JP2003186038A - 液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板 - Google Patents

液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 側面視認性に優れた多重ドメイン液晶表示装
置を実現する。 【解決手段】 第1絶縁基板上に横方向のゲート線2
0、半導体層50及び縦方向のデータ線70が形成され
ている。半導体層50上にはソース電極71とドレーン
電極72とが形成されている。データ線70上の保護膜
上にはドレーン電極72と連結されていて複数のスリッ
ト99と横切除部95を有する画素電極90が形成され
ている。これと対向する第2絶縁基板上には複数の切除
部510、520、530を有する共通電極が形成され
ている。画素電極90の横切除部95と共通電極の切除
部510、520、530は画素領域を左右ドメインと
上下ドメインに分割しており、スリット99は左右ドメ
イン部分に位置する。この構成により左右ドメイン内の
電界を上下ドメイン内の電界に比べて弱く維持し、左右
側面からの視認性を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置及びそ
れに用いられる基板に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は一般に共通電極とカラー
フィルターなどが形成されている上部基板と薄膜トラン
ジスタ及び画素電極などが形成されている下部基板との
間に液晶物質を注入しておいて画素電極と共通電極に互
いに異なる電位を印加することによって電界を形成して
液晶分子の配列を変更させ、これによって光の透過率を
調節することによって画像を表現する装置である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、液晶表示装
置は視野角が狭いのが重要な短所である。このような短
所を克服しようと視野角を広くするための様々な方案が
開発されているが、その中でも液晶分子を上下基板に対
して垂直に配向し、画素電極とその対向電極である共通
電極に一定の切除パターンを形成したり突起を形成して
画素を多くのドメインに分割する多重ドメイン化の方法
が有力視されている。
【0004】切除パターンを形成する方法としては、画
素電極と共通電極とに各々切除パターンを形成し、これ
ら切除パターンによって形成されるフリンジフィールド
(パターン輪郭部電界)を利用して液晶分子が傾く方向
を調節することによって視野角を広くする方法がある。
【0005】突起を形成する方法は、上下基板上に形成
されている画素電極と共通電極上に各々突起を形成し、
この突起によって歪曲される電界を利用して液晶分子の
傾く方向を調節する方法である。
【0006】他の方法としては、下部基板上に形成され
ている画素電極には切除パターンを形成し上部基板に形
成されている共通電極上には突起を形成して切除パター
ンと突起によって形成されるフリンジフィールドを利用
して液晶の傾く方向を調節することによってドメインを
形成する方法がある。
【0007】このような多重ドメイン液晶表示装置は
1:10のコントラスト比を基準とするコントラスト比
基準視野角や階調間の輝度反転の限界角度で定義される
階調反転基準視野角は全方向80゜以上で非常に優れて
いる。しかし、正面のガンマ曲線と側面のガンマ曲線と
が一致しない側面ガンマ曲線歪曲現象が発生してTNモ
ード液晶表示装置に比べても左右側面で劣等な視認性を
示す。例えば、ドメイン分割手段として切除部を形成す
るPVA(patterned vertically aligned)モードの場
合には、側面に向かうほど全体的に画面が明るく表示さ
れ、色は白い側に移動する傾向があり、激しい場合に
は、明るい階調の間の間隔差がなくなって絵が崩れるよ
うに表示される場合も発生する。しかし、液晶表示装置
がマルチメディア用として用いられ、絵や動画像を見る
ことが増加しているので、視認性がますます重要視され
ている。
【0008】本発明が目的とする技術的課題は、側面視
認性に優れた多重ドメイン液晶表示装置を実現すること
である。
【0009】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために本発明では、液晶が左右に傾く左右ドメイン内
の電界を上下に傾く上下ドメイン内の電界に比べて弱く
維持する。
【0010】具体的には、一つの画素領域が複数の小ド
メインに分割されていて、各小ドメインはその内部に含
まれている液晶分子が駆動電界印加時に傾く平均方向に
よって第1方向ドメインとこれに交叉する方向を有する
第2方向ドメインに分類される液晶表示装置において、
前記第1方向ドメイン内部の駆動電界は前記第2方向ド
メイン内部の駆動電界に比べて弱い液晶表示装置を用意
する。
【0011】通常のテレビとして用いるためには、前記
第1方向は液晶表示装置を正面で見る時左右方向であ
り、前記第2方向は上下方向であり、前記第1方向ドメ
イン内部の駆動電界が前記第2方向ドメイン内部の駆動
電界に比べて弱い程度は液晶表示装置のセルギャップを
dとする時、0.02/d(V/um)から0.5/d
(V/um)の間であるのが好ましい。
【0012】より具体的には、第1絶縁基板と、前記第
1絶縁基板上に第1方向に形成されている第1信号線
と、前記第1絶縁基板上に第2方向に形成されていて前
記第1信号線と絶縁されて交差している第2信号線と、
前記第1信号線及び前記第2信号線に連結されている第
1薄膜トランジスタと、前記第1薄膜トランジスタが連
結されている前記第1信号線及び前記第2信号線に連結
されている第2薄膜トランジスタと、前記第1薄膜トラ
ンジスタに連結されている第1画素電極と、前記第2薄
膜トランジスタに連結されている第2画素電極と、前記
第1絶縁基板と対向する第2絶縁基板と、前記第2絶縁
基板上に形成されている共通電極と、前記第1基板と前
記第2基板の間に注入されている液晶物質層と、前記第
1絶縁基板と前記第2絶縁基板のうちの少なくともいず
れか一つの基板上に形成されていて、前記第1画素電極
と前記第2画素電極を複数の小ドメインに分割するドメ
イン分割手段、とを含み、前記ドメイン分割手段は前記
第1画素電極と前記第2画素電極とを各々第1方向ドメ
インと第2方向ドメインとに分割し、前記第1画素電極
と前記第2画素電極とは互いに容量性結合をなす液晶表
示装置を備える。
【0013】この時、nとmとを整数とする時、m列の
n行画素の第1及び第2薄膜トランジスタはm番目デー
タ線に連結されており、m列のn+1行画素の第1及び
第2薄膜トランジスタはm+1番目データ線に連結され
ることができる。また、前記第2画素電極が全体画素領
域で30%乃至70%を占める。前記液晶物質層に含ま
れている液晶分子は駆動電界が印加されない状態で前記
第1及び第2絶縁基板に対して垂直に配向されている。
【0014】一方、前記薄膜トランジスタ基板に形成さ
れていて、前記第1画素電極及び前記第2画素電極との
間で各々保持容量を形成する保持容量線をさらに含み、
前記第2画素電極と前記共通電極との間に形成される液
晶容量をClcb、前記第2画素電極と前記保持容量線
との間で形成される保持容量をCstb、第1画素電極
と第2画素電極との間で形成される結合容量をCppと
する時、 T=(Clcb+Cstb−Cpp)/(Clcb+C
stb+Cpp) で定義されるTが0.65から0.95の間の値を有す
るのが好ましい。
【0015】他の構成としては、第1絶縁基板と、前記
第1絶縁基板上に第1方向に形成されている第1信号線
と、前記第1絶縁基板上に第2方向に形成されていて、
前記第1信号線と絶縁されて交差している第2信号線
と、前記第1信号線及び前記第2信号線に連結されてい
る薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに連結さ
れていて複数のスリットを有する画素電極と、前記第1
絶縁基板と対向する第2絶縁基板と、前記第2絶縁基板
上に形成されている共通電極と、前記第1基板と前記第
2基板との間に注入されている液晶物質層と、前記第1
絶縁基板と前記第2絶縁基板のうちの少なくともいずれ
か一つの基板上に形成されていて、前記画素電極を複数
の小ドメインに分割するドメイン分割手段とを含み、前
記ドメイン分割手段は前記画素電極を各々第1方向ドメ
インと第2方向ドメインとに分割しており、前記第1方
向ドメインは前記スリットが位置する部分に配置されて
いる液晶表示装置がある。
【0016】この時、前記画素電極が有する前記スリッ
トの幅は2〜5μmの間であり、隣接する二つの前記ス
リットの間の距離は2〜10μmの間であるのが好まし
い。
【0017】他の構成としては、第1絶縁基板と、前記
第1絶縁基板上に第1方向に形成されている第1信号線
と、前記第1絶縁基板上に第2方向に形成されていて前
記第1信号線と絶縁されて交差している第2信号線と、
前記第1信号線及び前記第2信号線に連結されている薄
膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタに連結されて
いる画素電極と、前記第1絶縁基板と対向する第2絶縁
基板と、前記第2絶縁基板上に形成されている共通電極
と、前記画素電極と前記共通電極のうちの少なくともい
ずれか一つの上に形成されている誘電体層と、前記第1
基板と前記第2基板との間に注入されている液晶物質層
と、前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板のうちの少な
くともいずれか一つの基板上に形成されていて前記画素
電極を複数の小ドメインに分割するドメイン分割手段と
を含み、前記ドメイン分割手段は前記画素電極を各々第
1方向ドメインと第2方向ドメインに分割しており、前
記誘電体層は前記液晶物質よりも小さい誘電率を有する
と共に前記第1方向ドメインが位置する部分に形成され
ている液晶表示装置がある。また、前記誘電体の誘電率
を前記液晶より大きくして、前記第1方向ではなく、前
期第2方向のドメイン上に形成してもよい。また、高誘
電率物質の替わりに導電物質を用いてもよい。
【0018】この時、前記誘電体層の厚さは500Åか
ら1.5μmの間が好ましく、前記ドメイン分割手段は
前記画素電極と前記共通電極とが各々有する切除部であ
りうる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、図面を参考として本発明の
実施例による液晶表示装置について説明する。
【0020】図1は、本発明の第1実施例による液晶表
示装置の配置図であり、図2は図1のII-II'線による断
面図である。
【0021】ガラスなどの透明な絶縁基板10上に横方
向にのびているゲート線20が形成されており、ゲート
線と平行して保持容量線30が形成されている。ゲート
線20にはゲート電極が枝21の形態で形成されてお
り、保持容量線30には第1乃至第4維持電極31、3
2、33、34と維持電極連結部35、36が連結され
ている。第1維持電極31は保持容量線30に直接連結
されて縦方向に形成されており、第2維持電極32と第
3維持電極33は各々第1維持電極31に連結されて横
方向にのびている。第4維持電極34は第2及び第3維
持電極32、33に連結されて縦方向にのびている。維
持電極連結部35、36は第4維持電極34と隣接する
画素の第1維持電極31を連結している。ゲート配線2
0、21と保持容量配線30、31、32、33、3
4、35、36上にはゲート絶縁膜40が形成されてお
り、ゲート電極21上部のゲート絶縁膜40上には非晶
質シリコンからなる半導体層50が形成されている。半
導体層50上にはリン(P)などのN形不純物が高濃度
でドーピングされている非晶質シリコンからなる接触層
61、62が形成されている。両側接触層61、62上
には各々ソース電極71とドレーン電極72が形成され
ており、ソース電極71はゲート絶縁膜40上に縦方向
にのびているデータ線70に連結されている。データ配
線70、71、72上にはドレーン電極72を露出させ
る接触孔81を有する保護膜80が形成されており、保
護膜80上には接触孔81を通じてドレーン電極72と
連結されている画素電極90が形成されている。画素電
極90はITO(indium tin oxide)またはIZO(in
dium zinc oxide)などの透明な導電物質からなる。
【0022】この時、画素電極90は第1乃至第3小部
分91、92、93に分離されており、これら小部分は
連結部94、95、96を通じて互いに連結されてされ
ている。第1小部分91は二つのゲート線20と二つの
データ線70の交差によって定義される画素領域の下半
面に四つの角部が切れた(以下、“面取り”という)長
方形模様で形成されており、接触孔81を通じてドレー
ン電極72と直接連結されている。第2及び第3小部分
92、93は画素領域の上半面ににはやり四つの角部が
切れた長方形模様で形成されている。第2小部分92は
第1小部分91と第1及び第2連結部94、96を通じ
て連結されており、第3小部分93は第2小部分92と
第3連結部95を通じて連結されている。
【0023】この時、第1小部分91には複数のスリッ
ト99が形成されている。これらスリット99によって
有効電極面積率が減少し、電束が拡散するので、第1小
部分91と共通電極400との間に形成される電界は第
2小部分92や第3小部分93と共通電極400の間に
形成される電界に比べて弱い。
【0024】一方、第1小部分91と第2小部分92と
の間には第2維持電極32が位置し、第2小部分92と
第3小部分93との間には第3維持電極33が位置し、
第1維持電極31と第4維持電極34とは画素電極90
とデータ線70との間に位置する。第1小部分91はデ
ータ線と平行した辺がゲート線と平行した辺に比べて長
く、第2小部分と第3小部分はデータ線と平行した辺が
ゲート線と平行した辺に比べて短い。この時、第2及び
第3小部分92、93は第1及び第4維持電極31、3
4と重なるが、第1小部分91は第1及び第4維持電極
31、34と重ならない。また、保持容量線30はゲー
ト線20と第3小部分93との間に位置する。この時、
保持容量線30、維持電極31、32、33、34及び
維持電極連結部35、36には後述する色フィルター基
板の共通電極に印加される電位が印加されることが普通
である。
【0025】以上のように、データ線と画素電極との間
及びゲート線と画素電極との間に共通電位が印加される
保持容量線や維持電極を配置すれば、データ線電位また
はゲート線電位が画素領域の電界に与える影響を保持容
量線または維持電極により遮断して安定したドメインを
形成することができる。
【0026】次に、本発明の第1実施例による液晶表示
装置の色フィルター基板について説明する。
【0027】ガラスなどからなる透明な基板100上に
クロム/酸化クロム二重層からなるブラックマトリック
ス200が形成されていて画素領域を定義している。各
画素領域には色フィルター300が形成されており、色
フィルター300上には透明な導電体からなる共通電極
400が基板100全面に形成されている。共通電極4
00には切除パターン510、520、530が形成さ
れている。この時、切除パターン510、520、53
0は第1乃至第3切除部510、520、530からな
っている。第1切除部510は画素領域の下半部を左右
に2分しており、第2切除部520と第3切除部530
は画素領域の上半部を上下に3分している。各切除部5
10、520、530の両端部はしだいに拡張されて二
等辺三角形模様をなしており、これら各切除部510、
520、530は互いに分離されている。
【0028】前記でブラックマトリックスは有機物質で
形成することもでき、色フィルターは薄膜トランジスタ
基板に形成することもできる。
【0029】以下、本発明の第1実施例による液晶表示
装置について図1を参照しながら説明する。
【0030】薄膜トランジスタ基板と色フィルター基板
を整列して結合し、2枚の基板の間に液晶物質900を
注入して、それに含まれている液晶分子の方向子(普通
は長軸方向)を垂直に配向し、二つの偏光板11、10
1を2枚の基板10、100の外部にその偏光軸が互い
に直交するように配置すれば、第1実施例による液晶表
示装置が備えられる。
【0031】2枚の基板10、100が整列された状態
では薄膜トランジスタ基板の画素電極90の各小部分9
1、92、93と色フィルター基板の共通電極400に
形成されている第1乃至第3切除部510、520、5
30が重畳して画素領域を複数の小ドメインに分割す
る。ここで、第1小部分91と第1切除部510によっ
て分割される小ドメインを上左右ドメイン(縦方向に長
く形成される)、第2及び第3小部分92、93と第2
及び第3切除部520、530によって分割される小ド
メインを上下ドメイン(横方向に長く形成される)と区
分する。これは電界印加時に液晶が傾く方向によって区
分したものである。このように区分することにより、左
右ドメインでは液晶分子の方向子が左右方向に傾き、上
下ドメインでは液晶分子の方向子が上下方向に傾くの
で、VAモードの上下左右全ての方向で一定水準の視野
角を得ることができる。この時、画素電極90の各小部
分91、92、93は二つの長辺と二つの短辺からな
り、各小部分の長辺はデータ線70またはゲート線20
と平行しており、偏光板の偏光軸とは45゜をなす(図
2参照)。ここで、データ線70やゲート線20と隣接
して画素電極90の各小部分91、92、93の長辺が
位置している場合にはデータ線70と長辺との間及びゲ
ート線20と長辺との間に保持容量線30や維持電極3
1、32、33、34が配置される。一方、画素電極の
各小部分91、92、93の短辺周囲には保持容量配線
30、31、32、33、34が配置されなかったり、
配置されている場合には画素電極90によって完全に覆
われたりまたは画素電極90から3μm以上遠く離れて
いるのが好ましい。このように保持容量配線30、3
1、32、33、34を配置する理由はデータ線70ま
たはゲート線20が画素電極小部分91、92、93の
長辺と隣接する部分ではデータ線70またはゲート線2
0の電位がドメイン形成を妨害する方向に作用し、反対
に短辺と隣接する部分ではデータ線70またはゲート線
20の電位がドメイン形成を助ける方向に作用するため
である。
【0032】一方、画素電極の第1小部分91に形成さ
れているスリット99によって左右ドメイン内に形成さ
れる電界は上下ドメイン内に形成される電界に比べて弱
い。これによって液晶表示装置の左右側面視認性が向上
する。この時、液晶表示装置のセルギャップをdとすれ
ば、左右ドメイン内に形成される電界が上下ドメイン内
に形成される電界に比べて弱い程度は0.02/d(V/
um)から0.5/d(V/um)の間の値になるのが適
当である。つまり、共通電極と画素電極との間の電圧差
は左右ドメインをなす部分が上下ドメインをなす部分に
比べて0.1Vから1V程度弱いのが適当である。この
ためにスリット99の幅は2〜5μmの間になるのが好
ましく、隣接する二つのスリット99の間の距離は2〜
10μmの間になるのが好ましい。
【0033】以下、左右ドメイン内に形成される電界が
上下ドメイン内に形成される電界に比べて弱い時、視野
角が改善される理由を見てみる。
【0034】図3は、テスト用セルの正面と側面60゜
でのガンマ曲線を示すグラフである。
【0035】図3は階調レベルと輝度の関係を示し、正
面で液晶表示装置を見る時のガンマ曲線に比べて、側面
(60゜)で見る時のガンマ曲線がさらに高いことが分
かる。特に、低い階調では正面ガンマ曲線と側面ガンマ
曲線との間の幅が非常に大きくて、同一な階調を正面で
見るか、そうでなければ側面から見るかによって2倍乃
至10倍以上の輝度差が発生する。ところが、赤、緑、
青画素の階調が互いに独立的に変動されるので側面から
のガンマ曲線の歪曲程度も赤、緑、青画素が互いに異な
る。したがって、側面から見る時は正面から見る時とは
全く異なる色に感じるようになる。例えば、図5に示し
たように、赤、緑、青画素が各々56階調、48階調、
24階調を示しているとする時、これを正面から見れば
、赤、緑、青の比率は R:G:B=73:50:10=55%:37%:8% であるのに対し、側面60゜から見れば、赤、緑、青の
比率が R:G:B=75:66:41=41%:36%:23% になって、正面に比べて青色の比率が3倍以上高まって
正面でとは全く異なる色に見える。
【0036】図5のような形態でガンマ曲線が歪曲され
れば正面で比率が低い色は側面で比率が高くなり、反対
に、正面で比率の高い色は側面では比率が低くなるの
で、赤、緑、青色の比率が似ている傾向を示す。結果的
に、正面から見れば互いに異なる色が側面からは色感差
が減って似た色に見え、全般的に色が薄くなりながら白
に近づく傾向(ホワイトシフト)を示す。このような現
象により色再現性が落ちるようになり、絵が霞んで現れ
る。ホワイトシフトの最も大きい原因は低い階調でガン
マ曲線の歪曲が大きいということである。高い階調では
ガンマ歪曲が発生しても割合で見れば大きい変化ではな
いが、低い階調(32階調以下)ではガンマ歪曲によっ
て輝度が2倍から10倍以上差が出る。このような大き
い変化はホワイトシフト現象が顕著に現れるようにす
る。
【0037】図4は、単一ドメインの垂直配向液晶セル
を8方向の側面から見る時のVT曲線を示すグラフであ
る。
【0038】図4を見れば、低い階調でVT曲線が左側
に移動する現象が上側や下側で顕著に現れ、左側と右側
では低い階調で正面とほとんど同じ曲線を描いて上昇し
ており、左下側と右下側では初期に階調反転が発生して
再びVTが右側に移動して上昇曲線を描くことが分か
る。結局、低い階調でガンマ曲線が上側に歪曲される現
象は液晶セルを観測する方向と電界印加によって液晶分
子が傾く方向が同様な場合(液晶分子の頭側または尻側
で見る場合)に激しく現れ、液晶セルを観測する方向と
電界印加によって液晶分子が傾く方向が垂直をなす場合
には少なく現れる。したがって、左右側面での視認性基
準の視野角に悪影響を及ぼす要素としては左右ドメイン
のガンマ曲線歪曲が重要であって、上下側面での視認性
基準の視野角に悪影響を及ぼす要素としては上下ドメイ
ンのガンマ曲線歪曲が重要である。しかし、液晶表示装
置を使用する観点から見る時、左右側面での視野角が上
下側面での視野角に比べて重要である。したがって、本
発明では左右側面視認性に悪影響を及ぼす左右ドメイン
のガンマ曲線歪曲を補償する方案として、左右ドメイン
内の電界強さを上下ドメイン内に比べて弱くする。これ
についてさらに詳しく見てみる。
【0039】図5は、ラビングを上下方向にアンチパラ
レル(anti parallel)するように作った単一ドメイン
(上下ドメインと同一に上下方向に液晶分子が傾く)V
Aセルで正面でのVT曲線、左右方向60度でのVT曲
線を平均した曲線、上下方向60度でVT曲線を平均し
た曲線及び上下方向の曲線を0.3V移動させた曲線を
同じグラフに示したものである。
【0040】図5に示したように、単一ドメインセルに
おいては、左右方向VT曲線は低階調で正面VT曲線と
ほとんど一致するが、上下方向VT曲線は正面VT曲線
に比べて低い電圧で上昇し始める。つまり、VTh(臨
界電圧)が正面に比べて上下方向で低く現れる。しか
し、上下方向VT曲線を約0.3V移動させれば正面V
T曲線と低階調でほとんど一致する。上下方向VT曲線
が正面VT曲線と一致するというのは、上下側面での視
認性が正面での視認成果と同一になるということを意味
する。つまり、図5を通じて該当側面(上下側面または
左右側面)の視認性を向上させるためには、該当ドメイ
ン(上下または左右ドメイン)の電圧を0.3V程度低
くしなければならない事を確認した。結局、多重ドメイ
ンセルにおいて、左右側面での視認性を正面での視認性
と同一な水準に向上させるためには、左右ドメインの左
右側面VT曲線を所定の電圧ほど移動させれば良い。左
右側面VT曲線を移動させることと同一な効果が得られ
る方法が、左右ドメイン内の電界を上下ドメイン内の電
界に比べて低くする方法である。
【0041】図6は、本発明の第2及び第3実施例によ
る液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板の配置図であ
り、図7は、図6のVII-VII'線による断面図で、本発明
の第2実施例による断面図である。
【0042】第2実施例による液晶表示装置は、画素電
極の第1小部分91にスリットを形成する代わりに、第
1小部分91上に液晶より低誘電率の誘電体層600が
形成されているという点が異なるだけであって、他は第
1実施例による液晶表示装置と同一である。
【0043】第2実施例で誘電体層600を形成する効
果は第1実施例で第1小部分91にスリットを形成する
ことと同一である。つまり、左右ドメイン内の電界を誘
電体に吸収させて液晶内電界を上下ドメイン内の電界よ
り弱くする。ここで、誘電体層600の厚さは500Å
〜1.5μmの間に形成するのが好ましい。
【0044】図8は、図7と同じく図6のVII-VII'線に
よる断面図で、本発明の第3実施例による断面図であ
る。
【0045】第3実施例による液晶表示装置は画素電極
の第1小部分91にスリットが形成されないで、共通電
極400上の第1小部分91に対応する部分に誘電体層
600が形成されているという点が異なるだけであっ
て、他は第1実施例による液晶表示装置と同一である。
【0046】第3実施例で誘電体層600を形成する効
果は第2実施例と同様に第1実施例で第1小部分91に
スリットを形成することと同一である。つまり、左右ド
メイン内の電界を上下ドメイン内の電界より弱くする。
【0047】図9は、本発明の第4実施例による液晶表
示装置用薄膜トランジスタ基板の画素レベル配置図であ
り、図10と図11は、各々図9のX−X'線とXI−XI'線
による断面図であり、図12は、図9の薄膜トランジス
タ基板を適用した液晶表示装置の等価回路図である。
【0048】第4実施例は、第1〜第3実施例とは異な
り、第1画素電極91と第2画素電極92の夫々が薄膜
トランジスタを有している。まず、薄膜トランジスタ基
板について説明する。
【0049】ガラスなどの透明な絶縁基板10上にゲー
ト配線20、21と保持容量線30が形成されている。
【0050】ゲート配線20、21は横方向にのびてい
るゲート線20を含み、ゲート線20の一部は図の上下
方向に枝状に突出してゲート電極21を構成する。
【0051】保持容量線30はゲート線20と平行して
形成されており、示していないが、枝線を有することも
ある。
【0052】ゲート配線20、21と保持容量線30と
はゲート絶縁膜40で覆われており、ゲート絶縁膜40
上には非晶質シリコンからなる半導体層50が形成され
ている。半導体層50はゲート電極21と重複して薄膜
トランジスタのチャンネル部を形成する。半導体層50
上にはリンなどのN形不純物が高濃度でドーピングされ
た非晶質シリコンからなる抵抗性接触層61、62、6
3が形成されている。
【0053】接触層61、62、63及びゲート絶縁膜
40上にはデータ配線70、71、72、73及び結合
電極74が形成されている。データ配線70、71、7
2、73は半導体層50に沿ってのびたデータ線70と
これに連結されたソース電極71及びこれらと分離され
た第1及び第2ドレーン電極72、73を含む。ソース
電極71はゲート電極21上部でデータ線70から突出
しており、第1及び第2ドレーン電極72、73はソー
ス電極71の両側に各々配置されていて、それぞれの一
端はゲート線20を中心にして両側に位置する第1及び
第2画素領域の内側にのびている。結合電極74は保持
容量線30と一部が重なっており、後述するように、保
持容量線30を中心にして両側が分離されている第1画
素電極91と第2画素電極92を電磁気的に容量性結合
している。ここで、抵抗性接触層61、62、63は半
導体層50とデータ配線70、71、72、73が重複
する部分にだけ形成されている。
【0054】データ配線70、71、72、73上には
保護膜80が形成されている。この時、保護膜80は第
1及び第2ドレーン電極72、73の一端を各々露出す
る第1及び第2接触孔81、82と結合電極74の一端
を露出する第3接触孔83を有している。
【0055】保護膜80上には第1接触孔81と第2接
触孔82を通じて第1ドレーン電極72及び第2ドレー
ン電極72、73と各々連結されている第1及び第2画
素電極91、92が形成されている。ここで、第2画素
電極92は結合電極74と第3接触孔83を通じて連結
されており、第1画素電極91は結合電極74下端のL
字形導電部と重なっていて電磁気的に結合(容量性結
合)されている。結局、第1画素電極91と第2画素電
極92は結合電極74を媒介として容量性結合をなして
いる。画素電極91、92はITOまたはIZOなどの
透明な導電物質からなる。一方、第1画素電極91は横
方向に長くのびている横切除部95を有している。横切
除部95の数は図9とは異なって複数個形成されること
も可能であり、第2画素電極92には縦切除部が形成さ
れることがある。第1画素電極91が一つの画素領域で
占める比率は30%〜70%になるのが好ましい。
【0056】保持容量配線30には第1、第2画素電極
91、92と対向する共通電極の電位が印加されること
が普通である。
【0057】次に、色フィルター基板について説明す
る。
【0058】色フィルター基板には第1実施例による液
晶表示装置でと同様に、ブラックマトリックス、色フィ
ルター、共通電極が形成されており、共通電極には第1
乃至第3切除部510、520、530が形成されてい
る。この時、縦方向に長くのびている第1切除部510
は第2画素電極92を左右に二分して二つの左右ドメイ
ンに分割しており、横方向に長くのびている第2及び第
3切除部520、530は第1画素電極91を上下に3
分する位置に形成されている。第2及び第3切除部52
0、530と横切除部95によって第1画素電極91は
上下に4分されて四つの上下ドメインに分割している。
【0059】以上の第4実施例では結合電極74をデー
タ配線70、71、72、73と同一層に形成している
が、これと異なって結合電極74をゲート配線20、2
1と同一層に形成することもできる。この場合には、保
持容量配線30を結合電極74と重複しないように形成
しなければならない。
【0060】このような薄膜トランジスタ基板を使用す
る液晶表示装置は次のような構造を有する。
【0061】このような薄膜トランジスタ基板に対向し
て共通電極基板が所定の間隔をおいて配置されており、
薄膜トランジスタ基板と共通電極基板との間には液晶物
質が注入されている。この時、液晶物質は基板に対して
垂直配向されている。この他、色フィルター基板上には
二軸性(biaxial)フィルムなどの補償フィルムが付着
されており、二つの偏光板が薄膜トランジスタ基板と共
通電極基板の外側に配置されている。
【0062】以上のように、薄膜トランジスタと画素電
極を一つの画素領域当り2つずつ形成し、結合電極を使
用して隣接する画素領域の二つの画素電極を容量性結合
しておけば液晶表示装置を左右側面から見る時、視認性
が低下することを防止することができる。これは左右ド
メインをなす第2画素電極92の電圧が上下ドメインを
なす第1画素電極91の電圧に比べて低く維持されて左
右ドメイン内の電界が上下ドメイン内の電界に比べて弱
くなるためである。
【0063】以下、左右ドメインを構成する第2画素電
極92の電圧が上下ドメインをなす第1画素電極91の
電圧に比べて低く維持される理由を説明する。
【0064】まず、図12を参考として、一つの画素領
域内に配置されている二つの画素電極[P(n)−a、
P(n)−b]の電位[V[P(n)−a]、V[P(n)
−b]]]の間の関係を導出する。
【0065】図12でClcaは第1画素電極91が位
置するa画素電極と共通電極との間で形成される液晶容
量、Cstaは保持容量線とa画素電極の間で形成され
る保持容量、Clcbは第2画素電極92が位置するb
画素電極と共通電極の間で形成される液晶容量、Cst
bは保持容量線とb画素電極の間で形成される保持容
量、Cppはa画素電極とb画素電極の間で形成される
結合容量を示す。
【0066】図12を見れば、同じゲート線とデータ線
に第1及び第2薄膜トランジスタが連結されており、第
1及び第2薄膜トランジスタには各々第1画素電極と第
2画素電極が連結されている。保持容量線30を隔てて
いる第1画素電極と第2画素電極は互いに容量性結合
(Cpp)を構成している。
【0067】一つのデータ線70を基準に見る時、n番
目ゲート線20がオン(on)になると二つの薄膜トラン
ジスタ(TFT)チャンネルがオンになって、これを通じ
て第1及び第2画素電極[P(n)−a、P(n)−b]
に電圧が印加される。ところが、P(n)−bはP(n
+1)−aと容量性で結合されているため、P(n+
1)−aがオンされる時、P(n)−bが影響を受け
る。したがって、P(n)−a、とP(n)−bの電圧
は次の通りになる。
【0068】
【数1】
【0069】
【数2】
【0070】数式1及び2で、Vd(n)はP(n)画
素を駆動するためにデータ線に印加される電圧を意味
し、Vd(n+1)はP(n+1)を駆動するために印
加されたデータ線電圧を意味する。また、V'd(n+
1)は前回フレーム(frame)のP(n+1)画素に印
加された電圧を意味する。
【0071】数式1及び2に示したように、P(n)−
b画素に印加される電圧とP(n)−aに印加される電
圧は互いに異なる。特に、点反転駆動または線反転駆動
をし、次の画素行が前回画素行と同じ階調を表示する場
合(実際に殆どの画素がこのようなケースに該当する時
間が多い)には、Vd(n)=−Vd(n+1)、Vd
(n)=−V'd(n)(共通電極電圧は接地電圧と仮定
する)であるので、数式2は次の通りに整理できる。
【0072】
【数3】
【0073】数式3によれば、P(n)−bにはP
(n)−aより低い電圧が印加されることが分かる。こ
の時、Tは0.65〜0.95程度が適当である。
【0074】本発明の第5実施例による液晶表示装置に
ついて説明する。
【0075】図13は、本発明の第5実施例による液晶
表示装置用薄膜トランジスタ基板の画素レベル配置図で
あり、図14は、図13の薄膜トランジスタ基板を適用
した液晶表示装置の等価回路図である。
【0076】本発明の第5実施例では一つの画素列に含
まれている薄膜トランジスタ及び画素電極が二つのデー
タ線に交互に連結されている。つまり、P(n)画素の
薄膜トランジスタと二つの画素電極(a,b)はm番目
データ線に連結されており、P(n+1)画素の薄膜ト
ランジスタと二つの画素電極(a,b)はm+1番目デ
ータ線に連結されている。薄膜トランジスタと画素電極
個々の具体的な構造は切除部95、510、520、5
30の位置が変わった点を除いては第3実施例と同一で
ある。つまり、第4実施例では横切除部95が第2画素
電極92に形成されており、第1切除部510は第1画
素電極91を左右に両分する位置に形成されており、第
2及び第3切除部520、530は第2画素電極92を
上下に3分する位置に形成されている。したがって、第
1画素電極91が左右ドメインを構成し、第2画素電極
92が上下ドメインを構成する。
【0077】このような構造で点反転駆動を遂行すれ
ば、左右ドメイン内の電界が上下ドメイン内の電界に比
べて弱く維持される。つまり、第1画素電極91電位が
第2画素電極92電位に比べて常に低く維持されるため
左右側面からの視認性が向上する。以下、第1画素電極
91電位が第2画素電極92電位に比べて常に低く維持
される理由を見てみる。
【0078】図14のような構造で点反転駆動を遂行す
れば同じ画素列に属する画素電極には同一な極性の電圧
が印加されるので列(column)反転駆動と同一な特性を
示す。したがって、次の画素行が以前画素行と同一な階
調を表示する場合(実際にほとんどの画素がこのような
ケースに該当する時間が多い)を考慮すればVd(n)
=Vd(n+1)、Vd(n)=-V'd(n)になって、
数式2は次の通りに整理できる。
【0079】
【数4】
【0080】数式4によれば、第5実施例ではb画素の
電圧がa画素より高い。したがって、左右ドメイン内の
電界が上下ドメイン内の電界に比べて常に低く維持され
ることができる。
【0081】前記では本発明の最も実際的で好ましい実
施例を参照して説明したが、本発明は前記に開示された
実施例に限られるわけではない。本発明の範囲は特許請
求範囲内に属する様々な変形及びなど等価物も含む。
【0082】
【発明の効果】本発明では上下ドメインに比べて左右ド
メイン内の電界を常に弱く維持することによって左右側
面からの視認性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例による液晶表示装置のドメ
インレベル配置図である。
【図2】図1のII-II'線による断面図である。
【図3】テスト用セルの正面と側面60゜でのガンマ曲
線を示すグラフである。
【図4】単一ドメインの垂直配向液晶セルを8方向の側
面から見る時のVT曲線を示すグラフである。
【図5】ラビングを上下方向にアンチパラレル(anti p
arallel)するように作った単一ドメインVAセルで正
面でのVT曲線と左右方向60度でのVT曲線を平均し
た曲線と、上下方向60度でVT曲線を平均した曲線と
上下方向の曲線を0.3V移動させた曲線を同じグラフ
に示した図面である。
【図6】本発明の第2及び第3実施例による液晶表示装
置のドメインレベル配置図である。
【図7】図6のVII-VII'線による断面図であって、本発
明の第2実施例による断面図である。
【図8】図6のVII-VII'線による断面図であって、本発
明の第3実施例による断面図である。
【図9】本発明の第4実施例による液晶表示装置の画素
レベル配置図である。
【図10】図9のX-X'線による断面図である。
【図11】図9のXI-XI'線による断面図である。
【図12】図9の薄膜トランジスタ基板を適用した液晶
表示装置の等価回路図である。
【図13】本発明の第5実施例による液晶表示装置の画
素レベル配置図である。
【図14】図13の薄膜トランジスタ基板を適用した液
晶表示装置の等価回路図である。
【符号の説明】
10 下側絶縁基板(薄膜トランジスタ基板) 20 ゲート線 21 ゲート電極 30 保持容量線 31〜34 第1〜第4維持電極 40 ゲート絶縁膜 50 半導体層 70 データ線 71 ソース電極 72 ドレーン電極 80 保護膜 90 画素電極 91 上下ドメイン用の電極 92 左右ドメイン用の電極 100 色フィルター基板 200 ブラックマトリックス 300 色フィルター 400 共通電極 500 台切除パターン 600 低誘電率誘電体

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一つの画素領域が複数の小ドメインに分割
    されており、各小ドメインはその内部に含まれている液
    晶分子が駆動電界印加時に傾く平均方向によって第1方
    向ドメインと第2方向ドメインとに分類される液晶表示
    装置において、 前記第1方向ドメイン内部の駆動電界は前記第2方向ド
    メイン内部の駆動電界に比べて弱い液晶表示装置。
  2. 【請求項2】前記第1方向ドメインでは液晶表示装置を
    正面から見る時液晶が左右方向に傾き、前記第2方向ド
    メインでは液晶が上下方向に傾く、請求項1に記載の液
    晶表示装置。
  3. 【請求項3】前記第1方向ドメイン内部の駆動電界が前
    記第2方向ドメイン内部の駆動電界に比べて弱い程度は
    液晶表示装置のセルギャップをdとする時、0.02/
    d(V/um)から0.5/d(V/um)の間である、
    請求項1に記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】第1絶縁基板と、 前記第1絶縁基板上に第1方向に形成されている第1信
    号線と、 前記第1絶縁基板上に第2方向に形成されており、前記
    第1信号線と絶縁されて交差している第2信号線と、 前記第1信号線及び前記第2信号線に連結されている第
    1薄膜トランジスタと、 前記第1薄膜トランジスタが連結されている前記第1信
    号線及び前記第2信号線に連結されている第2薄膜トラ
    ンジスタと、 前記第1薄膜トランジスタに連結されている第1画素電
    極と、 前記第2薄膜トランジスタに連結されている第2画素電
    極と、 前記第1絶縁基板と対向する第2絶縁基板と、 前記第2絶縁基板上に形成されている共通電極と、 前記第1基板と前記第2基板との間に注入されている液
    晶物質層と、 前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板のうちの少なくと
    もいずいれか一つの基板上に形成されており、前記第1
    画素電極と前記第2画素電極とを複数の小ドメインに分
    割するドメイン分割手段とを含み、 前記ドメイン分割手段は前記第1画素電極と前記第2画
    素電極とを各々第1方向ドメインと第2方向ドメインと
    に分割し、前記第1画素電極と前記第2画素電極とは互
    いに容量性結合をなす液晶表示装置。
  5. 【請求項5】nとmは整数とする時、m列のn行画素の
    第1及び第2薄膜トランジスタはm番目データ線に連結
    されており、m列のn+1行画素の第1及び第2薄膜ト
    ランジスタはm+1番目データ線に連結されている、請
    求項4に記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項6】前記第2画素電極が全体画素領域で30%
    乃至70%を占める、請求項4に記載の薄膜トランジス
    タ基板。
  7. 【請求項7】前記液晶物質層に含まれている液晶分子は
    駆動電界が印加されない状態で前記第1及び第2絶縁基
    板に対して垂直に配向されている、請求項4に記載の液
    晶表示装置。
  8. 【請求項8】前記薄膜トランジスタ基板に形成されてお
    り、前記第1画素電極及び前記第2画素電極との間で各
    々保持容量を形成する保持容量線をさらに含み、 前記第2画素電極と前記共通電極との間に形成される液
    晶容量をClcb、前記第2画素電極と前記保持容量線
    との間で形成される保持容量をCstb、第1画素電極
    と第2画素電極との間で形成される結合容量をCppと
    する時、 T=(Clcb+Cstb−Cpp)/(Clcb+C
    stb+Cpp) で定義されるTが0.65から0.95の間の値を有す
    る、請求項4に記載の液晶表示装置。
  9. 【請求項9】第1絶縁基板と、 前記第1絶縁基板上に第1方向に形成されている第1信
    号線と、 前記第1絶縁基板上に第2方向に形成されており、前記
    第1信号線と絶縁されて交差している第2信号線と前記
    第1信号線及び前記第2信号線に連結されている薄膜ト
    ランジスタと、 前記薄膜トランジスタに連結されており、複数のスリッ
    トを有する画素電極と、 前記第1絶縁基板と対向する第2絶縁基板と、 前記第2絶縁基板上に形成されている共通電極と、 前記第1基板と前記第2基板との間に注入されている液
    晶物質層と、 前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板のうちの少なくと
    もいずれか一つの基板上に形成されており、前記画素電
    極を複数の小ドメインに分割するドメイン分割手段とを
    含み、 前記ドメイン分割手段は前記画素電極を各々第1方向ド
    メインと第2方向ドメインに分割しており、前記第1方
    向ドメインは前記スリットが位置する部分に配置されて
    いる液晶表示装置。
  10. 【請求項10】前記画素電極が有する前記スリットの幅
    は2〜5μmの間である、請求項9に記載の液晶表示装
    置。
  11. 【請求項11】隣接する二つの前記スリットの間の距離
    は2〜10μmの間である、請求項10に記載の液晶表
    示装置。
  12. 【請求項12】第1絶縁基板と、 前記第1絶縁基板上に第1方向に形成されている第1信
    号線と、 前記第1絶縁基板上に第2方向に形成されており、前記
    第1信号線と絶縁されて交差している第2信号線と、 前記第1信号線及び前記第2信号線に連結されている薄
    膜トランジスタと、 前記薄膜トランジスタに連結されている画素電極と、 前記第1絶縁基板と対向する第2絶縁基板と、 前記第2絶縁基板上に形成されている共通電極と、 前記画素電極と前記共通電極のうちの少なくともいずれ
    か一つの上に形成されている誘電体層と、 前記第1基板と前記第2基板との間に注入されている液
    晶物質層と、 前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板のうちの少なくと
    もいずれか一つの基板上に形成されており、前記画素電
    極を複数の小ドメインに分割するドメイン分割手段とを
    含み、 前記ドメイン分割手段は前記画素電極を各々第1方向ド
    メインと第2方向ドメインとに分割しており、前記誘電
    体層は前記第1方向ドメインが位置する部分に形成され
    ている液晶表示装置。
  13. 【請求項13】前記誘電体層の厚さは500Åから1.
    5μmの間である、請求項12に記載の液晶表示装置。
  14. 【請求項14】前記ドメイン分割手段は前記画素電極と
    前記共通電極が各々有する切除部である、請求項4、
    9、12のいずれかに記載の液晶表示装置。
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