JP2003121612A - マイクロレンズアレイ、マイクロレンズアレイの転写原型の製造方法、および転写原型を用いた凹凸型、転写用積層体、拡散反射板、液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 良好な反射特性を有する拡散反射板の製造に
使用される転写原型及び凹凸型、転写用積層体並びに拡
散反射板を提供するものである。 【解決手段】 略円形状の寸法を有する形状であって、
長軸あるいは短軸に対して直角な面にて断面を取ったと
きにどの断面形状においても１つの円形状あるいは非球
面曲線の一部を用いた形状にて構成されるマイクロレン
ズ形状。前記形状を多数個配置した転写原型の凹凸形状
を被転写基材に転写してなる凹凸型の凹凸面に薄膜層が
積層されており、薄膜層の仮支持体に接しているのと反
対の表面が適用基板への接着面を構成する転写用積層
体。さらに、この転写用積層体を適用基板に薄膜層の接
着面が接するように押し当てる工程、前記仮支持体を剥
がす工程及び薄膜層の凹凸表面に反射膜を形成する工程
を含む拡散反射板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】光を集光、拡散、反射、回折
等で制御することが必要な分野、例えばディスプレイ、
照明、医療、食料、光通信、コンピュータ等、マイクロ
レンズが必要な分野に関するが、特に反射型液晶表示装
置や高効率を必要とされる太陽電池の拡散反射板の製造
等に使用されるマイクロレンズアレイ、マイクロレンズ
アレイの転写原型の製造方法、転写原型を用いた凹凸
型、転写用積層体、拡散反射板及び液晶表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】回折格子フィルターや光通信光学部品、
またカメラ部品の焦点板を形成することにマイクロレン
ズアレイが用いられる。マイクロレンズアレイは直径１
０〜３００μｍほどの円形状で、深さが０．６〜５０μ
ｍの寸法である。通常マイクロレンズの形状は中心を軸
対称とした球面形状で設計される。また、このマイクロ
レンズを製造する手段としては特開平９−３２７８６０
号公報、特開平１１−４２６４９号公報にみられる圧痕
方式や、特開平６−１９４５０２号公報に見られるよう
な露光によるエッチングを行なうフォトリソグラフィ方
式（以下、フォトリソ方式という）がある。また、ファ
ナック技術資料には切削工具を回転させてレンズ面を回
転切削するフライカット方式が記載されている。

【０００３】上記のマイクロレンズを等ピッチにて配置
したものとしては、光学部品として用いる回折格子フィ
ルターや光通信部品があり、また不規則ピッチで配置し
て使用するものとして、虹色反射を防ぎ白色光を反射さ
せる反射板やそれを反射型液晶の反射電極部材として用
いたものがある。これらは、マイクロレンズを数百万か
ら数千万個配置して形成する必要がある。

【０００４】球面形状に設計されたマイクロレンズを加
工する際には、フォトリソ法にて形成されることが多
い。また機械的にマイクロレンズの加工寸法を制御する
手段としては圧痕手法あるいは回転切削によるフライカ
ットが用いられる。

【０００５】液晶ディスプレイ（以下ＬＣＤと略す）
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ
始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予
想されている。特に、外部から入射した光を反射させて
表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要である
ために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点
で携帯用端末機器用途として注目されている。従来から
反射型ＬＣＤにはツイステッドネマティック方式並びに
スーパーツイステッドネマティック方式が採用されてい
るが、これらの方式では直線偏光子により入射光の１／
２が表示に利用されないことになり表示が暗くなってし
まう。そこで、偏光子を１枚に減らし、位相差板と組み
合わせた方式や相転移型ゲスト・ホスト方式の表示モー
ドが提案されている。

【０００６】反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用
して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度から
の入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光
の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上
の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御するこ
とが必要である。

【０００７】基板に感光性樹脂を塗布しフォトマスクを
用いてパターン化して数ミクロンの微細な凹凸を形成
し、金属薄膜を形成して拡散反射板を形成する方法（特
開平４−２４３２２６号公報）が提案されている。

【０００８】また先端が球面状の圧子を押圧して凹部を
連続して形成した転写原型の製造方法およびそれを反射
体基板に転写して反射体を製造する方法が提案されてい
る（特開平１１-４２６４９号公報）。

【０００９】また拡散性を制御するために樹脂に微粒子
を分散させたものを基板に膜形成する方法が提案されて
いる（特開平７−１１０４７６号公報）。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】フォトリソ法にてマイ
クロレンズアレイを形成する場合、化学反応にて処理を
進めるためマイクロレンズのレンズ面の形状制御が難し
い。とくに、不規則ピッチにてマイクロレンズの配置を
行う反射板においては隣接するマイクロレンズの大きさ
が異なるため深さ制御などに問題があり、形状の制御が
難しい。従って、軸対称球面の配置は困難である。

【００１１】図１２は圧痕方式によってマイクロレンズ
を形成する方法を示す圧痕工具と圧痕母型の斜視図であ
る。図に示す圧痕加工方式においては軸対称の球面形状
を構成する場合には球面である工具を入手する必要があ
る。工具は通常ダイヤモンド圧子６０が用いられる。ダ
イヤモンド圧子６０を単結晶で構成できれば完全に球面
の工具を得ることができるが、ダイヤモンドの場合、結
晶方位によって硬い面と軟らかい面とがあるため、工具
を完全に球面に仕上げることが難しく、厳密には異方性
を有する工具形状となる。特に軸対称形状の非球面形状
を所望の場合には形状輪郭を得ることに困難を極める。
従って、圧痕母型６３にダイヤモンド圧子６０によって
所望の形状のマイクロレンズ６２を形成することは困難
である。また、工具形状の整いやすい超硬材を用いるこ
とにより工具の入手は可能となるが、多結晶体からなる
工具では先端の表面粗さが悪くなるほか、数多くの圧痕
を形成する際の耐久性に欠点がある。また圧痕法では材
料の塑性流動により不規則ピッチの場合、不規則ピッチ
の粗密により形状が異なるといった問題がある。

【００１２】回転切削によるフライカットの場合、工具
の輪郭精度は２次元的な制御でよいため高精度な形状が
加工可能である。しかし軸対称形状のマイクロレンズを
得るためには工具の切り刃の半径寸法と回転中心の位置
を精度よく設定する必要があり、マイクロレンズの直径
が約１０μｍと小さくなった場合、回転中心を得ること
が困難を極める。また非球面の軸対称形状の加工も困難
である。

【００１３】特開平４−２４３２２６号公報記載の方法
では凹凸を形成するために、各基板ごとにフォトマスク
で露光し、現像する工程があるため、工程が複雑であ
り、低コスト、高生産性とは言えなかった。またフォト
マスクを作製する工程で、大面積をランダムにパターン
形成することは困難である。また特開平１１−４２６４
９号公報の方法では微細な圧子を押圧して１つ数ミクロ
ンの凹形状を一つ一つ形成するため大面積に加工をする
ことが難しい。特開平１１−３８２１４号公報ではスト
ライプ状の溝に粒体を噴射してランダムに凹部を作製す
る方法が提案されているが、十分な加工精度を得ること
は困難である。特開平７−１１０４７６号公報の方法で
は、微粒子を均一に分散することが困難であることや、
必要範囲の反射強度を得るためには同時に正反射角度の
反射が高くなり、光源の映り込みが発生するという問題
が見られた。

【００１４】本発明は、上記従来の欠点を解決し、マイ
クロレンズアレイを軸対称球面あるいは非球面で製造す
る技術、および反射特性に優れたマイクロレンズアレ
イ、良好な反射特性を有する反射型ＬＣＤ用等の拡散反
射板の製造に使用される転写原型及び凹凸型、これらの
製造方法、これらを用いた転写用積層体並びに拡散反射
板およびそれを用いた反射型液晶表示装置を提供するも
のである。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の目的を達成する
ために、第１の発明では、マイクロレンズアレイは、略
円形状輪郭の中心を通り９０度で交差する長軸と短軸の
長さが略等しく、該長軸又は該短軸と平行な軸に垂直な
面の断面形状がどの位置であっても同じ曲線形状で構成
されるマイクロレンズを備える。

【００１６】第２の発明では、マイクロレンズアレイ
は、略円形状の輪郭を有するマイクロレンズであって、
該円形状の中心を通り９０度で交差する長軸と短軸の長
さが同じであり、かつ、それぞれ該短軸又は該長軸と平
行な軸に垂直な面の断面形状がどの位置であっても半径
寸法で構成されているマイクロレンズを備える。

【００１７】第３の発明では、マイクロレンズアレイ
は、略円形状の輪郭を有するマイクロレンズであって、
該円形状の中心を通り９０度で交差する長軸と短軸の長
さが同じであり、かつ、それぞれ該短軸又は該長軸と平
行な軸に垂直な面の断面形状がどの位置であってもひと
つの非球面形状で構成されているマイクロレンズを備え
る。

【００１８】第４の発明では、マイクロレンズアレイ
は、９０度で交差する長軸と短軸において、長軸又は短
軸に垂直な面の断面形状が各々の方向においてどの位置
であっても同じ曲線、または曲線と直線で組み合わせた
形状で構成されるマイクロレンズを備える。

【００１９】第５の発明では第１〜第３の発明のいずれ
かの発明において、該マイクロレンズを形成する転写原
型の水平面における該マイクロレンズ面を構成する曲面
の接線角度を２３度以下とする。

【００２０】第６の発明では、マイクロレンズ転写原型
の製造方法は、マイクロレンズの短軸又は長軸のいずれ
か一方の断面形状と同じ刃先輪郭形状を有する切削工具
を該短軸又は該長軸の他方の断面形状の軌跡を描くよう
に制御し基体にマイクロレンズ形状を形成する。

【００２１】第７の発明では、マイクロレンズアレイ転
写原型の製造方法は、切削工具のダイヤモンドチップの
刃先輪郭形状をマイクロレンズの長軸または短軸のいず
れか一方の断面形状と同じ形状とするステップと、該切
削工具の軌跡をマイクロレンズの該長軸又は該短軸他方
の断面形状になるように制御して基体を加工してマイク
ロレンズ形状を形成する。

【００２２】第８の発明では、第６又は第７の発明にお
いて、該マイクロレンズを略円形状とし、該円形の直径
の大きさをＤとし、該刃先輪郭形状の半径をＲとした場
合、Ｄ／Ｒを０．７３以下とする。

【００２３】第９の発明では、第６又は第７の発明にお
いて、該切削工具又は基体の一方を水平方向に移動さ
せ、微小移動用の駆動機構を垂直方向に移動させてマイ
クロレンズを形成する。

【００２４】第１０の発明では第９の発明において、該
微小移動用の駆動機構は圧電素子であり、該圧電素子に
電圧を印加して、該切削工具を微小量垂直方向に移動さ
せてマイクロレンズを形成する。

【００２５】第１１の発明では、反射板部材の転写原形
は、略円形状の輪郭を有するマイクロレンズであって、
該円形状の中心を通り９０度で交差する長軸と短軸の長
さが略等しく、かつ該長軸又は該短軸と平行な軸に垂直
な面の断面形状がどの位置であっても同じ曲線形状で構
成されるマイクロレンズ形状を不規則ピッチで平面状に
形成し、隣接するマイクロレンズのピッチを該マイクロ
レンズのレンズ半径の50〜100％の範囲とする。

【００２６】第１２の発明では、反射板部材の転写原型
は、９０度で交差する長軸と短軸において、該長軸又は
該短軸に垂直な面の断面形状が各々の方向においてどの
位置であっても同じ曲線、または曲線と直線で組み合わ
せた形状で構成されるマイクロレンズ形状を不規則ピッ
チで平面状に形成し、隣接するマイクロレンズのピッチ
を該マイクロレンズの幅寸法に対して５０〜１００％の
範囲とする。

【００２７】第１３の発明では、反射板部材の転写原型
の製造方法は、第６、第７または第８の発明において、
略円形状の輪郭を有するマイクロレンズの該円形状の中
心を通り90度で交差する長軸と短軸の長さが略同じであ
り、かつそれぞれ該短軸または該長軸と平行な軸に垂直
な面の断面形状がどの位置であっても同じ曲線形状で構
成されているマイクロレンズを不規則ピッチで平面状に
形成し、隣接するマイクロレンズのピッチを該マイクロ
レンズのレンズ半径の50〜100％の範囲とする。

【００２８】第１４の発明では、反射板部材の転写原型
の製造方法は、第６、第７の発明において、９０度で交
差する長軸と短軸において、該長軸又は該短軸に垂直な
面の断面形状が各々の方向においてどの位置であっても
同じ曲線、または曲線と直線で組み合わせた形状で構成
されるマイクロレンズ形状を不規則ピッチで平面状に形
成し、隣接するマイクロレンズのピッチを該マイクロレ
ンズの幅寸法に対して５０〜１００％の範囲とする。

【００２９】第１５の発明では、凹凸型の製造方法は、
第１１〜第１４の発明の転写原型を用い、該転写原型に
披転写基材を押圧して凹凸型を形成する。

【００３０】第１６の発明では、第１５の発明におい
て、該披転写基材はプラスチックフィルムまたは下塗り
層が積層されている基材である。プラスチックフィルム
または下塗り層については、転写形状が転写原型を忠実
に再現され、形状の安定性の高いものであれば材質に制
限はない。

【００３１】第１７の発明では、凹凸型は、第１５また
は第１６の発明の製造方法により製造される。

【００３２】第１８の発明では、転写用積層体は第１７
に記載の凹凸型を仮の支持体として用い、該仮支持体の
凹凸面に薄膜層を積層し、該薄膜層の仮支持体に接して
いるのと反対の表面が適用基板への接着面を構成する。

【００３３】第１９の発明では、第１８の発明におい
て、該薄膜層の該接着面に保護フィルムを積層する。第
２０の発明では、拡散反射板の製造方法は、第１９の発
明に記載されている該転写積層体に積層された該保護フ
ィルムを剥離したものを適用基板に該薄膜層の該接着面
が接するように押し当てるステップと、該仮支持体を剥
がすステップと、該薄膜層の凹凸表面に反射膜を形成す
るステップとを備える。

【００３４】第２１の発明では、拡散反射板の製造方法
は、第１７の発明に記載されている該凹凸型を、保護基
板上に形成された薄膜層に、凹凸面が接するように押し
当てるステップと、該凹凸型を剥がすステップと、該薄
膜層の凹凸面が転写された表面に反射膜を形成するステ
ップとを備える。

【００３５】第２２の発明では、拡散反射板は、第１５
の発明に記載された該凹凸型の凹凸面に反射膜を積層し
てなる。

【００３６】第２３の発明では、液晶表示装置は、第１
８又は第１９の発明の拡散反射板の製造方法で製造され
た拡散反射板を備える。

【００３７】本発明におけるマイクロレンズはダイヤモ
ンドバイトを用いた切削により加工が可能であり、切削
工具の輪郭制御は切り刃の２次元的な輪郭形状制御であ
るため高精度な工具が得られる。これを用いて工具を被
加工材に対して所望の断面形状たとえばＲ面で制御し、
マイクロレンズの中心を通る９０度交差の線分に対して
１方向に切削方向を合わせて加工を行う。これにより切
削方向と平行な中心線に対する断面形状は工具輪郭形状
と同じ形状が得られる。また切削方向と９０度直角方向
の中心線に対する断面形状に関しては工具の移動制御を
行った寸法が得られる。双方とも機械的に寸法を制御で
きるため、高精度なマイクロレンズ形状が形成可能であ
る。よって、軸対称形状でなく本発明法によるマイクロ
レンズを用いることで高精度なレンズアレイを形成する
ことが可能となる。

【００３８】さらに本発明におけるマイクロレンズ形状
を転写成形用の反射部材の転写原型に用いる際に、前記
原型用基材の表面に、前期マイクロレンズ形状が多数個
連続して形成されるが、この凹部は規則正しく配列され
るよりもランダムに配列されることが好ましい。

【００３９】転写原型の形状を被転写フィルム等の被転
写体に反転転写して凹凸フィルム等の凹凸型とし、これ
を仮支持体として凹凸面上に薄膜層を積層して転写用積
層体とし、ガラス基板等からなる適用基板（永久基板）
に薄膜層の仮支持体に積層されていない面を接するよう
に押し当てて仮支持体を剥がし薄膜層に反射膜を形成す
ると、拡散反射板を高い生産性で製造することができ、
大型の拡散反射板を効率よく生産できる。この転写原型
として、前記マイクロレンズ形状が多数個連続して形成
された原型用基材（これも転写原型としてよい）を基に
反転転写型を作って、この反転転写原型を複数個つな
げ、これを原型として作製した反転転写原型を用いる
と、大型の拡散反射板をより高い生産性で製造すること
ができる。

【００４０】また、上記凹凸型を仮支持体として凹凸面
上に反射膜を形成し、この上に薄膜層を積層して転写用
積層体とし、前記永久基板に薄膜層の仮支持体に積層さ
れていない面を接するように押し当てて仮支持体を剥が
すことによっても拡散反射板を製造することができる。

【００４１】さらに、永久基板に予め形成された薄膜層
に前記凹凸型の凹凸面が接するように押し当てて形状を
転写し、ついで、薄膜層に反射膜を形成することによっ
ても、同様に反射特性に優れる拡散反射板を製造するこ
とができる。

【００４２】転写原型の凹凸形状を調整することによっ
て正反射角度の反射を少なくできるために光源の映り込
みが少なく、必要範囲にわたって均一な反射強度を有す
る拡散反射板を容易に製造することができる。

【００４３】本発明における拡散反射板は、拡散反射特
性を有する凹凸形状の再現性が良好で、かつ単純な工程
で製造することができる。

【００４４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、実施例を用い、図面を参照して説明する。図１は本
発明によるマイクロレンズ形状の斜視図および断面図で
あり、図１（ａ）は斜視図、図１（ｂ）は図１（ａ）の
Ａ−Ａ断面図、図１（ｃ）はＢ−Ｂ断面図、図１（ｄ）
はマイクロレンズ形状を多数備えたマイクロレンズ転写
原型を示す。１は転写原型でありレンズ面２が設けられ
ている。３はレンズ面２の中心を通るＸ中心線、４はＸ
中心線３に垂直でかつレンズ面２の中心を通るＹ中心線
を示す。また、Ｘ中心線３上のレンズ面２の直径をＤ
１、Ｙ中心線４上のレンズ面２の直径をＤ２とする。Ｘ
中心線３の断面形状を図１（ｂ）のＡ−Ａ断面図に示
し、Ｙ中心線４の断面形状を図１（ｃ）のＢ−Ｂ断面図
に示している。本実施例によるマイクロレンズ形状は、
Ｘ中心線３を通る断面形状において半径Ｒ１の寸法を示
し、Ｙ中心線４を通る断面形状において半径Ｒ２の寸法
となっている。このときＸ中心線３に対して垂直に交わ
る面においてはレンズ面のどの位置で断面形状をとって
もＹ中心線４の断面形状である半径Ｒ２の断面形状が得
られる。即ち、図１（ｂ）において、線ａ〜ｄの断面形
状は、図１（ｃ）の点線で示す円ａ〜ｄのように、半径
Ｒ２を持っている。また、Ｙ中心線４に対して垂直に交
わる面において断面形状を取った場合、レンズ面のどの
位置で断面形状をとってもＸ中心線３の断面形状である
半径Ｒ１の断面形状が得られる。

【００４５】本実施例のマイクロレンズ形状を適用する
ことで、設計値に基づく高精度なマイクロレンズ形状の
転写原型を構成することが可能となる。本実施例におけ
るマイクロレンズ面２における寸法はＤ１＝１０μｍ、
Ｄ２＝１０μｍ、Ｒ１＝２０μｍ、Ｒ２＝２０μｍであ
る。図１（ｄ）は多数のレンズ面を設けたマイクロレン
ズの転写原型の断面図であり、レンズ面２の深さがｄで
あることを示している。

【００４６】図１８は本発明によるマイクロレンズ形状
の他の実施例における斜視図および断面図であり、図１
８（ａ）は斜視図、図１８（ｂ）は図１８（ａ）のＡ−
Ａ断面図、図１８（ｃ）はＢ−Ｂ断面図、図１８（ｄ）
はマイクロレンズ形状を多数備えたマイクロレンズ転写
原型を示す。１は転写原型であり半月状の輪郭を有する
レンズ面１０２が設けられている。１０３はレンズ面１
０２の高さ方向の距離を等分するＸ中心線、１０４はＸ
中心線１０３に垂直でかつ半月状のレンズ面１０２の直
線部分と並行であるＹ平行線を示す。また、Ｘ中心線３
上のレンズ面１０２の幅をＤ３、Ｙ平行線１０４上のレ
ンズ面１０２の距離をＤ４とする。Ｘ中心線３の断面形
状を図１８（ｂ）のＡ−Ａ断面図に示し、Ｙ中心線４の
断面形状を図１８（ｃ）のＢ−Ｂ断面図に示している。
本実施例によるマイクロレンズ形状は、Ｘ中心線１０３
を通る断面形状において半径Ｒ1の寸法と直線から構成
される輪郭形状を示し、Ｙ平行線１０４を通る断面形状
において半径Ｒ２の寸法となっている。このときＸ中心
線１０３に対して垂直に交わる面においてはレンズ面の
どの位置で断面形状をとってもＹ平行線１０４の断面形
状である半径Ｒ２の断面形状が得られる。即ち、図１８
（ｂ）において、線ａ〜ｄの断面形状は、図１８（ｃ）
の点線で示す円ａ〜ｄのように、半径Ｒ２を持ってい
る。また、Ｙ中心線４に対して垂直に交わる面において
断面形状を取った場合、レンズ面のどの位置で断面形状
をとってもＸ中心線３の断面形状である半径Ｒ１と直線
で構成される同一輪郭形状を有する断面形状が得られ
る。

【００４７】本実施例のマイクロレンズ形状を適用する
ことで、設計値に基づく高精度なマイクロレンズ形状の
転写原型を構成することが可能となる。

【００４８】図２は本発明によるマイクロレンズアレイ
を形成する際の転写原型の製造に用いる切削工具の正面
図、切削工具および転写原型の側面断面図であり、図２
（ａ）は切削工具の正面図、図２（ｂ）は切削工具と転
写原型の側面断面図である。本実施例ではダイヤモンド
バイトを用いた切削方式によりレンズ面２を形成する。
図において、１１は切削工具、１２はダイヤモンドチッ
プを示す。ダイヤモンドチップ１２の先端の刃先輪郭形
状１２ａはマイクロレンズのレンズ面２を形成する際の
１方向の断面形状を有する。すなわち図１に示すレンズ
面２の断面形状の内、Ｂ−Ｂ断面側の曲線で表される半
径Ｒ２の寸法となるように形成されている。図２の切削
工具１１を、転写原型１を形成するための材料、基体１
ａに対して半径Ｒ１の軌跡で移動するよう工具移動軌跡
１３の制御を図示していない加工装置上で行うことによ
って、レンズ面２を1回切削することによって、マイク
ロレンズを形成することが可能である。

【００４９】このときの切削工具１１の工具移動軌跡１
３がレンズ面２に転写され図１（ｂ）に示すマイクロレ
ンズ形状のＡ−Ａ断面形状となり、ダイヤモンドチップ
１２の切り刃先輪郭形状１２ａが図１（ｃ）に示すマイ
クロレンズ形状のＢ−Ｂ断面形状となる。

【００５０】工具移動軌跡１３に関しては市販の超精密
加工機を用い、切削工具１１と転写原型１とを加工機の
駆動軸に取り付け、切削工具１１と転写原型１とを相対
的に移動させることにより転写原型１を得ることが可能
である。ここで工具の移動軌跡がサブミクロンの微小量
であることと、加工機の駆動軸のバックラッシュによる
形状誤差を低減することを目的に切削工具１１の移動を
行う方法として圧電素子等を用いた微小移動用の駆動機
構を用いることにより形状精度に優れた転写原型を得る
ことができる。

【００５１】図２０は本発明によるマイクロレンズアレ
イを形成する際の転写原型の製造に用いる加工装置の一
例を示したものである。図２０（ａ）は装置正面図、図
２０（ｂ）は装置側面図である。１２０は装置ベース、
１２１はＸ，Ｙ方向に移動可能な加工テーブル、１２４
はＺ方向に移動可能なＺ軸駆動部、１２３は圧電素子を
用いた微小移動用の微小駆動機構部である。微小駆動機
構部１２３に切削工具１１を取り付け、加工テーブル１
２１に転写原型１を取り付ける。１２５は加工装置のＮ
Ｃ制御部であり、１２６は微小駆動機構部の制御部であ
る。まず加工装置のＺ軸駆動部１２４を用いて微小駆動
機構部１２３をＺ軸方向に移動させ、切削工具１１と転
写原型１とを加工可能である所定量まで近づける。次に
加工テーブル１２１のＸ方向への駆動により転写原型１
を一定速度で移動させる。その際に微小駆動機構部１２
３を用い切削工具１１をＺ方向に所定の微小量だけ往復
移動を行う。これにより切削工具１１の先端部は転写原
型１に対して、図２（ａ）に示す工具移動軌跡１３を描
くように移動せしめることができる。以上の手法により
高精度な転写原型１を得ることができる。また、圧電素
子を微小駆動機構部１２３に用いることにより複数個の
マイクロレンズを転写原型１に形成する場合には短時間
で加工を行うことが可能となる。なお、本実施例におい
ては微小駆動機構部１２３の駆動源として圧電素子を用
いたが、本発明では駆動源を特定するものではなく、駆
動源としては切削工具１１を微小駆動できるものであれ
ばよい。たとえば磁歪素子、超音波発振機等を用いても
よい。

【００５２】本実施例によるマイクロレンズ形状におい
てはレンズ面２の形状の中心を通る２直角線においてそ
れぞれＲ１、Ｒ２の半径を有する断面形状となるように
しているため、実形状を得る場合にも上記の加工方式を
用いることにより高精度な形状を得ることが可能とな
る。

【００５３】図３は転写原型に対する切削工具のすくい
面の関係を説明するための工具側面図および転写原型の
断面図であり、図３（ａ）はダイヤモンドチップのすく
い面を転写原型に対して垂直に立てた場合の側面図、図
３（ｂ）はダイヤモンドチップのすくい面を転写原型に
対して更に傾けた場合の側面図、図３（ｃ）はレンズ面
の接線角度を示すための転写原型の断面図である。今、
図３（ａ）に示すように、切削工具１１におけるダイヤ
モンドチップ１２のすくい面１２ｂを転写原型１の水平
面１ｂに対して垂直に立てた場合の刃先角度をθ２とす
る。これに対して、図３（ｂ）では切削工具１１をさら
にθ３だけ傾けた状態を示している。また、図３（ｃ）
に示すように、レンズ面２が転写原型１の水平面１ｂと
交わる部分での接線角度θ１とする。

【００５４】本実施例において、マイクロレンズ形状の
接線角度θ１は２３度以下に規定する。この値は、レン
ズ面２を形成する際、切削工具１１におけるダイヤモン
ドチップ１２の刃先角度θ２の関係より規定される値で
ある。以下その理由について述べる。ダイヤモンドチッ
プ１２は材質の結晶方位と工具としての寿命を考慮した
場合、θ２を２０度以下にする必要がある。また加工の
際には図３に示すように工具１１を切削方向に回転させ
θ３分傾けて使用することが可能である。しかし、θ３
の大きさは切削加工の加工条件からマイナス３度からプ
ラス３度までが適正な切削条件である。そのため、加工
時の工具１１は水平面に対してθ２＋θ３分だけ傾ける
ことが可能となるが、この角度が２３度である。転写原
型１の水平面１ｂに対する傾きがθ２＋θ３以上の接線
角度を要求される場合にはダイヤモンドチップ１２の刃
先１２ａより後ろの部分１２ｃが接触してレンズ面２の
形状を崩すため接線角度θ１は２３度以下に規定する。
また、レンズ面２の直径の大きさはダイヤモンドチップ
１２の刃先輪郭形状１２ａの半径に対して３０％以下が
望ましい。その理由としては、本実施例によるマイクロ
レンズ形状は中心軸に対して回転対象である従来の軸対
称形状マイクロレンズ面とは形状が異なり、光学特性も
異なるため形状差を小さくするためである。

【００５５】図４は球面形状に対して本実施例によって
形成されたマイクロレンズ形状の誤差量を示す特性曲線
図であり、横軸にマイクロレンズ形状の直径（μｍ）
を、縦軸に形状誤差量（μｍ）を示す。球面形状のマイ
クロレンズと本実施例によるマイクロレンズのレンズ面
２の断面形状における違いを、球面形状のレンズ面を基
準として形状誤差量を算出した結果を示す。レンズ面２
の切削方向に相当する半径Ｒ１は２０μｍとし、レンズ
面２の直径は１０μｍとして計算した。この場合の形状
誤差量は０．０３μｍ以下であり、この値は従来加工方
式における加工誤差にも十分収まる数値である。したが
って、球面として設計したレンズアレイにおいて本マイ
クロレンズ形状を適用しても効果が高い。ただし、レン
ズ面２の直径Ｄの大きさに対するダイヤモンドチップ１
２の刃先輪郭形状１２ａの半径Ｒ２寸法、Ｄ／Ｒ２が
０．７３以上の領域では形状誤差量が大きくなるためそ
の形状誤差量を許容できる用途に限られる。

【００５６】図５は最大誤差量を示す特性曲線図であ
り、横軸にレンズ直径Ｄとダイヤモンドチップの刃先輪
郭形状を示す半径Ｒの比率Ｄ／Ｒを示し、縦軸に最大誤
差量（μｍ）を示す。図に示すように、レンズ直径Ｄ
（図１で、直径Ｄ１＝Ｄ２の場合）とダイヤモンドチッ
プ１２の刃先輪郭形状を形成する半径Ｒ（図２のＲ２に
相当）との比Ｄ／Ｒが大きくなると、最大誤差が増加す
る傾向にある。実験によると、最大誤差量が０．１（μ
ｍ）以上になるとマイクロレンズの性能劣化が目立ちは
じめる。このために、最大誤差量は０．１μｍ以下に保
つことが望ましい。最大誤差量が０．１の場合のＤ／Ｒ
は０．７３であるので、Ｄ／Ｒは０．７３以下に保つこ
とが望ましい。また、Ｄ／Ｒが０．２以下の場合はマイ
クロレンズの形成が困難な範囲である。

【００５７】また、本発明の第２の実施例として、図１
および図１８におけるＡ−Ａ断面形状およびＢ−Ｂ断面
形状を円形状ではなく、非球面形状とする例について説
明する。図６は本発明によって形成されるマイクロレン
ズの他の実施例を説明するための楕円曲線を示す図であ
る。本実施例では、図６に示す楕円曲線２０の一部であ
る曲線ＰＯＱ部分を用い非球面形状とした。非球面形状
とすることによって、光学特性の設計の自由度が向上
し、より光利用効率の優れたレンズアレイが形成でき
る。本発明によるマイクロレンズ形状はＸ中心線３とＹ
中心線４を通る断面が所望の非球面形状となるように形
成する。非球面形状としては図６で示した楕円曲線２０
の一部である曲線ＰＯＱが考えられ、楕円曲線２０の長
軸と短軸のパラメータａ、ｂを設定することにより、曲
線が決定できる。この楕円曲線についてＸ中心線３とＹ
中心線４とも同じ曲線を用いることで略円形状のマイク
ロレンズが形成可能である。本実施例では、マイクロレ
ンズの形成に利用する曲線は必ずしも楕円曲線に限定す
るものではなく、レンズ面２の断面曲線として考えられ
る２次曲線や、あるいはそれ以上の高次曲線を用いても
よい。

【００５８】図７は本発明によるマイクロレンズ形状を
複数配置して構成した反射板の一実施例を示す正面図で
ある。外部からの入光に対して反射光に虹面を出すこと
なく白色光にて反射させるために不規則ピッチにてマイ
クロレンズ形状を配置している。圧痕加工方式を用いて
マイクロレンズを形成、又は製造する場合、すでに形成
されているマイクロレンズの近傍又はそれと接する場所
に他のマイクロレンズを形成しようとすると、両者のマ
イクロレンズ間の軋轢、又はせめぎ合いによって塑性流
動が起こり、マイクロレンズの形状が変化して所定の性
能が得られなくなるが、本発明によって形成されたマイ
クロレンズ２を用いることで、切削方式による不規則ピ
ッチでの高精度なマイクロレンズ形状の加工が可能とな
り高効率な反射板を形成することが可能である。なお、
マイクロレンズを不規則ピッチで平面状に形成して反射
板３２を製造する場合、隣接するマイクロレンズ形状の
ピッチを前記レンズ半径の５０〜１００％の範囲で配置
すると好適なことが実験により判明した。

【００５９】図８は本発明による反射板を作成する際の
加工手順一実施例を示す断面図である。図８（ａ）は金
型となる基体の断面図であり、図２で示した切削方式に
より、転写原型１となる基体１ａを切削する。図８
（ｂ）は加工後の転写原型断面図であり、複数のマイク
ロレンズ形状が形成された転写原型１を示す。図８
（ｃ）は転写原型１と反転型の断面図であり、転写原型
１にＵＶ樹脂を押圧して、反転型（凹凸型）３１を採取
するための工程を示す。反転により凹形状に形成された
マイクロレンズ形状は凸形状となる。図８（ｄ）は反転
型の断面図であり、凸形状となった反転型（凹凸型）３
１を示す。図８（ｅ）は反射型と形成された反射板の断
面図であり、反転型３１の形状を反射板３２の表面に形
成する工程を示す。図８（ｆ）はマイクロレンズ形状が
形成された反射板の断面図であり、反転型３１によって
マイクロレンズ形状が形成された反射板３２を示してい
る。

【００６０】図９は本発明による反射板を用いた反射型
液晶表示装置の一実施例を示す断面図である。図におい
て、反射型液晶表示装置４０は本発明によって不規則ピ
ッチで形成されたマイクロレンズであるレンズ面２を有
する反射板３２を備えている。図９の反射型液晶表示装
置４０は厚さ０．７ｍｍの一対の表示側ガラス基板４３
と背面ガラス基板４９との間に液晶層４６を設け、表示
側ガラス基板４３の上面側に１枚の位相差板４２を設
け、さらに位相差板４２の上面側に第１の偏光板４１を
配置する。また、背面側ガラス基板４９の下面側には第
２の偏光板５０と本発明による反射板３２を取り付け
る。反射板を取り付ける際には第２の偏光板５０の下面
側にマイクロレンズ面２を不規則ピッチにて配置した反
射板３２のレンズ面２の側が対向するように取り付け、
第２の偏光板５０と反射板３２の間には光の屈折率に悪
影響を与えることのない材料からなる粘着体５１を充填
する。両ガラス基板の４３、４９の対向面側には透明電
極層４４、４８をそれぞれ形成し、透明電極層４４、４
８上に配向膜４５、４７を設ける。配向膜４５、４７の
関係により液晶層１５中の液晶は所定角度にねじれた配
置となり透明電極４４、４８から与えられる電解効果に
より分子配置を変え光の屈折コントロールが可能とな
る。また、前記背面ガラス基板４９と透明電極層４８と
の間に図示していないカラーフィルタを形成することに
よりカラー液晶表示装置とすることが可能である。

【００６１】以下、図１０を用いて、反射板の反射特性
の測定方法について説明し、その測定方法を用いて本発
明によって製造された反射板が他の方法によって製造さ
れた反射板よりも優れた効果を有することを説明する。
図１０は本発明における反射板の反射特性の測定方法を
説明する図である。試料５６に入射光線６１が入射さ
れ、反射光線５９が輝度計５７で計測される。入射光線
６１と反射光線５９のなす角度をθとすると、必要とさ
れるθの範囲で拡散反射板の法線方向で観測される輝度
すなわち反射強度を大きくすれば反射特性に優れる反射
板が得られる。

【００６２】図１１は反射特性を示す特性図であり、横
軸に反射角度を示し、縦軸に輝度を示す。図において、
６３は理想の反射特性を示しており、図１０の測定装置
で、光源５８を２０度から３０度回転させて輝度を測定
し、更に、サンプルを１８０度回転させて同様に輝度を
測定した場合、どの反射角度においても輝度が同じ値と
なる。曲線６４はサンドブラスト加工方法によって反射
板を製造した場合の反射特性であり、立ち上がりゲイン
が弱く、反射輝度が弱い。曲線６５は圧痕加工法によっ
て形成された反射板であり、反射角度に対して異方性が
強い。これに対して曲線６６は本発明によって製造され
た反射板の反射特性であり、理想の反射特性６３に極め
て近い特性を有している。また本発明方式の他の実施例
である半月状のレンズ面１０２を有する前記転写原型１
を形成し、上記と同様の手段によって反射板を得ること
ができる。レンズ面１０２を用いた転写原型を用いて得
られた反射板の特性では図１１に示す曲線６７のごとく
反射方向を０°からプラス方向のみに集中させ、理想の
反射特性である曲線６３の相似形状を保ちつつ輝度を向
上させることが可能とする。とくに曲線６７の特性は半
月状のレンズ面１０２の直線部分の方向を制御すること
によって輝度が向上する方向を制御することが可能であ
り、異方性が不規則に発生してしまう曲線６５の圧痕加
工方式によるサンプルと比較して反射方向制御性に優れ
ている。

【００６３】以上述べたように、本発明によるマイクロ
レンズ形状によれば、前述した切削加工方式によりレン
ズ面の形成が可能となるため、設計値に基づいたレンズ
形状の入手が可能となり、また非球面のレンズ面形状の
創生も可能であるため光学設計の自由度の高いマイクロ
レンズ形状となる。また、これを不規則ピッチにて配置
した反射板に用いることで、設計値に基づいた反射特性
を有する、優れた反射板が得られる。

【００６４】図１３は本発明による転写原型から凹凸型
を製造する際の加工手順の一例を示す断面図であり、転
写原型から基材にフィルムを用いた凹凸型７０を作成す
る際の手順を示している。図１３（ａ）は基体の断面図
であり、基体１ａを図２に示した切削方式により切削さ
れる。図１３（ｂ）は転写原型の断面図であり、基体１
ａを切削することによって製造される。図１３（ｃ）は
転写原型、転写基材支持体と、これに設けられた被転写
基材の断面図であり、転写基材支持体７２に設けられた
被転写基材７１は転写原型１の凹部に押圧される。図１
３（ｄ）は凹凸が形成された被転写基材と転写基材支持
体の断面図であり、転写原型１から被転写基材７１とそ
れを支持する転写基材支持体７２を分離し、凹凸型７０
を形成する。反転成形により凹形状に転写原型１上に形
成されたマイクロレンズ形状は図１３（ｄ）に示す凸形
状となる。このように、凹凸型７０は、転写原型１を変
形可能な被転写基材７１に押し当てることによって製造
することができる。被転写基材７１としては、それ自身
変形可能なプラスチックフィルムであり、転写基材支持
体７２に変形可能な被転写基材７１が設けられる。（被
転写基材７１は、変形後必要により硬化させる）上記の
押し当てる工程で熱、光等を与えることもできる。凹凸
型７０としては、フィルム形状が好ましい。

【００６５】図１４は本発明による凹凸フィルム一実施
例を示す断面図であり、図１３を用いて説明した方法に
よって作成された凹凸フィルム８０を示す。図１４の凹
凸フィルムはベースフィルム（又は基材）８２の上に、
凹凸形状が転写された下塗り層８１が積層されている。
本発明で使用するベースフィルム８２は変形可能ではあ
るが化学的、熱的に安定なものが好ましい。ベースフィ
ルム８２の具体的な材質としては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロー
スアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロ
ース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリイミド、ポリエステル、あるいはアルミ、銅
等の金属類等である。これらの中で特に好ましいのは寸
法安定性に優れた２軸延伸ポリエチレンテレフタレート
である。

【００６６】本発明における下塗り層８１としては、凹
凸形成後は後述する薄膜層よりも硬いものが好ましい。
例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレ
フィン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ア
クリル酸エステル共重合体、エチレン−ビニルアルコー
ル共重合体のようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビ
ニルアルコール共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリス
チレン、スチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合
体のようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビ
ニルトルエン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体の
ようなビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル
酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチル−酢酸ビニル共
重合体のような（メタ）アクリル酸エステルの共重合
体、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハ
ン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、
ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル、合成ゴ
ム、セルロース誘導体等から選ばれた、少なくとも１種
類以上の有機高分子を用いることができる。

【００６７】また、下塗り層８１としては、凹凸形成後
硬化させるために、必要に応じて光開始剤やエチレン性
二重結合を有するモノマ等を予め添加することができ
る。また感光タイプとしては、ネガ型材又はポジ型材の
どちらでもよい。

【００６８】本発明で用いる下塗り層８１の塗布方法と
しては、ロールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレ
ー塗布、ホエラー塗布、ディップコータ塗布、カーテン
フローコータ塗布、ワイヤバーコータ塗布、グラビアコ
ータ塗布、エアナイフコータ塗布等がある。

【００６９】図１５は転写用積層体を用いた拡散反射板
の製造方法を説明するための一部断面側面図でありその
詳細は後述する。図１５（ａ）は本発明による転写用積
層体の一例を示す一部断面側面図であり、図１５（ａ）
において、ベースフィルム８２の上に、凹凸形状が転写
された下塗り層８１が積層されており、下塗り層８１の
上に、薄膜層８３及びカバーフィルム８４が積層されて
転写用積層体７９が構成される。なお、転写用積層体７
９としては、カバーフィルム８４はなくてもよい。

【００７０】上記の転写用積層体７９において、薄膜層
８３としては変形可能な有機重合体、それを含む組成
物、無機化合物、金属等を用いることができるが、好ま
しくは支持体上に塗布しフィルム状に巻き取ることが可
能な有機重合体又はその組成物を用いる。また、有機重
合体の組成物中には染料、有機顔料、無機顔料、粉体及
びその複合物を単独または混合して必要に応じて含有さ
せることができる。薄膜層８３には感光性樹脂組成物、
熱硬化性樹脂組成物を用いることもできる。これら薄膜
層８３の誘電率、硬度、屈折率、分光透過率は特に制限
されない。薄膜層８３は、基板、例えばガラス基板など
の液晶パネル８５に対する密着性が良好で、下塗り層８
１からの剥離性がよいもの（下塗り層８１を有しないプ
ラスチックフィルムを使用の場合は、プラスチックフィ
ルムからの剥離性がよいもの）を用いるのが好ましい。

【００７１】薄膜層８３は、たとえば、アクリル樹脂、
ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化
ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、
セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル等
を用いることができる。また感光性を有するものを用い
ることができる。場合によっては、凹凸が必要な部分だ
けを残し、不要な部分を除けるように、アルカリ等で現
像可能な感光性樹脂を用いることもできる。耐熱性、耐
溶剤性、形状安定性を向上させるために、凹凸形成後に
熱または光によって硬化可能な樹脂組成物を用いること
もできる。さらに、カップリング剤、接着性付与剤を添
加することで基板との密着を向上させることもできる。
接着を向上させる目的で基板または薄膜層８３の接着面
に接着性付与剤を塗布することも含まれる。

【００７２】上記のアルカリで現像可能な樹脂として
は、酸価が２０〜３００、重量平均分子量が１，５００
〜２００，０００の範囲に入っているものが好ましく、
例えば、スチレン系単量体とマレイン酸との共重合体又
はその誘導体（以下、ＳＭ系重合体という）、アクリル
酸又はメタクリル酸等のカルボキシル基を有する不飽和
単量体とスチレン系単量体、メチルメタクリレート、ｔ
−ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレ
ート等のアルキルメタクリレート、同様のアルキル基を
有するアルキルアクリレート等の単量体との共重合体が
好ましい。

【００７３】ＳＭ系共重合体は、スチレン、α−メチル
スチレン、ｍ又はｐ−メトキシスチレン、ｐ−メチルス
チレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシメチ
ル−４−ヒドロキシ−スチレン等のスチレン又はその誘
導体（スチレン系単量体）と無水マレイン酸、マレイン
酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノ−ｎ−プロピル、マレイン酸モノ−ｉｓｏ
−プロピル、マレイン酸−ｎ−ブチル、マレイン酸モノ
−ｉｓｏ−ブチル、マレイン酸モノ−ｔｅｒｔ−ブチル
等のマレイン酸誘導体を共重合させたもの（以下、共重
合体（Ｉ）という）がある。共重合体（Ｉ）には、メチ
ルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート等のアル
キルメタクリレート等、前記した共重合体（Ｉ）を、反
応性二重結合を有する化合物で、変性したものがある
（共重合体（ＩＩ））。

【００７４】上記共重合体（ＩＩ）は、共重合体（Ｉ）
中の酸無水物基又はカルボキシル基に不飽和アルコー
ル、例えばアリルアルコール、２−ブラン−１，２−オ
ールフルフリルアルコール、オレイルアルコール、シン
ナミルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロール
アクリアミド等の不飽和アルコール、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジル
エーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、イタコ
ン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等のオキシラ
ン環及び反応性二重結合をそれぞれ１個有するエポキシ
化合物と反応させることにより製造することができる。
この場合、アルカリ現像を行うために必要なカルボキシ
ル基が共重合体中に残っていることが必要である。ＳＭ
系重合体以外のカルボキシル基を有する重合体も、上記
と同様に反応性二重結合の付与は、感光度の点から好ま
しい。これらの共重合体の合成は特公昭４７−２５４７
０号公報、特公昭４８−８５６７９号公報、特公昭５１
−２１５７２号公報等に記載されている方法に準じて行
うことができる。薄膜層８３の膜厚は、凹凸を有する下
塗り層８１の凹凸の高低差より厚く形成すると凹凸形状
を再現しやすい。膜厚が等しいと凹凸形状が変形する。
また、凹凸を形成する場合後述する問題が発生する場合
がある。

【００７５】薄膜層８３の塗布方法としては、下塗り層
８１の塗布方法と同様にロールコータ塗布、スピンコー
タ塗布、スプレー塗布、ホエラー塗布、ディップコータ
塗布、カーテンフローコータ塗布、ワイヤバーコータ塗
布、グラビアコータ塗布、エアナイフコータ塗布等があ
る。

【００７６】前記の転写積層体７９のカバーフィルム８
４としては、化学的および熱的に安定で、薄膜層８３と
の剥離が容易であるものが望ましい。具体的にはポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリビニルアルコール等の薄いシート状のもので表
面の平滑性が高いものが好ましい。剥離性を付与するた
めに表面に離型処理をしたものも含まれる。

【００７７】次に、図１５を用いて、拡散反射板の作製
方法を説明する。図１５は転写用積層体を用いた拡散反
射板の製造方法を説明するための一部断面側面図であ
る。図１５（ａ）は本発明による転写用積層体の一例を
示す断面図である。図１５（ａ）に示す転写用積層体７
９から、カバーフィルム８４を剥離し、図１５（ｂ）は
転写用積層体が液晶パネルに密着された場合の一部断面
側面図である。図に示すように、薄膜層８３の露出した
面をガラス基板等の適用基板８５、例えば液晶パネルに
押しつける。十分にしかも均一に押しつけるために、熱
圧着ゴムロールで熱圧着させることが好ましい。しか
し、必ずしも熱する必要があるとは限らない。

【００７８】図１５（ｃ）は図１５（ｂ）において、薄
膜層に感光性樹脂を用いた場合の一部断面側面図であ
る。薄膜層８３として、感光性樹脂を用いた場合には、
図１５（ｃ）におけるように、紫外線光などの活性光８
６を照射して、硬化させることが好ましい。これによ
り、がらす基板には十分に密着していながら、しかも、
凹凸形状を十分維持し、薄膜層８３から下塗り層８１を
容易に剥離することを可能にすることができる。但し、
本実施例において、図１５（ｃ）の工程は必ずしも必要
とは限らない。

【００７９】図１５（ｄ）は図１５（ｂ）からベースフ
ィルム及び下塗り層を剥離した場合の一部断面側面図で
ある。図に示すように、下塗り層８１を薄膜層８３から
剥離することにより（当然ベースフィルム８２も除去す
る）、適用基板８５の上に凹凸形状を有する薄膜層８３
が積層されたものができる。さらに、図１５（ｅ）は適
用基板に反射膜層を設けた場合の一部断面側面図であ
り、図に示すように、薄膜層８３の上に反射膜層８７を
形成して拡散反射板を作製することができる。

【００８０】反射膜層８７としては、反射したい波長領
域によって材料を適切に選択すれば良く、例えば、反射
型ＬＣＤ表示装置では、可視光波長領域である３００ｎ
ｍから８００ｎｍにおいて反射率の高い金属、例えばア
ルミニウムや金、銀等を真空蒸着法またはスパッタリン
グ法等によって形成する。また反射増加膜（光学概論２
（辻内順平、朝倉書店、１９７６年発行）に記載）を上
記の方法で積層してもよい。反射膜層８７の厚みは、
０．０１μｍ〜５０μｍが好ましい。また反射膜層８７
は、必要な部分だけフォトリソグラフィ法、マスク蒸着
法等によりパターン形成してもよい。

【００８１】また、転写用積層体の下塗り層８１と薄膜
層８３の間に予め反射膜層８７が形成されている場合
は、カバーフィルム８４があるときはこれをはがした
後、転写用積層体７９を適用基板８５の上に凹凸形状を
有する薄膜層８３が接するように積層し、ついで下塗り
層８１を反射膜層８７から剥離する（当然ベースフィル
ム８２も除去する）ことにより拡散反射板を作製するこ
とができる（図１５（ｄ））。転写用積層体７９の適用
基板８５への適用は前記と同様に行うことができ、ま
た、その後、前記と同様に紫外線光などの活性光８６を
照射してもよい。

【００８２】転写用積層体７９を薄膜層８３が接するよ
うに適用基板８５に積層する前に、密着性を改善する目
的で基板を薬液等で洗浄したり、基板に接着付与剤を塗
布したり、基板に紫外線等を照射する等の方法を用いて
もよい。また、転写用積層体７９を適用基板８５に積層
するための装置としては、適用基板８５を加熱、加圧可
能なゴムロールとベースフィルムとの間に挟み、ロール
を回転させて、転写用積層体を適用基板８５に押し当て
ながら適用基板８５を送りだすロールラミネータを用い
ることが好ましい。

【００８３】このようにして適用基板８５表面に形成し
た薄膜層８３の膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍの範囲が
好ましい。凹凸を有する下塗り層８１を押し当てる前の
薄膜層８３の膜厚は、下塗り層８１の凹凸形状の最大高
低差より厚い方が凹凸形状を再現しやすい。膜厚が等し
いと下塗り層８１の凸部で薄膜層８３を突き破ってしま
い、平面部が発生し拡散反射を効率よく得にくくなる恐
れがある。

【００８４】この薄膜層８３にネガ型感光性樹脂を用い
た場合には、その形状の安定性を付与するために、図１
５（ｃ）におけるように、露光機により露光を行い、感
光部分を硬化させる。本発明に適用し得る露光機として
は、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キ
セノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タ
ングステンランプ等が挙げられる。

【００８５】この露光装置は画素及びＢＭ（ブラックマ
トリックス）等のパターン形成用の平行露光機でも良い
が、本発明では予め形成された凹凸を硬化させることが
出来れば良く、このためには感光性樹脂が硬化する露光
量以上の光量を与えておけばよい。従って、一般に基板
洗浄装置として利用されているラインに組み込める散乱
光を用いるＵＶ照射装置を用いることが出来る。これら
の装置を用いることによって、フォトマスクを用いる手
法に比べて安価に作製でき、フォトマスクを用いる場合
に比べ、露光量に対する裕度が大きい。また感光タイプ
としてネガ型材を利用することで示したが、ポジ型であ
っても支障はない。露光はベースフィルム８２及び下塗
り層８１等の仮支持体を剥がす前、または剥がした後に
行うことができる。基板への密着性、追従性を向上させ
る目的で、ベースフィルムにクッション層を設けてもよ
い。

【００８６】本発明おいて、適用基板８５に予め薄膜層
８３を形成しておき、この薄膜層８３に下塗り層８１と
ベースフィルム８２とからなる凹凸フィルム８０を押し
当てる場合、薄膜層８３及びその形成方法は前記したの
と同様のもの及び方法が適用できる。ただし、薄膜層８
３の露光は凹凸フィルム８０を押し当てた後が好まし
い。

【００８７】また、前記した凹凸フィルム８０の凹凸面
に反射膜層８７を積層することによって拡散反射板を得
ることができる。図１６は、この方法により得られる拡
散反射板の一例を示す。図１６は本発明による拡散反射
板の一実施例を示す断面図である。図において、ベース
フィルム８２の上に下塗り層８１が形成されており、そ
の上に反射膜層８７が積層されている。凹凸フィルム８
０の凹凸面への反射膜層８７の形成方法は、前記した方
法と同様に行うことができる。

【００８８】以下、本発明による拡散反射板を用いた反
射型ＬＣＤ装置について、図１７を用いて説明する。図
１７は本発明による反射型ＬＣＤ装置の一実施例を示す
一部断面側面図である。図において、ガラス基板である
適用基板８５の上に薄膜層８３及び反射膜層８７が順次
積層されており、これにより拡散反射板が構成されてい
る。拡散反射板の凹部には透明の平坦化膜８８により埋
められ、表面が平坦化されている。この平坦化膜８８の
上に透明電極１００が形成されており、これを覆うよう
にして配向膜８９が形成されている。これにより一方の
液晶挟持基板が構成されている。一方、適用基板８５と
対面するガラス基板９６面には、ブラックマトリクス９
４及びカラーフィルタ９５が形成されており、平坦化膜
９３を形成後、透明電極９２及び配向膜９１が順次積層
されている。ガラス基板９６の他の面には、位相差フィ
ルム９７及び偏光板９８がそれぞれ、形成されている。
以上によりもう一つの液晶挟持基板が構成されている。
二つの液晶挟持基板を配向膜９１と配向膜８９とが向か
い合うようにして対向させ、スペーサ９９，９９′とと
もに形成される空間に液晶９０を収納され、封じられて
いる。

【００８９】上記では、反射型ＬＣＤの表示装置を例に
とって説明したが、本発明における拡散反射板は外部光
線を拡散反射させることが必要なデバイスに用いること
が出来る。例えば太陽電池の効率向上を目的とした拡散
反射板がある。

【００９０】また、本発明の下塗り層８１とベースフィ
ルム８２とからなる凹凸フィルム８０は遮光板、装飾
板、スリガラス、投影スクリ−ンの白色板、光学フィル
タ、集光板、減光板等の製造に使用することができる。
このように、本発明の凹凸フィルム８０はガラス板、合
成樹脂板、合成樹脂フィルム、金属板、金属箔いかなる
ものにも転写することができ、被転写基板面は、平面の
みならず曲面、立体面とすることもできる。

【００９１】なお、本発明における転写用積層体７９に
おいて、下塗り層８１を適用基板８５に積層することも
できる。このために、下塗り層８１とベースフィルム８
２の間を剥離面に設定する。下塗り層８１を適用基板８
５に積層する目的としては、反射膜層８７を電極として
用いる場合の電気絶縁層としての機能を下塗り層８１に
持たせる、あるいは反射膜層８７の凹凸の平坦化層とし
ての役割を下塗り層８１に持たせる、下塗り層８１に感
光性樹脂を用いて、反射膜層８７のエッチングレジスト
としての役割を持たせる、更に下塗り層８１を着色し、
反射膜層８７の部分的な遮光層としての役割を持たせる
等がある。

【００９２】以下具体的な実施例について説明する。

【００９３】４５ｍｍ角厚さ２０ｍｍのステンレス基材
の中央部１５ｍｍ角の範囲に、先端Ｒ半径２０μｍのダ
イヤモンドバイトにて深さ０．６μｍのマイクロレンズ
形状を本発明方式による切削方式にて形成し転写原型を
作成した。

【００９４】次にベースフィルムとして厚さ１００μｍ
のポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベ
ースフィルム上に下記組成の光硬化性樹脂溶液をコンマ
コーターで２０μｍの膜厚になるよう塗布乾燥した。そ
して、前記転写原型を押しあて、紫外線を照射し光硬化
性樹脂を硬化し転写原型から分離し、凹凸形状が光硬化
性樹脂層（下塗り層）の表面に形成された凹凸フィルム
を得た。

【００９５】光硬化性樹脂（下塗り層）溶液としては： アクリル酸・ブチルアクリレート・ビニルアセテート共重合体…５重量部 ブチルアセテート（モノマー） ……８重量部 ビニルアセテート（モノマー） ……２重量部 アクリル酸（モノマー） ……０．３重量部 ヘキサンジオールアクリレート（モノマー） ……０．２重量部 ベンゾインイソブチルエーテル（開始剤） ……２．５重量％ 次に凹凸形状が形成された光硬化性樹脂層（下塗り層）
上に下記の薄膜層形成用溶液をコンマコーターで平均膜
厚が８μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し、カバーフィル
ムとしてポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルム
を得た。

【００９６】薄膜層形成用溶液としては：ポリマーとし
てスチレン、メチルメタクリレート、エチルアクリレー
ト、アクリル酸、グリシジルメタクリレート共重合樹脂
を用いた（ポリマーＡ）。分子量は約３５０００、酸価
は１１０である。部は重量部（以下同じ）。 ポリマーＡ ……７０重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート（モノマー）……３０重量部 イルガキュアー３６９（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ株式会社製商品 名）（開始剤） ……２．２重量部 Ｎ，Ｎ−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン（開始剤） ……２．２重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤） ……４９２重量部 ｐ−メトキシフェノール（重合禁止剤） ……０．１重量部 パーフルオロアルキルアルコキシレート（界面活性剤） ……０．０１重量部 この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄
膜層がガラス基板に接するようにラミネータを用いて基
板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧力７Ｋｇ／
ｃｍ^２、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板
上に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィ
ルムが積層された基板を得た。次に、光硬化性樹脂層
（下塗り層）、ベースフィルムを剥離し、ガラス基板上
に転写原型の凹凸形状と同様な薄膜層を得た。これを、
オーブンで２３０℃、３０分間の熱硬化を行い、真空蒸
着法で、アルミニウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよ
う積層し反射層を形成した。

【００９７】以下、第２の実施例について説明する。第
１の実施例の凹凸フィルムの凹凸面に真空蒸着法で、ア
ルミニウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積層して
反射層を形成した。これは入射角度−４０°〜４０°の
範囲に亘って均一で、十分な反射強度が得られ、反射特
性にすぐれた拡散反射板が得られた。

【００９８】以下、第３の実施例について説明する。永
久基板となるガラス基板に第１の実施例と同様の薄膜層
形成用溶液を塗布し２０００回転で１５秒間スピンコー
トし、ホットプレートで９０℃、２分間に加熱して８μ
ｍの薄膜層を得た。次に第１の実施例に示した凹凸フィ
ルムの凹凸面が薄膜層に面するようにラミネータを用い
て、基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧力７
Ｋｇ／ｃｍ^２、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラ
ス基板上に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベー
スフィルムが積層された基板を得た。これに露光装置で
紫外線を照射し次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）とベ
ースフィルムを剥離し、ガラス基板上に転写原型の凹凸
形状と同様な薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０
℃、３０分間の熱硬化を行い、真空蒸着法で、アルミニ
ウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を
形成して拡散反射板を作製した。これは入射角度−４０
°〜４０°の範囲に亘って均一で、十分な反射強度が得
られ、反射特性にすぐれた拡散反射板が得られた。

【００９９】以上述べたように、本発明によるマイクロ
レンズ形状によれば、切削加工方式によりレンズ面の形
成が可能となり設計値に基づいたレンズ形状の入手が可
能となる。また非球面のレンズ面形状の創生も可能であ
るため光学設計の自由度の高いマイクロレンズとなる。
これを不規則ピッチにて配置した反射板に用いることに
よって、設計値に基づいた反射特性を有する、優れた反
射板が得られる。

【０１００】本発明によるマイクロレンズ形状の転写原
型、凹凸型及び転写用積層体を用いることにより反射型
液晶表示装置等に使用される良好な反射特性を有する拡
散反射板を効率良く製造することができ、凹凸面をあら
かじめ適切に設定しておくことによって、拡散反射板の
反射特性を自由に制御でき、かつ再現性のよい反射特性
が得られ、また、所定機能をもつ表面形状を適宜の基板
に容易に賦与することができる。

【０１０１】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、切
削加工方式により、設計値に基づいたレンズ形状の入手
が可能となる。また、非球面のレンズ面形状の創生も可
能であるため光学設計の自由度の高いマイクロレンズを
得ることができる。また、設計値に基づいた反射特性を
有する、優れた反射板が得られる。また、良好な反射特
性を有する拡散反射板を効率良く製造することができ、
凹凸面をあらかじめ適切に設定しておくことによって、
拡散反射板の反射特性を自由に制御でき、かつ再現性の
よい反射特性が得られ、また、所定機能をもつ表面形状
を適宜の基板に容易に賦与することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明によるマイクロレンズ形状の斜視
図および断面図である。

【図２】本発明によるマイクロレンズアレイを形成する
際の転写原型の製造に用いる切削工具の正面図、切削工
具および転写原型の側面断面図である。

【図３】転写原型に対する切削工具のすくい面の関係を
説明するための工具側面図および転写原型の断面図であ
る。

【図４】球面形状に対して本実施例によって形成された
マイクロレンズ形状の誤差量を示す特性曲線図である。

【図５】最大誤差量を示す特性曲線図である。

【図６】本発明によって形成されるマイクロレンズの他
の実施例を説明するための楕円曲線を示す図である。

【図７】本発明によるマイクロレンズ形状を複数配置し
て構成した反射板の一実施例を示す正面図である。

【図８】本発明による反射板を作成する際の加工手順一
実施例を示す断面図である。

【図９】本発明による反射板を用いた反射型液晶表示装
置の一実施例を示す断面図である。

【図１０】本発明における反射板の反射特性の測定方法
を説明する図である。

【図１１】反射特性を示す特性図である。

【図１２】圧痕方式によってマイクロレンズを形成する
方法を示す圧痕工具と圧痕母型の斜視図である。

【図１３】本発明による転写原型から凹凸型を製造する
際の加工手順の一例を示す断面図である。

【図１４】本発明による凹凸フィルム一実施例を示す断
面図である。

【図１５】転写用積層体を用いた拡散反射板の製造方法
を説明するための一部断面側面図である。

【図１６】本発明による拡散反射板の一実施例を示す断
面図である。

【図１７】本発明による反射型ＬＣＤ装置の一実施例を
示す一部断面側面図である。

【図１８】本発明方式による半月形状のマイクロレンズ
形状の斜視図および断面図である。

【図１９】半月形状のマイクロレンズを形成する際の転
写原型の製造に用いる切削工具の正面図、切削工具およ
び転写原型の側面断面図である。

【図２０】マイクロレンズを形成する際の加工装置の正
面図と側面図である。

【符号の説明】

１…転写原型、２…マイクロレンズ面、３…Ｘ中心線、
４…Ｙ中心線、１１…切削工具、１２…ダイヤモンドチ
ップ、１２ａ…刃先輪郭形状、１２ｂ…すくい面、１２
ｃ…前逃げ面、１３…工具移動軌跡、２０…楕円曲線、
３１…反転型、３２…反射板、４０…反射型液晶表示装
置、４１…偏光板、４２…位相差板、４３…表示側ガラ
ス基板、４４…透明電極、４５…配向膜、４６…液晶
層、４７…配向膜、４８…透明電極、４９…背面ガラス
基板、５０…偏光板、５１…粘着体、５６…反射板、５
７…輝度計、５９…反射光、６０…圧痕工具、６１…入
射光、６２…マイクロレンズ面、６３…圧痕母型、６３
…理想の反射特性、６４…従来方式の反射特性、６５…
圧痕法による反射特性、６６…本発明法による反射特
性、７０…凹凸型、７１…被転写基材、７２…転写基材
支持体、８０…凹凸フィルム、８１…下塗り層、８２…
ベースフィルム、８３…薄膜層、８４…カバーフィル
ム、８５…適用基板、８６…活性光、８７…反射膜層、
８８…平坦化層、８９…配向膜、９０…液晶層、９１…
配硬膜、９２…透明電極、９３…平坦化膜、９４…ブラ
ックマトリックス、９５…カラーフィルタ、９６…ガラ
ス基板、９７…位相差フィルム、９８…偏光フィルム、
９９…スペーサ、９９‘…スペーサ、１００…透明電
極、１０２…半月状のマイクロレンズ面、１０３…Ｘ中
心線、１０４…Ｙ平行線、１２０…装置ベース、１２１
…加工テーブル、１２３…微小駆動機構部、１２４…Ｚ
軸駆動部、１２５…ＮＣ制御部、１２６…微小駆動機構
部制御部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前田 幸雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 田谷 昌人 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 日立 化成工業株式会社内 (72)発明者 太田 共久 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 日立 化成工業株式会社内 (72)発明者 石澤 勲 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 日立 化成工業株式会社内 (72)発明者 佐藤 誠 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 日立 化成工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H091 FA02Y FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FA41Z FB02 FC02 FC09 FC14 FC24 GA01 GA08 HA07 HA08 HA10 HA11 LA30 4F202 AG03 AH73 CA01 CB01 CD01 CD30 CK11 4F204 AA13 AA21 AD05 AD20 AG03 AH74 AH75 FB01 FF01 FF05 FN11 FQ15

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】略円形状輪郭の中心を通り９０度で交差す
   る長軸と短軸の長さが略等しく、該長軸又は該短軸と平
   行な軸に垂直な面の断面形状がどの位置であっても同じ
   曲線形状で構成されるマイクロレンズを備えることを特
   徴とするマイクロレンズアレイ。
2. 【請求項２】略円形状の輪郭を有するマイクロレンズで
   あって、該円形状の中心を通り９０度で交差する長軸と
   短軸の長さが同じであり、かつ、それぞれ該短軸又は該
   長軸と平行な軸に垂直な面の断面形状がどの位置であっ
   ても半径寸法で構成されているマイクロレンズを備える
   ことを特徴とするマイクロレンズアレイ。
3. 【請求項３】略円形状の輪郭を有するマイクロレンズで
   あって、該円形状の中心を通り９０度で交差する長軸と
   短軸の長さが同じであり、かつ、それぞれ該短軸又は該
   長軸と平行な軸に垂直な面の断面形状がどの位置であっ
   てもひとつの非球面形状で構成されているマイクロレン
   ズを備えることを特徴とするマイクロレンズアレイ。
4. 【請求項４】９０度で交差する長軸と短軸において、該
   長軸又は該短軸に垂直な面の断面形状が各々の方向にお
   いてどの位置であっても同じ曲線、または曲線と直線で
   組み合わせた形状で構成されるマイクロレンズを備える
   ことを特徴とするマイクロレンズアレイ。
5. 【請求項５】請求項１乃至３のいずれかに記載のマイク
   ロレンズアレイであって、該マイクロレンズを形成する
   転写原型の水平面における該マイクロレンズ面を構成す
   る曲面の接線角度が２３度以下であることを特徴とする
   マイクロレンズアレイ。
6. 【請求項６】マイクロレンズの短軸又は長軸のいずれか
   一方の断面形状と同じ刃先輪郭形状を有する切削工具を
   該短軸又は該長軸の他方の断面形状の軌跡を描くように
   制御し金型にマイクロレンズ形状を形成することを特徴
   とするマイクロレンズアレイ転写原型の製造方法。
7. 【請求項７】切削工具のダイヤモンドチップの刃先輪郭
   形状をマイクロレンズの長軸または短軸のいずれか一方
   の断面形状と同じ形状とするステップと、該切削工具の
   軌跡をマイクロレンズの該長軸又は該短軸他方の断面形
   状になるように制御して金型を加工してマイクロレンズ
   形状を形成することを特徴とするマイクロレンズアレイ
   転写原型の製造方法。
8. 【請求項８】請求項６又は７記載の略円形状のマイクロ
   レンズの製造方法において、該円形の直径の大きさをＤ
   とし、該刃先輪郭形状の半径をＲとした場合、Ｄ／Ｒを
   ０．７３以下とすることを特徴とするマイクロレンズ転
   写原型の製造方法。
9. 【請求項９】請求項６又は７記載のマイクロレンズの製
   造方法において、該切削工具又は期体の一方を水平方向
   に移動させ、微小移動用の駆動機構を垂直方向に移動さ
   せて、マイクロレンズを形成することを特徴とする転写
   原型の製造方法。
10. 【請求項１０】請求項１０に記載の転写原型の製造方法
    において、該微小移動用の駆動機構は圧電素子であり、
    該圧電素子に電圧を印加して、該切削工具を微小量垂直
    方向に移動させることを特徴とする転写原型の製造方
    法。
11. 【請求項１１】略円形状の輪郭を有するマイクロレンズ
    であって、該円形状の中心を通り９０度で交差する長軸
    と短軸の長さが同じであり、かつ、それぞれ該短軸又は
    該長軸と平行な軸に垂直な面の断面形状がどの位置であ
    っても同じ半径寸法で構成されているマイクロレンズを
    不規則ピッチで平面状に形成し、隣接するマイクロレン
    ズのピッチを該マイクロレンズのレンズ半径の５０〜１
    ００％の範囲とすることを特徴とする反射板部材の転写
    原型。
12. 【請求項１２】９０度で交差する長軸と短軸において、
    該長軸又は該短軸に垂直な面の断面形状が各々の方向に
    おいてどの位置であっても同じ曲線、または曲線と直線
    で組み合わせた形状で構成されるマイクロレンズを備
    え、該マイクロレンズを不規則ピッチで平面状に形成
    し、隣接するマイクロレンズのピッチを該マイクロレン
    ズのレンズ半径の５０〜１００％の範囲とすることを特
    徴とする反射板部材の転写原型。
13. 【請求項１３】請求項６又は７又は８記載のマイクロレ
    ンズ転写原型の製造方法であって、略円形状の輪郭を有
    するマイクロレンズであって、該円形状の中心を通り９
    ０度で交差する長軸と短軸の長さが同じであり、かつ、
    それぞれ該短軸又は該長軸と平行な軸に垂直な面の断面
    形状がどの位置であっても同じ半径寸法で構成されてい
    るマイクロレンズを不規則ピッチで平面状に形成し、隣
    接するマイクロレンズのピッチを該マイクロレンズのレ
    ンズ半径の５０〜１００％の範囲とすることを特徴とす
    る反射板部材の転写原型の製造方法と転写原型。
14. 【請求項１４】請求項６又は７に記載のマイクロレンズ
    転写原型の製造方法であって、９０度で交差する長軸と
    短軸において、該長軸又は該短軸に垂直な面の断面形状
    が各々の方向においてどの位置であっても同じ曲線、ま
    たは曲線と直線で組み合わせた形状で構成されるマイク
    ロレンズを不規則ピッチで平面状に形成し、隣接するマ
    イクロレンズのピッチを該マイクロレンズの幅寸法に対
    して５０〜１００％の範囲とすることを特徴とする反射
    板部材の転写原型の製造方法と転写原型。
15. 【請求項１５】請求項１１から１４に記載の転写原型を
    用い、該転写原型に披転写基材を押圧して凹凸型を形成
    することを特徴とする凹凸型の製造方法。
16. 【請求項１６】請求項１５に記載の凹凸型の製造方法に
    おいて、被転写基材がプラスチックフィルム又は下塗り
    層が積層されている基材であることを特徴とする凹凸型
    の製造方法。
17. 【請求項１７】請求項１５又は１６に記載の製造方法に
    より製造されることを特徴とする凹凸型。
18. 【請求項１８】請求項１７に記載の凹凸型を仮支持体と
    して用い、該仮支持体の凹凸面に薄膜層を積層し、該薄
    膜層の仮支持体に接しているのと反対の表面が適用基板
    への接着面を構成することを特徴とする転写用積層体。
19. 【請求項１９】請求項１８に記載の転写用積層体におい
    て、該薄膜層の接着面に保護フィルムを積層することを
    特徴とする転写用積層体。
20. 【請求項２０】請求項１９に記載されている該転写用積
    層体に積層された該保護フィルムを剥離したものを適用
    基板に該薄膜層の該接着面が接するように押し当てるス
    テップと、該仮支持体を剥がすステップと、該薄膜層の
    凹凸表面に反射膜を形成するステップとを備えることを
    特徴とする拡散反射板の製造方法。
21. 【請求項２１】請求項１７に記載された該凹凸型を、保
    護基板上に形成された薄膜層に凹凸面が接するように押
    し当てるステップと、該凹凸型を剥がステップと、該薄
    膜層の凹凸面が転写された表面に反射膜を形成するステ
    ップとを備えることを特徴とする拡散反射板の製造方
    法。
22. 【請求項２２】請求項１５に記載された該凹凸型の凹凸
    面に反射膜を積層してなることを特徴とした拡散反射
    板。
23. 【請求項２３】請求項１８又は１９記載の拡散反射板の
    製造方法で製造された拡散反射板を備えることを特徴と
    する液晶表示装置。