌ２、燃焼式除害装置２および排気ファン５から構成された一組を、排気ガス処理ラインＡと定義する。また、高圧ガス容器８、不活性ガス供給経路Ｌ４、減圧弁９およびマスフローコントローラ１０から構成された一組を、不活性ガス供給ラインＢと定義する。よって、第一の実施形態は、排気ガス処理ラインが１ラインと、不活性ガス供給ラインが１ラインとを備える形態と言える。

排気経路Ｌ１は減圧ＣＶＤ装置１と切替弁４との間に、主排気経路Ｌ２は切替弁４と燃焼式除害装置２との間に、副排気経路Ｌ３は切替弁４と乾式除害装置３との間にそれぞれ設けられており、減圧ＣＶＤ装置１の排気ガスを各除害装置に送る供給路となっている。これらの材質としては、特に限定されるものではないが、排気ガス中に含まれる成分の性質にあわせて適宜選定することが望ましい。一般的には、金属製の配管が用いられる。

切替弁４は、燃焼式除害装置２と信号線ｃ１によって接続されている。切換弁４は、通常時には、排気ガスが排気経路Ｌ１から主排気経路Ｌ２へ供給される側に経路が規定されている。一方、非常時には、切替弁４は、燃焼式除害装置２より信号を受信して、自動的に主排気経路Ｌ２から副排気経路Ｌ３へと排気ガスの供給経路を切り替える。

燃焼式除害装置２は、通常時に排気ガスの除害を行う除害手段である。この燃焼式除害装置２の後段には、排気ファン５が設けられている。

乾式除害装置３は、非常時に排気ガスの除害を行う除害手段である。この乾式除害装置３の後段には、排気ファン６が設けられている。

ところで、一般的に、減圧ＣＶＤ装置１から排出される排気ガスの圧力は大気圧より低く、通常時には燃焼式除害装置２の後段に設けられた排気ファン５によって、排気ガスを燃焼式除害装置２に引き込みながら除害を行っている。

一方、副排気経路Ｌ３側は、いつでも除害できる待機状態である。具体的には、乾式除害装置３には新しい除害剤が充填され、排気ファン６は停止している。

酸素濃度計７は、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度を測定するために、副排気経路Ｌ３の切替弁４近くに設けられている。また、酸素濃度計７は、信号線ｃ２によってマスフローコントローラ１０と通信可能に接続されており、酸素ガス濃度の測定値を外部信号として、マスフローコントローラ１０に発信することができる。

高圧ガス容器８は、不活性ガスが充填されたガス供給源であるが、不活性ガスを準備できるガス供給源であれば限定されない。このようなガス供給源としては、特に高圧ガス容器８に限定されるものではなく、例えばガス製造装置、大型のガス貯槽タンクなども用いることができる。

高圧ガス容器８から供給される不活性ガスの種類としては、排気ガスに含まれる成分と反応しない成分であることと、副除害装置の除害性能に影響を与えないことが必要である。このような不活性ガスとしては、具体的には、例えば、窒素ガスや、ヘリウムガス、アルゴンガスなどの希ガスが挙げられる。

減圧弁９は、不活性ガスの供給圧力を調整できるものであれば、特に減圧弁に限定されるものではなく、例えば、コントロール弁なども用いることができる。
なお、本実施形態の排気ガス処理システム１００では、減圧弁９を不活性ガス供給経路Ｌ４に１つ設けた例を説明しているが、特にこれに限定されるものではなく、不活性ガス供給経路Ｌ４に複数の減圧弁９を設けて多段的に減圧可能な構成としてもよい。

マスフローコントローラ１０は、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度の信号に基づいて、副排気経路Ｌ３内へ供給する不活性ガスを必要最低限の供給量に制御する機能を有している。具体的には、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度の測定値が上昇した場合に、副排気経路Ｌ３内へ供給する不活性ガスの量を自動的に増やし、酸素ガス濃度を規定の値よりも低く保つ。一方、酸素ガス濃度の測定値が下降した場合には、不活性ガスの量を自動的に減らすように制御を行う。

なお、副排気経路Ｌ３内への不活性ガスの供給量が多い場合、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度を低く保つことは容易となるが、その分、排気ファン６の負荷が大きくなる。よって、不活性ガスの供給量は必要最低限とすることが望ましい。もちろん、不活性ガスの供給量を抑えることは、ランニングコスト的に望ましいことである。

次に、上述した排気ガス処理システム１００を用いた除害方法（すなわち、排気ガス処理システム１００の運転方法）を説明する。
まず、通常運転時では、切替弁４が主排気経路Ｌ２側に開かれており、燃焼式除害装置２および排気ファン５が動作して、排気ガスを除害している。また、排気ファン５は、規定の排気能力で動作している。

一方、副排気経路Ｌ３側は、いつでも除害できる待機状態である。具体的には、乾式除害装置３には新しい除害剤が充填され、排気ファン６は停止している。

ここで、本実施形態の排気ガス処理システム１００では、主排気経路Ｌ２内の圧力を−５〜−１ｋＰａＧの範囲とすることが好ましい。主排気経路Ｌ２内の圧力が−５ｋＰａＧ未満であると、排気ファン５の負荷が大きくなり、排気ファンが大型化するため高コスト設備となり好ましくない。一方、主排気経路Ｌ２内の圧力が−１ｋＰａＧを超えると、減圧ＣＶＤでは排気ガスを排出する能力が不足しており、燃焼式除害装置の圧力として現実的でない。これに対して、主排気経路Ｌ２内の圧力が上記範囲内であると、排気ファン５の負荷が適当であり、効率的に減圧ＣＶＤからの排気ガスを燃焼式除害装置２で除害できるために好ましい。

また、副排気経路３内の圧力は、−５〜０ｋＰａＧとすることが好ましい。副排気経路Ｌ３内の圧力が−５ｋＰａＧ未満であると、排気ファン６の負荷が大きくなり、排気ファンが大型化するため高コスト設備となり好ましくない。一方、副排気経路Ｌ３内の圧力が０ｋＰａＧを超えると、減圧ＣＶＤでは排気ガスを排出することはできず、排気ガスが減圧ＣＶＤへ逆流してしまうリスクを生じる。これに対して、副排気経路Ｌ３内の圧力が上記範囲内であると、燃焼式除害装置２が非常停止時において、排気ファン６の負荷が適当であり、効率的に減圧ＣＶＤからの排気ガスを乾式除害装置３で除害できるために好ましい。

また、酸素濃度計７は、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度の値を、連続的に測定している。さらに、不活性ガスは、高圧ガス容器８より、減圧弁９で供給圧力を調整され、マスフローコントローラ１０で供給量を調整された後、副排気経路Ｌ３内に供給されている。更にまた、マスフローコントローラ１０は、酸素濃度計７からの酸素ガス濃度の測定値を外部信号として受信し、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度の上昇を防ぎつつ、自動的に不活性ガスの供給量を必要最低限にコントロールしている。

そして、燃焼式除害装置２が異常停止して非常時となった場合には、切替弁４は燃焼式除害装置２からの信号を受信して、自動的に副排気経路Ｌ３側に切り替えるとともに排気ファン６を起動する。ほぼ同時に、排気ファン５は止められる。

一方、排気ガスが流入される副排気経路Ｌ３側では、排気ファン６で負圧を確保し、乾式除害装置３内に排気ガスを導入することによって排気ガスを除害する。このとき、不活性ガスによって、副排気経路Ｌ３内は酸素ガス濃度が抑えられた状態であるため、排気ガス中に含まれるガス成分と酸素の反応を防ぐことができる。なお、非常時である間は、安全のため、引き続き副排気経路Ｌ３内に不活性ガスが供給され続ける。

以降、第一実施形態の場合と同様に、副除害装置である乾式除害装置３に排気ガスを導入することで、排気ガスを除害する。この状況下で減圧ＣＶＤ装置１を安全に停止させ、原料ガスの供給も停止させる。
副除害装置である乾式除害装置３による除害が安定し、この乾式除害装置３が寿命に達する前に、減圧ＣＶＤ装置１を停止させる。その後、排気ファン６および不活性ガスの供給を停止する。

以上説明したように、本実施形態の排気ガス処理システム１００によれば、通常運転時に副排気経路Ｌ３に不活性ガスを必要最低限供給することで、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度を低減させ、かつ、不活性ガスの量を抑え、排気ファン６の負荷も低く抑えることが可能となる。これにより、非常時となって排気ガスが副排気経路Ｌ３内に流入する場合であっても、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度が低減されているため、排気ガスに含まれるガス成分との反応を防ぐことができる。

次に、以下、本発明を適用した第二の実施形態である排気ガス処理システム１１０について、図面を用いて説明する。
図２は、本発明を適用した第二の実施形態である排気ガス処理システム１１０の構成を示す系統図である。図２に示すように、本実施形態の排気ガス処理システム１１０は、排気経路Ｌ１、Ｌ１１と、切替弁（経路切替手段）４、１４と、主排気経路Ｌ２、Ｌ１２と、燃焼式除害装置（主除害装置）２、１２と、排気ファン５、１５と、がそれぞれ設けられた排気ガス処理ラインＡ、Ａ’の２ラインと、高圧ガス容器８、１８と、高圧ガス容器８、１８と副排気経路Ｌ３の各切替弁４、１４側とに接続された不活性ガス供給経路Ｌ４、Ｌ１４と、減圧弁９、１９と、マスフローコントローラ（流量制御手段）１０、２０と、がそれぞれ設けられた不活性ガス供給ラインＢ、Ｂ’の２ラインと、乾式除害装置（副除害装置）３と、乾式除害装置３の後段に排気ファン６と、各切替弁４、１４に接続され、乾式除害装置３の入り口上流側で一つにまとめられた副排気経路Ｌ３と、副排気経路Ｌ３の各切替弁４、１４側に、それぞれ酸素濃度計（濃度測定手段）７、１７と、を備えて概略構成されている。なお、本実施形態の排気ガス処理システム１１０は、排気ガス処理ラインが２ラインと、不活性ガス供給ラインが２ラインと、共有される副排気経路Ｌ３と、を備える形態と言える。

切替弁４は燃焼式除害装置２と信号線ｃ１で接続され、切替弁１４は燃焼式除害装置１２と信号線ｃ１１で接続されている。全ての排気ガス処理ラインが通常運転時の場合、排気ガスはそれぞれの主排気経路Ｌ２、Ｌ１２に供給される。一方、いずれかの排気ガス処理ラインが非常時となった場合には、非常時となった排気ガス処理ラインの切替弁のみが、自動的に副排気経路Ｌ３へと切り替わり、排気ガスは副排気経路Ｌ３に導入される。これに対して、通常運転時の状態が継続する排気ガス処理ラインでは、引き続き排気ガスは主排気経路に導入される。

高圧ガス容器８、１８は、不活性ガスが充填されたガス供給源である。本実施形態では２つ設けた例を説明しているが、これに限定されるものではなく、共用する１つの不活性ガス供給源を設けた構成であってもよい。

なお、マスフローコントローラ１０，２０は、第一の実施形態と同様の機能を有しているため、説明は省略する。

次に、上述した排気ガス処理システム１１０を用いた除害方法（すなわち、排気ガス処理システム１１０の運転方法）を説明する。

いずれかの燃焼式除害装置２，１２が異常停止して非常時となった場合、該当する排気ガス処理ラインＡ，Ａ’の切替弁４，１４は、停止した燃焼式除害装置２，１２からの信号を受信して、自動的に副排気経路Ｌ３側に切り替えるとともに排気ファン６を起動させる。ほぼ同時に、非常時となった排気ガス処理ラインの該当する排気ファン５，１５は止められる。

一方、排気ガスが流入される副排気経路Ｌ３側では、排気ファン６を起動させて負圧を確保し、乾式除害装置３内に排気ガスを導入することによって排気ガスを除害する。このとき、不活性ガスによって、副排気経路Ｌ３内は酸素ガス濃度が抑えられた状態であるため、排気ガス中に含まれるガス成分と酸素との反応を防ぐことができる。なお、いずれかの排気ガス処理ラインＡ，Ａ’が非常時である間は、安全のため、引き続き副排気経路Ｌ３内に不活性ガスが供給され続ける。

以降、第一実施形態の場合と同様に、副除害装置である乾式除害装置３に排気ガスを導入することで排気ガスを除害する。この状況下で、減圧ＣＶＤ装置１を安全に停止させ、原料ガスの供給も停止させる。

以上説明したように、第二の実施形態の排気ガス処理システム１１０によれば、複数（具体的には、２つ）の排気ガス処理ラインＡ，Ａ’を有する態様であっても、通常運転時に副排気経路Ｌ３の各切替弁４，１４の付近から副排気経路Ｌ３に対して必要最低限の不活性ガスを供給することで、副排気経路Ｌ３内の酸素ガス濃度を低減させることが可能となるともに、排気ファン６の負荷を低く抑えることが可能となる。

なお、本発明の技術範囲は上記第一および第二の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上述した第一及び第二の実施形態では、排気ガス処理ラインが１つ及び２つの場合について説明したが、排気ガス処理システムに排気ガス処理ラインが３つ以上設けられている態様であっても良い。

１・・・減圧ＣＶＤ装置（設備）
２・・・燃焼式除害装置（主除害装置）
３・・・乾式除害装置（副除害装置）
４，１４・・・切替弁（経路切替手段）
５、６・・・排気ファン
７・・・酸素濃度計（濃度測定手段）
８・・・高圧ガス容器
９・・・減圧弁
１０・・・マスフローコントローラ（流量調整手段）
１００・・・排気ガス処理システム
Ａ，Ａ’・・・排気ガス処理ライン
Ｂ・・・不活性ガス供給ライン
ｃ１、ｃ２・・・信号配線
Ｌ１・・・排気経路
Ｌ２・・・主排気経路
Ｌ３・・・副排気経路
Ｌ４・・・不活性ガス供給経路

Claims (7)

1. 設備から排出され、酸素ガスと反応可能な成分を有する排気ガスが流れる排気経路と、
   前記排気経路に設けられ、通常時に前記排気ガスが流れる主排気経路と、主除害装置が異常停止した際に当該排気ガスが流れる副排気経路とを切り替える経路切替手段と、
   前記主排気経路に設けられた主除害装置と、
   前記副排気経路に設けられた副除害装置と、
   前記副排気経路の前記経路切替手段近くに接続され、当該副排気経路内へ常時不活性ガスを供給する不活性ガス供給経路と、を備えることを特徴とする排気ガス処理システム。
2. 前記副排気経路内の前記経路切替手段付近のガス成分濃度を測定する濃度測定手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の排気ガス処理システム。
3. 前記不活性ガス供給経路が、前記ガス成分濃度の測定値に基づいて前記不活性ガスの供給量を自動的に制御する流量制御手段を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の排気ガス処理システム。
4. 前記不活性ガスが、窒素ガスまたは希ガスであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
5. 前記設備が、減圧ＣＶＤ装置であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
6. 前記主除害装置が、燃焼式除害装置またはヒーター加熱式除害装置であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。
7. 前記副除害装置が、乾式除害装置または湿式除害装置であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の排気ガス処理システム。

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