JP2003257724A - Mn−Zn系フェライト - Google Patents
Mn−Zn系フェライトInfo
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Abstract
損失が低いMn−Zn系フェライトを提供することを目
的とする。 【解決手段】 Fe2O3 42.0mol%以上5
0.0mol%未満、ZnO 4.0mol%以上1
9.0mol%以下、残部MnOを主成分とし、CaO
50ppm以上3000ppm以下、SiO2 50
ppm以上300ppm以下、CoO 1000ppm
以上15000ppm以下を副成分として含有し、か
つ、200Ωm以上の電気抵抗を有することを特徴とし
た。
Description
ランス、各種チョ−クコイルの磁芯等に用いるのに適し
たMn−Zn系フェライトに関する。
器、民生機器、産業機器などのコイル用軟磁性材料に用
いられているが、一般的に、50mol%よりも多い5
2〜55mol%のFe2O3と、5〜25mol%の
ZnOと、残部MnOの主成分組成となっている。しか
しながら、この組成系においてはFe2+とFe3+間
の電子移動により電気抵抗が低く、電気抵抗を高くする
為には、Ti、Snなどの4価イオンで置換する方法や
粒界層へCaやSiを偏析させる方法がある。しかしな
がら、この方法では10Ωmを超える電気抵抗を得る事
は実際困難であった。
る電気抵抗を大幅に高くするにはFe2O3の組成比率
を50mol%よりも少なくする方法がある。しかし、
その方法のみでは、高い飽和磁束密度を有し、かつ、磁
芯損失の最小となる温度が通常使用される60〜120
℃の温度領域にある材料を得ることは困難であった。
する為になされたもので、Fe2O3 42.0mol
%以上50.0mol%未満、ZnO 4.0mol%
以上19.0mol%以下、残部MnOを主成分とし、
CaO 50ppm以上3000ppm以下、SiO2
50ppm以上300ppm以下、CoO 1000
ppm以上15000ppm以下を副成分として複合添
加、含有し、200Ωm以上の高い電気抵抗を有するM
n−Zn系フェライトである。本発明において前記主成
分組成の内、ZnOが4.0mol%以上17.0mo
l%未満であれば、温度100℃、印加磁界1000A
/mにおける磁束密度を200mT以上とすることが出
来好ましい。また、ZnOが4.0mol%超え17.
0mol%未満であれば、60〜120℃の間で、周波
数50kHz、磁束密度150mTにおける磁芯損失が
600kW/m3以下とすることが出来好ましい。
記のとおりである。副成分としてCaO、SiO2のみ
を添加した場合は、磁芯損失が小さくなる温度が高いと
いう欠点があった。しかし、本発明のごとく、Fe2O
3、MnO、ZnOを主成分とし、副成分として、Ca
O、SiO2、CoOを複合添加、含有することによ
り、周波数50kHz、磁束密度150mTにおける磁
芯損失が60〜120℃の温度領域で600kW/m3以
下である低損失フェライトを得ることができる。
束密度、かつ、低磁芯損失フェライトの実施例を説明す
る。Fe2O3(49.0mol%)、MnO(42.
0mol%)、ZnO(9.0mol%)を主成分とす
る混合原料を空気中にて900℃で2時間仮焼成した
後、副成分として、CaOを1000ppm、SiO2
を100ppm、CoOを5000ppm複合添加し、
ボ−ルミルにて12時間粉砕した。但し、CaO、Si
O2のように、あらかじめ、原料に含有されている成分
については、仮焼成後に添加する量をその分だけ減じ、
全体として上記成分の割合に一致するようにした。この
粉砕原料に、ポリビニールアルコールを1wt%添加
し、造粒、成形した。この成形体を空気中にて保持温度
1250℃で5時間焼成した。尚、焼成体の形状は、外
形25mm、内径15mm、高さ5mmのリング状とし
た。この実施例と同様の試料作製工程において、副成分
添加量を変えて各試料を作製した。この結果を表1に示
す。また、CoO添加量を変えた場合の磁芯損失の温度
特性を図1に示す。
15、16、17は、本発明の実施例であり、試料1、
2、3、8はCoOが特許請求範囲外の比較例であり、
試料9、13はCaOが特許請求範囲外の比較例であ
り、試料14、18は、SiO 2が特許請求範囲外の比
較例である。
上の高い電気抵抗と200mT以上の高い磁束密度の特性を
有する。しかし、試料1、2、3、8、9、13、1
4、18の比較例の物は、60℃付近の温度における磁
芯損失が大きくなる。CaOが3000ppmよりも多
いと、磁芯損失が大きくなり、透磁率が低下する。Ca
Oが50ppmよりも少ないと、正常な結晶成長が促進
されず、磁芯損失は大きくなる。SiO2が範囲以上に
なると、異常焼結し、磁芯損失が大きくなると共に、透
磁率、および、Qも低下する。また、SiO2が範囲未
満になると、正常な結晶成長が促進されず磁芯損失は増
大する。CoOが範囲以上になると、磁芯損失の最小と
なる温度が低温側にシフトし過ぎ、実用温度範囲での磁
芯損失が大きくなると共に、透磁率、および、Qも低下
する。また、CoOが範囲未満になると、60℃付近の
温度における磁芯損失低減化に効果がなく、安定な透磁
率が得られない。したがって、高い電気抵抗と高い磁束
密度を得ながら60〜120℃の温度領域における磁芯
損失の少ないフェライトとするには、副成分をCaO
50〜3000ppm、SiO2 50〜300pp
m、CoO 1000〜15000ppmとしなければ
ならない。
00℃、1000A/mにおける磁束密度を200mT
以上に制御する為には、主成分であるFe2O3、Zn
O、MnOの割合は、Fe2O3 42.0mol%以
上50.0mol%未満、ZnO 4.0mol%以上
19.0mol%以下、残部MnOの範囲であることが
必要である。副成分をCaO 1000ppm,SiO
2 100ppm,CoO 5000ppmとし、Fe
2O3、ZnO、MnOの割合の結果を検討した結果を
表2に示す。また、Fe2O3組成比と電気抵抗の関係
を図2に、Fe 2O3組成比と磁束密度の関係を図3に
示す。
と同様の試料作成工程において、主成分組成を変えて作
製したものであり、主成分を仮焼成後添加する副成分C
aO、SiO2、CoOは、CaO 50〜3000p
pm、SiO2 50〜300ppm、CoO 100
0〜15000ppmの範囲内であれば表1に示した実
施例とほぼ類似の特性が得られる事がわかった。また、
Fe2O3の組成量が減少するに従い、得られる磁束密
度も低下する。従って、Fe2O3の組成量を少なく構
成する場合には、ZnOの組成量を減少させ、MnOを
相対的に増加させるのが好ましい。表2に示した実施例
34〜39の如くFe2O3の組成量を42.0mol
%と少なくする場合に、100℃、1000A/mにお
ける磁束密度を200mT以上に制御するには、ZnO
の組成量をZnO 4.0mol%以上17.0mol
%未満とするのが好ましいことが分かる。また、磁芯損
失もFe2O3の組成量が減少するに従い増加する。表
2に示した実施例34〜39の如くFe2O3の組成量
を42.0mol%と少なくする場合に、60〜100
℃の温度領域で磁芯損失を600kW/m3以下とする
には、ZnOの組成量をZnO 4.0mol%超え1
7.0mol%未満とするのが好ましいことが分かる。
60〜100℃の温度領域で磁芯損失を低くする事が困
難である。この結果を示すデ−タを表3に示す。表3に
示した試料は、表1に示した実施例と同様の試料作成工
程において、主成分組成を変えるとともに、副成分は、
CaO 1000ppm、SiO2 100ppmと
し、CoOを15000ppmと20000ppmとし
ている。
m以上の高い電気抵抗と、100℃、1000A/mに
おける磁束密度が200mT以上の高い磁束密度を有
し、60〜120℃の温度領域で50KHz−150m
Tにおける磁芯損失が従来よりも低いMn−Zn系フェ
ライトを得ることができる。
温度特性図である。
組成比と電気抵抗の関係図である。
組成比と磁束密度の関係図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 Fe2O3 42.0mol%以上5
0.0mol%未満、ZnO 4.0mol%以上1
9.0mol%以下、残部MnOを主成分とし、CaO
50ppm以上3000ppm以下、SiO2 50
ppm以上300ppm以下、CoO 1000ppm
以上15000ppm以下を副成分として含有し、か
つ、200Ωm以上の電気抵抗を有することを特徴とす
るMn−Zn系フェライト。 - 【請求項2】 ZnOが4.0mol%以上17.0m
ol%未満で、100℃、印加磁界1000A/mにお
ける磁束密度が200mT以上であることを特徴とする
請求項1に記載のMn−Zn系フェライト。 - 【請求項3】 ZnOが4.0mol%超え17.0m
ol%未満で、60〜120℃、周波数50KHz、磁
束密度150mTにおける磁芯損失が600KW/m3
以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のM
n−Zn系フェライト。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002057365A JP2003257724A (ja) | 2002-03-04 | 2002-03-04 | Mn−Zn系フェライト |
Applications Claiming Priority (1)
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2434901A (en) * | 2004-09-30 | 2007-08-08 | Spansion Llc | Semiconductor device and data writing method |
JP2010180101A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Jfe Chemical Corp | 高抵抗高飽和磁束密度MnZnCoフェライトおよびその製造方法 |
JP2011088774A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Jfe Chemical Corp | 高抵抗高飽和磁束密度MnZnCrCoフェライト |
JP2012017251A (ja) * | 2010-06-11 | 2012-01-26 | Jfe Chemical Corp | MnZnAlCo系フェライト |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH097813A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-10 | Tdk Corp | Mn−Zn系酸化物磁性材料の製造方法 |
JP2001261344A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-26 | Minebea Co Ltd | Mn−Znフェライトおよびその製造方法 |
-
2002
- 2002-03-04 JP JP2002057365A patent/JP2003257724A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH097813A (ja) * | 1995-06-26 | 1997-01-10 | Tdk Corp | Mn−Zn系酸化物磁性材料の製造方法 |
JP2001261344A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-09-26 | Minebea Co Ltd | Mn−Znフェライトおよびその製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2434901A (en) * | 2004-09-30 | 2007-08-08 | Spansion Llc | Semiconductor device and data writing method |
GB2434901B (en) * | 2004-09-30 | 2008-05-07 | Spansion Llc | Semiconductor device and data writing method |
JP2010180101A (ja) * | 2009-02-06 | 2010-08-19 | Jfe Chemical Corp | 高抵抗高飽和磁束密度MnZnCoフェライトおよびその製造方法 |
JP2011088774A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Jfe Chemical Corp | 高抵抗高飽和磁束密度MnZnCrCoフェライト |
JP2012017251A (ja) * | 2010-06-11 | 2012-01-26 | Jfe Chemical Corp | MnZnAlCo系フェライト |
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