JP2022058159A - 硬化性組成物 - Google Patents

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Abstract

【課題】硬化後に優れた耐エッチング性を有する硬化層を形成する硬化性組成物を提供する。【解決手段】式（１）TIFF2022058159000016.tif31101（式中、ＲはＨ又はアルキル又はアルキルアリールであり、ｎは１～４であり、ｍは０～６であり、Ｘ１はＣ１～Ｃ６の置換又は非置換のアルキルであり、Ｘ２はＣＨ３又はＨである）のモノマーを含む重合性材料を含む硬化性組成物。【選択図】なし

Description

本開示は、硬化性組成物、特にナノインプリントリソグラフィーに使用される硬化性組成物に関する。
ナノインプリントリソグラフィーは、ターゲット基板上にナノサイズの構造を製造するのに有用な方法である。第１の工程では、テンプレートのパターンを硬化レジストに転写し、第２の工程では、硬化レジストのパターンを下にある層に転写する。第２の工程は通常エッチングにより行われ、パターン転写と呼ばれる。
レジストパターン層への損傷なしにエッチング層が除去されれば、良好なパターン転写が実現可能であるが、これにはインプリントレジストが高い耐エッチング性を有していることが必要である。高い耐エッチング性に加えて、インプリントレジスト組成物は、低粘度、適切な表面張力、及び下にある基板に対する低い接触角を有する必要がある。
高精度のパターンを形成するためには、硬化したレジスト材料の耐エッチング性を向上させる必要がある。
一実施の形態では、硬化性組成物は、式（１）
Figure 2022058159000001
 （式中、ＲはＨ又はアルキル又はアルキルアリールであり、ｎは１～４であり、ｍは０～６であり、Ｘ１はＣ１～Ｃ６の置換又は非置換のアルキルであり、Ｘ２はＣＨ３又はＨである）のモノマーを含む重合性材料を含み得る。
一態様では、式（１）の上記モノマーは、二官能性アクリレートモノマーを含み得る。
或る特定の態様では、上記二官能性アクリレートモノマーは、式（２）
Figure 2022058159000002
 の構造を含み得る。
上記硬化性組成物の別の態様では、式（１）のモノマーの量は、上記重合性材料の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％かつ５０ｗｔ％以下であり得る。
更なる態様では、重合性材料の量は、上記硬化性組成物の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％かつ９８ｗｔ％以下であり得る。
上記硬化性組成物の別の実施の形態では、上記重合性材料は、式（１）のモノマーとは異なる、少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーを含み得る。
或る特定の態様では、上記少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーは、ベンジルアクリレート（ＢＡ）、又はイソボルニルアクリレート（ＩＢＯＡ）、又はネオペンチルグリコールジアクリレート（Ａ－ＮＰＧ）、又はこれらの任意の組み合わせを含み得る。
一実施の形態では、上記硬化性組成物は、２０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有し得る。特定の態様では、上記硬化性組成物は、１５ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有し得る。
更なる実施の形態では、上記硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィープロセスにおけるレジストとしての使用に適合することができる。
或る特定の態様では、硬化後の上記硬化性組成物の大西パラメータ（Ohnishi number）は３．６以下であり得る。
別の実施の形態では、積層体は、基板と該基板を覆う硬化層とを含むことができ、硬化層は、本開示の上記硬化性組成物から形成することができる。
一態様では、積層体の上記硬化層は、３．６以下の大西パラメータを有し得る。
別の実施の形態では、基板上に硬化層を形成する方法は、上記基板上に上記硬化性組成物を塗布することと、ここで、上記硬化性組成物は、式（１）
Figure 2022058159000003
 （式中、ＲはＨ又はアルキル又はアルキルアリールであり、ｎは１～４であり、ｍは０～６であり、Ｘ１は置換又は非置換のＣ１～Ｃ６アルキルであり、Ｘ２はＣＨ３又はＨである）の構造を有するモノマーを含む重合性材料を含んでもよい；上記硬化性組成物を、スーパーストレート（superstrate）と接触させることと；上記硬化性組成物を光及び／又は熱を用いて硬化させて、硬化層を形成することと；上記硬化層から上記スーパーストレートを除去することと、を含み得る。
方法の一態様では、上記硬化性組成物の粘度は、１５ｍＰａ・ｓ以下であり得る。
方法の別の態様では、式（１）の上記モノマーの量は、上記重合性材料の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％かつ５０ｗｔ％以下であり得る。
方法の更なる態様では、式（１）の上記モノマーは、式（２）
Figure 2022058159000004
 の構造を含み得る。
別の実施の形態では、物品を製造する方法は、基板上に硬化性組成物を塗布することと、ここで、該硬化性組成物は、式（１）
Figure 2022058159000005
 （式中、ＲはＨ又はアルキル又はアルキルアリールであり、ｎは１～４であり、ｍは０～６であり、Ｘ１は置換又は非置換のＣ１～Ｃ６アルキルであり、Ｘ２はＣＨ３又はＨである）の構造を有するモノマーを含む重合性材料を含むことができ；該硬化性組成物を、スーパーストレートと接触させることと；該硬化性組成物を光及び／又は熱を用いて硬化させて、硬化層を形成することと；該硬化層から該スーパーストレートを除去することと；該硬化層を有する基板を加工して、物品を製造することと、を含み得る。
物品を製造する上記方法の一態様では、式（１）の上記モノマーの量は、上記重合性材料の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％かつ５０ｗｔ％以下であってよく、上記硬化性組成物の粘度は、１５ｍＰａ・ｓ以下であってよい。
以下の説明は、本明細書中に開示する教示を理解するのを援助するために提供され、教示の具体的な実施態様及び実施形態に着目する。この着目は、教示について説明するのを援助するために提供されるものであり、教示の範囲又は適用性に対する限定と解釈されるべきではない。
別記しない限り、本明細書中で使用する技術用語及び科学用語は全て、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。材料、方法、及び実施例は、単に例示的であり、限定することを意図しない。本明細書に記載されない範囲について、具体的な材料及び加工処理行動に関する多くの詳細は、従来のものであり、インプリント及びリソグラフィー技術の範囲内のテキスト及び他の出典において見ることができる。
本明細書中で使用する場合、「を含む（comprises）」、「を含んでいる（comprising）」、「を包含する（includes）」、「を包含している（including）」、「を有する（has）」、「を有している（having）」という用語又はそれらの任意の他の変形は、非限定的に含むことを網羅すると意図される。例えば、特徴のリストを含むプロセス、方法、物品、又は装置は、必ずしもそれらの特徴のみに限定されず、明確に列挙されないか、又はかかるプロセス、方法、物品、若しくは装置に固有のものではない他の特徴を含んでもよい。
本明細書中で使用する場合、明らかに異なる主張が成されない限り、「又は」は、「排他的な又は（exclusive-or）」ではなく、「包括的な又は（inclusive-or）」を指す。例えば、条件「Ａ又はＢ」は、下記のいずれか１つが成立している：Ａは、真であり（又は存在し）、かつＢは、偽である（又は存在しない）こと、Ａは、偽であり（又は存在せず）、かつＢは、真である（又は存在する）こと、並びにＡ及びＢはともに、真である（又は存在する）こと。
また、数量が特定されていない語（"a" or "an"）の使用は、本明細書中に記載する要素及び構成要素について記載するのに用いられる。これは、単に利便性のために、また本発明の範囲の一般的な意味合いを付与するために成されるものである。この記載は、１つ又は少なくとも１つを含むと解釈されるべきであり、単数形は、他の状況を意味することが明らかでない限りは、複数形も含む。
本開示は、ビシクロオクタン環構造を含むアクリレートモノマー（本明細書中、「ビシクロオクタンアクリレートモノマー」ともいう）を含む重合性材料を含む硬化性組成物に関する。驚くべきことに、ビシクロオクタンアクリレートモノマーを含む硬化性組成物は、硬化後に優れた耐エッチング性を有することができ、高精度のパターン転写を可能にするナノインプリントレジスト材料として適したものであり得ることが認められた。
一実施形態では、本開示の硬化性組成物は、式（１）
Figure 2022058159000006
 （式中、ＲはＨ又はアルキル又はアルキルアリールであり、ｎは１～４であり、ｍは０～６であり、Ｘ１はＣ１～Ｃ６の置換又は非置換のアルキルであり、Ｘ２はＣＨ３又はＨである）のビシクロオクタンアクリレートモノマーを含み得る。
特定の実施形態において、式（１）のモノマーは、二官能性アクリレートモノマーであり得る。或る特定の態様では、二官能性アクリレートモノマーは、式（２）
Figure 2022058159000007
 の構造を有し得る。
硬化性組成物の式（１）のモノマーの量は、硬化性組成物の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％、例えば少なくとも１０ｗｔ％、又は少なくとも１５ｗｔ％、又は少なくとも２０ｗｔ％であり得る。別の態様では、式（１）のモノマーの量は、硬化性組成物の総重量に対して、５０ｗｔ％以下、又は４０ｗｔ％以下、又は３０ｗｔ％以下であり得る。
重合性材料は、式（１）のモノマーに加えて、他の重合性のモノマー、オリゴマー及び／又はポリマーを含み得る。一実施形態では、重合性材料は、式（１）のモノマーのようなビシクロオクタン環構造を含まない少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーを含み得る。少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーは、単官能性又は多官能性のアクリレートモノマーであり得る。或る特定の態様では、少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーは、ベンジルアクリレート（ＢＡ）、イソボルニルアクリレート（ＩＢＯＡ）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（Ａ－ＮＰＧ）、又はこれらの任意の組み合わせを含み得る。
少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーの量は、硬化性組成物の総重量に対して、少なくとも１５ｗｔ％、例えば少なくとも２０ｗｔ％、又は少なくとも２５ｗｔ％、又は少なくとも３０ｗｔ％、又は少なくとも５０ｗｔ％であり得る。別の態様では、少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーは、硬化性組成物の総重量に対して、９０ｗｔ％以下、例えば８０ｗｔ％以下、６０ｗｔ％以下、又は４０ｗｔ％以下であり得る。
重合性材料は、硬化性組成物の大部分の量であり得る。一実施形態では、重合性材料の量は、硬化性組成物の総重量に対して、少なくとも８０ｗｔ％、又は少なくとも９０ｗｔ％、又は少なくとも９５ｗｔ％、又は少なくとも９７ｗｔ％であり得る。別の態様では、重合性材料の量は、９９ｗｔ％以下、又は９７ｗｔ％以下、又は９５ｗｔ％以下であり得る。
一実施形態では、硬化性組成物は、低粘度を有するように適合することができ、これにより、組成物をナノインプリントリソグラフィーにおけるレジストとしての使用に適したものとし得る。一態様では、硬化性組成物の粘度は、２０ｍＰａ・ｓ以下、例えば、１５ｍＰａ・ｓ以下、１２ｍＰａ・ｓ以下、又は１０ｍＰａ・ｓ以下、又は８ｍＰａ・ｓ以下であり得る。別の態様では、粘度は、少なくとも３ｍＰａ・ｓ、又は少なくとも５ｍＰａ・ｓ、又は少なくとも７ｍＰａ・ｓであり得る。粘度は、上述の上限値及び下限値のいずれかの間の値であり得る。本明細書中で用いられるとき、全ての粘度値は、ブルックフィールド法を用いて２３℃の温度で測定された粘度をいう。
更なる態様では、本開示の硬化性組成物は、溶媒を含まなくともよく、少なくとも１種の式（１）の第１のモノマーは、少なくとも１種の第２のアクリレートモノマー中に溶解させることができる。
光に曝されたときに硬化性組成物の硬化を開始させるため、１種以上の光重合開始剤を硬化性組成物中に含めることができる。光重合開始剤の非限定的な例は、例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ４２６５、又はＩｒｇａｃｕｒｅ ＴＰＯであり得る。
更なる態様では、硬化性組成物は、少なくとも１種の任意の添加剤を含み得る。任意の添加剤の非限定的な例は、離型剤、界面活性剤、分散剤、安定剤、共溶媒、開始剤、阻害剤、染料、又はこれらの任意の組み合わせであり得る。或る特定の態様では、硬化性組成物は、式（１）のモノマーを含む重合性材料と、光重合開始剤及び／又は熱重合開始剤と、任意選択の離型剤とから実質的に構成され得る。
本開示の別の実施形態では、積層体は、基板と該基板を覆う硬化層とを含むことができ、硬化層は、上記実施形態に記載の硬化性組成物から形成することができる。基板は、特定の材料に限定されない。或る特定の態様では、基板は、溶融シリカ、石英、シリコン、有機ポリマー、シロキサンポリマー、ホウケイ酸ガラス、フルオロカーボンポリマー、金属、硬化サファイア等であり得る。
一態様では、積層体の硬化層は、３．６以下、例えば３．５以下、又は３．４５以下の大西パラメータを有し得る。本明細書中で用いられるとき、大西パラメータＯＮは実験的パラメータであり、ポリマー繰り返し単位中の原子の総数（Ｎｔ）を、単位中の炭素原子数（ＮＣ）と酸素原子数（ＮＯ）の差で割った比、すなわち、ＯＮ＝Ｎｔ／（ＮＣ－ＮＯ）として計算される。大西パラメータの計算に関して、硬化した材料は、１００ｗｔ％の、付加重合により形成された重合モノマー単位を含んだと仮定した（重合中の原子の損失なし）。
別の態様では、積層体における硬化層の厚さは、少なくとも８０ｎｍ、又は少なくとも１００ｎｍ、又は少なくとも２００ｎｍであり得る。更なる態様では、硬化層の厚さは、２０００ｎｍ以下、又は１０００ｎｍ以下、又は５００ｎｍ以下であり得る。
或る特定の態様では、積層体は、基板と硬化層との間に１つ以上の層、例えば接着層を含み得る。
エッチング、例えば塩素含有ガスを用いたドライエッチングが施されたとき、硬化層は優れた耐エッチング性を有し得る。このことは、本発明の硬化性組成物を、ナノインプリントリソグラフィーのレジスト材料としての使用に非常に適したものとする。
本開示は、基板上に硬化層を形成する方法に更に関する。本方法は、上述の硬化性組成物を基板上に塗布することと、硬化性組成物をスーパーストレートと接触させることと、硬化性組成物を光及び／又は熱を用いて硬化させて、硬化層を形成することと、硬化層からスーパーストレートを除去することとを含み得る。
一態様では、光照射は、２５０ｎｍ～７６０ｎｍの波長を有する光を用いて行うことができる。好ましい態様では、光照射は、３００ｎｍ～４５０ｎｍの波長を有する光を用いて行うことができる。
所望の物品を形成するために、基板及び固化（硬化）層に、例えばエッチング処理を組み込むことにより更なる処理を施し、固化層及び／又は該固化層の下にあるパターン層の一方又は両方におけるパターンに対応する画像を基板に転写することができる。基板に、例えば、硬化、酸化、層形成、成膜、ドーピング（doping）、平坦化、エッチング、形成可能材料除去（formable material removal）、ダイシング、ボンディング、及びパッケージング等を含むデバイス（物品）製造にて知られる工程及び処理を更に施すことができる。或る特定の態様では、基板を処理して複数の物品（デバイス）を作製することができる。
硬化層は更に、ＬＳＩ、システムＬＳＩ、ＤＲＡＭ、ＳＤＲＡＭ、ＲＤＲＡＭ若しくはＤ－ＲＤＲＡＭ等の半導体デバイスの層間の絶縁膜として、又は半導体製造プロセスで使用されるレジスト膜として使用され得る。
実施例においてさらに実証されるように、驚くべきことに、式（１）のモノマーを含む硬化性組成物は、硬化後に優れた耐エッチング性を有し得ることが発見された。硬化性組成物は、更に、１５ｍＰａ・ｓ以下の低粘度を有することができ、このことは、本開示の硬化性組成物を、ナノインプリントリソグラフィーを含むプロセスに適したものとする。
以下の非限定的な実施例は、本明細書中に記載する概念について説明している。
実施例１
式（２）のビシクロオクタンアクリレートモノマーの調製
２５ｇ量（１ｍｏｌ当量）のビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジメタノール（ＢＣＯ－ＤＭ）を、２５．５ｇ（１．７ｍｏｌ当量）のトリエチルアミンを含む２００ｍｌのジクロロメタンに溶解した。得られた溶液を氷浴に入れ、０℃に冷却した。その後、５０ｍｌのジクロロメタンに溶解した２０．３ｇ（１．５ｍｏｌ当量）の塩化アクリロイルを、窒素雰囲気下で、撹拌しつつ、ＢＣＯＤ含有溶液にゆっくりと滴下した。塩化アクリロイルの添加後、反応溶液の温度を０℃で１時間保持した。その後、氷浴を除き、反応混合物を窒素下で更に２４時間撹拌した。得られた白色の反応生成物が、式（２）のモノマー（本明細書中、ビシクロ［２．２．２］オクタン－１，４－ジメチルアクリレート（ＢＣＯ－ＤＡ）ともいう）であり、ろ過により分離し、蒸留水で洗浄した。反応収率は８０％であった。
Figure 2022058159000008
実施例２
２０ｗｔ％の式（２）のビシクロオクタンジアクリレート（ＢＣＯ－ＤＡ）、３５ｗｔ％のＢＡ、１０ｗｔ％のＩＢＯＡ、及び５０ｗｔ％のＡ－ＮＰＧを含む硬化性組成物（試料１）を調製した。この組成物は更に、２ｗｔ％の光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＴＰＯ、３ｗｔ％のＩｒｇａｃｕｒｅ ４２６５、及び３ｗｔ％の離型剤ＦＳ２０００Ｍ２及びＦＳ２０００Ｍ１（Daniel Lab製）を含んでいた。最終的な組成物は、２３℃で６．５ｍＰａ・ｓの粘度を有していた。
さらに、ＢＣＯ－ＤＡを含まず、より多い量のＡ－ＮＰＧを含む以外は、試料１と同様の組成を有する比較例の硬化性組成物（試料２）を調製した。比較試料Ｓ２の粘度は、２３℃で６．０ｍＰａ・ｓであった。
各組成物の硬化層は、シリコン基板上に硬化性組成物の厚さ１００ｎｍの液膜を塗布し、液膜が完全に硬化するまで紫外線に曝すことにより作製した。
硬化層の耐エッチング性を２つの異なるエッチングプロセスに従って試験した：１）Ｃｌ２／Ｏ２エッチング、及び２）Ｏ２／Ａｒエッチング。
表１にまとめているように、試料１（ＢＣＯ－ＤＡを含む）は、試料２と比較して、両方のエッチングプロセス、すなわち、Ｃｌ２／Ｏ２エッチングだけでなくＯ２／Ａｒエッチングにおいても、より高い耐エッチング性（より低いエッチングレートに相当）を有していた。耐エッチング性は、Ｃｌ２／Ｏ２エッチングにおいて最も高かった。表１に示す耐エッチング性のデータは正規化データであり、最もエッチングレートの高い試料（試料２）の実測エッチングレートを１とし、これに基づいて試料Ｓ１に関する対応した正規化エッチングレートを計算した。
Figure 2022058159000009
耐エッチング性の測定
厚さ１００ｎｍの硬化性組成物の膜をシリコンウェハ上に堆積させた。この液膜に２０ｍＷ／ｃｍ２の強度の紫外光を施し、この液膜を１２０秒間硬化させて完全に硬化させたが、これは２．４Ｊ／ｃｍ２の硬化エネルギー投与量に相当した。
試料１及び試料２の複数の膜を、２つの試料の膜が交互に配置されるように、市松状に同じウエハ上に配置した。各市松状配置物は、各試験試料の５つの膜を含んでいた。
試料膜の硬化後、市松状配置物をＴｒｉｏｎ Ｏｒａｃｌｅ ３－Ｃｈａｍｂｅｒ Ｃｌｕｓｔｅｒ Ｓｙｓｔｅｍ内に配置し、選択したドライエッチング条件に膜を曝した。Ｔｒｉｏｎ Ｏｒａｃｌｅ ３－Ｃｈａｍｂｅｒ Ｃｌｕｓｔｅｒ Ｓｙｓｔｅｍは、３つの個別のプロセスチャンバを有するドライエッチングツールであり、各チャンバは、Ｃｌ２、Ｏ２、ＣＦ４、及びアルゴンガスへのアクセスを含む中央のロードロックチャンバに接続されている。
Ｃｌ２／Ｏ２エッチングは、以下の条件で行った：Ｃｌ２＝５４ｓｃｃｍ、Ｏ２＝９ｓｃｃｍ、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）＝９０ｗ、Ｐ（圧力）＝１５０ｍｔ、ＥＴ（エッチング時間）＝９０秒。
Ｏ２／Ａｒエッチングは以下のように行った：Ｏ２＝２ｓｃｃｍ、Ａｒ＝１０ｓｃｃｍ、ＲＩＥ＝４５ｗ、Ｐ＝１０ｍｔ、ＥＴ＝４５秒。
定めたエッチング時間でのエッチング中に除去された材料の量（エッチングレート）をリフレクトメトリーにより測定し、ｎｍで表した。データ比較のために、試験試料の中で最も高いエッチングレートを有する試料を数１に設定し、他の試料の関連する数（正規化エッチングレート）を計算することによって、測定されたエッチングレートを正規化エッチングレートに変換した。
粘度の測定
粘度は、スピンドルサイズ＃１８で２００ｒｐｍにてブルックフィールド粘度計ＬＶＤＶ－ＩＩ＋Ｐｒｏを用いて２３℃で各試料について測定した。粘度試験のために、スピンドルヘッドを覆うのに十分な約６ｍＬ～７ｍＬの試料液を試料チャンバに加えた。全ての粘度試験で、少なくとも３回の測定を行い、平均値を算出した。
実施例３
ＢＣＯ－ＤＡの量が５ｗｔ％であり、ＤＣＰ－Ａ／ＤＡ（ジシクロペンチルアクリレート及びジシクロペンチルジアクリレートの混合物）を更に含むこと以外は、実施例２の試料Ｓ１と同様にして、硬化性組成物（試料Ｓ３）を調製した。試料Ｓ３の粘度は７．１１ｃｐｓであった。試料Ｓ３の硬化膜を、比較組成物の試料Ｓ４の硬化膜と比較した。比較組成物Ｓ４は、ＢＣＯ－ＤＡを含まなかった。試料Ｓ４の粘度は７．１５ｃｐｓであった。試料Ｓ３及びＳ４の正確な組成は、表２にまとめている。
Figure 2022058159000010
表２に更にまとめたように、試料Ｓ３の正規化エッチングレートは、試料Ｓ４の正規化エッチングレートよりも低く、これは試料Ｓ３の耐エッチング性が比較試料Ｓ４よりも高かったことを意味する。試料Ｓ１と同様に、試料Ｓ３の最も優れた耐エッチング性は、ドライ塩素エッチング条件において得られた。
本明細書中に記載する実施形態の詳述及び説明は、様々な実施形態の構造の一般的な理解を提供すると意図される。詳述及び説明は、本明細書中に記載する構造又は方法を使用する装置及びシステムの要素及び特徴の全ての網羅的かつ包括的な説明となることは意図されない。別々の実施形態はまた、単一の実施形態において組み合わせて提供されてもよく、逆にまた、簡略のために単一の実施形態の文脈において記載される様々な特徴が、別々に、又は任意のサブコンビネーションで提供されてもよい。さらに、範囲内に提示される値に対する言及は、この範囲内の各値及びあらゆる値を含む。多くの他の実施形態は、本明細書を読解した後にのみ、当業者に明らかであり得る。構造的置換、論理的置換、又は別の変更が、本開示の範囲を逸脱することなく成され得るように、他の実施形態を使用して、本開示から導いてもよい。したがって、本開示は、限定的ではなく、説明的であるとみなされるべきである。

Claims (20)

  1. 式（１）
    Figure 2022058159000011
     （式中、ＲはＨ又はアルキル又はアルキルアリールであり、ｎは１～４であり、ｍは０～６であり、Ｘ１はＣ１～Ｃ６の置換又は非置換のアルキルであり、Ｘ２はＣＨ３又はＨである）のモノマーを含む重合性材料を含む硬化性組成物。
  2. 前記式（１）のモノマーは、二官能性アクリレートモノマーを含む、請求項１に記載の硬化性組成物。
  3. 前記二官能性アクリレートモノマーは、式（２）
    Figure 2022058159000012
     の構造を含む、請求項２に記載の硬化性組成物。
  4. 前記式（１）のモノマーの量は、前記重合性材料の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％かつ５０ｗｔ％以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  5. 前記重合性材料の量は、前記硬化性組成物の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％かつ９８ｗｔ％以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  6. 前記重合性材料は、前記式（１）のモノマーとは異なる、少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーを含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  7. 前記少なくとも１種の第２のアクリレートモノマーは、ベンジルアクリレート（ＢＡ）、又はイソボルニルアクリレート（ＩＢＯＡ）、又はネオペンチルグリコールジアクリレート（Ａ－ＮＰＧ）、又はこれらの任意の組み合わせを含む、請求項６に記載の硬化性組成物。
  8. 前記組成物は、２０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  9. 前記組成物は、１５ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有する、請求項８に記載の硬化性組成物。
  10. 光重合開始剤を更に含む、請求項１～９のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  11. 前記硬化性組成物は、ナノインプリントリソグラフィープロセスにおけるレジストとしての使用に適合している、請求項１～１０のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  12. 硬化後の前記硬化性組成物の大西パラメータは３．６以下である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の硬化性組成物。
  13. 基板と該基板を覆う硬化層とを含む積層体であって、前記硬化層が、請求項１～１２のいずれか１項に記載の硬化性組成物から形成されている、積層体。
  14. 前記硬化層は、３．６以下の大西パラメータを有する、請求項１３に記載の積層体。
  15. 基板上に硬化層を形成する方法であって、
    基板上に硬化性組成物を塗布することと、
    なお、前記硬化性組成物が、式（１）
    Figure 2022058159000013
     （式中、ＲはＨ又はアルキル又はアルキルアリールであり、ｎは１～４であり、ｍは０～６であり、Ｘ１は置換又は非置換のＣ１～Ｃ６アルキルであり、Ｘ２はＣＨ３又はＨである）の構造を有するモノマーを含む重合性材料を含む；
    前記硬化性組成物を、スーパーストレートと接触させることと、
    前記硬化性組成物を光及び／又は熱を用いて硬化させて、硬化層を形成することと、
    前記硬化層から前記スーパーストレートを除去することと、
    を含む、方法。
  16. 前記硬化性組成物の粘度は、２０ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１５に記載の方法。
  17. 前記式（１）のモノマーの量は、前記重合性材料の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％かつ５０ｗｔ％以下である、請求項１５または１６に記載の方法。
  18. 前記式（１）のモノマーは、式（２）
    Figure 2022058159000014
     の構造を含む、請求項１５～１７のいずれか１項に記載の方法。
  19. 物品を製造する方法であって、
    基板上に硬化性組成物を塗布することと、
    なお、前記硬化性組成物が、式（１）
    Figure 2022058159000015
     （式中、ＲはＨ又はアルキル又はアルキルアリールであり、ｎは１～４であり、ｍは０～６であり、Ｘ１は置換又は非置換のＣ１～Ｃ６アルキルであり、Ｘ２はＣＨ３又はＨである）の構造を有するモノマーを含む重合性材料を含む；
    前記硬化性組成物を、スーパーストレートと接触させることと、
    前記硬化性組成物を光及び／又は熱を用いて硬化させて、硬化層を形成することと、
    前記硬化層から前記スーパーストレートを除去することと、
    前記硬化層を有する前記基板を加工して、前記物品を製造することと、
    を含む、方法。
  20. 前記式（１）のモノマーの量は、前記重合性材料の総重量に対して、少なくとも５ｗｔ％かつ５０ｗｔ％以下であり、前記硬化性組成物の粘度は、２０ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１９に記載の方法。
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