JP2003197112A - プラズマディスプレイパネルの誘電体用組成物、誘電体用積層体、及び誘電体の形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの誘電体用組成物、誘電体用積層体、及び誘電体の形成方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 放電ガスの導入路を従来に比較して簡単に形
成し、プラズマディスプレイパネルを製造する工程の作
業効率の向上を図る。 【解決手段】 ２層を積層してなるプラズマディスプレ
イパネルの誘電体用積層体において、第１の層は、無機
粉末、バインダー樹脂及び所定波長の光を吸収する光吸
収剤を含み、第２の層は、無機粉末、バインダー樹脂、
光重合性単量体及び光重合開始剤を含む。また、本発明
は第１の層、第２の層を形成するための誘電体用組成物
を提供する。さらに、第１の層と第２の層とをガラス基
板上に設け、第２の層を光照射後現像してパターニング
した後、第１の層と第２の層を一括して焼成する誘電体
の形成方法を提供する。
成し、プラズマディスプレイパネルを製造する工程の作
業効率の向上を図る。 【解決手段】 ２層を積層してなるプラズマディスプレ
イパネルの誘電体用積層体において、第１の層は、無機
粉末、バインダー樹脂及び所定波長の光を吸収する光吸
収剤を含み、第２の層は、無機粉末、バインダー樹脂、
光重合性単量体及び光重合開始剤を含む。また、本発明
は第１の層、第２の層を形成するための誘電体用組成物
を提供する。さらに、第１の層と第２の層とをガラス基
板上に設け、第２の層を光照射後現像してパターニング
した後、第１の層と第２の層を一括して焼成する誘電体
の形成方法を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの誘電体を形成するための誘電体用組成物、
誘電体用積層体、及び誘電体の形成方法に関する。
レイパネルの誘電体を形成するための誘電体用組成物、
誘電体用積層体、及び誘電体の形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（以下、Ｐ
ＤＰと略記する）は、２枚のガラス基板とその基板間に
設けられた隔壁（バリアリブ）によって形成される多数
の微小空間内に、蛍光体、電極、及び無機材料からなる
誘電体を形成し、そこに放電ガスを注入して構成され
る。ＰＤＰでは、各微小空間が１つの画素であり、電極
に通電すると誘電体を介して放電が始まり、これにより
励起された放電ガスが基底状態に戻る際に発生する紫外
線により蛍光体が発光するようになっている。このよう
なＰＤＰは、従来の液晶表示装置やＣＲＴディスプレイ
に比較して、大型画面に好適であり、実用化されつつあ
る。微小空間の具体的な構造としては、従来は平行な溝
を多数並べたストライプ型が多かった。このストライプ
型では、蛍光体を溝内の底と対向する２側面の３面に形
成し、溝の両端から放電ガスを導入する。しかし、この
構造では発光輝度に限界があった。
ＤＰと略記する）は、２枚のガラス基板とその基板間に
設けられた隔壁（バリアリブ）によって形成される多数
の微小空間内に、蛍光体、電極、及び無機材料からなる
誘電体を形成し、そこに放電ガスを注入して構成され
る。ＰＤＰでは、各微小空間が１つの画素であり、電極
に通電すると誘電体を介して放電が始まり、これにより
励起された放電ガスが基底状態に戻る際に発生する紫外
線により蛍光体が発光するようになっている。このよう
なＰＤＰは、従来の液晶表示装置やＣＲＴディスプレイ
に比較して、大型画面に好適であり、実用化されつつあ
る。微小空間の具体的な構造としては、従来は平行な溝
を多数並べたストライプ型が多かった。このストライプ
型では、蛍光体を溝内の底と対向する２側面の３面に形
成し、溝の両端から放電ガスを導入する。しかし、この
構造では発光輝度に限界があった。
【０００３】そこで、近年では、ストライプ型の各溝内
に仕切りを設けたセル型が開発されるようになってきて
いる。このセル型であれば、各セル内の底面と底面を取
り囲む４つの側面の合計５面に蛍光体を塗布し、蛍光体
の表面積を多くとれるので、輝度を向上させることがで
きる。
に仕切りを設けたセル型が開発されるようになってきて
いる。このセル型であれば、各セル内の底面と底面を取
り囲む４つの側面の合計５面に蛍光体を塗布し、蛍光体
の表面積を多くとれるので、輝度を向上させることがで
きる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、セル型
の場合、バリアリブで４方が覆われているため放電ガス
の導入路が確保しにくいという問題があった。そこで、
各セルを囲むバリアリブに段差を設け、段差により形成
される隙間からガスを導入する技術が開発された。しか
し、この場合、互いに直交するように形成される縦方向
及び横方向のバリアリブのそれぞれを、ホトレジストや
サンドブラストを利用したパターニング工程を経て形成
し、多くの工程数を要する製造方法であり、作業効率が
悪いという問題があった。このようにＰＤＰ、特にセル
型のＰＤＰでは、簡単に放電ガス導入用の経路を確保し
にくいという問題があった。
の場合、バリアリブで４方が覆われているため放電ガス
の導入路が確保しにくいという問題があった。そこで、
各セルを囲むバリアリブに段差を設け、段差により形成
される隙間からガスを導入する技術が開発された。しか
し、この場合、互いに直交するように形成される縦方向
及び横方向のバリアリブのそれぞれを、ホトレジストや
サンドブラストを利用したパターニング工程を経て形成
し、多くの工程数を要する製造方法であり、作業効率が
悪いという問題があった。このようにＰＤＰ、特にセル
型のＰＤＰでは、簡単に放電ガス導入用の経路を確保し
にくいという問題があった。
【０００５】本発明は、放電ガスの導入路を従来に比較
して簡単に形成し、プラズマディスプレイパネルを製造
する工程の作業効率の向上を図ることを目的とする。
して簡単に形成し、プラズマディスプレイパネルを製造
する工程の作業効率の向上を図ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するた
め、請求項１に記載の発明は、２層を積層してなるプラ
ズマディスプレイパネルの誘電体用組成物において、第
１の層は、無機粉末、バインダー樹脂及び所定波長の光
を吸収する光吸収剤を含み、第２の層は、無機粉末、バ
インダー樹脂、光重合性単量体及び光重合開始剤を含む
ことを特徴とする。
め、請求項１に記載の発明は、２層を積層してなるプラ
ズマディスプレイパネルの誘電体用組成物において、第
１の層は、無機粉末、バインダー樹脂及び所定波長の光
を吸収する光吸収剤を含み、第２の層は、無機粉末、バ
インダー樹脂、光重合性単量体及び光重合開始剤を含む
ことを特徴とする。
【０００７】請求項１に記載の発明によれば、無機粉末
とバインダー樹脂とを含む第１の層と第２の層とから構
成され、第１の層を形成するための誘電体用組成物は、
さらに所定波長の光を吸収する光吸収剤を含有し、第２
の層を形成するための誘電体用組成物はさらに光重合性
単量体及び光重合開始剤を含む。従って、第１の層と第
２の層を重ねて誘電体用積層体を成した状態で、第２の
層をマスクなどを介して前記所定波長を選択的に照射し
た場合に、第２の層を経て第１の層に至った光は光吸収
剤に吸収されることになる。これにより、第１の層に至
った光が第１の層内の無機粉末などにより散乱した後第
２の層にランダムな方向から再び入るといったハレーシ
ョンを防ぎ、マスクの形状に従った所望の潜像パターン
を形成することができる。そして、第２の層を現像処理
することによって所望の形状でパターン形成し、その後
焼成により第１の層と第２の層から有機分を全て除去す
ることで、第１の層と第２の層が一体となった誘電体が
形成され、その表面に第２の層のパターン由来の凹凸が
形成される。ＰＤＰを製造する際には、第２の層の凸部
がバリアリブに、凹部が各セルをそれぞれ被うように合
わせることで、各セルに放電ガスを導入する経路を確保
することができる。また、第１の層と第２の層とを一括
で焼成し誘電体を形成することで簡単にガス導入路を形
成でき、プラズマディスプレイパネルの製造工程の作業
効率を上げることができ、パネルあたりのタクトタイム
を短縮できる。
とバインダー樹脂とを含む第１の層と第２の層とから構
成され、第１の層を形成するための誘電体用組成物は、
さらに所定波長の光を吸収する光吸収剤を含有し、第２
の層を形成するための誘電体用組成物はさらに光重合性
単量体及び光重合開始剤を含む。従って、第１の層と第
２の層を重ねて誘電体用積層体を成した状態で、第２の
層をマスクなどを介して前記所定波長を選択的に照射し
た場合に、第２の層を経て第１の層に至った光は光吸収
剤に吸収されることになる。これにより、第１の層に至
った光が第１の層内の無機粉末などにより散乱した後第
２の層にランダムな方向から再び入るといったハレーシ
ョンを防ぎ、マスクの形状に従った所望の潜像パターン
を形成することができる。そして、第２の層を現像処理
することによって所望の形状でパターン形成し、その後
焼成により第１の層と第２の層から有機分を全て除去す
ることで、第１の層と第２の層が一体となった誘電体が
形成され、その表面に第２の層のパターン由来の凹凸が
形成される。ＰＤＰを製造する際には、第２の層の凸部
がバリアリブに、凹部が各セルをそれぞれ被うように合
わせることで、各セルに放電ガスを導入する経路を確保
することができる。また、第１の層と第２の層とを一括
で焼成し誘電体を形成することで簡単にガス導入路を形
成でき、プラズマディスプレイパネルの製造工程の作業
効率を上げることができ、パネルあたりのタクトタイム
を短縮できる。
【０００８】ここで、光吸収剤は、第２の層を感光させ
ることができる波長の光を吸収するもので、誘電体の特
性を損ねるものでなければ材質は、有機物及び無機物の
いずれでもよいし、また、複数種類の光吸収剤を混合し
て用いてもよい。
ることができる波長の光を吸収するもので、誘電体の特
性を損ねるものでなければ材質は、有機物及び無機物の
いずれでもよいし、また、複数種類の光吸収剤を混合し
て用いてもよい。
【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の誘電体用組成物において、第１の層において、光吸収
剤が、無機粉末、バインダー樹脂及び光吸収剤の合計１
００重量部に対して、０．０１重量部〜３０重量部であ
ることを特徴とすることから、十分な光吸収効果を発揮
する。請求項２において、光吸収剤の割合が、０．０１
重量部未満であると、十分な光吸収効果が発揮できず第
２の層をパターニングした際にハレーションによりパタ
ーンが乱れる可能性がある。このようにパターンが乱れ
ると、放電ガスのガス導入路が十分確保できなかった
り、あるいはセル同士が連通してしまい意図しない放電
が発生し、放電電圧の乱れが生じる可能性があるため好
ましくない。また、３０重量部を超えて含有する場合に
は、第２の層底部の感度が低下し、第２の層をパターニ
ングした際に、パターニングの形成ができなかったり、
良好なパターン形状が得られない可能性があるため好ま
しくない。
の誘電体用組成物において、第１の層において、光吸収
剤が、無機粉末、バインダー樹脂及び光吸収剤の合計１
００重量部に対して、０．０１重量部〜３０重量部であ
ることを特徴とすることから、十分な光吸収効果を発揮
する。請求項２において、光吸収剤の割合が、０．０１
重量部未満であると、十分な光吸収効果が発揮できず第
２の層をパターニングした際にハレーションによりパタ
ーンが乱れる可能性がある。このようにパターンが乱れ
ると、放電ガスのガス導入路が十分確保できなかった
り、あるいはセル同士が連通してしまい意図しない放電
が発生し、放電電圧の乱れが生じる可能性があるため好
ましくない。また、３０重量部を超えて含有する場合に
は、第２の層底部の感度が低下し、第２の層をパターニ
ングした際に、パターニングの形成ができなかったり、
良好なパターン形状が得られない可能性があるため好ま
しくない。
【００１０】請求項３に記載の発明は、２層を積層して
なるプラズマディスプレイパネルの誘電体用積層体にお
いて、第１の層は、無機粉末、バインダー樹脂及び所定
波長の光を吸収する光吸収剤を含み、第２の層は、無機
粉末、バインダー樹脂、光重合性単量体及び光重合開始
剤を含むことを特徴とする。
なるプラズマディスプレイパネルの誘電体用積層体にお
いて、第１の層は、無機粉末、バインダー樹脂及び所定
波長の光を吸収する光吸収剤を含み、第２の層は、無機
粉末、バインダー樹脂、光重合性単量体及び光重合開始
剤を含むことを特徴とする。
【００１１】請求項３に記載の発明によれば、請求項１
と同様に、簡単にガス導入路を形成することができ、プ
ラズマディスプレイパネルの製造工程の作業効率を上げ
ることができ、パネルあたりのタクトタイムを短縮でき
る。
と同様に、簡単にガス導入路を形成することができ、プ
ラズマディスプレイパネルの製造工程の作業効率を上げ
ることができ、パネルあたりのタクトタイムを短縮でき
る。
【００１２】なお、請求項１及び請求項３において、誘
電体用組成物や誘電体用積層体は、他のフィルムや薄板
などを有していてもよく、例えば、第１の層や第２の層
が支持フィルムや保護フィルムと接するように積層され
ていてもよい。また、ＰＤＰを構成するガラス基板上に
積層された状態であってもよい。
電体用組成物や誘電体用積層体は、他のフィルムや薄板
などを有していてもよく、例えば、第１の層や第２の層
が支持フィルムや保護フィルムと接するように積層され
ていてもよい。また、ＰＤＰを構成するガラス基板上に
積層された状態であってもよい。
【００１３】請求項４に記載の発明は、２層を積層して
なるプラズマディスプレイパネルの誘電体の形成方法に
おいて、ガラス基板上に、無機粉末、バインダー樹脂及
び所定波長の光を吸収する光吸収剤を含む第１の層を設
け、この上に無機粉末、バインダー樹脂、光重合性単量
体及び光重合開始剤を含む第２の層を設け、次いで、第
２の層に選択的に前記所定波長の光を照射後現像して所
定形状のパターンを形成し、第１の層と第２の層とを一
括して焼成することを特徴とする。
なるプラズマディスプレイパネルの誘電体の形成方法に
おいて、ガラス基板上に、無機粉末、バインダー樹脂及
び所定波長の光を吸収する光吸収剤を含む第１の層を設
け、この上に無機粉末、バインダー樹脂、光重合性単量
体及び光重合開始剤を含む第２の層を設け、次いで、第
２の層に選択的に前記所定波長の光を照射後現像して所
定形状のパターンを形成し、第１の層と第２の層とを一
括して焼成することを特徴とする。
【００１４】請求項４に記載の発明によれば、請求項１
あるいは請求項３と同様に、プラズマディスプレイパネ
ルの製造工程の作業効率を上げることができ、パネルあ
たりのタクトタイムを短縮できる。そして、誘電体には
第２の層のパターン由来の凹凸が形成される。ＰＤＰを
製造する際には、第２の層由来の誘電体を各セルを被う
ように組付け、そのとき凸部がバリアリブに、凹部が各
セルにそれぞれ対応するように合わせることで、各セル
に放電ガスを導入する経路を確保することができる。
あるいは請求項３と同様に、プラズマディスプレイパネ
ルの製造工程の作業効率を上げることができ、パネルあ
たりのタクトタイムを短縮できる。そして、誘電体には
第２の層のパターン由来の凹凸が形成される。ＰＤＰを
製造する際には、第２の層由来の誘電体を各セルを被う
ように組付け、そのとき凸部がバリアリブに、凹部が各
セルにそれぞれ対応するように合わせることで、各セル
に放電ガスを導入する経路を確保することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明に係る誘電体用積層体を構成する第１の層
と第２の層は、無機粉末とバインダー樹脂を必須成分と
する。さらに、第１の層は所定波長の光を吸収する光吸
収剤を含有し、第２の層は光重合性単量体及び光重合開
始剤を含有する。第１の層及び第２の層は、上記したよ
うに、無機粉末と、バインダー樹脂、及び光吸収剤、光
重合性単量体と光重合開始剤から成るが、通常はこれら
を、有機溶剤等と混合し、液状またはペースト状の誘電
体用組成物を調製し、この組成物をＰＤＰを構成するガ
ラス基板に直接塗布して積層フィルム化するか、または
組成物からフィルムを作製し該フィルムをガラス基板上
に積層させることで形成できる。
する。本発明に係る誘電体用積層体を構成する第１の層
と第２の層は、無機粉末とバインダー樹脂を必須成分と
する。さらに、第１の層は所定波長の光を吸収する光吸
収剤を含有し、第２の層は光重合性単量体及び光重合開
始剤を含有する。第１の層及び第２の層は、上記したよ
うに、無機粉末と、バインダー樹脂、及び光吸収剤、光
重合性単量体と光重合開始剤から成るが、通常はこれら
を、有機溶剤等と混合し、液状またはペースト状の誘電
体用組成物を調製し、この組成物をＰＤＰを構成するガ
ラス基板に直接塗布して積層フィルム化するか、または
組成物からフィルムを作製し該フィルムをガラス基板上
に積層させることで形成できる。
【００１６】第１の層と第２の層に含まれる無機粉末
は、焼成することでガラス化するものであることが好ま
しく、例えば、ＰｂＯ−ＳｉＯ2系、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−
ＳｉＯ2系、ＺｎＯ−ＳｉＯ2系、ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｓｉ
Ｏ2系、ＢｉＯ−ＳｉＯ2系、ＢｉＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2
系、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系、ＰｂＯ−
ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系などが挙げられる。
は、焼成することでガラス化するものであることが好ま
しく、例えば、ＰｂＯ−ＳｉＯ2系、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−
ＳｉＯ2系、ＺｎＯ−ＳｉＯ2系、ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−Ｓｉ
Ｏ2系、ＢｉＯ−ＳｉＯ2系、ＢｉＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2
系、ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系、ＰｂＯ−
ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系などが挙げられる。
【００１７】また、第１の層と第２の層に含まれるバイ
ンダー樹脂としては、次に挙げるモノマーを重合あるい
は共重合させたものを用いることができる。また、これ
らモノマーを光重合性単量体として第１の層及び第２の
層に混合することができる。このようなモノマーとして
は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、エチレン性
不飽和カルボン酸、その他の共重合可能なモノマーを好
適に用いることができ、ベンジルアクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレ
ート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシポ
リエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエ
チレングリコールメタクリレート、スチレン、ノニルフ
ェノキシポリエチレングリコールモノアクリレート、ノ
ニルフェノキシポリエチレングリコールモノメタクリレ
ート、ノニルフェノキシポリプロピレンモノアクリレー
ト、ノニルフェノキシポリプロピレンモノメタクリレー
ト、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレ
ート、２−アクリロイロキシエチルフタレート、２−ア
クリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレー
ト、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプ
ロピルフタレート、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ−プロピルメタ
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、ｉ−ブチルアクリレート、ｉ−ブチルメタ
クリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブ
チルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピル
アクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリ
レート、３−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメ
タクリレート、３−エチルヘキシルアクリレート、エチ
レングリコールモノアクリレート、エチレングリコール
モノメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリ
セロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノ
アクリレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレ
ート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルア
クリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無
水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸等を挙
げることができる。このうち、アクリル酸及びメタクリ
ル酸が好適に用いられる。
ンダー樹脂としては、次に挙げるモノマーを重合あるい
は共重合させたものを用いることができる。また、これ
らモノマーを光重合性単量体として第１の層及び第２の
層に混合することができる。このようなモノマーとして
は、例えば、（メタ）アクリル酸エステル、エチレン性
不飽和カルボン酸、その他の共重合可能なモノマーを好
適に用いることができ、ベンジルアクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シク
ロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレ
ート、フェノキシエチルメタクリレート、フェノキシポ
リエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエ
チレングリコールメタクリレート、スチレン、ノニルフ
ェノキシポリエチレングリコールモノアクリレート、ノ
ニルフェノキシポリエチレングリコールモノメタクリレ
ート、ノニルフェノキシポリプロピレンモノアクリレー
ト、ノニルフェノキシポリプロピレンモノメタクリレー
ト、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレ
ート、２−アクリロイロキシエチルフタレート、２−ア
クリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタレー
ト、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプ
ロピルフタレート、メチルアクリレート、エチルアクリ
レート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ−プロピルメタ
クリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、ｉ−ブチルアクリレート、ｉ−ブチルメタ
クリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブ
チルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピル
アクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリ
レート、３−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒ
ドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメ
タクリレート、３−エチルヘキシルアクリレート、エチ
レングリコールモノアクリレート、エチレングリコール
モノメタクリレート、グリセロールアクリレート、グリ
セロールメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノ
アクリレート、ジペンタエリトリトールモノメタクリレ
ート、ジメチルアミノエチルアクリレート、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルア
クリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無
水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸等を挙
げることができる。このうち、アクリル酸及びメタクリ
ル酸が好適に用いられる。
【００１８】その他の共重合可能なモノマーとしては、
例えば前述の（メタ）アクリル酸エステルの例示化合物
をフマレートに代えたフマル酸エステル類、マレエート
に代えたマレイン酸エステル類、クロトネートに代えた
クロトン酸エステル類、イタコネートに代えたイタコン
酸エステル類、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエ
ン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｏ−ク
ロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレ
ン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ
−メトキシスチレン、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、イソプレン、ク
ロロプレン、３−ブタジエン等を挙げることができる。
例えば前述の（メタ）アクリル酸エステルの例示化合物
をフマレートに代えたフマル酸エステル類、マレエート
に代えたマレイン酸エステル類、クロトネートに代えた
クロトン酸エステル類、イタコネートに代えたイタコン
酸エステル類、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエ
ン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｏ−ク
ロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレ
ン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ
−メトキシスチレン、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピ
オン酸ビニル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、イソプレン、ク
ロロプレン、３−ブタジエン等を挙げることができる。
【００１９】光重合性単量体としては、前述のモノマー
を挙げることができるが、重合可能なエチレン性不飽和
結合を２個以上有するモノマー（以下、多官能性モノマ
ーという）が好ましい。多官能性モノマーとして、例え
ば、エチレングリコール、プロピレングリコール等のア
ルキレングリコールのジアクリレート又はジメタクリレ
ート類、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等のポリアルキレングリコールのジアクリレート
又はジメタクリレート類、グリセリン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール等の多価アルコールのポリアクリレート又はポリメ
タクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物などが挙
げられる。この中で、具体的には、エチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメ
タクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、
プロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、テ
トラメチロールプロパンテトラメタクリレート、ペンタ
エリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトー
ルトリメタクリレート、ペンタエリトリトールテトラア
クリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリトリトールペンタメタクリレート、ジ
ペンタエリトリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リトリトールヘキサメタクリレート等が挙げられる。
を挙げることができるが、重合可能なエチレン性不飽和
結合を２個以上有するモノマー（以下、多官能性モノマ
ーという）が好ましい。多官能性モノマーとして、例え
ば、エチレングリコール、プロピレングリコール等のア
ルキレングリコールのジアクリレート又はジメタクリレ
ート類、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリ
コール等のポリアルキレングリコールのジアクリレート
又はジメタクリレート類、グリセリン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール等の多価アルコールのポリアクリレート又はポリメ
タクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物などが挙
げられる。この中で、具体的には、エチレングリコール
ジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメ
タクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、
プロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、テトラメチロールプロパンテトラアクリレート、テ
トラメチロールプロパンテトラメタクリレート、ペンタ
エリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトー
ルトリメタクリレート、ペンタエリトリトールテトラア
クリレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレー
ト、ジペンタエリトリトールペンタメタクリレート、ジ
ペンタエリトリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リトリトールヘキサメタクリレート等が挙げられる。
【００２０】上記モノマーをバインダー樹脂として用い
るべく重合するにあたっての重合触媒としては、一般的
なラジカル重合開始剤を用いることができ、例えば、
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−ア
ゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，
２’−アゾビス−（４−メトキシ−２−ジメチルバレロ
ニトリル）などのアゾ化合物、ベンゾイルペルオキシ
ド、ラウロイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオ
キシピバレート、１，１’−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチル
ペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸化物及び過
酸化水素などを挙げることができる。過酸化物をラジカ
ル重合開始剤に使用する場合、還元剤を組み合わせてレ
ドックス型の開始剤としてもよい。
るべく重合するにあたっての重合触媒としては、一般的
なラジカル重合開始剤を用いることができ、例えば、
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−ア
ゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，
２’−アゾビス−（４−メトキシ−２−ジメチルバレロ
ニトリル）などのアゾ化合物、ベンゾイルペルオキシ
ド、ラウロイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオ
キシピバレート、１，１’−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチル
ペルオキシ）シクロヘキサンなどの有機過酸化物及び過
酸化水素などを挙げることができる。過酸化物をラジカ
ル重合開始剤に使用する場合、還元剤を組み合わせてレ
ドックス型の開始剤としてもよい。
【００２１】上記モノマーの重合体・共重合体のほか
に、バインダー樹脂としては、セルロース、ヒドロキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース、カルボキシエチルメ
チルセルロースなどのセルロース誘導体や、さらに、こ
れらセルロース誘導体とエチレン性不飽和カルボン酸や
（メタ）アクリレート化合物等との共重合体を用いるこ
とができる。さらに、バインダー樹脂としては、ポリビ
ニルアルコールとブチルアルデヒドとの反応生成物であ
るポリブチラール樹脂などのポリビニルアルコール類、
δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、β−プロピ
オラクトン、α−メチル−β−プロピオラクトン、β−
メチル−β−プロピオラクトン、α−メチル−β−プロ
ピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラクトン、
α，α−ジメチル−β−プロピオラクトン、β，β−ジ
メチル−β−プロピオラクトンなどのラクトン類が開環
重合したポリエステル類、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグ
リコール等のアルキレングリコール単独または二種以上
のジオール類と、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、
アジピン酸などのジカルボン酸類との縮合反応で得られ
たポリエステル類、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポ
リペンタメチレングリコールなどのポリエーテル類、ビ
スフェノールＡ、ヒドロキノン、ジヒドロキシシクロヘ
キサン等のジオール類と、ジフェニルカーボネート、ホ
スゲン、無水コハク酸等のカルボニル化合物との反応生
成物であるポリカーボネート類が挙げられる。以上のバ
インダー樹脂は単独でも又２種以上での混合物でも使用
できる。
に、バインダー樹脂としては、セルロース、ヒドロキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、カルボキシエチルセルロース、カルボキシエチルメ
チルセルロースなどのセルロース誘導体や、さらに、こ
れらセルロース誘導体とエチレン性不飽和カルボン酸や
（メタ）アクリレート化合物等との共重合体を用いるこ
とができる。さらに、バインダー樹脂としては、ポリビ
ニルアルコールとブチルアルデヒドとの反応生成物であ
るポリブチラール樹脂などのポリビニルアルコール類、
δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、β−プロピ
オラクトン、α−メチル−β−プロピオラクトン、β−
メチル−β−プロピオラクトン、α−メチル−β−プロ
ピオラクトン、β−メチル−β−プロピオラクトン、
α，α−ジメチル−β−プロピオラクトン、β，β−ジ
メチル−β−プロピオラクトンなどのラクトン類が開環
重合したポリエステル類、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレン
グリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグ
リコール等のアルキレングリコール単独または二種以上
のジオール類と、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、
アジピン酸などのジカルボン酸類との縮合反応で得られ
たポリエステル類、ポリエチレングリコール、ポリプロ
ピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポ
リペンタメチレングリコールなどのポリエーテル類、ビ
スフェノールＡ、ヒドロキノン、ジヒドロキシシクロヘ
キサン等のジオール類と、ジフェニルカーボネート、ホ
スゲン、無水コハク酸等のカルボニル化合物との反応生
成物であるポリカーボネート類が挙げられる。以上のバ
インダー樹脂は単独でも又２種以上での混合物でも使用
できる。
【００２２】ここで、誘電体用組成物を液状またはペー
スト状に調製するにあたり、有機溶剤を用いることがで
きる。有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノ
ール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、３−メトキシ−３−メチルブタノ
ールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどの環状エーテル類、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルなどの多価アルコールのアルキルエーテル類、２−メ
トキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテー
ト、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル−３−
メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ
ブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルア
セテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキ
シブチルアセテートなどのアルコキシアルキルアセテー
ト類、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの多価
アルコールのアルキルエーテルアセテート類、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノ
ン、ジアセトンアルコールなどのケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ
酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−
３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸
メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキ
シプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチ
ルなどのエステル類が挙げられる。これらのうち、環状
エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多
価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン
類、エステル類などが好ましい。なお、これら溶剤は、
誘電体用組成物を溶解または均一に分散させるために用
いられるもので、溶剤がなくてもそれだけで溶解あるい
は均一に分散するのであれば、用いなくてもよい。
スト状に調製するにあたり、有機溶剤を用いることがで
きる。有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノ
ール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、３−メトキシ−３−メチルブタノ
ールなどのアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどの環状エーテル類、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルエチルメチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルなどの多価アルコールのアルキルエーテル類、２−メ
トキシブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテー
ト、４−メトキシブチルアセテート、２−メチル−３−
メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ
ブチルアセテート、３−エチル−３−メトキシブチルア
セテート、２−エトキシブチルアセテート、４−エトキ
シブチルアセテートなどのアルコキシアルキルアセテー
ト類、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、
ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの多価
アルコールのアルキルエーテルアセテート類、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノ
ン、ジアセトンアルコールなどのケトン類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ
酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−
３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸
メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキ
シプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチ
ルなどのエステル類が挙げられる。これらのうち、環状
エーテル類、多価アルコールのアルキルエーテル類、多
価アルコールのアルキルエーテルアセテート類、ケトン
類、エステル類などが好ましい。なお、これら溶剤は、
誘電体用組成物を溶解または均一に分散させるために用
いられるもので、溶剤がなくてもそれだけで溶解あるい
は均一に分散するのであれば、用いなくてもよい。
【００２３】第２の層に必須成分として含まれる光重合
開始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエ
タン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
リフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン
−１−オン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−ク
ロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサント
ン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、
ベンゾフェノン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサ
ントン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ド
デシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパ
ン−１−オン、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチル
スルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチ
ルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメ
チルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４−ジメチ
ルアミノ安息香酸−２−イソアミル、２，２−ジエトキ
シアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル
アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル
−β−メトキシエチルアセタール、１−フェニル−１，
２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）
オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス（４−
ジメチルアミノフェニル）ケトン、４，４’−ビスジエ
チルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾ
フェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ｐ−ジメチルアミノアセ
トフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフ
ェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−
イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α、
α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、ペンチ
ル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９−フェニルア
クリジン、１，７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタ
ン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）ペンタン、
１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパンなどが挙
げられる。これら光重合開始剤は単独でも２種以上を組
み合わせてもよい。
開始剤としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエ
タン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
リフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、
２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン
−１−オン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−ク
ロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサント
ン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、
ベンゾフェノン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサ
ントン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ド
デシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパ
ン−１−オン、４−ベンゾイル−４’−メチルジメチル
スルフィド、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチ
ルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸
エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメ
チルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、４−ジメチ
ルアミノ安息香酸−２−イソアミル、２，２−ジエトキ
シアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル
アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンジル
−β−メトキシエチルアセタール、１−フェニル−１，
２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）
オキシム、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ビス（４−
ジメチルアミノフェニル）ケトン、４，４’−ビスジエ
チルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾ
フェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテル、ｐ−ジメチルアミノアセ
トフェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルトリクロロアセトフ
ェノン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルジクロロアセトフェノ
ン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−
イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、α、
α−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、ペンチ
ル−４−ジメチルアミノベンゾエート、９−フェニルア
クリジン、１，７−ビス−（９−アクリジニル）ヘプタ
ン、１，５−ビス−（９−アクリジニル）ペンタン、
１，３−ビス−（９−アクリジニル）プロパンなどが挙
げられる。これら光重合開始剤は単独でも２種以上を組
み合わせてもよい。
【００２４】第２の層に、光重合性単量体及び光重合開
始剤を必須成分として含むことで、第１の層上に第２の
層を形成した後、第２の層のみパターニングすること
で、最終的に第２の層のパターン由来の凹凸を有する誘
電体を形成することができる。そして、後述するように
凸部分をバリアリブ部分に重ねることで各セルの上部に
「隙間」ができ、放電ガスを導入することができるように
なる。第１の層においても、さらに光重合性単量体及び
光重合開始剤を含む場合には、第２の層の露光現像前に
第１の層のほぼ全面を露光しておけばよい。なお、第１
の層もパターンニングしてもよく、例えば、ＰＤＰを構
成するガラス基板の外形形状に合わせて、第１の層の周
縁部を所定のパターンに形成してもよい。
始剤を必須成分として含むことで、第１の層上に第２の
層を形成した後、第２の層のみパターニングすること
で、最終的に第２の層のパターン由来の凹凸を有する誘
電体を形成することができる。そして、後述するように
凸部分をバリアリブ部分に重ねることで各セルの上部に
「隙間」ができ、放電ガスを導入することができるように
なる。第１の層においても、さらに光重合性単量体及び
光重合開始剤を含む場合には、第２の層の露光現像前に
第１の層のほぼ全面を露光しておけばよい。なお、第１
の層もパターンニングしてもよく、例えば、ＰＤＰを構
成するガラス基板の外形形状に合わせて、第１の層の周
縁部を所定のパターンに形成してもよい。
【００２５】また、第１の層には、第２の層を感光させ
る、つまり第２の層に含まれる光重合開始剤を光活性化
させる波長の光を吸収できる光吸収剤を必須成分として
含有する。このような光吸収剤としては、３００〜４５
０ｎｍの波長を吸収するものが好適に用いられ、例え
ば、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染
料、キノリン系染料、ベンゾフェノン系染料、トリアジ
ン系染料、ベンゾトリアゾール系染料、アントラキノン
系染料が挙げられる。
る、つまり第２の層に含まれる光重合開始剤を光活性化
させる波長の光を吸収できる光吸収剤を必須成分として
含有する。このような光吸収剤としては、３００〜４５
０ｎｍの波長を吸収するものが好適に用いられ、例え
ば、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染
料、キノリン系染料、ベンゾフェノン系染料、トリアジ
ン系染料、ベンゾトリアゾール系染料、アントラキノン
系染料が挙げられる。
【００２６】これら光吸収剤は、第１の層を形成するた
めの組成物において、無機粉末、バインダー樹脂及び光
吸収剤の合計１００重量部に対して０．０１〜３０重量
部混合することが好ましい。０．０１重量部未満である
と、十分な光吸収効果を発揮することができない。ま
た、３０重量部を超えると、光を吸収し過ぎることによ
り、界面付近の第２の層が充分に露光されず、膜が剥が
れたり、パターンが形成できないといったことが生じ
る。このように第１の層が、第２の層に含まれる光重合
開始剤を光活性化させる波長の光を吸収できる光吸収剤
を含有することで、第１の層と第２の層を積層した状態
で第２の層を露光して所定形状にパターニングした際
に、第１の層に入った光が第１の層内部の無機粉末など
によって散乱することを防ぐことができる。つまり、仮
に光吸収剤が含まれていなかったならば、第１の層内の
無機粉末などの粒子によって光が散乱するので、第２の
層が第１の層から不確定な方向で入射する光により露光
されてしまい、結果的にマスク通りの正確なパターン形
成ができなくなる。それを防ぐためには、第１の層を焼
成し、透明なガラス状態にした後、第２の層を形成し露
光し再び焼成するといったように、２回焼成しなければ
ならない。しかし、本発明では第１の層が光吸収剤を含
有しているので、一度に焼成することができ、所望のパ
ターンを形成できる。
めの組成物において、無機粉末、バインダー樹脂及び光
吸収剤の合計１００重量部に対して０．０１〜３０重量
部混合することが好ましい。０．０１重量部未満である
と、十分な光吸収効果を発揮することができない。ま
た、３０重量部を超えると、光を吸収し過ぎることによ
り、界面付近の第２の層が充分に露光されず、膜が剥が
れたり、パターンが形成できないといったことが生じ
る。このように第１の層が、第２の層に含まれる光重合
開始剤を光活性化させる波長の光を吸収できる光吸収剤
を含有することで、第１の層と第２の層を積層した状態
で第２の層を露光して所定形状にパターニングした際
に、第１の層に入った光が第１の層内部の無機粉末など
によって散乱することを防ぐことができる。つまり、仮
に光吸収剤が含まれていなかったならば、第１の層内の
無機粉末などの粒子によって光が散乱するので、第２の
層が第１の層から不確定な方向で入射する光により露光
されてしまい、結果的にマスク通りの正確なパターン形
成ができなくなる。それを防ぐためには、第１の層を焼
成し、透明なガラス状態にした後、第２の層を形成し露
光し再び焼成するといったように、２回焼成しなければ
ならない。しかし、本発明では第１の層が光吸収剤を含
有しているので、一度に焼成することができ、所望のパ
ターンを形成できる。
【００２７】本発明において、誘電体用積層体を得るた
めには、第１の層用に、上記で挙げた有機溶剤、バイン
ダー樹脂、光吸収剤、無機粉末、必要に応じて光重合性
単量体と光重合開始剤とを混合した液状またはペースト
状の誘電体用組成物（以下、第１の組成物と言う）を調
製する。第２の層用に、上記で挙げた有機溶剤、バイン
ダー樹脂、無機粉末、光重合性単量体と光重合開始剤と
を混合した液状またはペースト状の組成物（以下、第２
の組成物と言う）を調製する。さらに、第１の組成物及
び第２の組成物には、分散剤、粘着性付与剤、可塑剤、
表面張力調製剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤が任
意成分として含有されていてもよい。第１の組成物及び
第２の組成物において、無機粉末の割合は、全ての有機
成分（有機溶剤、バインダー樹脂、光重合性モノマー、
光重合開始剤など含む）１００重量部に対して、１００
〜１０００重量部であればよい。また、第１の組成物と
第２の組成物それぞれに含まれる無機粉末、バインダー
樹脂及びその他の添加物は、同じ材料であってもよい
し、異なるものであってもよい。同じ材料であっても、
それぞれの割合は別であってもよい。
めには、第１の層用に、上記で挙げた有機溶剤、バイン
ダー樹脂、光吸収剤、無機粉末、必要に応じて光重合性
単量体と光重合開始剤とを混合した液状またはペースト
状の誘電体用組成物（以下、第１の組成物と言う）を調
製する。第２の層用に、上記で挙げた有機溶剤、バイン
ダー樹脂、無機粉末、光重合性単量体と光重合開始剤と
を混合した液状またはペースト状の組成物（以下、第２
の組成物と言う）を調製する。さらに、第１の組成物及
び第２の組成物には、分散剤、粘着性付与剤、可塑剤、
表面張力調製剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤が任
意成分として含有されていてもよい。第１の組成物及び
第２の組成物において、無機粉末の割合は、全ての有機
成分（有機溶剤、バインダー樹脂、光重合性モノマー、
光重合開始剤など含む）１００重量部に対して、１００
〜１０００重量部であればよい。また、第１の組成物と
第２の組成物それぞれに含まれる無機粉末、バインダー
樹脂及びその他の添加物は、同じ材料であってもよい
し、異なるものであってもよい。同じ材料であっても、
それぞれの割合は別であってもよい。
【００２８】本発明に係る誘電体用積層体は例えば、次
の〜それぞれの方法で製造する。 第１の組成物をＰＤＰを構成するガラス基板に塗布
し、溶剤を除去し第１の層を形成し、その後、第２の組
成物を第１の層上に塗布し、溶剤を除去し、第２の層を
形成し、積層体を得る。 予め第１の組成物の溶剤を除去しフィルム化し、その
表面に第２の組成物を塗布し溶剤を除去しフィルムを形
成し、複層の積層体を得る。その後ＰＤＰを構成するガ
ラス基板に固着させる。 第１の組成物と第２の組成物それぞれを溶剤を除去し
フィルム化し、フィルム同士を積層しておく。その後Ｐ
ＤＰを構成するガラス基板に固着させる。または、フィ
ルム化したものを順にガラス基板に積層していく。 すなわち、本発明の誘電体用積層体は、ガラス基板上に
直接積層していき形成したものであってもよいし、ガラ
ス基板に設ける前に予め積層状態に形成したものでもよ
い。なお、焼成後の誘電体用積層体由来の第１の層の厚
さは５〜４０μｍ、第２の層の厚さは５〜５０μｍであ
ることが好ましい。
の〜それぞれの方法で製造する。 第１の組成物をＰＤＰを構成するガラス基板に塗布
し、溶剤を除去し第１の層を形成し、その後、第２の組
成物を第１の層上に塗布し、溶剤を除去し、第２の層を
形成し、積層体を得る。 予め第１の組成物の溶剤を除去しフィルム化し、その
表面に第２の組成物を塗布し溶剤を除去しフィルムを形
成し、複層の積層体を得る。その後ＰＤＰを構成するガ
ラス基板に固着させる。 第１の組成物と第２の組成物それぞれを溶剤を除去し
フィルム化し、フィルム同士を積層しておく。その後Ｐ
ＤＰを構成するガラス基板に固着させる。または、フィ
ルム化したものを順にガラス基板に積層していく。 すなわち、本発明の誘電体用積層体は、ガラス基板上に
直接積層していき形成したものであってもよいし、ガラ
ス基板に設ける前に予め積層状態に形成したものでもよ
い。なお、焼成後の誘電体用積層体由来の第１の層の厚
さは５〜４０μｍ、第２の層の厚さは５〜５０μｍであ
ることが好ましい。
【００２９】ガラス基板上に設ける前に、第１の層及び
第２の層をそれぞれ別にフィルム化する場合や、２層重
なった積層フィルム化する場合には、フィルム作製の容
易さや取扱い、あるいは保存時の利便性の都合上、支持
フィルム上に形成したり、保護フィルムで被うことが好
ましい。支持フィルムや保護フィルムとして使用可能な
樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエス
テル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、
ポリフルオロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、
セルロースなどを挙げることができる。また、離型性向
上のためＳｉ処理等の離型処理をしたものでもよい。支
持フィルムの厚さとしては、例えば１５〜１００μｍ、
保護フィルムとしては、例えば１５〜６０μｍである。
なお、前述のように第１の層において、光重合性単量体
や光重合開始剤を必要に応じて混合してもよいと記載し
たが、フィルム化した後に、ガラス基板上に設ける前後
に光重合することで硬化させると、接着力が低下し、支
持フィルムや保護フィルムを剥がしやすくなる。さら
に、第２の層と同じ光重合性単量体や光重合開始剤を含
むことで、焼成時の収縮率を均一化することができる。
第２の層をそれぞれ別にフィルム化する場合や、２層重
なった積層フィルム化する場合には、フィルム作製の容
易さや取扱い、あるいは保存時の利便性の都合上、支持
フィルム上に形成したり、保護フィルムで被うことが好
ましい。支持フィルムや保護フィルムとして使用可能な
樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエス
テル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、
ポリフルオロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、
セルロースなどを挙げることができる。また、離型性向
上のためＳｉ処理等の離型処理をしたものでもよい。支
持フィルムの厚さとしては、例えば１５〜１００μｍ、
保護フィルムとしては、例えば１５〜６０μｍである。
なお、前述のように第１の層において、光重合性単量体
や光重合開始剤を必要に応じて混合してもよいと記載し
たが、フィルム化した後に、ガラス基板上に設ける前後
に光重合することで硬化させると、接着力が低下し、支
持フィルムや保護フィルムを剥がしやすくなる。さら
に、第２の層と同じ光重合性単量体や光重合開始剤を含
むことで、焼成時の収縮率を均一化することができる。
【００３０】ガラス基板上に誘電体用積層体を設けた後
は、第２の層を所定形状のマスクを介して所定波長の光
で露光する。その後、未露光部分を溶剤等から成る現像
液で除去し、所定のパターンを形成する。その後、４５
０℃以上の温度で、第１の層及び第２の層を一括して焼
成することで、全ての有機成分が焼き飛び、無機成分が
ガラス化し、誘電体が形成される。この誘電体の表面に
は第２の層のパターン由来の凹凸が形成される。第２の
層のパターンを形成する光源の波長としては、３００ｎ
ｍ〜４５０ｎｍの波長の光を用いることができ、具体的
には、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線
（３６５ｎｍ）を好ましく用いることができる。
は、第２の層を所定形状のマスクを介して所定波長の光
で露光する。その後、未露光部分を溶剤等から成る現像
液で除去し、所定のパターンを形成する。その後、４５
０℃以上の温度で、第１の層及び第２の層を一括して焼
成することで、全ての有機成分が焼き飛び、無機成分が
ガラス化し、誘電体が形成される。この誘電体の表面に
は第２の層のパターン由来の凹凸が形成される。第２の
層のパターンを形成する光源の波長としては、３００ｎ
ｍ〜４５０ｎｍの波長の光を用いることができ、具体的
には、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線
（３６５ｎｍ）を好ましく用いることができる。
【００３１】そして、ＰＤＰの製造時には、凹凸を有す
る誘電体（凹凸誘電体）付きのガラス基板と、バリアリ
ブの内側に蛍光体などの形成された前記セル型の基板を
貼り合わせる。このとき誘電体の凸部分をバリアリブ
に、凹部分をセル上に合わせることで、各セルの蛍光体
と対向する誘電体側に隙間ができ、セル内に放電ガスを
導入することができる。なお、本発明は、セル型のＰＤ
Ｐに特に好適に用いることができるものであるが、スト
ライプ型のＰＤＰに用いてもよいことは勿論である。
る誘電体（凹凸誘電体）付きのガラス基板と、バリアリ
ブの内側に蛍光体などの形成された前記セル型の基板を
貼り合わせる。このとき誘電体の凸部分をバリアリブ
に、凹部分をセル上に合わせることで、各セルの蛍光体
と対向する誘電体側に隙間ができ、セル内に放電ガスを
導入することができる。なお、本発明は、セル型のＰＤ
Ｐに特に好適に用いることができるものであるが、スト
ライプ型のＰＤＰに用いてもよいことは勿論である。
【００３２】
【実施例】次に実施例に基づいて、本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定さ
れるものではない。
に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定さ
れるものではない。
【００３３】＜実施例１＞
１．第１の層用の誘電体用フィルム製造
（１）第１の層形成用の第１の組成物の調製
アクリル樹脂としてイソブチルメタクリレート／ヒドロ
キシエチルアクリレート（８０／２０、重量比）の共重
合体（Ｍｗ＝２００００）９９．５重量部、紫外線吸収
剤としてアゾ染料（商品名染料ＳＳ、ダイトーケミック
ス社製）０．５重量部、及び溶剤として３−メトキシ−
３−メチルブタノール１００重量部を混ぜ、混合機によ
り３時間混合することにより有機成分を調製した。得ら
れた有機成分（固形分５０％）２０重量部と、ガラスフ
リット（ＰｂＯ−ＳｉＯ2系）８０重量部とを混練りす
ることで、第１の組成物としてのガラスペースト組成物
を調製した。
キシエチルアクリレート（８０／２０、重量比）の共重
合体（Ｍｗ＝２００００）９９．５重量部、紫外線吸収
剤としてアゾ染料（商品名染料ＳＳ、ダイトーケミック
ス社製）０．５重量部、及び溶剤として３−メトキシ−
３−メチルブタノール１００重量部を混ぜ、混合機によ
り３時間混合することにより有機成分を調製した。得ら
れた有機成分（固形分５０％）２０重量部と、ガラスフ
リット（ＰｂＯ−ＳｉＯ2系）８０重量部とを混練りす
ることで、第１の組成物としてのガラスペースト組成物
を調製した。
【００３４】（２）フィルムの製造
（１）で得られたガラスペースト組成物を、ポリエチレ
ンテレフタレートからなる支持フィルム上にリップコー
ターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で６分間乾燥し、
前記溶剤を除去し、支持フィルム上に厚さ６０μｍのガ
ラスペースト膜を形成した。次に、得られたガラスペー
スト膜上に、保護膜として厚さ２５μｍのポリエチレン
フィルムを張り合わせ誘電体用フィルムを製造した。
ンテレフタレートからなる支持フィルム上にリップコー
ターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で６分間乾燥し、
前記溶剤を除去し、支持フィルム上に厚さ６０μｍのガ
ラスペースト膜を形成した。次に、得られたガラスペー
スト膜上に、保護膜として厚さ２５μｍのポリエチレン
フィルムを張り合わせ誘電体用フィルムを製造した。
【００３５】２．第２の層用の水現像型感光性フィルム
作製 （１）第２の層形成用の第２の組成物の調製 水溶性セルロース誘導体としてヒドロキシプロピルセル
ロース２２重量部、アクリル樹脂としてスチレン／ヒド
ロキシエチルメタクリレート（５５／４５、重量比）の
共重合体（Ｍｗ＝４００００）１４重量部、光重合性単
量体として前記２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒ
ドロキシプロピルフタレート６３重量部、光重合開始剤
として２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン０．９重量部、紫外線吸収剤として前記アゾ染料０．
１重量部、溶剤として３−メトキシ−３−メチルブタノ
ール１００重量部を混ぜ、混合機で３時間混合すること
により、有機成分を調製した。なお、有機成分内にアゾ
染料を添加したのは、第２の層内でのハレーションを防
ぎ、シャープなパターンを形成するためである。得られ
た有機成分（固形分５０％）２０重量部に対して、前記
ガラスフリット８０重量部を混練りすることで、第２の
組成物としての水現像型感光性ガラスペースト組成物を
調製した。
作製 （１）第２の層形成用の第２の組成物の調製 水溶性セルロース誘導体としてヒドロキシプロピルセル
ロース２２重量部、アクリル樹脂としてスチレン／ヒド
ロキシエチルメタクリレート（５５／４５、重量比）の
共重合体（Ｍｗ＝４００００）１４重量部、光重合性単
量体として前記２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒ
ドロキシプロピルフタレート６３重量部、光重合開始剤
として２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン０．９重量部、紫外線吸収剤として前記アゾ染料０．
１重量部、溶剤として３−メトキシ−３−メチルブタノ
ール１００重量部を混ぜ、混合機で３時間混合すること
により、有機成分を調製した。なお、有機成分内にアゾ
染料を添加したのは、第２の層内でのハレーションを防
ぎ、シャープなパターンを形成するためである。得られ
た有機成分（固形分５０％）２０重量部に対して、前記
ガラスフリット８０重量部を混練りすることで、第２の
組成物としての水現像型感光性ガラスペースト組成物を
調製した。
【００３６】（２）フィルムの作製
得られた水現像型感光性ガラスペースト組成物を、ポリ
エチレンテレフタレートからなる支持フィルム上にリッ
プコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で６分間乾
燥して溶剤を除去し、厚さ４０μｍの感光性ガラスペー
スト膜を支持フィルム上に形成した。次に、感光性ガラ
スペースト膜上に、保護膜として厚さ２５μｍのポリエ
チレンフィルムを張り合わせ水現像型感光性フィルムを
製造した。
エチレンテレフタレートからなる支持フィルム上にリッ
プコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で６分間乾
燥して溶剤を除去し、厚さ４０μｍの感光性ガラスペー
スト膜を支持フィルム上に形成した。次に、感光性ガラ
スペースト膜上に、保護膜として厚さ２５μｍのポリエ
チレンフィルムを張り合わせ水現像型感光性フィルムを
製造した。
【００３７】３．誘電体用積層体の製造
（１）誘電体用フィルムの積層
実施例１の１−（２）で得られた誘電体用フィルムのポ
リエチレンフィルムを剥がしながら、予め８０℃に加熱
しておいた、バス電極が形成されたガラス基板にホット
ロールラミネーターにより１０５℃でラミネート（積
層）した。このときのエア圧力は３ｋｇ／ｃｍ2、ラミ
ネート速度は１．０ｍ／ｍｉｎ．であった。次いで、支
持フィルムであるポリエチレンテレフタレートを剥離し
た。
リエチレンフィルムを剥がしながら、予め８０℃に加熱
しておいた、バス電極が形成されたガラス基板にホット
ロールラミネーターにより１０５℃でラミネート（積
層）した。このときのエア圧力は３ｋｇ／ｃｍ2、ラミ
ネート速度は１．０ｍ／ｍｉｎ．であった。次いで、支
持フィルムであるポリエチレンテレフタレートを剥離し
た。
【００３８】（２）水現像型感光性フィルムの積層
実施例１の２−（２）で得られた水現像型感光性フィル
ムのポリエチレンフィルムを剥がしながら、予め８０℃
で加熱しておいた実施例１の上記３−（１）で得られた
ガラス基板上の誘電体用フィルム層の表面に、ロールラ
ミネーターにより常温でラミネートした。このときのエ
ア圧力は３ｋｇ／ｃｍ2で、ラミネート速度は１．０ｍ
／ｍｉｎ．であった。以上により、ガラス基板上に、誘
電体用フィルム由来の第１の層と、水現像型感光性フィ
ルム由来の第２の層からなる本発明の誘電体用積層体が
形成された。この段階では、誘電体用積層体（水現像型
感光性フィルム）の表面は支持フィルムで覆われてい
る。
ムのポリエチレンフィルムを剥がしながら、予め８０℃
で加熱しておいた実施例１の上記３−（１）で得られた
ガラス基板上の誘電体用フィルム層の表面に、ロールラ
ミネーターにより常温でラミネートした。このときのエ
ア圧力は３ｋｇ／ｃｍ2で、ラミネート速度は１．０ｍ
／ｍｉｎ．であった。以上により、ガラス基板上に、誘
電体用フィルム由来の第１の層と、水現像型感光性フィ
ルム由来の第２の層からなる本発明の誘電体用積層体が
形成された。この段階では、誘電体用積層体（水現像型
感光性フィルム）の表面は支持フィルムで覆われてい
る。
【００３９】４．誘電体用積層体の評価及び誘電体の製
造 実施例１の３−（２）で得られたガラス基板上の誘電体
用積層体の水現像型感光性フィルムを、所定のパターン
が形成された試験用のパターンマスクを介して、超高圧
水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線で露
光した。続いて、支持フィルムであるポリエチレンテレ
フタレートを剥離した。続いて、液温３０℃の水を用い
て３ｋｇ／ｃｍ2の噴射圧力で、３０秒間ノズルから水
を吹き付け、スプレー現像を行い、水現像型感光性フィ
ルムの非露光部分を除去し、パターンを形成した。
造 実施例１の３−（２）で得られたガラス基板上の誘電体
用積層体の水現像型感光性フィルムを、所定のパターン
が形成された試験用のパターンマスクを介して、超高圧
水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線で露
光した。続いて、支持フィルムであるポリエチレンテレ
フタレートを剥離した。続いて、液温３０℃の水を用い
て３ｋｇ／ｃｍ2の噴射圧力で、３０秒間ノズルから水
を吹き付け、スプレー現像を行い、水現像型感光性フィ
ルムの非露光部分を除去し、パターンを形成した。
【００４０】得られたパターンについてパターン形状を
評価したところ、形成された線のうち最小の線幅は６０
μｍであった。次いで、昇温スピード１０℃／ｍｉｎ．
で加熱していき、その後５８０℃で３０分間保持し、焼
成処理を行った。その結果、良好な誘電体パターンが得
られた。
評価したところ、形成された線のうち最小の線幅は６０
μｍであった。次いで、昇温スピード１０℃／ｍｉｎ．
で加熱していき、その後５８０℃で３０分間保持し、焼
成処理を行った。その結果、良好な誘電体パターンが得
られた。
【００４１】＜実施例２＞
１．第１の層用の誘電体用フィルム製造
（１）第１の層形成用の第１の組成物の調製
セルロース誘導体としてヒドロキシプロピルセルロース
２５重量部、光重合性単量体として２−メタクリロイロ
キシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート（商品
名ＨＯ−ＭＰＰ、共栄社化学（株）製）３４重量部、光
重合開始剤として２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン（商品名ＩＲ−６５１、チバガイギー社
製）４０．５重量部、紫外線吸収剤としてアゾ染料（商
品名染料ＳＳ、ダイトーケミックス社製）０．５重量
部、及び溶剤として３−メトキシ−３−メチルブタノー
ル１００重量部を混ぜ、混合機により３時間混合するこ
とにより有機成分を調製した。得られた有機成分（固形
分約５０％）２０重量部と、ガラスフリット（例えばＰ
ｂＯ−ＳｉＯ2などの鉛系）８０重量部とを混練りする
ことで、第１の組成物としての感光性ガラスペースト組
成物を調製した。
２５重量部、光重合性単量体として２−メタクリロイロ
キシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート（商品
名ＨＯ−ＭＰＰ、共栄社化学（株）製）３４重量部、光
重合開始剤として２，２−ジメトキシ−２−フェニルア
セトフェノン（商品名ＩＲ−６５１、チバガイギー社
製）４０．５重量部、紫外線吸収剤としてアゾ染料（商
品名染料ＳＳ、ダイトーケミックス社製）０．５重量
部、及び溶剤として３−メトキシ−３−メチルブタノー
ル１００重量部を混ぜ、混合機により３時間混合するこ
とにより有機成分を調製した。得られた有機成分（固形
分約５０％）２０重量部と、ガラスフリット（例えばＰ
ｂＯ−ＳｉＯ2などの鉛系）８０重量部とを混練りする
ことで、第１の組成物としての感光性ガラスペースト組
成物を調製した。
【００４２】（２）フィルムの製造
（１）で得られた感光性ガラスペースト組成物を、ポリ
エチレンテレフタレートからなる支持フィルム上にリッ
プコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で６分間乾
燥し、前記溶剤を除去し、支持フィルム上に厚さ６０μ
ｍの感光性ガラスペースト膜を形成した。次に、得られ
た感光性ガラスペースト膜上に、保護膜として厚さ２５
μｍのポリエチレンフィルムを張り合わせ誘電体用フィ
ルムを製造した。
エチレンテレフタレートからなる支持フィルム上にリッ
プコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で６分間乾
燥し、前記溶剤を除去し、支持フィルム上に厚さ６０μ
ｍの感光性ガラスペースト膜を形成した。次に、得られ
た感光性ガラスペースト膜上に、保護膜として厚さ２５
μｍのポリエチレンフィルムを張り合わせ誘電体用フィ
ルムを製造した。
【００４３】２．第２の層用の水現像型感光性フィルム
作製 （１）第２の層形成用の第２の組成物の調製 水溶性セルロース誘導体としてヒドロキシプロピルセル
ロース２２重量部、アクリル樹脂としてスチレン／ヒド
ロキシエチルメタクリレート（５５／４５、重量比）の
共重合体（Ｍｗ＝４００００）１４重量部、光重合性単
量体として前記２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒ
ドロキシプロピルフタレート６３重量部、光重合開始剤
として前記２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン０．９重量部、紫外線吸収剤として前記アゾ染料
０．１重量部、溶剤として３−メトキシ−３−メチルブ
タノール１００重量部を混ぜ、混合機で３時間混合する
ことにより、有機成分を調製した。なお、有機成分内に
アゾ染料を添加したのは、第２の層内でのハレーション
を防ぎ、シャープなパターンを形成するためである。得
られた有機成分（固形分約５０％）２０重量部に対し
て、前記ガラスフリット８０重量部を混練りすること
で、第２の組成物としての水現像型感光性ガラスペース
ト組成物を調製した。
作製 （１）第２の層形成用の第２の組成物の調製 水溶性セルロース誘導体としてヒドロキシプロピルセル
ロース２２重量部、アクリル樹脂としてスチレン／ヒド
ロキシエチルメタクリレート（５５／４５、重量比）の
共重合体（Ｍｗ＝４００００）１４重量部、光重合性単
量体として前記２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒ
ドロキシプロピルフタレート６３重量部、光重合開始剤
として前記２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン０．９重量部、紫外線吸収剤として前記アゾ染料
０．１重量部、溶剤として３−メトキシ−３−メチルブ
タノール１００重量部を混ぜ、混合機で３時間混合する
ことにより、有機成分を調製した。なお、有機成分内に
アゾ染料を添加したのは、第２の層内でのハレーション
を防ぎ、シャープなパターンを形成するためである。得
られた有機成分（固形分約５０％）２０重量部に対し
て、前記ガラスフリット８０重量部を混練りすること
で、第２の組成物としての水現像型感光性ガラスペース
ト組成物を調製した。
【００４４】（２）フィルムの作製
得られた水現像型感光性ガラスペースト組成物を、ポリ
エチレンテレフタレートからなる支持フィルム上にリッ
プコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で６分間乾
燥して溶剤を除去し、厚さ４０μｍの感光性ガラスペー
スト膜を支持フィルム上に形成した。次に、感光性ガラ
スペースト膜上に、保護膜として厚さ２５μｍのポリエ
チレンフィルムを張り合わせ水現像型感光性フィルムを
製造した。
エチレンテレフタレートからなる支持フィルム上にリッ
プコーターを用いて塗布し、塗膜を１００℃で６分間乾
燥して溶剤を除去し、厚さ４０μｍの感光性ガラスペー
スト膜を支持フィルム上に形成した。次に、感光性ガラ
スペースト膜上に、保護膜として厚さ２５μｍのポリエ
チレンフィルムを張り合わせ水現像型感光性フィルムを
製造した。
【００４５】３．誘電体用積層体の製造
（１）誘電体用フィルムの積層
実施例２の１−（２）で得られた誘電体用フィルムのポ
リエチレンフィルムを剥がしながら、予め８０℃に加熱
しておいた、バス電極が形成されたガラス基板にホット
ロールラミネーターにより１０５℃でラミネート（積
層）した。このときのエア圧力は３ｋｇ／ｃｍ2、ラミ
ネート速度は１．０ｍ／ｍｉｎ．であった。ガラス基板
上の誘電体用フィルム層を超高圧水銀灯により１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2の照射量で紫外線で露光した。これにより
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンを開
始剤として２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロ
キシプロピルフタレートを重合した。重合により硬化す
ることで接着性が低下し、支持フィルムを剥がしやすく
なる。次いで、支持フィルムであるポリエチレンテレフ
タレートを剥離した。
リエチレンフィルムを剥がしながら、予め８０℃に加熱
しておいた、バス電極が形成されたガラス基板にホット
ロールラミネーターにより１０５℃でラミネート（積
層）した。このときのエア圧力は３ｋｇ／ｃｍ2、ラミ
ネート速度は１．０ｍ／ｍｉｎ．であった。ガラス基板
上の誘電体用フィルム層を超高圧水銀灯により１００ｍ
Ｊ／ｃｍ2の照射量で紫外線で露光した。これにより
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンを開
始剤として２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロ
キシプロピルフタレートを重合した。重合により硬化す
ることで接着性が低下し、支持フィルムを剥がしやすく
なる。次いで、支持フィルムであるポリエチレンテレフ
タレートを剥離した。
【００４６】（２）水現像型感光性フィルムの積層
実施例２の２−（２）で得られた水現像型感光性フィル
ムのポリエチレンフィルムを剥がしながら、予め８０℃
で加熱しておいた実施例２の上記３−（１）で得られた
ガラス基板上の誘電体用フィルム層の表面に、ロールラ
ミネーターにより常温でラミネートした。このときのエ
ア圧力は３ｋｇ／ｃｍ2で、ラミネート速度は１．０ｍ
／ｍｉｎ．であった。以上により、ガラス基板上に、誘
電体用フィルム由来の第１の層と、水現像型感光性フィ
ルム由来の第２の層からなる本発明の誘電体用積層体が
形成された。この段階では、誘電体用積層体（水現像型
感光性フィルム）の表面は支持フィルムで覆われてい
る。
ムのポリエチレンフィルムを剥がしながら、予め８０℃
で加熱しておいた実施例２の上記３−（１）で得られた
ガラス基板上の誘電体用フィルム層の表面に、ロールラ
ミネーターにより常温でラミネートした。このときのエ
ア圧力は３ｋｇ／ｃｍ2で、ラミネート速度は１．０ｍ
／ｍｉｎ．であった。以上により、ガラス基板上に、誘
電体用フィルム由来の第１の層と、水現像型感光性フィ
ルム由来の第２の層からなる本発明の誘電体用積層体が
形成された。この段階では、誘電体用積層体（水現像型
感光性フィルム）の表面は支持フィルムで覆われてい
る。
【００４７】４．誘電体用積層体の評価及び誘電体の製
造 実施例２の３−（２）で得られたガラス基板上の誘電体
用積層体の水現像型感光性フィルムを、所定のパターン
が形成された試験用のパターンマスクを介して、超高圧
水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線で露
光した。続いて、支持フィルムであるポリエチレンテレ
フタレートを剥離した。続いて、液温３０℃の水を用い
て３ｋｇ／ｃｍ2の噴射圧力で、３０秒間ノズルから水
を吹き付け、スプレー現像を行い、水現像型感光性フィ
ルムの非露光部分を除去し、パターンを形成した。
造 実施例２の３−（２）で得られたガラス基板上の誘電体
用積層体の水現像型感光性フィルムを、所定のパターン
が形成された試験用のパターンマスクを介して、超高圧
水銀灯により３００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線で露
光した。続いて、支持フィルムであるポリエチレンテレ
フタレートを剥離した。続いて、液温３０℃の水を用い
て３ｋｇ／ｃｍ2の噴射圧力で、３０秒間ノズルから水
を吹き付け、スプレー現像を行い、水現像型感光性フィ
ルムの非露光部分を除去し、パターンを形成した。
【００４８】得られたパターンについてパターン形状を
評価したところ、形成された線のうち最小の線幅は６０
μｍであった。ＰＤＰでは、現状として数百μｍ程度の
精度でもよいことから、十分良好なパターンが得られた
と言える。次いで、パターン形成後、昇温スピード１０
℃／ｍｉｎ．で加熱していき、その後５８０℃で３０分
間保持し、焼成処理を行った。その結果、良好な誘電体
パターンが得られた。
評価したところ、形成された線のうち最小の線幅は６０
μｍであった。ＰＤＰでは、現状として数百μｍ程度の
精度でもよいことから、十分良好なパターンが得られた
と言える。次いで、パターン形成後、昇温スピード１０
℃／ｍｉｎ．で加熱していき、その後５８０℃で３０分
間保持し、焼成処理を行った。その結果、良好な誘電体
パターンが得られた。
【００４９】＜比較例＞
１．誘電体用フィルムの製造
紫外線吸収剤であるアゾ染料を混合せず、代わりに２，
２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンを４１重
量部混合した以外は、実施例の１−（１）と同様に感光
性ガラスペースト組成物を調製した。次いで、この感光
性ガラスペースト組成物を用い、前記１−（２）と同様
に３層構造の誘電体用フィルムを製造した。２．水現像
型感光性フィルムの製造 実施例の２−（１）、（２）と全く同様にして３層構造
の水現像型感光性フィルムを製造した。
２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンを４１重
量部混合した以外は、実施例の１−（１）と同様に感光
性ガラスペースト組成物を調製した。次いで、この感光
性ガラスペースト組成物を用い、前記１−（２）と同様
に３層構造の誘電体用フィルムを製造した。２．水現像
型感光性フィルムの製造 実施例の２−（１）、（２）と全く同様にして３層構造
の水現像型感光性フィルムを製造した。
【００５０】３．誘電体用積層体の製造
実施例の３−（１）、（２）と全く同様にしてガラス基
板上に誘電体用積層体を形成した。 ４．誘電体用積層体の評価及び誘電体の製造 比較例の３で得られたガラス基板上の誘電体用積層体の
水現像型感光性フィルムを、所定のパターンが形成され
た試験用のパターンマスクを介して、超高圧水銀灯によ
り１００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線で露光した。続
いて、支持フィルムであるポリエチレンテレフタレート
を剥離した。続いて、液温３０℃の水を用いて３ｋｇ／
ｃｍ2の噴射圧力で、３０秒間ノズルから水を吹き付
け、スプレー現像を行い、水現像型感光性フィルムの非
露光部分を除去し、パターンを形成した。
板上に誘電体用積層体を形成した。 ４．誘電体用積層体の評価及び誘電体の製造 比較例の３で得られたガラス基板上の誘電体用積層体の
水現像型感光性フィルムを、所定のパターンが形成され
た試験用のパターンマスクを介して、超高圧水銀灯によ
り１００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線で露光した。続
いて、支持フィルムであるポリエチレンテレフタレート
を剥離した。続いて、液温３０℃の水を用いて３ｋｇ／
ｃｍ2の噴射圧力で、３０秒間ノズルから水を吹き付
け、スプレー現像を行い、水現像型感光性フィルムの非
露光部分を除去し、パターンを形成した。
【００５１】得られたパターンについてパターン形状を
評価したところ、パターンのエッジ部にガタツキが見ら
れた。これは、誘電体用フィルムに紫外線吸収剤である
アゾ染料が入っていないために、水現像型感光性フィル
ムをマスクを介して露光するときに、第１の層である誘
電体用フィルム内に紫外線が入り内部のガラス粉末など
で紫外線が散乱し、マスクの形状通りに高い精度で露光
することができなかったためと考えられる。
評価したところ、パターンのエッジ部にガタツキが見ら
れた。これは、誘電体用フィルムに紫外線吸収剤である
アゾ染料が入っていないために、水現像型感光性フィル
ムをマスクを介して露光するときに、第１の層である誘
電体用フィルム内に紫外線が入り内部のガラス粉末など
で紫外線が散乱し、マスクの形状通りに高い精度で露光
することができなかったためと考えられる。
【００５２】次いで、パターン形成後、昇温スピード１
０℃／ｍｉｎ．で加熱していき、その後５８０℃で３０
分間保持し、焼成処理を行った。当然のことながら、焼
成パターンにガタツキが見られた。
０℃／ｍｉｎ．で加熱していき、その後５８０℃で３０
分間保持し、焼成処理を行った。当然のことながら、焼
成パターンにガタツキが見られた。
【００５３】
【発明の効果】本発明によれば、無機粉末とバインダー
樹脂とを含む第１の層と第２の層とから少なくとも構成
され、第２の層が光重合性単量体及び光重合開始剤を有
する誘電体用積層体を形成し、第１の層を形成するため
の誘電体用組成物は、さらに、前記所定波長の光を吸収
する光吸収剤を含有する。従って、第１の層と第２の層
を重ねて誘電体用積層体を成した状態で、第２の層をマ
スクなどを介して前記所定波長で感光しパターンを形成
する場合に、第２の層を経て第１の層に至った光は光吸
収剤に吸収される。これにより、第１の層に至った光が
第１の層内の無機粉末などにより散乱した後第２の層に
ランダムな方向から再び入射することを防ぎ、マスクの
形状に従った所望のパターンを形成することができる。
そして、第２の層に所望の形状でパターン形成し、その
後第１の層と第２の層から焼成により有機分を全て除去
し誘電体を得ると、その表面には第２の層のパターン由
来の凹凸が形成される。ＰＤＰを製造する際には、例え
ば、第２の層由来の誘電体を各セルを被うように組付
け、そのとき凹凸の凸部がバリアリブに、凹部が各セル
にそれぞれ対応するように合わせることで、各セルに放
電ガスを導入する経路を確保することができる。このよ
うにＰＤＰ内に放電ガスを導入する経路を形成でき、し
かも、第１の層と第２の層とを一括で焼成し誘電体を形
成することで、簡単にガス導入路を形成でき、プラズマ
ディスプレイパネルの製造工程の作業効率を上げること
ができる。
樹脂とを含む第１の層と第２の層とから少なくとも構成
され、第２の層が光重合性単量体及び光重合開始剤を有
する誘電体用積層体を形成し、第１の層を形成するため
の誘電体用組成物は、さらに、前記所定波長の光を吸収
する光吸収剤を含有する。従って、第１の層と第２の層
を重ねて誘電体用積層体を成した状態で、第２の層をマ
スクなどを介して前記所定波長で感光しパターンを形成
する場合に、第２の層を経て第１の層に至った光は光吸
収剤に吸収される。これにより、第１の層に至った光が
第１の層内の無機粉末などにより散乱した後第２の層に
ランダムな方向から再び入射することを防ぎ、マスクの
形状に従った所望のパターンを形成することができる。
そして、第２の層に所望の形状でパターン形成し、その
後第１の層と第２の層から焼成により有機分を全て除去
し誘電体を得ると、その表面には第２の層のパターン由
来の凹凸が形成される。ＰＤＰを製造する際には、例え
ば、第２の層由来の誘電体を各セルを被うように組付
け、そのとき凹凸の凸部がバリアリブに、凹部が各セル
にそれぞれ対応するように合わせることで、各セルに放
電ガスを導入する経路を確保することができる。このよ
うにＰＤＰ内に放電ガスを導入する経路を形成でき、し
かも、第１の層と第２の層とを一括で焼成し誘電体を形
成することで、簡単にガス導入路を形成でき、プラズマ
ディスプレイパネルの製造工程の作業効率を上げること
ができる。
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フロントページの続き
(72)発明者 帯谷 洋之
神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東
京応化工業株式会社内
Ｆターム(参考） 5C027 AA09
5C040 GF13 GF18 GF19 JA09 JA15
KA16 KB06 KB19 MA22 MA26
Claims (4)
- 【請求項１】２層を積層してなるプラズマディスプレイ
パネルの誘電体用組成物において、 第１の層は、無機粉末、バインダー樹脂及び所定波長の
光を吸収する光吸収剤を含み、 第２の層は、無機粉末、バインダー樹脂、光重合性単量
体及び光重合開始剤を含むことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルの誘電体用組成物。 - 【請求項２】第１の層において、光吸収剤が、無機粉
末、バインダー樹脂及び光吸収剤の合計１００重量部に
対して、０．０１重量部〜３０重量部であることを特徴
とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの
誘電体用組成物。 - 【請求項３】２層を積層してなるプラズマディスプレイ
パネルの誘電体用積層体において、 第１の層は、無機粉末、バインダー樹脂及び所定波長の
光を吸収する光吸収剤を含み、 第２の層は、無機粉末、バインダー樹脂、光重合性単量
体及び光重合開始剤を含むことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルの誘電体用積層体。 - 【請求項４】２層を積層してなるプラズマディスプレイ
パネルの誘電体の形成方法において、 ガラス基板上に、無機粉末、バインダー樹脂及び所定波
長の光を吸収する光吸収剤を含む第１の層を設け、 この上に無機粉末、バインダー樹脂、光重合性単量体及
び光重合開始剤を含む第２の層を設け、 次いで、第２の層に選択的に前記所定波長の光を照射後
現像して所定形状のパターンを形成し、 第１の層と第２の層とを一括して焼成することを特徴と
するプラズマディスプレイパネルの誘電体の形成方法。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001397202A JP4043782B2 (ja) | 2001-12-27 | 2001-12-27 | プラズマディスプレイパネルの誘電体用組成物、誘電体用積層体、及び誘電体の形成方法 |
| CNB02826021XA CN100397541C (zh) | 2001-12-27 | 2002-12-26 | 等离子显示器面板的电介体用组合物以及电介体的形成方法 |
| US10/497,716 US20050062421A1 (en) | 2001-12-27 | 2002-12-26 | Composition for dielectric material for use in plasma display panel, laminate for dielectric material, method for forming dielectric material |
| EP02793407A EP1460670A4 (en) | 2001-12-27 | 2002-12-26 | COMPOSITION FOR FORMING DIELECTRIC MATERIAL FOR USE IN A PLASMA SCREEN, LAMINATE FOR A DIELECTRIC MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING DIELECTRIC MATERIAL |
| PCT/JP2002/013610 WO2003056600A1 (en) | 2001-12-27 | 2002-12-26 | Composition for dielectric material for use in plasma display panel, laminate for dielectric material, method for forming dielectric material |
| KR1020047010019A KR100831842B1 (ko) | 2001-12-27 | 2002-12-26 | 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체용 조성물, 유전체용적층체 및 유전체의 형성 방법 |
| TW091137724A TW200301911A (en) | 2001-12-27 | 2002-12-27 | Composition for dielectric material for use in plasma display panel, laminate for dielectric material, method for forming dielectric material |
| US11/774,510 US20080012497A1 (en) | 2001-12-27 | 2007-07-06 | Composition for dielectric of plasma display panel, laminate for dielectric, and method for forming the dielectric |
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|---|---|---|---|
| JP2001397202A JP4043782B2 (ja) | 2001-12-27 | 2001-12-27 | プラズマディスプレイパネルの誘電体用組成物、誘電体用積層体、及び誘電体の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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