JP2003164816A - 洗浄装置と、そのワーク搬送方法 - Google Patents

洗浄装置と、そのワーク搬送方法

Info

Publication number
JP2003164816A
JP2003164816A JP2001364391A JP2001364391A JP2003164816A JP 2003164816 A JP2003164816 A JP 2003164816A JP 2001364391 A JP2001364391 A JP 2001364391A JP 2001364391 A JP2001364391 A JP 2001364391A JP 2003164816 A JP2003164816 A JP 2003164816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
work
cleaning
arm
moving
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001364391A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiji Kataoka
啓二 片岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FINE MACHINE KATAOKA KK
Original Assignee
FINE MACHINE KATAOKA KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by FINE MACHINE KATAOKA KK filed Critical FINE MACHINE KATAOKA KK
Priority to JP2001364391A priority Critical patent/JP2003164816A/ja
Priority to US10/304,003 priority patent/US7290551B2/en
Publication of JP2003164816A publication Critical patent/JP2003164816A/ja
Priority to US11/263,994 priority patent/US7628867B2/en
Priority to US11/905,651 priority patent/US7806987B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C03C23/0075—Cleaning of glass
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 槽上部の動き及び水平移動を利用して、洗
浄、乾燥処理、ワークの移動を図り、またワークに付着
する夾雑物の確実かつ迅速な除去を図り、また洗浄液等
の供給量の調整と洗浄液等に浮遊する夾雑物排除を図
る、開口部の面積に対する制限のない洗浄装置を提供す
る。 【構成】 装置に設けた槽と、搬送手段と、槽に複数設
けたワーク保持レール・超音波発生器を備えた槽下部
と、この槽下部に合体する槽上部と、各槽上部を昇降す
る昇降手段と、ワーク搬送用のアーム機構と、アーム機
構の前進後退を司る移動手段と、アーム機構の揺動復帰
を司る可動手段とで構成され、搬送手段と各槽下部のレ
ールとを同じ面に設け水平移動し、各槽下部と各槽上部
との合体を利用して洗浄、乾燥等を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、分割できる槽の少なく
とも一部が、洗浄1サイクル毎に動作し、洗浄物(ワーク、例え
ば、部品、カ゛ラス、液晶板等)の略水平移動を図ること、
又はワークを洗浄し、このワークに付着する切削屑、加工屑等
の屑、又は塵等の夾雑物除去を意図した洗浄装置と、こ
の洗浄装置のワーク搬送方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の洗浄装置としては、一般的な物品
の一例としては、図19に示す例があり、浸漬方式であ
る。その概要を説明すると、洗浄槽に流体を充填し、こ
の流体中に、洗浄物（ワークとする）を浸漬し、この浸漬
した状態で超音波洗浄する構成である。この構成では、
次のような問題があった。即ち、ワークを水平移動及び上下
移動して、洗浄槽内に浸漬することから、搬送装置・動
作が複雑となること、又は搬送に時間を要し作業能率が
悪いこと等の問題がある。またこの構成では、ワークの移動
が、水平移動等の複合方向となり、この複合移動に伴っ
て、装置の設置スヘ゜ースの拡張、装置の複雑化、又は工場
の大型化等を招来する等の問題があった。また浸漬方式
では、洗浄液に浮遊又は混入等する夾雑物の除去が困難
である。またワークの吊上げ時に、この夾雑物が付着する問
題があった。
【０００３】また特殊な物品としては、平板状のワーク
（例えば、カ゛ラス、液晶板等）がある。この一例では、ワーク
を、チェーン搬送及びカ゛イト゛部材を利用して搬送しながら、
洗浄する構成である。この方法では、ワークにカ゛イト゛部材の
痕跡が残り、不良品発生の要因となること、また後処理
が必要となり、能率低下、コストの上昇を招来すること、
等の問題があった。またこの水平方式では、洗浄槽に
穴、切欠部を設け、この穴を利用してワークを移動するこ
と、洗浄液等をオーハ゛ーフローする構成である。従って、洗浄
液のオーハ゛ーフローする利用が多くなり、供給量の増大と、洗
浄タンクの大型化等を招来すること、又は開口部の面積に
制限があること、等の問題があった。
【０００４】尚、分割式の槽を備えた先行特許文献とし
ては、特開平7-136606号の洗浄装置がある。この文献
は、槽内に、流体供給ホース及びト゛レンハ゜イフ゜を備えた水平方
向に2分割される分割式槽を設け、この分割式槽に水平
・昇降移動する超音波振動子を配備し、また分割式槽に
乾燥回転テーフ゛ルを設けてなり、一槽において、洗浄及び
乾燥を図る構成である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前述の如く、従来の浸
漬方式の構成では、複合移動に伴う弊害、例えば、装置
の設置スヘ゜ースの拡張、装置の複雑化、又は工場の大型化
等を招来する等の課題があった。また従来のチェーン搬送等
を利用する構成では、痕跡が残り、不良品発生の要因と
なること、後処理が必要となること、能率の低下を招来
すること、又は開口部の面積に制限があること、等の課
題があった。
【０００６】文献は、分割式槽は、各槽の相互移動と合
体とを繰返す構成であり、また超音波振動子の分割式槽
にセット又はリセットは、水平・昇降移動による構成である。従
って、装置・作業が複雑となり、また作業・洗浄等に時
間を要すること、等の課題がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、処理
毎の槽上部の動き、及び水平移動を利用して洗浄、処理
及び移動を図り、作業の簡略化、スヒ゜ート゛化、容易化等を
図ること、又はワークに付着する夾雑物の除去を図るこ
と、また洗浄液等の供給量の調整と、洗浄液等に浮遊等
する夾雑物排除を図ること、開口部の面積に対する制限
がないこと、等を意図する。
【０００８】請求項1は、装置に設けた上下に分割でき
る槽と、槽下部の上面と略面一に設置したワーク保持レール
と、ワークを分割した槽内に向って水平移動、若しくは分
割した槽外に向って水平移動するための搬送手段とで構
成した洗浄装置である。
【０００９】請求項2の発明は、請求項1に記載の発明
を、確実に実施するに最適な搬送手段を提供する。
【００１０】請求項2は、搬送手段が、前進後退する移
動手段及び／又は揺動復帰する可動手段とでなるアーム機
構を備える構成とした洗浄装置である。
【００１１】請求項3の発明は、請求項2に記載の発明
を、確実に実施するに最適なアーム機構の移動手段を提供
する。
【００１２】請求項3の発明は、アーム機構の移動手段が、
ヘ゛ースフレームに略平行するように配置されたカ゛イト゛レールと、こ
のカ゛イト゛レールに沿って移動する移動駒に設けたアーム移動体
と、このアーム移動体に設けた移動装置と、このアーム移動体
に設けたアーム支持?に軸承したアームを備えたアーム取付杆とで
構成した洗浄装置である。
【００１３】請求項4の発明は、請求項3に記載の発明
を、実施するに最適な移動装置を提供する。
【００１４】請求項4は、移動装置が、アーム移動体に設け
た動作手段と、この動作手段を駆動するモータとで構成し
た洗浄装置である。
【００１５】請求項5の発明は、請求項2に記載の発明
を、確実に実施するに最適なアーム機構の可動手段を提供
する。
【００１６】請求項5の発明は、アーム機構の可動手段が、
ヘ゛ースフレームに略平行するように配置されるカ゛イト゛レールと、こ
のカ゛イト゛レールに沿って移動する移動駒に設けたアーム移動体
と、このアーム移動体に設けた可動装置を介してアームを備え
たアーム取付杆を設ける構成とした洗浄装置である。
【００１７】請求項6の発明は、請求項5に記載の発明
を、実施するに最適な可動装置を提供する。
【００１８】請求項6は、可動装置が、アーム移動体に設け
たシリンタ゛ーと、このシリンタ゛ーのヒ゜ストンロット゛が固止されたリンク
と、このリンクの自由端が固止されるアーム機構を設けたアーム
取付杆とで構成した洗浄装置である。
【００１９】請求項7の発明は、発塵の発生を回避し、
また分割できる槽及び／又は外槽内の発塵落下、進入防
止を図ることを意図する。
【００２０】請求項7は、シリンタ゛ーを、エアシリンタ゛ーとする洗
浄装置である。
【００２１】請求項8の発明は、請求項1に記載の発明
を、確実に実施するに最適な分割できる槽を提供する。
【００２２】請求項8は、上下に分割できる槽を、槽下
部と、槽上部でなり、この槽上部は、昇降手段、又は可
動手段等の動作により動く構成とした洗浄装置である。
【００２３】請求項9の発明は、請求項8に記載の発明
を、確実に実施するに最適な槽上部の昇降手段を提供す
る。
【００２４】請求項9は、槽上部の昇降手段が、上方フレー
ムに設けた長孔を昇降する昇降框と、この昇降框の昇降
を司る昇降装置とで構成した洗浄装置である。
【００２５】請求項10の発明は、請求項9に記載の発明
を、実施するに最適な昇降装置を提供する。
【００２６】請求項10は、昇降装置が、昇降框に設けた
挾持部が遊嵌される上方フレームに設けたカ゛イト゛体と、この
昇降框に設けたラックと、このラックに噛合する歯車と、この
歯車を架承する回転軸と、この回転軸を回転するモータと
で構成した洗浄装置である。
【００２７】請求項11の発明は、洗浄液の漏洩・飛散防
止、合体部の密封、槽としての役割等を図ること、又は
乾燥の効率化、機械加工、組付加工等の手当て等を図る
ことを意図する。
【００２８】請求項11は、分割できる槽を、槽下上部の
合体部分に、鍔片を形成し、この槽下上部の密封を確保
する構成とした洗浄装置である。
【００２９】請求項12の発明は、洗浄装置の分割できる
槽の他の例を提示して、本洗浄装置の簡略化、合理化、
又は低コスト化、メンテナンスの容易化等を意図する。
【００３０】請求項12は、洗浄装置は、外槽を備えてお
り、分割できる槽は、この外槽内に設ける構成とした洗
浄装置である。
【００３１】請求項13の発明は、分割できる槽を、複数
基持って、連続的に洗浄できる連続式洗浄を提供するこ
と、又は分割できる槽の有効利用を図りつつ、経費の削
減、合理化を図ること等を意図する。
【００３２】請求項13は、洗浄装置を、分割できる槽
を、複数基面持っており、少くとも洗剤超音波洗浄、超
音波洗浄、シャワー洗浄等の洗浄槽と、温風乾燥、真空乾燥
等の乾燥槽とする洗浄装置である。
【００３３】請求項14の発明は、請求項13の目的を達成
できる洗浄液の提供を意図する。
【００３４】請求項14は、洗浄槽に使用する洗浄液は、
洗剤を含む水、洗浄水、純水、超純水、又は有機溶媒と
し、個別使用及び／又は選択併用することを特徴とした
洗浄装置である。
【００３５】請求項15の発明は、洗浄における使用済み
洗浄液を、2基又は数基間において他の分割できる槽の
洗浄液として利用する(カ゛スケート゛フロー)ことで、洗浄液の有
効利用、経費の削減、合理化等を意図する。
【００３６】請求項15は、洗浄に使用した洗浄液を、少
なくとも一方の分割できる槽に供給・洗浄への利用で使
用済み洗浄液となって、一方のタンクに流下した後、この
使用済み洗浄液を、少なくとも他方のタンクに供給し、こ
の他方のタンクより分割できる槽に供給し、洗浄液として
利用する構成とした洗浄装置である。
【００３７】請求項16の発明は、請求項1に記載の発明
を、確実に実施するに最適なワーク搬送方法を提供する。
【００３８】請求項16は、装置に設けた上下に分割でき
る槽と、槽下部の上面と略面一に設置したワーク保持レール
と、ワークを分割した槽内に向って水平移動、若しくは分
割した槽外に向って水平移動するための搬送手段とで構
成したワーク搬送方法であって、前記搬送手段を介してワーク
を、槽下部の一辺位置に停止し、この停止後に、前記搬
送手段を介して槽下部の内方に水平移動してワークを、こ
の槽下部のレール上に移動し、その後、この槽下部と槽上
部との合体を介してワークを洗浄し、この処理済みワークを、
搬送手段を介して槽下部の外方に水平移動する構成の洗
浄装置のワーク搬送方法である。
【００３９】請求項17の発明は、請求項1が意図する内
容に、さらに洗浄装置のアーム機構の移動・可動手段、又
は槽上部の昇降手段等による発塵が、分離できる槽及び
外槽に侵入しないことを意図する。
【００４０】請求項17は、装置に設けた上下に分割でき
る槽と、槽下部の上面と略面一に設置したワーク保持レール
と、ワークを分割した槽内に向って水平移動、若しくは分
割した槽外に向って水平移動するための搬送手段とで構
成したワーク搬送方法であって、前記搬送手段を介してワーク
を奥行き方向に水平移動して、搬送手段の搬入側の奥面
位置に停止した後、前記アーム機構が下方に揺動してワークの
側面に到り、その後、当該アーム機構の横方向に水平移動
して、処理済みワークを槽下部又は搬送手段の搬出側の奥
面位置に移動した後、アーム機構が上方に揺動し、前記アーム
機構が基の位置に復帰した後、前記槽下部に降下した槽
上部が合体し、洗浄・乾燥処理した後に、当該槽上部が
上昇して前記合体を開放し、前記搬送手段の搬入側の搬
入位置への新しいワークの供給、及び搬送手段の搬出側の
奥面位置からの処理済みワークの搬出位置への移動を図り
一連の搬送を行なう構成とした洗浄装置のワーク搬送方法
である。
【００４１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。
【００４２】図1の如く、ワークは、搬送手段を介して水平
移動される。この水平移動されたワークは、分離できる槽が
開放された状態のときに、この分離した槽内に導入され
る(同図(イ)参照)。この水平移動を介して、ワークは確実か
つ正確に、分離した槽にセットされる。このセットが完了した
状態で、他の分離した槽が移動して、分離した槽が合体
して一体となる(同図(ロ)参照)。そして、この合体した状
態を捉えて、槽にワーク洗浄用の洗浄液が導入されるとと
もに、洗浄液と超音波を利用してワークの各処理が行なわ
れる(同図(ハ)参照)。この処理が終了後、合体の開放が進
み分離した槽が移動する(同図(ニ)参照)。この移動で分離
した槽が所定の位置に停止してリセットとなり、処理済みワー
クが、ワーク搬送手段により、分離した槽内より、他の分離
した槽に向かって水平移動される(同図(ホ)参照)。尚、分
離した槽の移動と、処理済みワークのワーク搬送が同時の場合
もあり得る。以上で説明した動作が、一回又は数回行な
われてワークの洗浄が終了した後に、前述と同様な動作を
行なって乾燥槽に搬送し、前述のような操作、例えば、
槽の合体、分離と、温風の給排等を行なって乾燥処理が
終了する(図示せず)。尚、乾燥槽は、一体型の場合もあ
り得る。その後、ワーク搬送手段を利用して、水平移動
し、他の搬送手段に導入する。そして、この他の搬送手
段より、装置外に搬出される(図示せず)。
【００４３】
【実施例】以下、本発明の一例を図面を参照として説明
する。
【００４４】本発明は、フレームA(装置)と、フレームAのヘ゛ースフレ
ームA1に設けた外槽Bと、この外槽Bに設けた搬送手段の搬
入側・搬出側C、Dと、外槽Bに1基又は数基設けた分割で
きる槽の槽下上部E1・E１〜4、F1・F１〜4(説明上で、
槽下上部E１〜4、F１〜4とする)と、前記フレームAの上方フレ
ームA2に配備したワークWを搬送する前記分割できる槽の背部
に位置し、かつ前記搬送手段の一翼を担うアーム機構Gと、
このアーム機構Gの前進後退を司る移動手段Hと、また当該ア
ーム機構Gの揺動復帰を司る可動手段Iと、前記槽上部F１
〜4を昇降する昇降手段Ｊと、例えば、洗浄液を貯留す
る洗浄液タンクK(第1工程用のタンク)と、リンス液を貯留するリンス
液タンクL(第2工程用のタンク)、リンス液タンクM(第3工程用のタンク)
と、前記分割できる槽の適所において一基又は数基設け
た超音波発生器N(超音波振動子)、又はノス゛ル装置(図示せ
ず)と、を主構成要素とする。尚、槽下上部E１〜4、F１
〜4は、原則として同時に操作される。また槽下上部E１
〜4、F１〜4の数、形状、寸法等は、処理物、処理方法
等の使用態様により増減されること、又は搬入側・搬出
側C、Dと、槽下上部E１〜4、F１〜4の配置、又は動作、
手順等は、洗浄の仕方、リンス洗浄、アルカリ洗浄等の洗浄態
様、使用態様、又は処理液等により異なり最適な構造と
される。いずれにしても多目的に使用できる洗浄装置等
である。尚、槽下部E3の場合には、底部を開放する。
【００４５】以下、各構成の一例を説明する。
【００４６】1. 外槽Bを説明する。
【００４７】この外槽Bは、図2、図5（代表例の図面を
示す）に示すように、ヘ゛ースフレームA1に設けられており、こ
の外槽Bの搬入方向(向って図3の右側、図6の上側)には
搬入側Cが、また搬出方向(図3の左側、図6の下側)には
搬出側Dがそれぞれ設けられている。この外槽Bは、前記
槽下部E１〜4に対応して区画されている。1は区画板を
示す。また100は外槽Bの排液口を示す。
【００４８】2. 搬入側Cを説明する。
【００４９】この搬入側Cは、図3等に示すように、自動
回転式のローラ2を多数軸承した構成であり、C1が搬入位置
(始端)、C2が奥面を示す。少なくとも奥面C2に停止用スイ
ッチ(図示せず)を備えている。尚、搬入側Cは、ヘ゛ルトコンヘ゛
ア、レール等の構成も可能である。
【００５０】3. 搬出側Dを説明する。
【００５１】この搬出側Dは、図3等に示すように、自動
回転式のローラ3を多数軸承した構成であり、D1が搬出位置
(終端)、D2が奥面を示す。少なくとも奥面D2に停止用スイ
ッチ(図示せず)を備えている。尚、搬出側Dは、ヘ゛ルトコンヘ゛
ア、レール等の構成も可能である。
【００５２】4. 外槽Bに数基設けた分割できる槽(洗浄
槽)の槽下部E１〜4を説明する。
【００５３】図5〜図18の例では、槽下部E１〜4は、そ
の開口4（上面）が、前記搬入側・搬出側C、Dのローラ面と
略同じに構成し、ワークW、治具を水平移動可能とする。そ
して、槽下部E1〜E3は底部に配管40(後述する)がそれぞ
れ設けられていて、槽下部E1からは洗浄液、槽下部E2か
らはリンス液が、また槽下部E3からはリンス液が、それぞれ流
下する。また分割できる槽の槽上部F１〜4は、後述する
昇降手段Jで昇降し、槽下部E1〜4に合体する。この合体
部分に、鍔片6を設けて、槽上部F1〜4の鍔片7とで密着
状態を確保する。この鍔片6と鍔片7との接合を利用し
て、気密性を確保し、例えば、洗浄液の漏洩・飛散防
止、合体部分の密封、一体型の槽と同じ構成、作用とす
ること、又は乾燥の効率化、機械加工、組付加工等の手
当て等を図ることも可能である。また密着状態の確保
は、シール手段もあり得る。このシール手段として、発塵の少
ないテフロン（登録商標）材を採用し、接着剤、止具等
で止めることもできる。この例でも前述と同じ機構とな
る。尚、槽上部F1、F2の鍔片7の場合には、洗浄液、リンス
液等用の溝70を兼ねており、またこの溝70の切欠きした
一部から洗浄液、リンス液を流下し、外槽Bに流す構成とす
る。また槽下上部E１〜4、F１〜4の密着状態の確保で、
洗浄液、リンス液、温風等の漏れをなくす構造とする。図
中5は、槽下部E1〜4の開口4（上面）に略面一に設けたワ
ーク保持レールで、一方向の両側に設け、ワークWの水平移動を確
保する。またワーク保持レール5は、同じ目的（水平移動）を達
成できれば、装置の他の場所に設けることもある。そし
て、本発明は、分割できる槽の上面及び／又は孔よりの
オーハ゛ーフローによる洗浄を意図する。
【００５４】尚、図中8はリンスシャワー洗浄のリンス液噴射用のノ
ス゛ルを示しており、槽下上部E3、F3に設けるが、必要に
より変更及び／又は増減される。また槽下上部E4、F4
は、温風、真空乾燥用の乾燥槽であり、温風の供給と、
減圧処理される。図中9は温風排出口を示す。
【００５５】また槽下部E１〜4は、外槽Bに設けた仕切
板(図示せず)を介して区画された構成でも可能である。
また仕切板は、着脱自在の構成も可能である。
【００５６】そして、図2〜図4等に示した、分割できる
槽が1基の例では、槽下部E１と、槽上部F１との組合せ
構造であり、この1基の槽下部E１と、槽上部F１によ
り、各処理を行うことを主体とする。しかし、例えば、
リンスシャワー洗浄、乾燥処理の場合には、他の機構を付加す
るか、又は別の乾燥装置に搬送するか等の手段を採用す
る。
【００５７】5. アーム機構Gの前進後退を司る移動装置を
備えた移動手段Hを説明する。
【００５８】この移動手段Hは、ヘ゛ースフレームA1に設けたアーム
支持体10(フ゛ラケット)と、このアーム支持体10に設けたフレームAの
ヘ゛ースフレームA1に略平行するように配置されるカ゛イト゛レール11
と、このカ゛イト゛レール11に水平方向Yに移動可能に設けた移
動駒12と、この移動駒12に設けたアーム移動体13と、このア
ーム移動体13の平面に設けたラック14（螺合面）と、このラック
14に噛合する歯車15と、この歯車15を回転するヘ゛ースフレーム
A1に設けたモータ16と、前記移動駒12に設けた槽方向Xに延
設されたアーム支持杆17と、このアーム支持杆17に軸承したアー
ム取付杆18と、このアーム取付?18に設けた復帰時に起立す
るアーム機構Gとで構成される。尚、アーム機構Gの移動手段H
は、図示しないが、シリンタ゛ーとアーム取付杆18とをカッフ゜リンク゛
を介して接続し、当該アーム取付杆18をシリンタ゛ーで移動する
構成とする例もある。このカッフ゜リンク゛を利用してアーム取付
杆18の回転に対応するか、或いはシリンタ゛ーの回転で対応す
る。またアーム機構Gの移動手段は、図示しないが、カムに設
けたリンクをアーム取付杆18に連繋して、このアーム取付杆18をカ
ムとリンクで移動する構成とする例もある。他の構成は、前
述の例に準ずる。またラック14と歯車15は、アーム移動体13の
動作手段の一例である。尚、図示しないが、この移動手
段Hのみで、ワークWを水平移動することは可能である。例
えば、シリンタ゛ー、可動レハ゛ー、又はカムとリンク等の押圧、可動
等の移動機構である。
【００５９】6. またアーム機構Gの揺動復帰を司る可動装
置を備えた可動手段Iを説明する。
【００６０】この可動手段Iは、ヘ゛ースフレームA1に設けたアーム
支持体10と、このアーム支持体10に設けたフレームAのヘ゛ースフレーム
A1に略平行するように配置されるカ゛イト゛レール11と、このカ゛
イト゛レール11に水平方向Yに移動可能に設けた移動駒12と、
この移動駒12に設けたアーム移動体13と、このアーム移動体13
に設けたシリンタ゛ー20と、このシリンタ゛ー20のヒ゜ストンロット゛200が固
止されたリンク21と、このリンク21の自由端が固止されたアーム
取付杆18とで構成される。尚、アーム機構Gの可動手段I
は、図示しないが、カムに設けたリンクをアーム取付杆18に連繋
し、アーム取付杆18をカムとリンク゛で可動復帰させる構成とす
る例もある。他の構成は、前述の例に準ずる。
【００６１】7. 槽上部F１〜4の昇降を司る昇降装置を
備えた昇降手段Ｊを説明する。
【００６２】この昇降手段Ｊは、上方フレームA2に設けた長
孔22と、この長孔22を昇降する昇降框23と、この昇降框
23に設けた挾持部230が遊嵌される上方フレームA2に設けたカ
゛イト゛体24と、昇降框23に設けたラック25と、このラック25に噛
合する歯車26と、この歯車26を架承する回転軸27と、こ
の回転軸27を回転するモータ28と、この回転軸27及びモータ28
を支持する上方フレームA2に設けた支持体29、30とで構成さ
れる。尚、槽上部F１〜4を昇降する昇降手段Ｊは、図示
しないが、シリンタ゛ー、又はカムとリンク等の手段を利用して、
昇降框23を昇降する構成とする例もある。他の構成は、
前述の例に準ずる。そして、この昇降手段Ｊによる槽上
部F１〜4の昇降方向、昇降角度、昇降スヒ゜ート゛等は限定さ
れない。またこの昇降手段Ｊは、蝶番方式を採用して、
上方フレームA2等のフレームAに可動可能に設け、シリンタ゛ー（図示
せず）等の駆動手段を利用して、可動（揺動、復帰）自
在の構成とすることも、装置の簡略化、スヒ゜ート゛化、又は
丈寸法の小型化等に役立てる。
【００６３】8. 洗浄液タンクKと、リンス液タンクLと、リンス液タン
クM（各液のサフ゛タンク）とを説明する。
【００６４】この洗浄液タンクKは、槽下部E1と配管40〜42
を介して連設されており、配管40は洗浄液の戻り用、配
管41、42は洗浄液の供給用として利用する。図中43はヒー
ター、44はホ゜ンフ゜、45は浄水用配管をそれぞれ示す。またリ
ンス液タンクLは、槽下部E2と配管50〜52を介して連設されて
おり、配管50は洗浄液の戻り用、配管51、52はリンス液の
供給用として利用する。図中53はヒーター、54はホ゜ンフ゜、55
は純水用配管、56は脱酸素装置をそれぞれ示す。さらに
リンス液タンクMは、槽下部E3と配管60、61を介して連設され
ており、配管60は洗浄液の戻り用、配管61はリンス液の供
給用として利用する。図中63はヒーター、64はホ゜ンフ゜、65は
純水用配管、67は仕切板をそれぞれ示す。図中1000はカ゛
イト゛ローラで、ローラ面は槽下部E１〜4の開口4と面一になり、
ワークW、治具の水平方向の移動に寄与する。尚、タンク類に
は、サフ゛タンクを装備し、ホ゜ンフ゜アッフ゜して洗浄液等を、タンク類
に給排する構成を採用して、洗浄液等の有効利用、連続
洗浄、高速洗浄、長時間洗浄、又は設置・装置の省スヘ゜ー
ス化等を図ることも可能である。
【００６５】以下、本実施例における好ましい洗浄と、
作業及び搬送の一例を説明する。
【００６６】図6の如く、ワークWが搬送手段の搬入側(搬入
側とする)の始端に載置されると、この搬入側が自動的
に回転して、当該ワークWは、搬入側Cの奥行き方向に水平
移動される。そして、ワークWが奥面位置に達すると、図示
しないセンサーにより所定の位置に停止する。この停止が確
認されると、図示しない、スイッチが作動して、図10、図11
の如く、アーム機構G用のシリンタ゛ー20が作動し、このシリンタ゛ー20
のヒ゜ストンロット゛200が後退して、リンク21を引戻すことで、アーム
取付杆18を回転する。このアーム取付杆18の回転により、アー
ムG1が図12において、矢示A方向に揺動して、ワークWの側面
に到り(図10の実線)、スイッチにより停止する。このアーム機構
Gの停止後、このスイッチ等の作動で、図10、図11の如く、ア
ーム機構G用のモータ16が回転する。この回転により、出力軸
の歯車15(平歯車)が回転し、この回転によってラック14が
前進方向に移動するとともに、このラック14の動きに同調
して、アーム移動体13及びアーム取付杆18等が前進移行する。
即ち、アームG1が前進移行する。このアームG1の前進移行で、
搬入側Cの奥面位置にあった、ワークWを所定の距離前進さ
せる(ワークWを分割した槽内に向かって水平移動させる)。
この前進位置で、図示しない、スイッチの動作により、ワークW
及びアーム機構Gが停止する(図10の想像線)。この停止後、
図10、図11において説明した、逆の操作となり、アーム機
構G用のシリンタ゛ー20が作動し、このシリンタ゛ー20のヒ゜ストンロット゛20
0が前進して、リンク21を復帰することで、アーム取付杆18を
逆回転(一例である)する。このアーム取付杆18の逆回転によ
り、アーム機構Gが図12において、矢示B方向に復帰して、ワ
ークWの側面を離れて、基の位置になり(図10の想像線)、
各動作が終了する。続いて、図10、図11において説明し
た、逆の操作となり、アーム機構G用のモータ16が逆回転(一例
である)する。この逆回転により、出力軸の歯車15が逆回
転し、この逆回転によってラック14が後退方向に移動する
とともに、このラック14の動きに同調して、アーム取付杆18が
後退移行する。即ち、アームG1が後退移行する。このアームG1の
後退移行により、当該アームG1、アーム取付杆18、アーム支持杆1
7等が基の位置になり(図10の実線)、各動作、及びワークW
の分割した槽内に向かっての水平移動が終了する。
【００６７】このアーム機構G1の移動・可動手段を利用し
て、ワークWが洗剤超音波洗浄工程に達し、槽下部E1のワーク
保持レール5に載架された段階で、スイッチの操作によりモータ28
が回転し、このモータ28の出力軸に設けた歯車26が回転
し、ラック25を下降させる。尚、このラック25は昇降框23に設
けられており、当該ラック25の下降は、そのまま昇降框23
の下降となり、この昇降框23は、カ゛イト゛体24を案内とし
て、上方フレームA2に設けた長孔22を下降する。この昇降框
23の下降を介して槽上部F1が順次下降し、図示しない、
スィッチの動作により停止する。この停止の際に、当該槽上
部F1と槽下部E1が合体し、この合体した槽に、ワークWが保
持される。尚、ワークWは、ワーク保持レール5に架承されて、槽
下部E1に陥没するように設けたので、超音波の減衰が少
ない特徴がある。またワーク保持レール5に関する水平搬送に
関する問題点も解消できる。槽下上部E1、F1が合体した
状態において、この槽下部E1に向って浄水及び/又は洗
剤でなる洗浄液を、順次供給し、当該槽上部F1の孔より
廃液しながら（洗浄液に浮遊等する夾雑物を排除しなが
ら）、超音波発振子の振動を利用して、ワークWを洗浄し、
この洗浄が終了する。この終了後、スイッチの操作によりモー
タ28が逆回転し、このモータ28の出力軸に設けた歯車26が逆
回転し、ラック25を上昇させる。当該ラック25の上昇は、その
まま昇降框23の上昇となり、この昇降框23は、カ゛イト゛体2
4を案内として、上方フレームA2に設けた長孔22を上昇する
とともに、この上昇時に洗浄液が、分割できる槽内に流
下する。この昇降框23の上昇を介して槽上部F1が順次上
昇し、図示しない、スィッチの動作により停止する。この停
止の際に、当該槽上部F1と槽下部E1が離間される。外槽
B及び槽下部E1の洗浄液は、配管50を介して洗浄液タンクK
にリターンされる。この一連の動作(アームWの揺動復帰と前進
後退、槽上部F1の昇降、又は洗浄液の供給及び排出等に
よる動作)で、例えば、第1工程となる洗浄が終了する。
尚、槽下上部E1、F1の接合(合体)部分の面積を広くし
て、確実な合体、又はシールの容易化、汚れ防止等を図
る。そして、ワークWに洗浄液に含まれる夾雑物の付着をな
くし、美麗な洗浄を図る。
【００６８】この第1工程が終了した時点で、リンス洗浄と
いう第2工程に移る。従って、第1工程の槽下部E1に存在
するワークWを、この第2工程に移行する必要があること、
搬入側Cの始端C1にある次のワークWを、搬入側Cの奥行き方
向に移行する必要がある。そこで、前述の如く、アームの揺
動と、前進移行とにより、この第1工程のワークWを、第2工
程に、また搬入側Cの搬入位置にある次のワークWを、この
搬入側の奥面C2位置に移行する。この移行後は、前述の
例と同様に、アームC1の復帰と、後退移行とにより基の位
置に戻すことで、この第2工程によるアーム機構Cの動作は
停止する。一方、槽下部E2に存在するワークWは、リンス洗浄が
行なわれる。このリンス洗浄におけるリンス液の流れと、リンス洗
浄後の槽上部F2の昇降とリンス液の流れは、前述の第1工程
の洗浄操作に準ずる。この一連の動作で、第2工程となる
リンス洗浄が終了する。尚、リンス液は、後述するリンスシャワー洗
浄の使用済みリンス液を利用する(カ゛スケート゛フロー)ことで、リンス
液の有効利用、経費の削減、合理化等を図る。
【００６９】この第2工程が終了した時点で、リンスシャワー洗
浄という第3工程に移る。従って、第2工程の槽下部E2に
存在するワークWを、この第3工程に移行する必要があるこ
と、搬入側Cの搬入位置にあるさらに次のワークWを、搬入
側Cの奥行き方向に移行する必要がある。この作業は、第
2工程のワークW及びさらに次のワークWを、前述のアームの揺動
と、前進移行とにより、この第2工程のワークWを、第3工程
に、また搬入側Cの搬入位置にあるさらに次のワークWを、
この搬入側の奥面C2位置に移行する。この移行後は、前
述の例と同様に、アームG1の復帰と、後退移行とにより基
の位置に戻すことで、この第3工程によるアーム機構Gの動
作は停止する。一方、槽下部E3に存在するワークWは、リンスシャ
ワー洗浄が行なわれ、第3工程のワークWを少なくとも一方
向、又は二方向(上下方向)、多方向等のノス゛ル8から洗浄
する。この洗浄は、孔からの廃液を要しない構造及び／
又は密封式槽構造として、リンス液の外気からの汚れ、他
の汚染等を回避すること、又は前記第2工程でのリンス液と
しての利用を図ること、等を意図する。このリンスシャワー洗
浄におけるリンス液の流れと、リンス洗浄後の槽上部F3の昇降
とリンス液の流れは、前述の第1工程の洗浄操作に準ずる。
但し、このリンスシャワー洗浄に使用された使用済みリンス液は、
リンス液タンクに供給して、リンス洗浄用のリンス液として利用する
(カ゛スケート゛フロー)。この一連の動作で、第3工程となるリンスシャ
ワー洗浄が終了する。
【００７０】この第3工程が終了した時点で、乾燥とい
う第4工程に移る。従って、第3工程の槽下部E3に存在す
るワークWを、この第4工程に移行する必要があること、搬
入側Cの搬入位置にある新しい次のワークWを、搬入側の奥
行き方向に移行する必要がある。この作業は、第3工程の
ワークW及び新しい次のワークWを、前述のアーム機構Gの揺動と、
前進移行して、この第3工程のワークWを、第4工程に、また
搬入側Cの搬入位置にあるさらに次のワークWを、この搬入
側Cの奥面C2位置に移行する。この移行後は、前述の例と
同様に、アーム機構Gの復帰と、後退移行とにより基の位置
に戻すことで、この第4工程によるアーム機構Gの動作は停
止する(ワークWを分割した槽外に向かって水平移動させ
る)。その後、槽上部F4が前述の第1工程と同様に下降
し、槽下部E4に合体した状態でワークWの乾燥処理が行なわ
れる。この乾燥処理終了後の操作は、前述の第1工程の洗
浄操作に準ずる。そして、この一連の動作で、第4工程と
なる乾燥、及びワークWの分割した槽外に向かって水平移動
が終了する。
【００７１】以上の第1〜4工程で、図示の例におけるワー
クWの洗浄処理が終了する。この終了後、処理済みワークW
は、第4工程から搬送手段の搬出側D(搬出側とする)に到
る。従って、第4工程の槽下部に存在するワークWを、この
搬出側Dに移行する必要があること、搬入側Cの搬入位置
にある最後のワークW(この一例における最後である)を、搬
入側Cの奥行き方向に移行する必要がある。この作業は、
第4工程のワークW及び最後のワークWを、前述のアーム機構Gの揺
動と、前進移行とにより、この第4工程のワークWを、搬出
側Dの奥面D2位置に送られる。この移行後は、前述の例
と同様に、アーム機構Gの復帰と、後退移行とにより基の位
置に戻すことで、この第4工程によるアーム機構Gの動作は
停止する。また搬入側Cの搬入位置に供給されたさらに次
の洗浄用のワークWは、搬入側Cのローラ2等の動作を介して奥
面C2位置に送られる。その後、槽上部F4の上昇等の操作
が行われる。また搬出側Dの奥面D2位置に達した処理済
みワークWは、搬出側Dのローラ3等の動作を介して終端D1に送
られる。
【００７２】以上で個別に説明した搬入側C、第1〜4工
程、及び搬出側Dが、一連の流れであって、この流れが
終了することで、ワークWの洗浄処理、乾燥処理が終了す
る。従って、この一連の流れを基に、自動的にワークWの搬
入・処理・搬出が行われる。そして、本発明では、洗剤
超音波・リンス超音波・リンスシャワー洗浄用の槽と、アーム機構Gの
移動・可動手段H・I、槽上部F1〜4の昇降手段J等の駆動
部とを離間し、当該洗剤超音波・リンス超音波・リンスシャワー洗
浄用の槽を遮蔽する構成としたので、外気、駆動部等か
らの塵、埃、異物等（塵類とする）による汚染をなく
し、洗浄液、ワークW、分割できる槽、又は外槽Bの汚れ防
止と、清掃回数の減少、又はメンテナンスの容易化等が図れ
る。また駆動部は、発塵防止を意図して、エアシリンタ゛ーを利
用する例もある。
【００７３】
【発明の効果】請求項1の発明は、装置に設けた上下に
分割できる槽と、槽下部の上面と略面一に設置したワーク
保持レールと、ワークを分割した槽内に向って水平移動、若し
くは分割した槽外に向って水平移動するための搬送手段
とで構成した洗浄装置である。従って、洗浄、乾燥処
理、及びワークの移動を、処理毎の槽上部の動き、及び水
平移動を利用して行なうことができるので、この種の作
業の簡略化、スヒ゜ート゛化、容易化等が図れること、又はワー
クに付着する夾雑物の確実かつ迅速な除去が図れるこ
と、また洗浄液等の供給量の調整と、洗浄液等に浮遊す
る夾雑物排除が図れること、開口部の面積に対する制限
がないこと、等の特徴がある。
【００７４】請求項2の発明は、搬送手段が、前進後退
する移動手段及び／又は揺動復帰する可動手段とでなる
アーム機構を備える構成とした洗浄装置である。従って、
請求項1に記載の発明を、確実に実施するに最適な搬送
手段を提供できる。
【００７５】請求項3の発明は、アーム機構の移動手段は、
ヘ゛ースフレームに略平行するように配置されたカ゛イト゛レールと、カ゛
イト゛レールに沿って移動する移動駒に設けたアーム移動体と、ア
ーム移動体に設けた移動装置と、アーム移動体に設けたアーム支
持?に軸承したアームを備えたアーム取付杆とで構成した洗浄
装置である。従って、請求項2に記載の発明を、確実に
実施するに最適なアーム機構の移動手段を提供できる。
【００７６】請求項4の発明は、移動装置が、アーム移動体
に設けた動作手段と、この動作手段を駆動するモータとで
構成した洗浄装置である。従って、請求項3に記載の発
明を、実施するに最適な移動装置を提供できる。
【００７７】請求項5の発明は、アーム機構の可動手段が、
ヘ゛ースフレームに略平行するように配置されるカ゛イト゛レールと、カ゛
イト゛レールに沿って移動する移動駒に設けたアーム移動体と、ア
ーム移動体に設けた可動装置を介してアームを備えたアーム取付
杆を設ける構成とした洗浄装置である。従って、請求項
2に記載の発明を、確実に実施するに最適なアーム機構の可
動手段を提供できる。
【００７８】請求項6の発明は、可動装置が、アーム移動体
に設けたシリンタ゛ーと、シリンタ゛ーのヒ゜ストンロット゛が固止されたリンク
と、リンクの自由端が固止されるアーム機構を設けたアーム取付
杆とで構成した洗浄装置である。従って、請求項5に記
載の発明を、実施するに最適な可動装置を提供できる。
【００７９】請求項7の発明は、シリンタ゛ーを、エアシリンタ゛ーと
する洗浄装置である。従って、発塵の発生を回避し、ま
た分割できる槽及び／又は外槽内の発塵落下、進入防止
が図れる特徴がある。
【００８０】請求項8の発明は、上下に分割できる槽
は、槽下部と、槽上部でなり、槽上部は、昇降手段、又
は可動手段等の動作により動く構成とした洗浄装置であ
る。従って、請求項1に記載の発明を、確実に実施する
に最適な分割できる槽を提供できる。
【００８１】請求項9の発明は、槽上部の昇降手段が、
上方フレームに設けた長孔を昇降する昇降框と、昇降框の昇
降を司る昇降装置とで構成した洗浄装置である。従っ
て、請求項8に記載の発明を、確実に実施するに最適な
槽上部の昇降手段を提供できる。
【００８２】請求項10の発明は、昇降装置が、昇降框に
設けた挾持部が遊嵌される上方フレームに設けたカ゛イト゛体
と、昇降框に設けたラックと、ラックに噛合する歯車と、歯車
を架承する回転軸と、回転軸を回転するモータとで構成し
た洗浄装置である。従って、請求項9に記載の発明を、
実施するに最適な昇降装置を提供できる。
【００８３】請求項11の発明は、分割できる槽を、槽下
上部の合体部分に、鍔片を形成し、槽下上部の密封を確
保する構成とした洗浄装置である。従って、洗浄液の漏
洩・飛散防止、合体部の密封、槽としての役割等を図る
こと、又は乾燥の効率化、機械加工、組付加工等の手当
てが図れる特徴がある。
【００８４】請求項12の発明は、洗浄装置が、外槽を備
えており、分割できる槽は、外槽内に設ける構成とした
洗浄装置である。従って、洗浄装置の分割できる槽の他
の例を提示して、本洗浄装置の簡略化、合理化、又は低
コスト化、メンテナンスの容易化等が図れる特徴がある。
【００８５】請求項13の発明は、洗浄装置が、分割でき
る槽を、複数基持っており、少くとも洗剤超音波洗浄、
超音波洗浄、シャワー洗浄等の洗浄槽と、温風乾燥、真空乾
燥等の乾燥槽とする洗浄装置である。従って、分割でき
る槽を特定し、この分割できる槽の有効利用を図りつ
つ、経費の削減、合理化等が図れる特徴がある。
【００８６】請求項14の発明は、洗浄槽に使用した洗浄
液が、洗剤を含む水、洗浄水、純水、超純水、又は有機
溶媒とし、個別使用及び／又は選択併用することを特徴
とした洗浄装置である。従って、請求項13の目的を達成
できる洗浄液を提供できる。
【００８７】請求項15の発明は、洗浄に使用した洗浄液
を、少なくとも一方の分割できる槽に供給・洗浄への利
用で使用済み洗浄液となり、一方のタンクに流下した後、
使用済み洗浄液を、他方のタンクに供給し、少なくとも他
方のタンクより分割できる槽に供給し、洗浄液として利用
する構成とした洗浄装置である。従って、洗浄における
使用済み洗浄液を、2基又は数基間において他の分割で
きる槽の洗浄液として利用する(カ゛スケート゛フロー)ことで、洗
浄液の有効利用、経費の削減、合理化等が図れる特徴が
ある。
【００８８】請求項16の発明は、装置に設けた上下に分
割できる槽と、槽下部の上面と略面一に設置したワーク保
持レールと、ワークを分割した槽内に向って水平移動、若しく
は分割した槽外に向って水平移動するための搬送手段と
で構成したワーク搬送方法であって、搬送手段を介してワーク
を、槽下部の一辺位置に停止し、停止後に、搬送手段を
介して槽下部の内方に水平移動してワークを、槽下部のレール
上に移動し、その後、槽下部と槽上部との合体を介して
ワークを洗浄し、処理済みワークを、搬送手段を介して槽下部
の外方に水平移動する構成の洗浄装置のワーク搬送方法で
ある。従って、請求項1に記載の発明を、確実に実施する
に最適なワーク搬送方法を提供できる。
【００８９】請求項17の発明は、装置に設けた搬送手
段、及び昇降する槽上部と合体する槽下部でなる分割で
きる槽と、搬送手段の搬入側、及び分割できる槽に設け
たワーク保持用レールに支持されたワークを、搬送手段の搬入側
から槽下部、又は搬送手段の搬出側に向って順次水平搬
送するためのワーク搬送用のアーム機構とで構成される洗浄装
置のワーク搬送方法であって、搬送手段を介してワークを奥行
き方向に水平移動して、搬送手段の搬入側の奥面位置に
停止した後、アーム機構が下方に揺動してワークの側面に到
り、その後、アーム機構の横方向に水平移動して、処理済
みワークを槽下部又は搬送手段の搬出側の奥面位置に移動
した後、アーム機構が上方に揺動し、アーム機構が基の位置に
復帰した後、槽下部に降下した槽上部が合体し、洗浄・
乾燥処理した後に、槽上部が上昇して合体を開放し、搬
送手段の搬入側の搬入位置への新しいワークの供給、及び
搬送手段の搬出側の奥面位置からの処理済みワークの搬出
位置への移動を図り一連の搬送を行なう構成とした洗浄
装置のワーク搬送方法である。従って、請求項1が意図する
内容に、さらに洗浄装置のアーム機構の移動・可動手段、
又は槽上部の昇降手段等による発塵が、分離できる槽及
び外槽に侵入しない洗浄装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(イ)〜(ホ)は本発明の一例の動作全体を説明する
模式図、（イ）は槽上部が上昇した状態、（ロ）はワークが
槽下部内に搬送された後、槽上部が降下し、槽下部と合
体した状態、（ハ）はワークを洗浄する状態、（ニ）は洗浄
後に槽上部が上昇した状態、（ホ）はワークが槽下部外に搬
送された状態、また（イ'）は（イ）の平面視した状態で
ある。
【図2】一例を説明する全体の縮尺正面模式図である。
【図3】一例を説明する平面図である。
【図4】一例を説明する側面図である。
【図5】他の一例を説明する全体の縮尺正面模式図であ
る。
【図6】他の一例を説明する平面図である。
【図7】他の一例を説明する側面図である。
【図8】他の一例の洗剤超音波洗浄又はリンス超音波洗浄を
説明する模式図である。
【図9】他の一例のリンスシャワー洗浄を説明する模式図であ
る。
【図10】他の一例のアーム機構の移動・可動手段を説明する
一部欠截の平面模式図である。
【図11】他の一例のアーム機構の移動・可動手段を説明する
側面模式図である。
【図12】他の一例のアーム機構の可動手段における可動を
説明する拡大正面模式図である。
【図13】他の一例のアーム機構の可動手段における要部を
説明する拡大正面模式図である。
【図14】他の一例のアーム機構の可動手段における可動の
回路を説明する拡大正面模式図である。
【図15】他の一例の槽上部の昇降手段を説明する平面模
式図である。
【図16】他の一例の槽上部の昇降手段を説明する側面模
式図である。
【図17】他の一例の洗剤超音波洗浄を説明するフローチャート
図である。
【図18】他の一例のリンス超音波・リンスシャワー洗浄を説明するフ
ローチャート図である。
【図19】従来の洗浄装置の一例を説明する模式図であ
る。
【符号の説明】
A フレーム A1 ヘ゛ースフレーム A2 上方フレーム B 外槽 C 搬入側 C1 始端 C2 奥面 D 搬出側 D1 終端 D2 奥面 E1〜E4 槽下部 F1〜F4 槽上部 G アーム機構 H 移動手段 I 可動手段 J 昇降手段 K 洗浄液タンク L リンス液タンク M リンス液タンク N 超音波発生器 1 区画板 100 排液口 1000 ローラ 2 ローラ 3 ローラ 4 開口 5 ワーク保持レール 6 鍔片 7 鍔片 70 溝 8 ノス゛ル 9 温風排出口 10 アーム支持体 11 カ゛イト゛レール 12 移動駒 13 アーム移動体 14 ラック 15 歯車 16 モータ 17 アーム支持杆 18 アーム取付杆 20 シリンタ゛ー 200 ヒ゜ストンロット゛ 21 リンク 22 長孔 23 昇降框 230 挾持部 24 カ゛イト゛体 25 ラック 26 歯車 27 回転軸 28 モータ 29 支持体 30 支持体 40 配管 41 配管 42 配管 43 ヒーター 44 ホ゜ンフ゜ 45 配管 50 配管 51 配管 52 配管 53 ヒーター 54 ホ゜ンフ゜ 55 配管 56 脱酸素装置 60 配管 61 配管 63 ヒーター 64 ホ゜ンフ゜ 65 配管 67 仕切板 X 槽方向 Y 水平方向 W ワーク

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 装置に設けた上下に分割できる槽と、槽
    下部の上面と略面一に設置したワーク保持レールと、ワークを分
    割した槽内に向って水平移動、若しくは分割した槽外に
    向って水平移動するための搬送手段とで構成した洗浄装
    置。
  2. 【請求項２】 請求項1に記載の搬送手段は、前進後退
    する移動手段及び／又は揺動復帰する可動手段とでなる
    アーム機構を備える構成とした洗浄装置。
  3. 【請求項３】 請求項2に記載のアーム機構の移動手段は、
    ヘ゛ースフレームに略平行するように配置されたカ゛イト゛レールと、こ
    のカ゛イト゛レールに沿って移動する移動駒に設けたアーム移動体
    と、このアーム移動体に設けた移動装置と、このアーム移動体
    に設けたアーム支持?に軸承したアームを備えたアーム取付杆とで
    構成した洗浄装置。
  4. 【請求項４】 請求項3に記載の移動装置は、アーム移動体
    に設けた動作手段と、この動作手段を駆動するモータとで
    構成した洗浄装置。
  5. 【請求項５】 請求項2に記載のアーム機構の可動手段は、
    ヘ゛ースフレームに略平行するように配置されたカ゛イト゛レールと、こ
    のカ゛イト゛レールに沿って移動する移動駒に設けたアーム移動体
    と、このアーム移動体に設けた可動装置を介してアームを備え
    たアーム取付杆を設ける構成とした洗浄装置。
  6. 【請求項６】 請求項5に記載の可動装置は、アーム移動体
    に設けたシリンタ゛ーと、このシリンタ゛ーのヒ゜ストンロット゛が固止され
    たリンクと、このリンクの自由端が固止されるアーム機構を設け
    たアーム取付杆とで構成した洗浄装置。
  7. 【請求項７】 請求項6に記載のシリンタ゛ーを、エアシリンタ゛ーと
    する洗浄装置。
  8. 【請求項８】 請求項1に記載の上下に分割できる槽
    は、槽下部と、槽上部でなり、この槽上部は、昇降手
    段、又は可動手段等の動作により動く構成とした洗浄装
    置。
  9. 【請求項９】 請求項8に記載の槽上部の昇降手段は、
    上方フレームに設けた長孔を昇降する昇降框と、この昇降框
    の昇降を司る昇降装置とで構成した洗浄装置。
  10. 【請求項１０】 請求項9に記載の昇降装置は、昇降框
    に設けた挾持部が遊嵌される上方フレームに設けたカ゛イト゛体
    と、この昇降框に設けたラックと、このラックに噛合する歯車
    と、この歯車を架承する回転軸と、この回転軸を回転す
    るモータとで構成した洗浄装置。
  11. 【請求項１１】 請求項8に記載の分割できる槽は、槽
    下上部の合体部分に、鍔片を形成し、この槽下上部の密
    封を確保する構成とした洗浄装置。
  12. 【請求項１２】 請求項1に記載の洗浄装置は、外槽を
    備えており、分割できる槽は、この外槽内に設ける構成
    とした洗浄装置。
  13. 【請求項１３】 請求項1に記載の洗浄装置は、分割で
    きる槽を、複数基面持っており、少なくとも洗剤超音波
    洗浄、超音波洗浄、シャワー洗浄等の洗浄槽と、温風乾燥、
    真空乾燥等の乾燥槽とする洗浄装置。
  14. 【請求項１４】 請求項13の洗浄槽に使用する洗浄液
    は、洗剤を含む水、洗浄水、純水、超純水、又は有機溶
    媒とし、個別使用及び／又は選択併用することを特徴と
    した洗浄装置。
  15. 【請求項１５】 請求項13の洗浄に使用した洗浄液を、
    少なくとも一方の分割できる槽に供給・洗浄への利用で
    使用済み洗浄液となり、一方のタンクに流下した後、この
    使用済み洗浄液を、少なくとも他方のタンクに供給し、こ
    の他方のタンクより分割できる槽に供給し、洗浄液として
    利用する構成とした洗浄装置。
  16. 【請求項１６】 装置に設けた上下に分割できる槽と、
    槽下部の上面と略面一に設置したワーク保持レールと、ワークを
    分割した槽内に向って水平移動、若しくは分割した槽外
    に向って水平移動するための搬送手段とで構成したワーク
    搬送方法であって、 前記搬送手段を介してワークを、槽下部の一辺位置に停止
    し、この停止後に、前記搬送手段を介して槽下部の内方
    に水平移動してワークを、この槽下部のレール上に移動し、そ
    の後、この槽下部と槽上部との合体を介してワークを洗浄
    し、この処理済みワークを、搬送手段を介して槽下部の外
    方に水平移動する構成の洗浄装置のワーク搬送方法。
  17. 【請求項１７】 装置に設けた上下に分割できる槽と、
    槽下部の上面と略面一に設置したワーク保持レールと、ワークを
    分割した槽内に向って水平移動、若しくは分割した槽外
    に向って水平移動するための搬送手段とで構成したワーク
    搬送方法であって、 前記搬送手段を介してワークを奥行き方向に水平移動し
    て、搬送手段の搬入側の奥面位置に停止した後、前記アー
    ム機構が下方に揺動してワークの側面に到り、その後、当該
    アーム機構の横方向に水平移動して、処理済みワークを槽下部
    又は搬送手段の搬出側の奥面位置に移動した後、アーム機
    構が上方に揺動し、前記アーム機構が基の位置に復帰した
    後、前記槽下部に降下した槽上部が合体し、洗浄・乾燥
    処理した後に、当該槽上部が上昇して前記合体を開放
    し、前記搬送手段の搬入側の搬入位置への新しいワークの
    供給、及び搬送手段の搬出側の奥面位置からの処理済み
    ワークの搬出位置への移動を図り一連の搬送を行なう構成
    とした洗浄装置のワーク搬送方法。
JP2001364391A 2001-11-29 2001-11-29 洗浄装置と、そのワーク搬送方法 Pending JP2003164816A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001364391A JP2003164816A (ja) 2001-11-29 2001-11-29 洗浄装置と、そのワーク搬送方法
US10/304,003 US7290551B2 (en) 2001-11-29 2002-11-26 Washing device and its work conveying method
US11/263,994 US7628867B2 (en) 2001-11-29 2005-11-02 Washing device and its work conveying method
US11/905,651 US7806987B2 (en) 2001-11-29 2007-10-03 Washing device and its work conveying method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001364391A JP2003164816A (ja) 2001-11-29 2001-11-29 洗浄装置と、そのワーク搬送方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003164816A true JP2003164816A (ja) 2003-06-10

Family

ID=19174589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001364391A Pending JP2003164816A (ja) 2001-11-29 2001-11-29 洗浄装置と、そのワーク搬送方法

Country Status (2)

Country Link
US (3) US7290551B2 (ja)
JP (1) JP2003164816A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101178307B1 (ko) * 2011-09-01 2012-08-29 주식회사 피알 엔진실린더헤드 이물질제거용 에어블로잉장치
CN103640739A (zh) * 2013-12-05 2014-03-19 镇江市顶智微电子科技有限公司 一种输送推进涮洗灌装瓶的方法
CN105214996A (zh) * 2015-09-25 2016-01-06 无锡市博阳超声电器有限公司 一种超声波清洗烘干器
CN111036587A (zh) * 2019-12-13 2020-04-21 彩虹（合肥）液晶玻璃有限公司 一种清洁装置和气浮台

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003164816A (ja) * 2001-11-29 2003-06-10 Fine Machine Kataoka Kk 洗浄装置と、そのワーク搬送方法
US7146991B2 (en) * 2002-01-23 2006-12-12 Cinetic Automation Corporation Parts washer system
KR20040110391A (ko) * 2003-06-19 2004-12-31 삼성전자주식회사 기판 처리 장치
US7338565B2 (en) * 2003-08-21 2008-03-04 Cinetic Automation Corporation Housingless washer
DE102007063169A1 (de) * 2007-12-19 2009-06-25 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren und Anlage zum Bearbeiten bzw. Reinigen von Si-Blöcken
DE102008053598A1 (de) * 2008-10-15 2010-04-22 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren zum Lösen von Wafern von einem Waferträger und Vorrichtung dafür
KR20120028079A (ko) * 2010-09-14 2012-03-22 삼성모바일디스플레이주식회사 기판의 세정 장치 및 세정 방법
DE102012209902A1 (de) * 2012-06-13 2013-12-19 Singulus Stangl Solar Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Halbleiterstäben mit einer Flüssigkeit oder einem Gas
CN103495579B (zh) * 2013-10-25 2015-09-16 金建清 全自动封闭式网版清洗机及其清洗网版方法
CN103625676B (zh) * 2013-12-05 2015-12-30 镇江市顶智微电子科技有限公司 一种灌装液体瓶输送推进装置
CN103626105A (zh) * 2013-12-05 2014-03-12 镇江市顶智微电子科技有限公司 一种振动输送识别推进涮洗灌装试剂瓶的方法
CN103626106A (zh) * 2013-12-05 2014-03-12 镇江市顶智微电子科技有限公司 一种输送推进涮洗灌装试剂瓶系统
CN112743839A (zh) * 2020-11-30 2021-05-04 安徽工程大学 一种dlp光固化3d打印机光辐照度补偿的装置
CN112547681A (zh) * 2021-01-20 2021-03-26 刘浩 一种网子清洗烘干设备
CN112722779A (zh) * 2021-01-25 2021-04-30 东莞市劲华五金机械有限公司 一种汽车零件自动化加工用具有夹持结构的传送设备
CN114308772A (zh) * 2021-12-17 2022-04-12 深圳市婵渝羚珊表业有限公司 一种钟表配件加工装置
CN116274039B (zh) * 2023-01-04 2023-12-29 河南宏基幕墙制造有限公司 一种具有自动出料功能的铝板清洗设备

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3166082A (en) * 1962-03-06 1965-01-19 Ajem Lab Inc Industrial parts washer
US3276984A (en) * 1962-07-25 1966-10-04 Gen Motors Corp Plating machine
US3625233A (en) * 1969-06-19 1971-12-07 Creston Equipment Corp Dish washing machine
US3688782A (en) * 1970-08-17 1972-09-05 Charles E Smith Washing apparatus for hollow containers
US3813895A (en) * 1972-09-28 1974-06-04 Air Prod & Chem Food freezing apparatus
SE459084B (sv) * 1987-10-07 1989-06-05 Sture Lindvall Doppanordning foer transport av godsbaerare utefter ett flertal i tur och ordning foeljande arbetsstationer
JPH01192122A (ja) 1988-01-28 1989-08-02 Sumitomo Electric Ind Ltd 洗浄槽
JPH0247046U (ja) * 1988-09-28 1990-03-30
JPH07136606A (ja) 1993-11-11 1995-05-30 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd 洗浄装置
DE4413077C2 (de) * 1994-04-15 1997-02-06 Steag Micro Tech Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur chemischen Behandlung von Substraten
KR0179784B1 (ko) 1995-12-19 1999-04-15 문정환 반도체 웨이퍼 세정장치
US6164297A (en) * 1997-06-13 2000-12-26 Tokyo Electron Limited Cleaning and drying apparatus for objects to be processed
JP2001000340A (ja) 1999-06-25 2001-01-09 Leben Co Ltd 揺動回転運動をする電動ミキサ及び電動カッタ
JP3343344B2 (ja) 2000-05-30 2002-11-11 ファインマシーンカタオカ株式会社 超音波洗浄装置
JP2003164816A (ja) * 2001-11-29 2003-06-10 Fine Machine Kataoka Kk 洗浄装置と、そのワーク搬送方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101178307B1 (ko) * 2011-09-01 2012-08-29 주식회사 피알 엔진실린더헤드 이물질제거용 에어블로잉장치
CN103640739A (zh) * 2013-12-05 2014-03-19 镇江市顶智微电子科技有限公司 一种输送推进涮洗灌装瓶的方法
CN105214996A (zh) * 2015-09-25 2016-01-06 无锡市博阳超声电器有限公司 一种超声波清洗烘干器
CN111036587A (zh) * 2019-12-13 2020-04-21 彩虹（合肥）液晶玻璃有限公司 一种清洁装置和气浮台

Also Published As

Publication number Publication date
US20030121536A1 (en) 2003-07-03
US7806987B2 (en) 2010-10-05
US7628867B2 (en) 2009-12-08
US20060054192A1 (en) 2006-03-16
US20080196741A1 (en) 2008-08-21
US7290551B2 (en) 2007-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003164816A (ja) 洗浄装置と、そのワーク搬送方法
US9364869B2 (en) Turret-type cleaning apparatus
CZ264099A3 (cs) Zařízení pro průmyslové čištění
CN205995888U (zh) 全自动化学发光试剂瓶清洗机
CN106938264A (zh) 一种光学元件挥发溶剂循环回收利用的自动清洗装置
CN111545542A (zh) 生物制药用试管自动清洗工艺
CN106076970A (zh) 通道式轴承内圈自动清洗机
KR0165559B1 (ko) 반송장치
JP2010017705A (ja) 洗浄装置
KR100552236B1 (ko) 세정장치와 그 워크반송방법
JP3343344B2 (ja) 超音波洗浄装置
CN217451275U (zh) 一种变速器阀板高精度清洗线
JP6347921B2 (ja) 超音波洗浄装置
JPH06179991A (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
JP4491370B2 (ja) 容器洗浄装置
JPS6362599B2 (ja)
JP2008036469A (ja) 連続浸漬処理装置
CN110575107A (zh) 全自动双层网带传送立体循环洗碗机
CN218950992U (zh) 一种清洗剂生产线清污设备
CN209792100U (zh) 一种机械零部件生产加工除尘装置
CN219793172U (zh) 一种自动链带输送水平移位的表面处理设备
JP3013120B2 (ja) 洗浄・乾燥装置
CN108622032A (zh) 一种汽车清洗打泡沫设备
CN214441639U (zh) 一种容器清洗机的夹持输送装置
CN213728042U (zh) 一种用于金属铸件加工表面清洗装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040420

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060215

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060317

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20061228

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070122

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20070122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20070122

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070302

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20070511

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090302