JP2003141713A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】走行耐久性に優れると共に優れた塗膜平滑性、
電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】支持体上に放射線硬化型樹脂から形成され
た下塗り層を有し、その上に強磁性微粉末及び結合剤を
含有する少なくとも１層の磁性層を設けた磁気記録媒体
において、該放射線硬化型樹脂が脂環式環状構造を有
し、かつ１分子中に２個以上の放射線硬化官能基を有す
る化合物であり、前記下塗り層は放射線硬化された層で
あって、該磁性層の厚みが、０．０５μｍ〜２．０μｍ
であり、かつ、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定
される高さが１０〜２０ｎｍである突起数が、磁性層表
面１００μｍ²当たり５〜１０００個であることを特徴
とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、支持体上に少なく
とも磁性層を設けた磁気記録媒体において、優れた電磁
変換特性及び耐久性をもつ磁気記録媒体に関するもので
ある。 【０００２】 【従来技術】オーディオ用、ビデオ用、コンピュータ用
などのテープ状磁気記録媒体及びフロッピー（登録商
標）ディスクなどのディスク状磁気記録媒体としてγ酸
化鉄、Ｃｏ含有酸化鉄、酸化クロム、強磁性金属微粉末
などの強磁性微粉末を結合剤中に分散させた磁性層を支
持体上に設けた磁気記録媒体が用いられている。磁気記
録媒体に用いられている支持体としては一般にポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどが
用いられている。これらの支持体は延伸し高度に結晶化
されているため機械的強度が強く耐溶剤性に優れてい
る。 【０００３】強磁性微粉末を結合剤中に分散させた塗布
液を支持体に塗布して得られる磁性層は強磁性微粉末の
充填度が高く破断伸びが小さく脆いため下塗り層を設け
ずに形成された磁性層は機械的な力を加えることにより
簡単に破壊され支持体から剥離することがある。そこ
で、支持体上に下塗り層を設けて、磁性層を支持体上に
強く接着させることが行われている。 【０００４】例えば、電子線などの放射線により硬化す
る官能基をもつ化合物、即ち放射線硬化型化合物を用い
て下塗り層を形成することが知られている。例えば、特
開昭６０−１３３５２９号公報、同６０−１３３５３０
号公報、同６０−１５０２２７号公報、特開平５−５７
６４７号公報等には、放射線硬化型化合物として、２官
能の脂肪族系化合物を用いて下塗り層を形成した磁気記
録媒体を開示してる。これらの脂肪族系化合物は硬化後
の塗膜のガラス転移温度が高いもので４０℃程度であ
り、下塗り層を塗布した後の塗布工程で粘着故障を起こ
すことがあるという問題があった。一方、これらの脂肪
族系放射線硬化型化合物は（メタ）アクリロイル官能基
を増やすことで粘着故障を防止することが可能だが、多
官能化すると硬化収縮が大きくなり平滑な塗膜が得られ
ないことやポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポ
リエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などの支持体との密
着力が低くなり、十分な走行耐久性や電磁変換特性が得
られないことがある。 【０００５】また、特開昭６１−１３４３０号公報及び
同５８−１４６０２３号公報等では環構造をもつ電子線
硬化型化合物の例を開示している。特開昭６１−１３４
３０号公報ではフタル酸とポリエ−テルポリオ−ルから
なる電子線硬化型化合物を用いている。同５８−１４６
０２３号公報はジソシアネ−ト化合物に電子線硬化官能
基とイソシネ−トと反応する基をもつ化合物を反応させ
たものを用いている。ジイソシアネ−ト化合物はトリレ
ンジイソシアネ−トなどの芳香環を有するものである。
これらの芳香環を用いたものは、硬化後の塗膜が脆くな
りやすく、支持体との密着が不十分になり走行時の磁性
塗膜が脱落しやすい欠点がある。 【０００６】更に、近年ＭＲ（磁気抵抗）を動作原理と
する再生ヘッドが提案され、ハードディスク等で使用さ
れ始め、また、特開平８−２２７５１７号公報には磁気
テープへの応用が提案されている。ＭＲヘッドは誘導型
磁気ヘッドに比較して数倍の再生出力が得られ、かつ誘
導コイルを用いないため、インピーダンスノイズ等の機
器ノイズが大幅に低下し、磁気記録媒体のノイズを下げ
ることで大きなＳＮ比を得ることが可能になってきた。
換言すれば従来機器ノイズに隠れていた磁気記録媒体ノ
イズを小さくすれば良好な記録再生が行え、高密度記録
特性が飛躍的に向上できることになる。 【０００７】ところがＭＲヘッドは微小な熱の影響を受
けてノイズ（サーマルノイズ）を発生するという問題が
あり、特に、磁性層表面にある突起に当たるとその影響
で突発的に且つ持続してノイズが増大するという問題が
あり、ディジタル記録の場合エラー補正が不可能なほど
の問題を起こすことがある。このサーマルノイズの問題
は、記録密度が０．５Ｇbit/inch² 以上の記録信号を再
生するシステムに供される磁気記録媒体において深刻と
なる。このようなサーマルノイズを低減するには、磁性
層の表面性を制御することが重要であり、そのための好
適な手段が望まれている。 【０００８】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、走行耐久性
に優れると共に優れた塗膜平滑性、電磁変換特性を有す
る磁気記録媒体を提供することを課題とする。 【０００９】 【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に放
射線硬化型樹脂から形成された下塗り層を有し、その上
に強磁性微粉末及び結合剤を含有する少なくとも１層の
磁性層を設けた磁気記録媒体において、該放射線硬化型
樹脂が脂環式環状構造を有し、かつ１分子中に２個以上
の放射線硬化官能基を有する化合物であり、前記下塗り
層は放射線硬化された層であって、該磁性層の厚みが、
０．０５μｍ〜２．０μｍであり、かつ、原子間力顕微
鏡（ＡＦＭ）によって測定される高さが１０〜２０ｎｍ
である突起数が、磁性層表面１００μｍ²当たり５〜１
０００個であることを特徴とする磁気記録媒体である。
本発明の好ましい態様は次の通りである。 １）上記脂環式環状構造は原子を共有している複数の環
からなる構造である上記磁気記録媒体。 【００１０】 【発明の実施の態様】本発明において用いられる放射線
硬化型樹脂は、脂環式環状構造を有し、かつ１分子中に
２個以上の放射線硬化官能基を有する化合物であり、下
塗り層を形成するための下塗り剤に少なくとも含有され
る。用いられる放射線硬化型樹脂は、放射線、例えば、
電子線、紫外線などによるエネルギーが与えられると重
合乃至架橋して高分子化して硬化する性質を有する。そ
して、放射線硬化型樹脂は、それらのエネルギーを与え
ない限り反応が進まない。そのため放射線硬化型樹脂を
含む塗布液は、放射線を照射しない限り粘度が安定して
おり、高い塗膜平滑性を得ることができる。また、放射
線による高いエネルギーにより瞬時に反応が進むため、
高い塗膜強度を得ることができる。これは、放射線硬化
型樹脂は数ｍＰａ・ｓ〜２００ｍＰａ・ｓと比較的低粘
度であり、下塗り層を塗布した後のレベリング効果によ
り支持体の突起を遮蔽し、平滑な支持体が形成されるた
めである。そして、その下塗り層上に磁性液を塗布する
ことで塗膜表面の平滑性に優れた磁性層が得られ、ひい
ては優れた電磁変換特性が得られる磁気記録媒体を提供
できたものと考えられる。特にこの効果は磁性層厚みが
０．０５μｍ〜２．０μｍといった比較的薄い厚みのも
ので顕著であり、塗膜表面の平滑性のなかでも、近年の
高記録密度化に伴い使用されているＭＲヘッドを用いた
磁気記録においてノイズとなりやすい磁性層表面の微小
突起を低減できる効果がある。また、放射線硬化型樹脂
は脂環式環状構造をもつので従来の脂肪族系に比べてガ
ラス転移温度が高いので、下塗り剤を塗布したあとの工
程での粘着故障が発生しない特徴もある。またシクロヘ
キサン環やビシクロ、トリシクロ、スピロなどの脂環式
系の骨格を有するので硬化による塗膜収縮が少なく、支
持体との密着力も高くでき優れた走行耐久性も得ること
ができた。 【００１１】上記放射線硬化型樹脂の分子量は、２００
〜１０００が好ましく、２００〜５００が更に好まし
い。また、粘度は２５℃で５〜２００ｍＰａ・ｓが好ま
しく、更に好ましくは５〜１００ｍＰａ・ｓである。 【００１２】放射線硬化型樹脂としては、アクリル酸エ
ステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル
類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエー
テル類、ビニルエステル類等を挙げることができる。中
でもアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類が
好ましく、特に放射線硬化官能基、即ちアクリロイル基
を２個有したアクリル酸エステル類が好ましい。 【００１３】用いることのできる放射線硬化型樹脂は、
脂環式環状構造を有するものである。脂環式環状構造と
はシクロ骨格、ビシクロ骨格、トリシクロ骨格、スピロ
骨格、ジスピロ骨格等の骨格を有するものである。中で
も原子を共有している複数の環からなる構造であるも
の、例えば、ビシクロ骨格、トリシクロ骨格、スピロ骨
格、ジスピロ骨格等の骨格を有するものが好ましい。こ
れら骨格としては、エステル類、アミド類等の放射線硬
化型樹脂を形成するためのポリオール、ポリアミン等の
残基となるものが挙げられる。放射線硬化型樹脂はその
残基に放射線硬化官能基を各々結合してなるものであ
る。 【００１４】放射線硬化型樹脂の具体例としては以下の
ようなものが挙げられる。シクロプロパンジアクリレー
ト、シクロペンタンジアクリレート、シクロヘキサンジ
アクリレート、シクロブタンジアクリレート、ジメチロ
ールシクロプロパンジアクリレート、ジメチロールシク
ロペンタンジアクリレート、ジメチロールシクロヘキサ
ンジアクリレート、ジメチロ−ルシクロブタンジアクリ
レート、シクロプロパンジメタクリレート、シクロペン
タンジメタクリレート、シクロヘキサンジメタクリレー
ト、シクロブタンジメタクリレート、ジメチロールシク
ロプロパンジメタクリレート、ジメチロールシクロペン
タンジメタクリレート、ジメチロールシクロヘキサンジ
メタクリレート、ジメチロ−ルシクロブタンジメタクリ
レート、ビシクロブタンジアクリレート、ビシクロオク
タンジアクリレート、ビシクロノナンジアクリレート、
ビシクロウンデカンジアクリレート、ジメチロ−ルビシ
クロブタンジアクリレート、ジメチロールビシクロオク
タンジアクリレート、ジメチロールビシクロノナンジア
クリレート、ジメチロールビシクロウンデカンジアクリ
レート、ビシクロブタンジメタクリレート、ビシクロオ
クタンジメタクリレート、ビシクロノナンジメタクリレ
ート、ビシクロウンデカンジメタクリレート、ジメチロ
−ルビシクロブタンジメタクリレート、ジメチロールビ
シクロオクタンジメタクリレート、ジメチロールビシク
ロノナンジメタクリレート、ジメチロールビシクロウン
デカンジメタクリレート、トリシクロヘプタンジアクリ
レート、トリシクロデカンジアクリレート、トリシクロ
ドデカンジアクリレート、トリシクロウンデカンジアク
リレート、トリシクロテトラデカンジアクリレート、ト
リシクロデカントリデカンジアクリレート、ジメチロー
ルトリシクロヘプタンジアクリレート、ジメチロールト
リシクロデカンジアクリレート、ジメチロールトリシク
ロドデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロウ
ンデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロテト
ラデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカ
ントリデカンジアクリレート、トリシクロヘプタンジジ
メタクリレート、トリシクロデカンジメタクリレート、
トリシクロドデカンジメタクリレート、トリシクロウン
デカンジメタクリレート、トリシクロテトラデカンジメ
タクリレート、トリシクロデカントリデカンジメタクリ
レート、ジメチロールトリシクロヘプタンジメタクリレ
ート、ジメチロールトリシクロデカンジメタクリレー
ト、ジメチロールトリシクロドデカンジメタクリレー
ト、ジメチロールトリシクロウンデカンジメタクリレー
ト、ジメチロールトリシクロテトラデカンジメタクリレ
ート、ジメチロールトリシクロデカントリデカンジメタ
クリレート、スピロオクタンジアクリレート、スピロヘ
プタンジアクリレート、スピロデカンジアクリレート、
シクロペンタンスピロシクロブタンジアクリレート、シ
クロヘキサンスピロシクロペンタンジアクリレート、ス
ピロビシクロヘキサンジアクリレート、ジスピロヘプタ
デカンジアクリレート、ジメチロールスピロオクタンジ
アクリレート、ジメチロールスピロヘプタンジアクリレ
ート、ジメチロールスピロデカンジアクリレート、ジメ
チロールシクロペンタンスピロシクロブタンジアクリレ
ート、ジメチロールシクロヘキサンスピロシクロペンタ
ンジアクリレート、ジメチロールスピロビシクロヘキサ
ンジアクリレート、ジメチロールジスピロヘプタデカン
ジアクリレート、スピロオクタンジメタクリレート、ス
ピロヘプタンジメタクリレート、スピロデカンジメタク
リレート、シクロペンタンスピロシクロブタンジメタク
リレート、シクロヘキサンスピロシクロペンタンジメタ
クリレート、スピロビシクロヘキサンジメタクリレー
ト、ジスピロヘプタデカンジメタクリレート、ジメチロ
ールスピロオクタンジメタクリレート、ジメチロールス
ピロヘプタンジメタクリレート、ジメチロールスピロデ
カンジメタクリレート、ジメチロールシクロペンタンス
ピロシクロブタンジメタクリレート、ジメチロールシク
ロヘキサンスピロシクロペンタンジメタクリレート、ジ
メチロールスピロビシクロヘキサンジメタクリレート、
ジメチロールジスピロヘプタデカンジメタクリレート。
なかでも好ましいものはジメチロールトリシクロデカン
ジアクリレート、ジメチロールビシクロオクタンジアク
リレート、ジメチロールスピロオクタンジアクリレート
である。特に好ましくはジメチロールトリシクロデカン
ジアクリレートであり、市販されている具体的化合物と
しては日本化薬製ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６８４、共栄社
化学製ライトアクリレートＤＣＰ−Ａ、大日本インキ製
ＬＵＭＩＣＵＲＥ ＤＣＡ−２００などがある。 【００１５】下塗り剤としては、放射線硬化型樹脂に加
えて他の放射線硬化型化合物を併用することができる。
併用可能な化合物としては、１官能のアクリレート化合
物やメタクリレート化合物が挙げられ、これらを反応性
希釈剤として用いることができる。反応性希釈剤は下塗
り剤の物性や下塗り剤の硬化反応を調整する機能を有す
る。併用可能な化合物の好ましい構造は、上記本発明に
用いる放射線硬化型樹脂において、１分子中に放射線硬
化官能基が１個である１官能基アクリレート化合物が挙
げられ、具体的な例としてはシクロヘキシル（メタ）ア
クリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、テトラ
ヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられ
る。ここで、（メタ）アクリレートはメタクリレート及
びアクリレートを包含することを意味する。併用可能な
化合物の配合量は本発明に用いる放射線硬化型樹脂に対
して１０〜１００質量％が好ましい。 【００１６】放射線硬化型樹脂を含む下塗り剤は、必要
により溶媒に溶解して用いることができる。下塗り剤の
粘度は、５〜２００ｍＰａ・ｓが好ましい。溶媒として
は、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メタノール、エタ
ノール、トルエン等が好ましい。下塗り剤は、支持体上
に塗布、乾燥後に放射線照射され、硬化するが、その下
塗り層の硬化後のガラス転移温度Ｔｇは、８０〜１５０
℃が好ましく、更に好ましくは１００〜１３０℃であ
る。Ｔｇが８０℃未満では、塗布工程で粘着故障を起こ
すことがあり、Ｔｇが１５０℃を超えると塗膜がもろく
なることがある。 【００１７】下塗り層の厚みは、０．１μｍ〜１．０μ
ｍが好ましく、更に好ましくは０．５〜０．７μｍであ
る。０．１μｍ未満では十分な平滑性を得ることが容易
ではない。１．０μｍ以上では、塗膜が乾燥しにくくな
るので粘着故障を起こすことがある。 【００１８】下塗り層が設けられる支持体としては、二
軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリアミド（芳香族、脂肪族な
ど）、ポリアミドイミド（芳香族、脂肪族など）等の公
知のものが使用できる。好ましくはポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドであ
る。これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。支持体
の中心面平均表面粗さはカットオフ値０．２５ｍｍにお
いて３〜１０ｎｍが好ましい。 【００１９】支持体上に塗布、乾燥された下塗り剤は、
放射線照射が施される。本発明において使用される放射
線は、上記したように電子線や紫外線を用いることがで
きる。紫外線を使用する場合には下塗り剤に光重合開始
剤を添加することが必要となる。電子線硬化の場合は重
合開始剤が不要であり、透過深さも深いので好ましい。
電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャ
ニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できる
が、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテ
ンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が
通常、３０〜１０００ｋＶ、好ましくは５０〜３００ｋ
Ｖであり、吸収線量として通常、０．５〜２０Ｍｒａ
ｄ、好ましくは２〜１０Ｍｒａｄである。加速電圧が３
０ｋＶ未満の場合はエネルギーの透過量が不足し、３０
０ｋＶを超えると重合に使われるエネルギーの効率が低
下し経済的でない。電子線を照射する雰囲気は窒素パー
ジにより酸素濃度を２００ｐｐｍ以下にすることが好ま
しい。酸素濃度が高いと表面近傍の架橋、硬化反応が阻
害される。紫外線光源としては、水銀灯が用いられる。
水銀灯は２０〜２４０Ｗ／ｃｍのランプを用い、速度
０．３ｍ／分〜２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯
との距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好ましい。
紫外線硬化に用いる光重合開始剤として光ラジカル重合
開始剤が用いられる。詳細は例えば「新高分子実験学第
２巻 第６章 光・放射線重合」（共立出版１９９５発
行、高分子学会編）記載されているものを使用できる。
具体例としては、アセトフエノン、ベンゾフエノン、ア
ントラキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメ
チルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイ
ソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン、２−２
ジエトキシアセトフエノン、などがある。光重合開始剤
の混合比率は、放射線硬化化合物１００質量部に対し通
常、０．５〜２０質量部、好ましくは２〜１５質量部、
さらに好ましくは３〜１０質量部である。放射線硬化装
置、条件などについては「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」
（（株）総合技術センタ−発行）や「低エネルギー電子
線照射の応用技術」（２０００、（株）シーエムシー発
行）などに記載されている公知のものを用いることがで
きる。 【００２０】本発明の磁気記録媒体は、上記下塗り層を
設けることにより、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって
測定される高さが１０〜２０ｎｍである突起数が、磁性
層表面１００μｍ²当たり５〜１０００個に制御するこ
とができる。原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される高
さとは、原子間力顕微鏡にて求められる中心面（平面と
磁性層表面の粗さ曲面で囲まれた体積が平面に対し上下
で等しくかつ最小になる平面）を基準面とした高さと定
義する。従って、磁性層表面１００μｍ²当たりの高さ
が１０〜２０ｎｍの突起数（以下、ＰＮとも記す）と
は、この基準面以上の高さが１０〜２０ｎｍである突起
の１０μｍ角当りの総数で突起密度を示す。ＰＮは５〜
１００個／１００μｍ²が更に好ましい。このＰＮが５
個未満であると摩擦係数が増加するために好ましくな
く、１００個を超えると出力が低下し、ドロップアウト
（ＤＯ）個数も増加する傾向がある。 【００２１】本発明の磁気記録媒体は、上記下塗り層を
形成し、次いで、下塗り層上に非磁性下層または磁性下
層を形成した後に磁性層を形成するか、あるいは下塗り
層上に直接に磁性層を形成して作製される。下塗り層は
支持体の少なくとも一方に設けられ、両方に設けること
もできる。非磁性層、磁性下層、あるいは磁性層は、非
磁性粉末、磁性粉末を結合剤中に分散した組成物を塗布
することによって形成される。 【００２２】結合剤としてはポリウレタン樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートな
どを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなど
のセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、
ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポ
リビニルアルキラール樹脂などから単独あるいは複数の
樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ま
しいのはポリウレタン樹脂、塩ビ系樹脂、アクリル系樹
脂である。結合剤には磁性体、非磁性粉体の分散性を向
上させるためこれらの粉体表面に吸着する官能基（極性
基）を持つことが好ましい。好ましい官能基としては−
ＳＯ₃Ｍ、−ＳＯ₄Ｍ、−ＰＯ（ＯＭ）₂、−ＯＰＯ（Ｏ
Ｍ）₂ 、−ＣＯＯＭ、Ｒ¹Ｒ²ＮＳＯ₃Ｍ、Ｒ¹Ｒ²ＮＲＳ
Ｏ₃Ｍ、−ＮＲ¹Ｒ² 、−Ｎ⁺Ｒ¹Ｒ²Ｒ³Ｘ などがある。
ここでＭは水素又はＮａ、Ｋ等のアルカリ金属、Ｒはア
ルキレン基、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³はアルキル基又はヒドロキ
シアルキル基又は水素を表し、Ｒ¹とＲ²は一緒になって
環を形成してもよい。ＸはＣｌ、Ｂｒ等のハロゲンであ
る。結合剤中の官能基の量は１０μｅｑ／ｇ〜２００μ
ｅｑ／ｇが好ましく、更には３０μｅｑ／ｇ〜１２０μ
ｅｑ／ｇが好ましい。この範囲を超えても少なくても分
散性が低下する。 【００２３】結合剤には吸着官能基のほかにイソシアネ
ート硬化剤と反応して架橋構造を形成し塗膜強度を向上
させるために−ＯＨ基などの活性水素を持つ官能基を付
与することが好ましい。好ましい量は０．１ｍｅｑ／ｇ
〜２ｍｅｑ／ｇである。結合剤の分子量は質量平均分子
量で１００００〜２０００００が好ましく、更に好まし
くは２００００〜１０００００である。この範囲より小
さいと塗膜強度が不足し耐久性が低下する。大きいと分
散性が低下する。 【００２４】好ましい結合剤であるポリウレタン樹脂は
例えば「ポリウレタン樹脂ハンドブック」（岩田敬治
編、1986年 日刊工業新聞社）に詳しく記載されている
が、通常、長鎖ジオール、短鎖ジオール（鎖延長剤と呼
ばれることもある）とジイソシアネート化合物の付加重
合によって得られる。長鎖ジオールは分子量５００〜５
０００のポリエステルジオール、ポリエーテルジオー
ル、ポリエーテルエステルジオール、ポリカーボネート
ジオール、ポリオレフィンジオールなどが用いられる。
この長鎖ポリオールの種類によりポリエステルウレタ
ン、ポリエーテルウレタン、ポリエーテルエステルウレ
タン、ポリカーボネートウレタン等と呼ばれる。 【００２５】ポリエステルジオールとしてはアジピン
酸、セバシン酸、アゼライン酸等の脂肪族二塩基酸、イ
ソフタル酸、オルソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレ
ンジカルボン酸などの芳香族二塩基酸とグリコールとの
縮重合によって得られる。グリコール成分としてはエチ
レングリコール、１，２−プロピレングリコール、１、
３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，
５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタン
ジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２−ジメチ
ル−１，３−プロパンジオール、１，８−オクタンジオ
ール、１，９−ノナンジオール、シクロヘキサンジオー
ル、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノー
ルＡなどがある。またポリエステルジオールにはこのほ
かε−カプロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラク
トンを開環重合したポリカプロラクトンジオール、ポリ
バレロラクトンジオールなども用いることができる。ポ
リエステルジオールは耐加水分解性の観点で分岐側鎖を
もつもの、芳香族、脂環族の原料から得られるものが好
ましい。 【００２６】ポリエーテルジオールとしてはポリエチレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラ
メチレングリコール、やビスフェノールＡ、ビスフェノ
ールＳ、ビスフェノールＰ、水素化ビスフェノールＡな
どの芳香族グリコールや脂環族ジオールにエチレンオキ
サイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサ
イドを付加重合したものなどがある。 【００２７】これらの長鎖ジオールは複数の種類のもの
を併用、混合して用いることもできる。短鎖ジオールと
しては上記ポリエステルジオールのグリコール成分に例
示したものと同じ化合物群の中から選ぶことができる。
また３官能以上の多価アルコール例えばトリメチロール
エタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトー
ルなどを少量併用すると分岐構造のポリウレタン樹脂が
得られ溶液粘度を低下させたり、ポリウレタンの末端の
ＯＨ基を増やすことでイソシアネート系硬化剤との硬化
性を高めることができる。 【００２８】ジイソシアネート化合物としてはＭＤＩ
（ジフェニルメタンジイソシアネート）、２，４−ＴＤ
Ｉ（トリレンジイソシアネート）、２,６−ＴＤＩ、
１，５−ＮＤＩ（ナフタレンジイソシアネート）、ＴＯ
ＤＩ（トリジンジイソシアネート）、ｐ−フェニレンジ
イソシアネート、ＸＤＩ（キシリレンジイソシアネー
ト）などの芳香族ジイソシアネート、トランスシクロヘ
キサン−１，４−ジイソシアネート、ＨＤＩ（ヘキサメ
チレンジイソシアネート）、ＩＰＤＩ（イソホロンジイ
ソシアネート）、Ｈ₆ＸＤＩ（水素添加キシリレンジイ
ソシアネート）、Ｈ₁₂ＭＤＩ（水素添加ジフェニルメタ
ンジイソシアネート）などの脂肪族、脂環族ジイソシア
ネートなどが用いられる。 【００２９】ポリウレタン樹脂中の長鎖ジオール／短鎖
ジオール／ジイソシアネートの好ましい組成は（８０〜
１５質量％）／（５〜４０質量％）／（１５〜５０質量
％）である。ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は１ｍ
ｅｑ／ｇ〜５ｍｅｑ／ｇが好ましい。更には１．５〜
４．５である。この範囲より少ないと力学強度が小さ
く、多すぎると溶液粘度が高く分散性が低下する。ポリ
ウレタン樹脂のガラス転移温度は０℃〜２００℃が好ま
しく、更には４０℃〜１６０℃である。この範囲より低
いと耐久性が低下し、高すぎるとカレンダー成形性が低
下し電磁変換特性が低下する。ポリウレタン樹脂に前述
した吸着官能基（極性基）を導入する方法としては官能
基を長鎖ジオールのモノマーの一部に用いる方法、短鎖
ジオールの一部に用いる方法やポリウレタンを重合した
後、高分子反応で極性基を導入する方法などがある。 【００３０】塩化ビニル系樹脂としては塩化ビニルモノ
マーに種々のモノマーと共重合したものが用いられる。
共重合モノマーとしては酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ルなどの脂肪酸ビニルエステル類、メチル（メタ）アク
リレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル
（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、
ベンジル（メタ）アクリレートなどのアクリレート、メ
タクリレート類、アリルメチルエーテル、アリルエチル
エーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエー
テルなどのアルキルアリルエーテル類 その他スチレ
ン、αメチルスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニト
リル、エチレン、ブタジエン、アクリルアミド、更に官
能基をもつ共重合モノマーとしてビニルアルコール、２
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロ
ピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル
（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアリルエーテ
ル、２−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、３−ヒド
ロキシプロピルアリルエーテル、ｐ−ビニルフェノー
ル、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリル酸、メタク
リル酸、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリ
シジルエーテル、ホスホエチル（メタ）アクリレート、
スルホエチル（メタ）アクリレート、ｐ−スチレンスル
ホン酸、及びこれらのＮa塩、Ｋ塩などが用いられる。
なお、（メタ）アクリレートは、アクリレートおよびメ
タクリレートの少なくともいずれか一方を含有するもの
を意味する。 【００３１】塩化ビニル系樹脂中の塩化ビニルモノマー
の組成は６０〜９５質量％が好ましい。これより少ない
と力学強度が低下し、多すぎると溶剤溶解性が低下し、
溶液粘度が高く分散性が低下する。吸着官能基（極性
基）、ポリイソシアネート系硬化剤との硬化性を高める
ための官能基の好ましい量は前述したとおりである。こ
れらの官能基の導入方法は上記の官能基含有モノマーを
共重合しても良いし、塩化ビニル系樹脂を共重合した
後、高分子反応で官能基を導入しても良い。好ましい重
合度は２００〜６００、更に好ましくは２４０〜４５０
である。この範囲より小さいと力学強度が低下し、高す
ぎると溶液粘度が高く分散性が低下する。 【００３２】本発明の結合剤を架橋、硬化させ塗膜の力
学強度や耐熱性高めるために硬化剤を用いることができ
る。好ましい硬化剤としてポリイソシアネート化合物が
ある。ポリイソシアネート化合物は３官能以上のポリイ
ソシアネートが好ましい。具体的にはトリメチロールプ
ロパン（ＴＭＰ）にＴＤＩ（トリレンジイソシアネー
ト）を３モル付加した化合物、ＴＭＰにＨＤＩ（ヘキサ
メチレンジイソシアネート）を３モル付加した化合物、
ＴＭＰにＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）を３
モル付加した化合物、ＴＭＰにＸＤＩ（キシリレンジイ
ソシアネート）を３モル付加した化合物、などアダクト
型ポリイソシアネート化合物、ＴＤＩの縮合イソシアヌ
レート型３量体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート５量
体、ＴＤＩの縮合イソシアヌレート７量体、及びこれら
の混合物。ＨＤＩのイソシアヌレート型縮合物、ＩＰＤ
Ｉのイソシアヌレート型縮合物。 さらにクルードＭＤ
Ｉなどがある。これらの中で好ましいのはＴＭＰにＴＤ
Ｉを３モル付加した化合物、ＴＤＩのイソシアヌレート
型３量体などである。 【００３３】イソシアネート系硬化剤以外に電子線ある
いは紫外線などの放射線硬化型の硬化剤を用いても良
い。この場合、放射線硬化官能基としてアクリロイル基
またはメタクリロイル基を分子内に２個以上、好ましく
は３個以上有する硬化剤を用いることができる。例えば
ＴＭＰ（トリメチロールプロパン）のトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールのテトラアクリレート、ウレ
タンアクリレートオリゴマーなどがある。この場合、硬
化剤のほかに結合剤にも（メタ）アクリロイル基を導入
するのが好ましい。紫外線硬化の場合はこのほかに光増
感剤が併用される。硬化剤は結合剤１００質量部に対し
て０〜８０質量部添加するのが好ましい。多すぎると分
散性が低下する。 【００３４】本発明の磁気記録媒体に使用される強磁性
粉末は、強磁性酸化鉄、コバルト含有強磁性酸化鉄又は
強磁性合金粉末でＢＥＴ法による比表面積（Ｓ_BET）が
通常、４０〜８０ｍ²／ｇ 、好ましくは５０〜７０ｍ²
／ｇ である。結晶子サイズは通常、１２〜２５ｎｍ、
好ましくは１３〜２２ｎｍであり、特に好ましくは１４
〜２０ｎｍである。長軸長は通常、０．０５〜０．２５
μｍであり、好ましくは０．０７〜０．２μｍであり、
特に好ましくは０．０８〜０．１５μｍである。強磁性
金属粉末としてはＦｅ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ等が挙げられ、金属
成分の２０質量％以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ
素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロ
ム、マンガン、銅、亜鉛、イットリウム、モリブデン、
ロジウム、パラジウム、金、錫、アンチモン、ホウ素、
バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、銀、
鉛、リン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジ
ム、テルル、ビスマスを含む合金を挙げることができ
る。また、強磁性金属粉末が少量の水、水酸化物または
酸化物を含むものなどであってもよい。これらの強磁性
粉末の製法は既に公知であり、本発明で用いる強磁性粉
末についても公知の方法に従って製造することができ
る。強磁性粉末の形状に特に制限はないが、通常は針
状、粒状、サイコロ状、米粒状および板状のものなどが
使用される。とくに針状の強磁性粉末を使用することが
好ましい。 【００３５】上記の樹脂成分、硬化剤および強磁性粉末
を、通常磁性層塗布液の調製の際に使用されているメチ
ルエチルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、酢酸
エチル等の溶剤と共に混練分散して磁性塗料とする。混
練分散は通常の方法に従って行うことができる。本発明
の磁気記録媒体は、非磁性粉末または磁性粉末からなる
非磁性下層塗布層、磁性下層塗布層を有していても良
い。非磁性粉末には、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫
酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機
化合物から選択することができる。無機化合物としては
例えばα化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アル
ミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セ
リウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカ
ーバイト、酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化すず、酸化
マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、
窒化ホウ素、酸化亜鉛、酸化カルシウム、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または
組合せで使用できる。特に好ましいのは二酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、さらに好まし
いのは二酸化チタン、酸化鉄である。これら非磁性粉末
の平均粒径は０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に
応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組合せたり、単独
の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもた
せることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の
平均粒径は０．０１〜０．２μｍである。非磁性粉末の
ｐＨは６〜９の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面
積は通常、１〜１００ｍ²／ｇ 、好ましくは５〜５０ｍ
²／ｇ 、更に好ましくは７〜４０ｍ²／ｇ である。非磁
性粉末の結晶子サイズは０．０１μｍ〜２μｍが好まし
い。ＤＢＰを用いた吸油量は通常、５〜１００ｍｌ／１
００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好
ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は通
常、１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、
球状、多面体状、板状のいずれでも良い。 【００３６】これらの非磁性粉末の表面には表面処理が
施されてＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、Ｓ
ｎＯ₂ 、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯが存在することが好ましい。
特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ
₂ 、ＺｒＯ₂ 、であるが、更に好ましいのはＡｌ
₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ である。これらは組合せて
使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、
目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、
先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理す
る方法、またはその逆の方法を採ることもできる。ま
た、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わな
いが、均質で密である方が一般には好ましい。 【００３７】下層塗布層に用いることが可能な磁性粉末
としては、γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ変性γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、α−
Ｆｅを主成分とする合金、ＣｒＯ₂ 等が用いられる。特
に、Ｃｏ変性γ−Ｆｅ₂Ｏ₃が好ましい。本発明の下層に
用いられる強磁性粉末は上層磁性層に用いられる強磁性
粉末と異なる組成、性能が好ましい。例えば、長波長記
録特性を向上させるためには、下層磁性層のＨｃは上層
磁性層のそれより低く設定することが望ましく、また、
下層磁性層のＢｒを上層磁性層のそれより高くすること
が有効である。それ以外にも、公知の重層構成をとるこ
とによる利点を付与させることができる。 【００３８】本発明の磁性層あるいは下層塗布層に使用
されるその他の添加剤としては潤滑効果、帯電防止効
果、分散効果、可塑効果、などを持つものが使用され
る。二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラフア
イト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極
性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素
含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エ
ステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキルリ
ン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸
エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエー
テル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアル
カリ金属塩、炭素数１０〜２４の不飽和結合を含んで
も、また分岐していても良い一塩基性脂肪酸、および、
これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、
炭素数１２〜２２の不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていても良い一価、二価、三価、四価、五価、六価アル
コール、炭素数１２〜２２の不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していても良いアルコキシアルコール、炭素数１
０〜２４の不飽和結合を含んでも、また分岐していても
良い一塩基性脂肪酸と炭素数２〜１２の不飽和結合を含
んでも、また分岐していても良い一価、二価、三価、四
価、五価、六価アルコールのいずれか一つとからなるモ
ノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂
肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキ
ルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数２〜２２の脂肪酸
アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用で
きる。これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリ
ン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エ
ライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミ
ル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタ
ンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレ
ート、アンヒドロソルビタントリステアレート、オレイ
ルアルコール、ラウリルアルコールがあげられる。 【００３９】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
ホン酸、リン酸、硫酸エステル基、リン酸エステル基、
などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、
アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸またはリ
ン酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活
性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、
「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に
記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ず
しも純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副
反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれてもかま
わない。これらの不純分は３０質量％以下が好ましく、
さらに好ましくは１０質量％以下である。 【００４０】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
る、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじ
み出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布
の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多
くして潤滑効果を向上させるなどが考えられ、無論ここ
に示した例のみに限られるものではない。また本発明で
用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性層あ
るいは下層用の塗布液の製造時のいずれの工程で添加し
てもよい。例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する
場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加
する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する
場合、塗布直前に添加する場合などがある。 【００４１】本発明で使用されるこれら潤滑剤として
は、具体的には日本油脂製：ＮＡＡ−１０２、ヒマシ油
硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、カチオンＳＡ、ナイミーン
Ｌ−２０１、ノニオンＥ−２０８、アノンＢＦ、アノン
ＬＧ、ブチルステアレート、ブチルラウレート、エルカ
酸、関東化学製：オレイン酸、竹本油脂製：ＦＡＬ−２
０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化製：エヌジエルブＯ
Ｌ、信越化学製：ＴＡ−３，ライオンアーマー社製：ア
ーマイドＰ、ライオン社製、デュオミンＴＤＯ、日清製
油製：ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成製：プロフアン２０１２
Ｅ，ニューポールＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００な
どがあげられる。 【００４２】以上の材料により調製した塗布液を支持体
上に塗布して下層塗布層あるいは磁性層を形成する。本
発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にあ
る支持体の下塗り層表面に磁性層塗布液を磁性層の乾燥
後の層厚が０．０５μｍ〜２．０μｍの範囲内、より好
ましくは０．０７〜１μｍになるように塗布する。ここ
で複数の磁性層塗布液を逐次あるいは同時に重層塗布し
てもよく、下層塗布液と磁性層塗布液とを逐次あるいは
同時に重層塗布してもよい。上記磁性塗布液もしくは下
層塗布液を塗布する塗布機としては、エアードクターコ
ート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、
エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバ
ースロールコート、トランスファーロールコート、グラ
ビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコ
ート、スピンコート等が利用できる。 これらについて
は例えば株式会社総合技術センター発行の「最新コーテ
ィング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にでき
る。 【００４３】本発明を二層以上の構成の磁気記録媒体に
適用する場合、塗布する装置、方法の例として以下のも
のを提案できる。 （１）磁性層塗布液の塗布で一般的に適用されるグラビ
ア、ロール、ブレード、エクストルージョン等の塗布装
置により、まず下層を塗布し、下層が未乾燥の状態のう
ちに特公平１−４６１８６号公報、特開昭６０−２３８
１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報等に開示
されているような支持体加圧型エクストルージョン塗布
装置により、上層を塗布する。 （２）特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７
９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示さ
れているような塗布液通液スリットを２個有する一つの
塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。 （３）特開平２−１７４９６５号公報に開示されている
ようなバックアップロール付きのエクストルージョン塗
布装置により、上下層をほぼ同時に塗布する。 【００４４】本発明で用いる支持体の磁性塗料が塗布さ
れていない面にバック層が設けられていてもよい。バッ
ク層は、支持体の磁性塗料が塗布されていない面に、研
磨剤、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤とを有機溶剤
に分散したバック層形成塗料を塗布して設けられた層で
ある。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラッ
クを使用することができ、また結合剤としてはニトロセ
ルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウ
レタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用する
ことができる。なお、支持体上のバック層形成塗料の塗
布面に本発明の下塗り層あるいは公知の下塗り層が設け
られていてもよい。 【００４５】磁性層塗布液の塗布層は、磁性層塗布液の
塗布層中に含まれる強磁性粉末を磁場配向処理を施した
後に乾燥される。このようにして乾燥された後、塗布層
に表面平滑化処理を施す。表面平滑化処理には、たとえ
ばスーパーカレンダーロールなどが利用される。表面平
滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によっ
て生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が
向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得る
ことができる。カレンダー処理ロールとしてはエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐
熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで
処理することもできる。 【００４６】本発明の磁気記録媒体は、表面の中心線平
均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて０．１〜
５ｎｍ、好ましくは１〜４ｎｍの範囲という極めて優れ
た平滑性を有する表面であることが高密度記録用の磁気
記録媒体として好ましい。その方法として、例えば上述
したように特定の強磁性粉末と結合剤を選んで形成した
磁性層を、上記カレンダー処理を施すことにより行われ
る。カレンダー処理条件としては、カレンダーロールの
温度を６０〜１００℃の範囲、好ましくは７０〜１００
℃の範囲、特に好ましくは８０〜１００℃の範囲であ
り、圧力は１００〜５００Ｋｇ／ｃｍ（９８〜４９０ｋ
Ｎ／ｍ）の範囲であり、好ましくは２００〜４５０Ｋｇ
／ｃｍ（１９６〜４４１ｋＮ／ｍ）の範囲であり、特に
好ましくは３００〜４００Ｋｇ／ｃｍ（２９４〜３９２
ｋＮ／ｍ）の範囲の条件で作動させることによって行わ
れることが好ましい。得られた磁気記録媒体は、裁断機
などを使用して所望の大きさに裁断して使用することが
できる。 【実施例】以下、本発明を具体的に実施例に基づき説明
するが、本発明はこれに限定されて解釈されるべきもの
ではない。なお、以下の「部」とは「質量部」のことで
ある。強磁性合金粉末〔組成：Ｆｅ ８９原子％，Ｃｏ
５原子％，Ｙ ６原子％、Ｈｃ：２０００Ｏｅ（１６
０ｋＡ／ｍ），結晶子サイズ：１５ｎｍ，Ｓ_BET：５９
ｍ²／ｇ，平均長軸長：０．１２μｍ，平均針状比：
７，飽和磁化σｓ：１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ〕１００部を
オープンニーダーで１０分間粉砕し、次いでＳＯ₃Ｎａ
含有ポリウレタン溶液（固形分３０％、ＳＯ₃Ｎａ含量
７０μｅｑ／ｇ、質量平均分子量４万）を１０部（固形
分）加え、更にシクロヘキサノン３０部を加えで６０分
間混練した。次いで 研磨剤（Ａｌ₂Ｏ₃：粒子サイズ０．３μｍ） ２部 カーボンブラック（粒子サイズ：４０ｎｍ） ２部 メチルエチルケトン／トルエン＝１／１ ２００部 を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート３０４１） ５部（固 形分） ブチルステアレート ２部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ５０部 を加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平
均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性塗料を
調製した。 【００４７】次いで表１に示した化合物を３０質量％メ
チルエチルケトン溶液に調整したものを乾燥後の厚さが
０．５μｍになるようにコイルバーを用いて厚さ７μｍ
のポリエチレンテレフタレート支持体の表面に塗布した
のち乾燥させ、塗膜表面に加速電圧１７５ｋＶ、ビ−ム
電流５ｍＡで吸収線量が５Ｍｒａｄになるように電子線
を照射し、下塗り層を形成した。 【００４８】次いで下塗り層の上に磁性塗料を乾燥後の
厚さが２．０μｍになるように、リバースロールを用い
て塗布した。塗布された磁性塗料が未乾燥の状態で５０
０ｍＴのＣｏ磁石と４００ｍＴのソレノイド磁石で磁場
配向を行ない、塗布したものを金属ロール−金属ロール
−金属ロール−金属ロール−金属 ロール−金属ロール
−金属ロールの組み合せによるカレンダー処理を（速度
１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３００Ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ
／ｍ）、温度９０℃）で行なった後３．８ｍｍ幅にスリ
ットした。 【００４９】［実施例２〜６及び比較例１〜２］表１に
示した化合物、支持体を用いて実施例１と同様の方法で
作成した。 【００５０】［実施例７］上層用磁性塗料は実施例１の
磁性塗料を用いた。 下層用非磁性塗料の調製 α−Ｆｅ₂Ｏ₃（平均長軸長：０．１５μｍ、Ｓ_BET：５
２ｍ²／ｇ、表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ｐＨ６．
５〜８．０）１００部をオープンニーダーで１０分間粉
砕し、次いで塩ビ／酢ビ／グリシジルメタクリレート＝
８６／９／５の共重合体にヒドロキシエチルスルフォネ
ートナトリウム塩を付加した化合物（ＳＯ₃Ｎａ＝６×
１０^-5ｅｑ／ｇ，エポキシ＝１０^-3ｅｑ／ｇ，Ｍｗ：３
０，０００）７．５部及びＳＯ₃Ｎａ含有ポリウレタン
溶液（固形分３０％、ＳＯ₃Ｎａ含量７０μｅｑ／ｇ、
質量平均分子量４万）１０部（固形分）を加え、更にシ
クロヘキサノンを３０部を加えて６０分間混練した。次
いで メチルエチルケトン／トルエン＝１／１ ２００部 を加えてサンドミルで１２０分間分散した。これに ポリイソシアネート（日本ポリウレタン製コロネート３０４１） ５部（固 形分） ブチルステアレート ２部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ５０部 を加え、さらに２０分間撹拌混合したあと、１μｍの平
均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層用塗料
を調製した。次いで表１に示した化合物を３０質量％メ
チルエチルケトン溶液に調整したものを乾燥後の厚さが
０．５μｍになるようにコイルバーを用いて厚さ７μｍ
のポリエチレンテレフタレート支持体の表面に塗布した
のち乾燥させ、塗膜表面に加速電圧１７５ＫＶ、ビ−ム
電流５ｍＡで吸収線量が５Ｍｒａｄになるように電子線
を照射した。その後下塗り層の上に乾燥後の厚みが１．
５μｍ、さらにその直後に上層磁性塗料を乾燥後の厚さ
が０．０５μｍになるように、リバースロールを用いて
同時重層塗布した。磁性塗料塗布された支持体を、磁性
塗料が未乾燥の状態で５００ｍＴのＣｏ磁石と４００ｍ
Ｔのソレノイド磁石で磁場配向を行ない、塗布したもの
を金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−
金属 ロール−金属ロール−金属ロールの組み合せによ
るカレンダー処理を（速度１００ｍ／ｍｉｎ、線圧３０
０Ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、温度９０℃）で行な
った後３．８ｍｍ幅にスリットした。 （比較例３）表１に示した化合物を用いた以外は実施例
７と同様の方法で作成した。 【００５１】得られた試料を以下により評価した。 測定方法 下塗り層Ｔｇ エ−アンドディ社製動的粘弾性測定装置レオバイブロン
を用いて周波数１１０Ｈｚ、昇温速度２℃／ｍｉｎで測
定し、損失弾性率のピーク温度をから求めた。 微小突起数（ＰＮ） Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ社製Ｎａｎｏｓ
ｃｏｐｅＩＩＩ（ＡＦＭ：原子間力顕微鏡）を用い、稜
角７０゜の四角錐のＳｉＮ探針を使って１０μｍ平方
（１００μｍ²）中の微小突起高さ２０ｎｍまで５ｎｍ
ごとに突起数を測定し、高さ１０〜２０ｎｍの突起数を
前記方法により得た。 電磁変換特性（出力） ＤＤＳ４ドライブにて４．７ＭＨｚの単一周波数信号を
最適記録電流で記録し、その再生出力を測定した。比較
例１の再生出力を０．０ｄＢとした相対値で示した。 剥離強度（Ｎ） ガラス板上に両面接着テープ（スリーエム製ＳＰＬＩＣ
ＩＮＧ ＴＡＰＥ）の一方の粘着面を貼り付け、他方の
粘着面に試料テープの磁性面を長手方向にその一端を１
０ｍｍを貼り付けて、他端を１８０°の方向に剥離する
際の力を測定して剥離強度（Ｎ）とした。 ドロップアウト個数 ２３℃７０％ＲＨ環境下でＤＤＳ４ドライブを用いてテ
−プを走行させながらドロップアウトカウンタ−で１分
間測定し、５ｓｅｃ以上初期出力に対して−５ｄＢ低下
したものをドロップアウトとし、その個数を調べた。 粘着故障 下塗り層を塗布したのち、パスロ−ルへの粘着性を目視
で判定した。パスロ−ルにはりついたものを故障あり。
パスロ−ルにはりつかなかったものを故障なしとした。 【００５２】 【表１】 【００５３】上表から、実施例は比較例に比べて出力が
高く、ＤＯが少ない。また、実施例は剥離強度も確保さ
れ、粘着故障もない。 【００５４】 【発明の効果】本発明は、脂環式環状構造を有し、かつ
分子中に２個以上の放射線硬化官能基を有する化合物を
含む硬化膜を支持体上に設け、その硬化膜上に厚み０．
０５μｍ〜２．０μｍかつ高さ１０〜２０ｎｍの磁性層
表面微小突起５〜１０００個／１００μｍ²の磁性層を
設けることにより以下の効果を有する磁気記録媒体を提
供することできる。 磁性塗膜表面を平滑化することで電磁変換特性が向上
した。 磁性層の剥離強度が向上し、ドロップアウトが減っ
た。 下塗り層塗布工程後の粘着故障がなくなった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/70 Ｇ１１Ｂ 5/70 // Ｃ０９Ｄ 4/02 Ｃ０９Ｄ 4/02 Ｆターム(参考） 4F100 AA37 AK01A AK01B AK25 AK41 AK42 AT00A BA03 BA10A BA10C BA25C CA20C CC00B DD01C DE01C EJ08B EJ52B GB41 JB14B JG06C YY00C 4J038 BA021 CC021 CD021 CE051 CF001 CG141 CG161 CG171 CH071 DA011 DB001 DD001 DG001 DH001 NA01 NA22 PA07 PA17 PC08 5D006 BA19 CA01

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体上に放射線硬化型樹脂から形成さ
   れた下塗り層を有し、その上に強磁性微粉末及び結合剤
   を含有する少なくとも１層の磁性層を設けた磁気記録媒
   体において、 該放射線硬化型樹脂が脂環式環状構造を有し、かつ１分
   子中に２個以上の放射線硬化官能基を有する化合物であ
   り、前記下塗り層は放射線硬化された層であって、 該磁性層の厚みが、０．０５μｍ〜２．０μｍであり、 かつ、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定される高
   さが１０〜２０ｎｍである突起数が、磁性層表面１００
   μｍ²当たり５〜１０００個であることを特徴とする磁
   気記録媒体。