JPS6242326A - 磁気デイスク - Google Patents
磁気デイスクInfo
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- JPS6242326A JPS6242326A JP18199785A JP18199785A JPS6242326A JP S6242326 A JPS6242326 A JP S6242326A JP 18199785 A JP18199785 A JP 18199785A JP 18199785 A JP18199785 A JP 18199785A JP S6242326 A JPS6242326 A JP S6242326A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ディスク装置の如き磁気的記t?装置の
記憶媒体として用いられる磁気ディスクに関するもので
あり、詳細には磁性粉を樹脂結合剤とともに塗布するこ
とにより磁性層が形成される、いわゆる塗布型の磁気デ
ィスクに関するものである。
記憶媒体として用いられる磁気ディスクに関するもので
あり、詳細には磁性粉を樹脂結合剤とともに塗布するこ
とにより磁性層が形成される、いわゆる塗布型の磁気デ
ィスクに関するものである。
本発明は、磁性粉末を樹脂結合剤とともに塗布すること
により磁性層が形成される磁気ディスクにおいて、 基板に表面If1度が中心線平均粗さRaで200〜1
00OAの高剛性耐熱性樹脂基板を用い、磁性塗膜の結
合剤として電子線硬化型樹脂を用いるごとにより、 軽鼠化、ディスクドライブ装置の消費電力低減。
により磁性層が形成される磁気ディスクにおいて、 基板に表面If1度が中心線平均粗さRaで200〜1
00OAの高剛性耐熱性樹脂基板を用い、磁性塗膜の結
合剤として電子線硬化型樹脂を用いるごとにより、 軽鼠化、ディスクドライブ装置の消費電力低減。
耐久性やSN比の改善等を図ると同時に、基板と磁性層
■々の付着力の向上、磁気特性の改善を図ろうとするも
のである。
■々の付着力の向上、磁気特性の改善を図ろうとするも
のである。
例えばコンピュータ等の記′澄媒体としては、ランダム
アクセスが可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられ
ており、なかでも、応答性に優れること、記憶容量が大
きいこと、保存性が良好で信転性が高いこと等から、基
板に、1合金板やガラス板、プラスチック仮等の硬質材
料を用いた磁気ディスク、いわゆるハードディスクが固
定ディスク、あるいは外部ディスクとして使用されるよ
うになっている。
アクセスが可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられ
ており、なかでも、応答性に優れること、記憶容量が大
きいこと、保存性が良好で信転性が高いこと等から、基
板に、1合金板やガラス板、プラスチック仮等の硬質材
料を用いた磁気ディスク、いわゆるハードディスクが固
定ディスク、あるいは外部ディスクとして使用されるよ
うになっている。
上記ハードディスクは、例えばA1合金基板上に記録再
生に関与する磁性層を形成したものであっζ、高速で回
転して同心円状の多数のトラ・7りに情報の記録再生を
行うものである。
生に関与する磁性層を形成したものであっζ、高速で回
転して同心円状の多数のトラ・7りに情報の記録再生を
行うものである。
この種の磁気ディスクにおいては、一般に、基板材料と
してAl板を用いるとともに、磁性層である磁気ディス
ク塗膜に強度をもたせるため、樹脂結合剤として熱硬化
性樹脂が用いられており、この熱硬化性樹脂を硬化すべ
く、200℃〜300℃の硬化条件で数時間焼き付けを
行い磁性層を形成している。
してAl板を用いるとともに、磁性層である磁気ディス
ク塗膜に強度をもたせるため、樹脂結合剤として熱硬化
性樹脂が用いられており、この熱硬化性樹脂を硬化すべ
く、200℃〜300℃の硬化条件で数時間焼き付けを
行い磁性層を形成している。
ところで、このように基板にA、 !l板を使用した磁
気ディスクにあっては、 (i)表面平滑性を得るためにダイヤ・ターン加工やグ
ラインド・ポリッシュ等の研磨加工を施す必要があり、
工程が増え製造コストも増大する。
気ディスクにあっては、 (i)表面平滑性を得るためにダイヤ・ターン加工やグ
ラインド・ポリッシュ等の研磨加工を施す必要があり、
工程が増え製造コストも増大する。
(ii)比重が約2.7と重いため、ディスクを駆動す
るためのスピンドルモータのン肖費電力が大となり、デ
ィスク駆動装置あるいはシステムの消費電力が大となる
。
るためのスピンドルモータのン肖費電力が大となり、デ
ィスク駆動装置あるいはシステムの消費電力が大となる
。
(iii)Al板の中にわずかに含まれる鉄は、磁性を
有するために、記録・再生時にノイズ発生の大きな原因
となる。
有するために、記録・再生時にノイズ発生の大きな原因
となる。
等の欠点を有している。
あるいは、上記Aρ基板の代わりに樹脂基板を使用する
ことも考えられるが、この場合、(磁性層を硬化するた
めに高温焼付を行うと、ディスクが変形してしまう虞れ
がある。また、ディスクの形状に影響がでないような低
温で長時間かけて硬化した場合には、硬化が不充分で、
耐久性の悪いものとなってしまう。
ことも考えられるが、この場合、(磁性層を硬化するた
めに高温焼付を行うと、ディスクが変形してしまう虞れ
がある。また、ディスクの形状に影響がでないような低
温で長時間かけて硬化した場合には、硬化が不充分で、
耐久性の悪いものとなってしまう。
そこで、本願出願人は、先に特曝昭60−159709
号明細書において、基板に高力l性耐熱性樹脂基板を用
いるとともに、磁性塗膜の結合剤に電子線硬化型樹脂を
用い、これら諸問題を解消することを提案した。
号明細書において、基板に高力l性耐熱性樹脂基板を用
いるとともに、磁性塗膜の結合剤に電子線硬化型樹脂を
用い、これら諸問題を解消することを提案した。
上述のように基板に高剛性耐熱性樹脂基板を用いた磁気
ディスクにあっては、軽量化や低ノイズ化、基板の変形
の防止等が達成される。
ディスクにあっては、軽量化や低ノイズ化、基板の変形
の防止等が達成される。
本発明は、さらに加えて磁性塗膜の付着力の向上、磁気
特性のより一層の改善を図ろうとするものであって、軽
量、高耐久性、低ノイズであるとともに、磁性塗膜の付
着力や磁気特性に優れた磁気ディスクを堤供することを
目的とする。
特性のより一層の改善を図ろうとするものであって、軽
量、高耐久性、低ノイズであるとともに、磁性塗膜の付
着力や磁気特性に優れた磁気ディスクを堤供することを
目的とする。
本発明者等は、高剛性耐熱性樹脂基板の表面に撒細な凹
凸を設けることにより、同一条件で配向した場合に磁気
特性が向上し、また、同時に塗膜の付着力が向上するこ
とを見出し本発明を完成するに至ったものであって、表
面粗度が中心線平均粗さRaで200〜1000人であ
る高剛性耐熱樹脂基板上に磁性粉末と電子線硬化型樹脂
よりなる磁性塗膜が形成され、上記磁性塗膜が電子線の
照射により硬化されていることを特徴とするものである
。
凸を設けることにより、同一条件で配向した場合に磁気
特性が向上し、また、同時に塗膜の付着力が向上するこ
とを見出し本発明を完成するに至ったものであって、表
面粗度が中心線平均粗さRaで200〜1000人であ
る高剛性耐熱樹脂基板上に磁性粉末と電子線硬化型樹脂
よりなる磁性塗膜が形成され、上記磁性塗膜が電子線の
照射により硬化されていることを特徴とするものである
。
本発明の磁気ディスクにおいては、基板に高剛性耐熱樹
脂基板を使用するが、この基板材料には次のような要件
を満たすことが要求される。
脂基板を使用するが、この基板材料には次のような要件
を満たすことが要求される。
すなわち、
(a)ディスク内周側でのクランプ点からディスク外周
縁までの距離をe、ディスクの厚みをdとしたときに、
d/p>0.022であること。
縁までの距離をe、ディスクの厚みをdとしたときに、
d/p>0.022であること。
(b)熱変形温度が120℃以上であること。
(c)熱膨張率が7. Ox l O−5/℃未満であ
ること。
ること。
(d)ヤング率が24 Q kg/mm”以上であるこ
と。
と。
等である。例えば、ト記(a) 、 (d)の条件を満
たさないと、ディスクは自重で外周端が彎曲してしまう
虞れがある。あるいは、(b) 、 (c)の条件を満
たさないと、記録の再現性を保つことが出来ないので、
磁気ディスクの品質として不充分なものとなる。
たさないと、ディスクは自重で外周端が彎曲してしまう
虞れがある。あるいは、(b) 、 (c)の条件を満
たさないと、記録の再現性を保つことが出来ないので、
磁気ディスクの品質として不充分なものとなる。
かかる観点から、本発明の磁気ディスクの基板材料とし
ては、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリサ
ルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアセクール、ポリ
フェニレンサルファイド等が好適である。
ては、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリサ
ルホン、ポリエーテルサルホン、ポリアセクール、ポリ
フェニレンサルファイド等が好適である。
本発明においては、この高剛性耐熱性樹脂基板に、いわ
ゆるテクスチャリング処理によって微細な凹凸を形成し
た基板を用いる。
ゆるテクスチャリング処理によって微細な凹凸を形成し
た基板を用いる。
この場合、上記微細な凹凸による表面粗度は、JIS規
格(JIS BO601)に記載される中心線平均粗
さRaで200〜1000人の範囲とすることが好まし
い。この表面粗度がRaで200人未満では、付着力の
向上や磁気特性の向上に対する効果が不充分なものとな
る。また、Raで1000人を越えると、却って磁気特
性が低下する。
格(JIS BO601)に記載される中心線平均粗
さRaで200〜1000人の範囲とすることが好まし
い。この表面粗度がRaで200人未満では、付着力の
向上や磁気特性の向上に対する効果が不充分なものとな
る。また、Raで1000人を越えると、却って磁気特
性が低下する。
上記微細な凹凸を形成する手法としては、ラフピングテ
ープ等による方法や、ボンバード処理等のドライエツチ
ング、さらにはウェットエツチング等の方法が挙げられ
る。
ープ等による方法や、ボンバード処理等のドライエツチ
ング、さらにはウェットエツチング等の方法が挙げられ
る。
一方、本発明において磁性層の結合剤として用いられる
電子線硬化性樹脂は、磁性塗料を良好に塗布し得るよう
に、粘度が低いものが好ましく、また、硬化時には硬い
ことが好ましい。このような電子線硬化性樹脂としては
、以下のものが挙げられる。
電子線硬化性樹脂は、磁性塗料を良好に塗布し得るよう
に、粘度が低いものが好ましく、また、硬化時には硬い
ことが好ましい。このような電子線硬化性樹脂としては
、以下のものが挙げられる。
+11式
(式中、nは整数を表し、またR1は−H,−(R3等
を表し、R2は−H1−CHa、−Br。
を表し、R2は−H1−CHa、−Br。
−Cβ等を表す。)
で示されるフェノールノボラノクエポキソアクリレート
あるいはメタクリレート。
あるいはメタクリレート。
(2)弐
(式中、nは整数を表し、またR1は−H,−CH3等
を表し、R2は−H,−CH,、−Br。
を表し、R2は−H,−CH,、−Br。
−C1等を表す。)
で示されるビスフェノールA型エポキシアク1ル−トあ
るいはメタクリルレート。
るいはメタクリルレート。
(3)弐
(式中、R,は−H,−CH3等を表し、R3は2価の
炭化水素基を表す。) で示される脂環型エポキシアクリレートあるいはメタク
リレート。
炭化水素基を表す。) で示される脂環型エポキシアクリレートあるいはメタク
リレート。
上述のエポキシアクリレートあるいはエポキシメタクリ
レートの分子量は、400〜5000であることが好ま
しい。この分子量が大きすぎると、硬化時の強度が不足
する広れがある。また、一分子当たりの不飽和結合当量
は、150〜3000の範囲内であることが好ましい。
レートの分子量は、400〜5000であることが好ま
しい。この分子量が大きすぎると、硬化時の強度が不足
する広れがある。また、一分子当たりの不飽和結合当量
は、150〜3000の範囲内であることが好ましい。
また、これらエポキシアクリレートまたはエポキシメタ
クリレートには、硬化剤として多官能アクリレート(2
官能〜6官能程度)を併用しても良い。
クリレートには、硬化剤として多官能アクリレート(2
官能〜6官能程度)を併用しても良い。
上記多官能アクリレート(あるいはメタクリレート)と
しては、オリゴエステルアクリレート(例えば東亜合成
社製、M8060.M8030゜M7100.M810
0)やトリメチロールブIIIパントリアクリレート、
ペンタエリスリト−ルトリアクリレート、ペンタエ゛」
スリトールテトラアクリレート、ジベンタエリスl )
−ルヘキサアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレ
ート、等が挙げられる。また、上記2官能アクリレート
(あるいはメタクリレート)としては、1.3−ブタン
ジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールンアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エス
テルネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げら
れ、商品名ビスコ−)#3700.#700 (大阪有
機社製)や商品名MANDA (日本火薬社製)、商品
名アロニノクスM6]00.M6200.M6250、
M6300.M2SO4(東亜合成社製)等が市販され
ている。さらに、上記単官能アクリレート(あるいはメ
タクリレート)としては、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレ−1・、商品名HOA
−MPE (共栄社製)、商品名アロニノクスM570
0 (東亜合成社製)等が挙げられる。
しては、オリゴエステルアクリレート(例えば東亜合成
社製、M8060.M8030゜M7100.M810
0)やトリメチロールブIIIパントリアクリレート、
ペンタエリスリト−ルトリアクリレート、ペンタエ゛」
スリトールテトラアクリレート、ジベンタエリスl )
−ルヘキサアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレ
ート、等が挙げられる。また、上記2官能アクリレート
(あるいはメタクリレート)としては、1.3−ブタン
ジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
アクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレン
グリコールンアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エス
テルネオペンチルグリコールジアクリレート等が挙げら
れ、商品名ビスコ−)#3700.#700 (大阪有
機社製)や商品名MANDA (日本火薬社製)、商品
名アロニノクスM6]00.M6200.M6250、
M6300.M2SO4(東亜合成社製)等が市販され
ている。さらに、上記単官能アクリレート(あるいはメ
タクリレート)としては、ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレ−1・、商品名HOA
−MPE (共栄社製)、商品名アロニノクスM570
0 (東亜合成社製)等が挙げられる。
これらエポキシアクリレートまたはエボキシメククリレ
−1・からなる塗膜は、通常の電子線硬化性樹脂と比べ
て非常に硬く、その硬度は鉛筆硬度で6H〜8H程度に
もなる。また、得られる塗膜は、研磨性にも優れ、した
がって研磨時等に焼き付きが起こる虞れもない。
−1・からなる塗膜は、通常の電子線硬化性樹脂と比べ
て非常に硬く、その硬度は鉛筆硬度で6H〜8H程度に
もなる。また、得られる塗膜は、研磨性にも優れ、した
がって研磨時等に焼き付きが起こる虞れもない。
また、本発明で使用される強磁性粉末としては、強磁性
酸化鉄粒子1強磁性二酸化クロム、強磁性合金粉末及び
六方晶系フェライト粒子等が挙げられる。
酸化鉄粒子1強磁性二酸化クロム、強磁性合金粉末及び
六方晶系フェライト粒子等が挙げられる。
ここで、上記強磁性酸化鉄粒子は、一般式FeOxで表
した場合、Xの値が1.33≦X≦1.50の範囲にあ
るもの、即ちマグヘマイト(γ−Fe。
した場合、Xの値が1.33≦X≦1.50の範囲にあ
るもの、即ちマグヘマイト(γ−Fe。
Os x=1.50、マグネタイト CFe5O−
X=1.33>、及びこれらの固溶体(FeOx1.3
3 < x< 1.50 )である。
X=1.33>、及びこれらの固溶体(FeOx1.3
3 < x< 1.50 )である。
これら強6は性酸化鉄には、抗磁力をあげる目的でコバ
ルトを添加してもよい。コバルト含有磁性酸化鉄には、
大別してドープ型と被着型の二種類があり、Coドープ
型酸化鉄磁性粒子は、水酸化コバルトを含む水酸化第2
鉄を水防処理し生成した粉を還元・酸化する方法や針状
ゲータイトまたはマグヘマイトの表面にCo化合物を吸
着させ比較的高い温度で熱処理する方法等により製造さ
れ、また、CO被着型酸化鉄磁性粒子は、アルカリ水溶
液中で針状磁性酸化鉄とコバルト塩を混合し加熱してコ
バルト化合物を吸着させた後、水洗・乾燥して取り出し
非還元性雰囲気中で熱処理することにより得られる。C
O被着型酸化鉄磁性粒子は、Coドープ型酸化鉄磁性粒
子と比べ、テープ化した時に転写特性・凍磁特性に優れ
ている特徴を有する。
ルトを添加してもよい。コバルト含有磁性酸化鉄には、
大別してドープ型と被着型の二種類があり、Coドープ
型酸化鉄磁性粒子は、水酸化コバルトを含む水酸化第2
鉄を水防処理し生成した粉を還元・酸化する方法や針状
ゲータイトまたはマグヘマイトの表面にCo化合物を吸
着させ比較的高い温度で熱処理する方法等により製造さ
れ、また、CO被着型酸化鉄磁性粒子は、アルカリ水溶
液中で針状磁性酸化鉄とコバルト塩を混合し加熱してコ
バルト化合物を吸着させた後、水洗・乾燥して取り出し
非還元性雰囲気中で熱処理することにより得られる。C
O被着型酸化鉄磁性粒子は、Coドープ型酸化鉄磁性粒
子と比べ、テープ化した時に転写特性・凍磁特性に優れ
ている特徴を有する。
強磁性二酸化クロムとしては、CrO2あるいはこれら
に抗磁力を向上させる目的でRu、Sn。
に抗磁力を向上させる目的でRu、Sn。
Te、S b、F e、T i、 ■、Mn等の少な
くとも一種を添加したものを使用できる。
くとも一種を添加したものを使用できる。
強磁性合金粉末としては、Fe、Co、Ni。
Fe−Co、Fe−NiまたはFe−Co−Ni等が使
用でき、また、これらに種々の特性を改善する目的でA
/!、Si、Ti、Cr、Mn、Cu。
用でき、また、これらに種々の特性を改善する目的でA
/!、Si、Ti、Cr、Mn、Cu。
Zn等の金属成分を添加したものが使用可能である。
さらに、上記磁性層中には、モース硬度6以上の非磁性
顔料を補強剤や、二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、シリコンオイル、プラスチック微粉
末、常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素、脂肪酸エステ
ル類、フルオロカーボン類等の潤滑剤、炭素数12〜1
8の脂肪酸。
顔料を補強剤や、二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン等の無機微粉末、シリコンオイル、プラスチック微粉
末、常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素、脂肪酸エステ
ル類、フルオロカーボン類等の潤滑剤、炭素数12〜1
8の脂肪酸。
この脂肪酸のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属塩
である金属石鹸、脂肪酸のアミド、アルキルリン酸エス
テル、レシチン、トリアルキルボリオレフィンオキン第
四アンモニウム塩等の分散剤、□ 等を添加しても
よい。
である金属石鹸、脂肪酸のアミド、アルキルリン酸エス
テル、レシチン、トリアルキルボリオレフィンオキン第
四アンモニウム塩等の分散剤、□ 等を添加しても
よい。
これら各成分を、溶剤に溶解して磁性塗料を調製し、高
剛性耐熱基板上(片面もしくは両面)に塗布して磁性塗
膜を形成するが、その塗布方法としては、スピンコード
法やディ、デコート法、その他のコーティング技法等に
よればよい。
剛性耐熱基板上(片面もしくは両面)に塗布して磁性塗
膜を形成するが、その塗布方法としては、スピンコード
法やディ、デコート法、その他のコーティング技法等に
よればよい。
そして、このように塗布した磁性塗膜に対して、電子線
を照射して硬化する。この場合、電子線の照射量は1〜
10Mradの範囲内とすることが好ましく、通常は2
〜7Mrad程度に設定する。また、その照射エネルギ
ー(加速電圧)はLookeV以上とするのが好ましい
。この硬化速度は捲めて速いので、硬化時間を大幅に短
縮することができる。
を照射して硬化する。この場合、電子線の照射量は1〜
10Mradの範囲内とすることが好ましく、通常は2
〜7Mrad程度に設定する。また、その照射エネルギ
ー(加速電圧)はLookeV以上とするのが好ましい
。この硬化速度は捲めて速いので、硬化時間を大幅に短
縮することができる。
なお、このようにして硬化される磁性層の表面に、通常
この種の媒体に用いられる潤滑剤の薄層をトップコート
層として形成してもよい。
この種の媒体に用いられる潤滑剤の薄層をトップコート
層として形成してもよい。
高剛性耐熱樹脂基板の表面粗度を中心線平均粗さRaで
200〜1000人とすることにより、磁気特性や磁性
塗膜の付着力が向上する。
200〜1000人とすることにより、磁気特性や磁性
塗膜の付着力が向上する。
基板は高剛性耐熱樹脂基板であるので軽量であり、磁性
塗膜の結合剤として電子線硬化型樹脂を用いているので
、熱による基板の変形の虞れは皆無である。
塗膜の結合剤として電子線硬化型樹脂を用いているので
、熱による基板の変形の虞れは皆無である。
以下、本発明の具体的な実施例について説明する。
CO被被着−Fe、O,・・・200重量部ビスフェノ
ールA型エポキシアクリレート(分子量2000)
・・・・80重量部トリメチロールプロパントリアクリ
レート・・・・20重量部 CrzOi ・・・・20重量部シ
クロヘキサノン ・・・240重量部ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル・・・・60重量部 以上に示すような組成を有する磁性塗料を調製し、これ
を第1表に示すような表面粗度を有するポリエーテルイ
ミド基板(GE社製、商品名ウルテム基板)上にスピン
コード法により均一に塗布した後、電子線を5Mrad
照射して硬化し、常法にしたがって磁気ディスクを作成
した。
ールA型エポキシアクリレート(分子量2000)
・・・・80重量部トリメチロールプロパントリアクリ
レート・・・・20重量部 CrzOi ・・・・20重量部シ
クロヘキサノン ・・・240重量部ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル・・・・60重量部 以上に示すような組成を有する磁性塗料を調製し、これ
を第1表に示すような表面粗度を有するポリエーテルイ
ミド基板(GE社製、商品名ウルテム基板)上にスピン
コード法により均一に塗布した後、電子線を5Mrad
照射して硬化し、常法にしたがって磁気ディスクを作成
した。
作成した各磁気ディスクに対し、MEKテスト。
接着テープテストを行い、磁性塗膜の付着力を調べた。
ここで、MEKテストは、メチルエチルケトン(MEK
)を綿棒につけ、その綿棒で磁性塗膜を擦り、磁性塗膜
がなくなるまでの回数で表した。接着テープテストは、
接着テープを磁性塗膜に貼り付け、180°方向に判が
した時の塗膜の!、1がれを調べ、磁性塗膜が剥がれれ
ば×、剥がれなければ○とした。さらに、磁気特性とし
て、角形比Rs及び抗磁力Hcを測定した。結果を次表
に示す。
)を綿棒につけ、その綿棒で磁性塗膜を擦り、磁性塗膜
がなくなるまでの回数で表した。接着テープテストは、
接着テープを磁性塗膜に貼り付け、180°方向に判が
した時の塗膜の!、1がれを調べ、磁性塗膜が剥がれれ
ば×、剥がれなければ○とした。さらに、磁気特性とし
て、角形比Rs及び抗磁力Hcを測定した。結果を次表
に示す。
(以下余白)
この表より、テクスチャリング処理により表面粗度をR
a200〜1000人とすることにより、MEKテスト
や接着テープテストの向上が見られ、付着力が向上する
とともに、磁気特性の向上も見られることがわかった。
a200〜1000人とすることにより、MEKテスト
や接着テープテストの向上が見られ、付着力が向上する
とともに、磁気特性の向上も見られることがわかった。
以上の説明からも明らかなように、本発明の磁気ディス
クにおいては、高剛性耐熱性樹脂基板の表面粗度を中心
線平均粗さRaで200〜1OOO人としているので、
磁性塗膜の付着力が大幅に向上し、膜剥がれがなく耐久
性に優れたものとなる。同時に磁気特性の向上も達成さ
れ、これにより周波数特性が向上し、より高密度記録化
も可能となる。
クにおいては、高剛性耐熱性樹脂基板の表面粗度を中心
線平均粗さRaで200〜1OOO人としているので、
磁性塗膜の付着力が大幅に向上し、膜剥がれがなく耐久
性に優れたものとなる。同時に磁気特性の向上も達成さ
れ、これにより周波数特性が向上し、より高密度記録化
も可能となる。
また、基板に高剛性耐熱樹脂基板を用いているので、デ
ィスクの軽量化を図ることができ、ディスク駆動装置の
消費電力を低減しシステムの小型化を図ることが可能と
なるとともに、基板中の磁性成分の混入を防止すること
ができ、信号対雑音の比が散着され、したがってるn性
層の一層の′Ei膜化が可能となり、記録密度の向上が
もたらされる。
ィスクの軽量化を図ることができ、ディスク駆動装置の
消費電力を低減しシステムの小型化を図ることが可能と
なるとともに、基板中の磁性成分の混入を防止すること
ができ、信号対雑音の比が散着され、したがってるn性
層の一層の′Ei膜化が可能となり、記録密度の向上が
もたらされる。
さらに、本発明の磁気ディスクにおいては、磁性塗膜の
結合剤として電子線硬化型樹脂を用いているので、硬化
時のディスクの形状への影響を皆無とすることができ、
歩留まりが大幅に向上する。
結合剤として電子線硬化型樹脂を用いているので、硬化
時のディスクの形状への影響を皆無とすることができ、
歩留まりが大幅に向上する。
さらにまた、この電子線硬化型樹脂を用いることにより
、磁性層の塗膜物性を向上することができ、磁気ディス
クの耐久性を向トすることができる。
、磁性層の塗膜物性を向上することができ、磁気ディス
クの耐久性を向トすることができる。
Claims (1)
- 表面粗度が中心線平均粗さRaで200〜1000Åで
ある高剛性耐熱樹脂基板上に磁性粉末と電子線硬化型樹
脂よりなる磁性塗膜が形成され、上記磁性塗膜が電子線
の照射により硬化されていることを特徴とする磁気ディ
スク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18199785A JPS6242326A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 磁気デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18199785A JPS6242326A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 磁気デイスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6242326A true JPS6242326A (ja) | 1987-02-24 |
Family
ID=16110517
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18199785A Pending JPS6242326A (ja) | 1985-08-20 | 1985-08-20 | 磁気デイスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6242326A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4982390A (en) * | 1987-12-15 | 1991-01-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Real time signal recording apparatus for effecting variable signal transfer rate |
US6773789B2 (en) * | 2001-10-31 | 2004-08-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
-
1985
- 1985-08-20 JP JP18199785A patent/JPS6242326A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4982390A (en) * | 1987-12-15 | 1991-01-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Real time signal recording apparatus for effecting variable signal transfer rate |
US6773789B2 (en) * | 2001-10-31 | 2004-08-10 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
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