TWI273968B - A concave and convex component and a method of forming a die - Google Patents

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1273968 A7 B7 五、發明説明（1 ) 發明領域： (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明係關於經由會聚、擴散、反射、繞射等等用於 控制光之領域的技術，例如需要微透鏡之顯示、照明、醫 學處理、光通訊、電腦。特別是，本發明係關於一種微透 鏡陣列，使用於製造反射型液晶顯示裝置及需要高效率之 太陽能電池的擴散反射板，一種方法，用於製造微透鏡陣列 之轉移主圖案，一得自轉移主圖案之凹凸圖案，一轉移之疊 片，及一液晶顯示裝置。 相關技藝之敘述： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 微透鏡陣列已被使用於形成繞射光柵濾波器、光通訊 之光學零件或照相機零件之聚焦玻璃。微透鏡陣列爲圓形， 具有約10至30 μιη之直徑，0.6至50 μιη之深度。通常，微透 鏡陣列設計成球形，其相對於中心是軸向對稱。爲了製造 微透鏡，已知在日本未審查專利公告號Hei 9-327860及Hei 1 1-42649中提出一鋸齒系統及在日本未審查專利公告號 Hei 6- 194502中提出一光石印系統（下文中稱爲光系統），其 中在曝光之後執行鈾刻。已知一切割系統，其中當旋轉一 切割工具時，透鏡面被旋轉地切割。 微透鏡被排列成相等間距的透鏡陣列之例子包括使用 作爲一光學部份或一光學通訊部份之繞射光柵濾波器。另 一方面，微透鏡被排列成不等間距之型式的微透鏡陣列之 例子包括一反射板，用於避免虹光反射及反射白光，或一用 於反射型液晶之反射電極構件。爲此目的，需要形成數百 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X29?公釐） -4- 1273968 A7 B7 五、發明説明（2 ) 禺至數千萬個微透鏡。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 對於球形設計的微透鏡之處理，此微透鏡常常依據光 石印方法形成。作爲機械地控制微透鏡之處理尺寸的手段， 分別使用鋸齒技術及使用旋轉切割之切割技術。 液晶顯示器（下文中簡稱爲LCD)利用此特徵，成爲薄 、尺寸小及消耗功率低，且現在已使用爲手錶之顯示單元 、桌上型計算機、電視機、個人電腦等等。此外，近年來， 已發展彩色LCD，且開始使用於不同領域，包括〇a裝置及 A V裝置，導航系統、取景器、個人電腦之監視器等等。於 是，預期它的市場將大幅地延伸。特別是，已注意到反射型 LCD，其中從外側入射的光被反射以用於顯示，從背光不需 要具有小消耗功率之觀點，應用到可攜式端設備，於是可以 薄化及減輕重量。對於習知的反射型LCD，已採用扭轉向 列系統及超扭轉向列系統。這些系統在顯示上變暗，因爲 受線性偏光鏡之影響，沒有利用到入射光的二分之一。欲 避免此，已提出一系統之顯示模式，其中偏光鏡在數目上減 少爲一，且結合一相位板或一相位轉換客或主系統。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 欲藉著有效地利用外部光線而得到亮顯示，需要相對 於來自所有角度之入射光，在垂直於顯示面之方向上散射 的光之強度要增加。爲此目的，反射板上之反射膜要被控 制以施加適當的反射特性。 在日本未審查專利公告號Hei 4-243226中已提出一種 形成擴散反射板之方法，其中感光樹脂被塗覆至一基底，且 利用一光罩成型，以形成細微不規則，各具有數微米之尺寸， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1273968 A7 B7 五、發明説明（3 ) 且在其上形成一金屬薄膜。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此外，日本未審查專利公告號Hei 1 1 -42649提出一種 製造轉換主圖案之方法，其中具有球形尖端之鋸齒物被壓， 藉以連續地形成凹的輪廓，以及一種製造反射板之方法，將 圖案轉移至一反射基底。 此外，在曰本未審查專利公告號Hei 7_ 1 1 0476中，提出 一種在基底上形成由細粒子散佈於猶脂中做成的薄膜以控 制擴散性。 在依據光石印方法形成微透鏡陣列之情形，經由化學 反應執行此處理，使得很難控制各別的微透鏡面之形狀或 輪廓。特別是，在微透鏡以不規則或不等間距排列之型式 的反射板中，相鄰微透鏡之尺寸彼此不同，在深度的控制上 會有問題，使得成形之控制變難。結果，軸向對稱的球之擺 設很難。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖20是一鋸齒工具之立體圖及一鋸齒主方塊，指出藉 由一鋸齒系統形成微透鏡之方法。欲使在圖形中所示的鋸 齒系統中形成一軸向對稱的球造形，需要利用具有球形之 工具。對於此工具，通常使用一鑽石鋸齒物60。如果鑽石 鋸齒物60是由單晶構成，可以得到具有完全球面之工具。 鑽石具有較硬之面及視結晶朝向而定之較軟面，使得很難 完成具有完全球形之工具。嚴格地說，工具之造形具有各 向異性。特別是，如果需要在軸向對稱形狀之非球形表面 造形，很難得到所要的造形輪廓。在此方面，涉及藉由鑽石 鋸齒物60,在鋸齒矩陣63中形成所要的造形之微透鏡62 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -6 - 1273968 峰 A7 B7 五、發明説明（4 ) 之困難。雖然當使用容易得到所要的工具形狀之超硬材料 時，此一工具是有用的，多晶材料做成之工具的缺點是不僅 在其尖端之表面粗糙度變差，且當形成大曩^鋸齒時耐久性 不良。此外，鋸齒方法具有一問題，具有起因於材料之塑膠 流的不規則間距，造形會視不規則間距之密度而有所不同 〇 利用使用旋轉切割之切割，工具之輪廓精確度被二維 地控制，使得可以處理具有高精確度之造形的工具。欲得 到軸向對稱的微透鏡，需要高度精確地設定工具之切割邊 緣的半徑及旋轉中心之位置，在微透鏡之直徑約在ΙΟμιη或 以下之情形，很難決定旋轉中心。此外，很難處理非球面之 軸向對稱造形。 在日本未審查專利公告號Hei 4-243226所提出的方法 中，凹與凸造形之形成包括經由一光罩曝光每一基底及顯 影之步驟，所以程序很複雜，於是無法降低價格或提高產量 。此外，在大面積上隨機形成圖案在製造光罩之步驟上很 難。 在曰本未審查專利公告號Hei 1 1-42649之方法中，藉 著加壓一細鋸齒物而逐一形成尺寸爲數微米之凹造形，於 是涉及在大面積上處理之困難。 1 在日本未審查專利公告號Hei 1 1 -38214中，提出一種 方法，其中顆粒被噴射至條紋溝槽以隨機地製造凹部份。 然而，很難得到令人滿意的處理精確度。 在日本未審查專利公告號Hei 7- 1 10476之方法中，發 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 杯 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1273968 A7 B7 五、發明説明（5 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 現某些問題，涉及細微粒子之不均句散佈之困難，且只有當 在直接反射角度之反射增加時，可得到在需要範圍內的反 射強度，於是導致發生光源被反射。 發明節要： 本發明之目的在於解決上述習知技術之缺點，並提供 一種在對稱球形或非球形表面中製造微透鏡陣列之技術， 微透鏡陣列具有良好的反射特性、轉移主圖案及凹與凸圖 案，使用於製造例如具有良好反射特性之反射型LCD的擴 散反射板，製造這些圖案之方法，使用此圖案之轉移疊片、 擴散反射板及使用反射板之反射型液晶顯示裝置。 欲達成本發明之目的，依據本發明之第一實施例，提供 一微透鏡陣歹11，其包含微透鏡，各擺設成其長軸與短軸通過’ 一圓輪廓之中心且以90度相交，微透鏡之長度彼此相對， 且在垂直於與長軸或短軸平行之軸的面之剖面形狀在每一 位置具有相同的彎曲形狀。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 依據本發明之第二實施例，提供一微透鏡陣列，其包含 微透鏡，各具有圓形的輪廓，且擺設成其長軸與短軸通過一 圓形之中心且以90度相交，微透鏡之長度彼此相對，且在 垂直於與長軸或短軸平行之軸的面之剖面形狀在每一位置 分別具有半徑之尺寸。 依據本發明之第三實施例，提供一微透鏡陣歹[j，其包含 微透鏡，各具有圓形的輪廓，且擺設成其長軸與短軸通過一 圓形之中心且以90度相交，微透鏡之長度彼此相對，且在 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8- 1273968 A7 B7 五、發明説明（6 ) 垂直於與長軸或短軸平行之軸的面之剖面形狀分別具有給 定的非球形。 依據本發明之第四實施例，提供一微透鏡陣列，其包含 微透鏡，各擺設成其長軸與短軸以90度相交，在垂直於長 軸或短軸平行的面之剖面形狀在每一位置分別具有相同的 彎曲或結合在各別方向上之曲線及直線之相同形狀。 依據本發明之第五實施例，如同在第一至第三實施例 中所提出，在形成微透鏡之轉移主圖案的水平面，構成微透 鏡表面之彎曲面具有23度或以下的三角。 依據本發明之第六實施例，提供一種製造微透鏡轉移 主圖案之方法，其包含藉著控制一切割工具，具有相同的鼻 部或邊緣輪廓成爲微透鏡之長軸與短軸的其中之一的剖面 ，形狀，在基底中形成一微透鏡造形，使得切割工具劃出另一 軸之剖面形狀的軌跡。 依據本發明之第七實施例，提供一種製造微透鏡陣列 之轉移主圖案之方法，其包含以下步驟：形成一鑽石尖端之 鼻輪廓，作爲微透鏡之長軸或短軸的其中之一之相同剖面 形狀之切割工具，及藉著控制切割工具之軌跡處理一基底， 以製造微透鏡之另一軸的相同剖面形狀，藉以形成一微透 鏡造形。 在本發明之第八實施例中，如同第六或第七實施例所 提出，微透鏡被成形爲圓形，其中當圓之直徑取爲D，且鼻輪 廓之半徑取爲R，D/R爲0.73或更小。 在本發明之第九實施例中，如同第六或第七實施例所 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） "" —' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1273968 A7 B7 五、發明説明（7 ) 提出，藉著移動切割工具或基底的其中之一於水平方向，且 移動驅動機構在垂直方向上細微移動，形成微透鏡。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在本發明之第十實施例中，如同第九實施例所提出，細 微移動之驅動機構是由壓電元件製成，且藉著施加一電壓 至壓電元件並以非常小的角度在垂直方向上移動切割工具， 形成微透鏡。 在本發明之第十一實施例中，反射板構件之轉移主圖 案包含微透鏡，各具有圓形之輪廓，其中其長軸及短軸通過 圓形之中心且以90度相交，微透鏡之長度彼此相等，且垂 直於與長軸或短軸平行的軸之面的剖面形狀在每一位置爲 相同彎曲形狀，微透鏡係以不規則間距形成於一平面上，且 相鄰微透鏡之間的間距是在微透鏡之半徑的50至100%的 範圍內。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在本發明之第十二實施例中，反射板構件之轉移主圖 案包含微透鏡，各具有長軸及短軸以90度相交，且其中垂 直於長軸或短軸之面的剖面形狀在每一位置爲相同彎曲線， 或結合在各別方向的一彎曲線及一直線之相同形狀，微透 鏡係以不規則間距形成於一平面上，且相鄰微透鏡之間的 間距是在微透鏡之半徑的50至100%的範圍內。 在第十三實施例中，如同在第六、第七或第八實施例 中所提出，提供一種製造反射板構件之轉移主圖案之方法， 其包含：在一平面上以不規則間距形成微透鏡，各具有圓形 之輪廓，其中其長軸及短軸通過圓形之中心且以90度相交， 微透鏡之長度彼此相等，且垂直於與長軸或短軸平行的軸 本紙張尺度適用中周國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） 1273968 A7 B7 五、發明説明（8 ) 之面的剖面形狀在每一位置爲相同彎曲線，且設定相鄰微 透鏡之間的間距在微透鏡之半徑的50至100%的範圍內。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在本發明之第十四實施例中，如同在第六或第七實施 例中所提出，提供一種製造反射板構件之轉移主圖案之方 法，其包含：在一平面上以不規則間距形成微透鏡，微透鏡之 長軸及短軸以90度相交，其方式使得垂直於長軸或短軸之 面的剖面形狀在每一位置爲相同彎曲線，或結合在各別方 向的一彎曲線及一直線之相同形狀，且設定相鄰微透鏡之 間的間距在微透鏡之半徑的5 0至1 0 0 %的範圍內。 在本發明之第十五實施例中，提供一種製造凹與凸圖 案之方法，其中提供在第十一至第十四實施例中提出的轉 移主圖案，且欲被轉移之基底被固定在靠著轉移主圖案，以 形成一凹與凸圖案。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在本發明之第十六實施例中，如同第十五實施例中所 提出，欲被轉移之基底是由疊片做成，疊片包括一塑膠膜或 一下層。塑膠膜或下層之材料的型式並不嚴格，只要其確 保相對於轉移造形可再生轉移主圖案，且在造形上具有高 穩定性。 在本發明之第十七實施例中，依據第十五或第十六實 施例之方法，做成凹與凸圖案。 在本發明之第十八實施例中，藉著提供如第十七實施 例所提出之凹與凸圖案作爲準備材料，形成轉移之疊片，並 將一薄膜層疊合在準備材料之凹或凸微透鏡造形圖案表面 上，使得與準備材料接觸的表面相對之薄膜層作爲應用基 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐）~ " -11 - 1273968 A7 ____ _ B7 _ 五、發明説明（9 ) 底之接合面。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在第十九實施例中，如同在第十八實施例中所提出，一 保護膜進一步被疊合在薄膜層之接合面上。 依據本發明之第二十實施例，提供一種製造擴散反射 板之方法，其包含以下步驟：固定在第十九實施例中提出之 轉移疊片靠著應用基底，從轉移疊片移除保護膜，其方式使 得薄膜層之接合面與基底接觸，分開準備材料，且形成一反 射膜於薄膜層之凹與凸圖案表面上。 在本發明之第二十一實施例中，提供製造擴散反射板 之方法，其包含以下步驟：固定在第十七實施例中提出之凹 與凸圖案靠著一形成在保護基底上之薄膜層，使得凹與凸 圖案與其接觸，分開凹與凸圖案，且在薄膜層之凹與凸圖案 表面被轉移之表面上形成一保護膜。 在第二十二實施例中，一反射膜被疊合在第十五實施 例中所提出的凹與凸圖案之凹與凸表面上。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在第二十三實施例中，提供一種液晶顯示裝置，其包含 依據製造第十八或十九實施例中所提出之擴散反射板之方 法所製造的擴散反射板。 在實施本發明中，可藉著使用鑽石之切割而處理微透 鏡，且切割工具之輪廓控制是根據切割邊緣之二維輪廓圖 案控制，使得可以得到高準確度之工具。相對於所要的剖 面形狀或相對於欲被處理之構件的R面，使用並控制此工 具，在此執行處理，使得切割的方向與延著通過微透鏡之中 的一個軸之方向相合，且以90度相交。以此方式，相對於 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇'乂297公釐） -12- 1273968 Α7 Β7 五、發明説明（10 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 中心線之剖面形狀導致與工具輪廓相同的形狀，中心線平 行於切割方向。關於相對於沿著與切割方向成直角之方向 的中心線之剖面形狀，所得到的尺寸是根據工具之移動的 控制。在兩種情形中，尺寸可被機械地控制，使得可以形成 高精確度之微透鏡造形圖案。於是，當使用依據本發明之 方法所得到的微透鏡，而不採用軸向對稱形成之技術，可以 形成高精確度的透鏡陣列。 此外，在本發明之微透鏡造形圖案被使用作爲反射構 件之轉移主圖案以轉移形狀之情形，大量的微透鏡造形被 連續地形成於轉移主圖案之基底的表面中。在此情形中， 所得到的凹微透鏡造形最好是隨機地而非規則地擺設。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 轉移主圖案之造形被反向地轉移至欲被轉移之材料， 例如一膜等等，藉以提供一凹或凸微透鏡造形圖案，例如一 凹與凸圖案承載膜等等。此被提供作爲準備材料，且一薄 膜層被疊合在凹與凸表面，以得到轉移之疊片。此疊片被 帶入與由玻璃基底做成的應用基底（永久基底）接觸，其方 式使得沒有與準備材料接觸的薄膜層之表面，被固定靠著 永久基底，接著分開準備材料並形成一反射膜於薄膜層上 。結果，能以®產量製造一擴散反射板，且大尺寸的擴散反 射板可被有效地製造。主圖案（可被使用作爲轉移主圖案） 之基底，其中大量的微透鏡造形已被連續地形成，被使用來 做成一反向轉移圖案，且許多反向轉移圖案是彼此相關，且 被提供作爲一主圖案，以製造另一反向轉移主圖案。當使 用後面的主圖案，能以較高產量來製造大尺寸擴散反射板 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210 X 297公釐] ~ -13- 1273968 A7 B7 五、發明説明（11 ) 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 另一種方式，可藉著形成一反射膜於使用作爲準備材 料之凹與凸圖案的凹或凸表面上，疊合一薄膜層以提供轉 移之疊片，將薄膜層之表面，其和與準備材料接觸之表面相 對，帶入與永久基底接觸，以固定膜靠著基底，並分開準備材 料，來製造擴散反射板。 更另外一種方式，可藉著轉移凹與凸圖案之凹或凸表 面至主要形成在永久基底上之薄膜層，同時將凹或凸表面 帶入與薄膜層接觸以固定表面靠著層，並形成一反射膜於 薄膜層上，同樣來製造具有良好反射特性之擴散反射板。 因爲轉移主圖案之各別凹與凸造形被控制以減小在直 接反射角之反射，光源本身之反射被減小，所以可以製造在 需要範圍上具有均勻反射強度之擴散反射板。 本發明之擴散反射板具有凹與凸造形，含有以高產量 形成之良好反射特性，且能以簡單的程序製造。 如附圖所示，可從以下本發明之較佳實施例之特別敘 述明顯看出本發明之其它目的、特徵及優點。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖形之簡要敘述： 圖1A是依據本發明之微透鏡造形之立體圖，圖1B是 圖1A中沿著線A-A之剖面圖，圖1C是圖1 A中沿著線B-B 之剖面圖，且圖1D是一剖面圖，指出具有許多微透鏡造形 之微透鏡轉移主圖案； 圖2A是一前視圖，指出使用於製造依據本發明之微透 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇x297公釐） ~ " 1273968 A7 B7 五、發明説明（12 ) 鏡陣列之轉移主圖案之切割工具，且圖2B是轉移主圖案及 切割工具之側剖面； (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖3 A是一側面圖，指出垂直於轉移主圖案站立之鑽石 尖5而的國面，以說明轉移主圖案與切割工具的齒面之間的 關係，圖3 B是一側面圖，指出相對於轉移主圖案傾斜之鑽 石晶片的齒面，且圖3 C是轉移主圖案之剖面圖，指出透鏡 表面之三角； 圖4是一特性曲線，指出依據一球形的例子所形'的微

A 透鏡造形之幾何誤差； 圖5是一特性曲線，指出幾何最大誤差； 圖6是一橢圓曲線，用於指出依據本發明所形成的微 透1¾之另一1例子； 圖7是一前視圖，指出藉著擺設依據本發明之許多微 透鏡造形所構成之反射板的例子； 圖8A至8F分別爲剖面圖，指出用於製造依據本發明 之反射板的處理程序的一個例子； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖9是一剖面圖，指出使用依據本發明之反射板之反 射型液晶顯示裝置的一個例子； 圖10是一立體圖，指出依據本發明之反射板的反射特 性之測量方法； 圖11是一特性圖形，指出反射特性； 圖1 2 A至1 2 D分別爲剖面圖，指出從依據本發明之轉 移主圖案製造一凹與凸圖案之處理程序的一個例子； 圖13是一剖面圖，指出依據本發明之凹與凸膜的一個 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -15 - 1273968 A7 B7 五、發明説明（13) 例子； (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖1 4 A至1 4 E分別爲側面圖，指出用於製造使用轉移 疊片之擴散反射板之方法； 圖1 5 —剖面圖，指出依據本發明之擴散反射板的一個 例子； 圖1 6是一側面圖，指出依據本發明之反射型L C D裝 置的一個例子； 圖17A是一立體圖，指出依據本發明之半月形微透鏡 造形，圖1 7 B是一剖面圖，取自沿著圖17 A中之線A - A，圖 1 7 C是一剖面圖，取自沿著圖1 7 A之線B - B，且圖17 D是設 有許多微透鏡造形之微透鏡轉移主圖案； 圖18A是一前視圖，指出使用於製造用以形成半月形 微透鏡之轉移主圖案之切割工具，且圖18B是轉移主圖案 與切割工具之側剖面； 圖1 9 A是使用於形成微透鏡之處理裝置的前視圖，且 圖19B是一側面圖，指出處理裝置；及 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖20是鋸齒矩陣及鋸齒工具之立體圖，指出依據鋸齒 系統形成微透鏡之方法。 主要元件說明 1 轉移主圖案 2 透鏡面 3 X中心線 4 Y中心線 考 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -16 - 1273968 A7 B7 五、發明説明（14) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 11 切割工具 11a 切割工具 12 鑽石尖端 12a 鼻輪廓 12b 鼻輪廓 12c 後部份 13 工具移動軌跡 20 橢圓曲線 31 反向圖案 32 反射板 40 反射型液晶顯示裝置 41 第一偏光板 42 相位差異板 43 顯示側玻璃基底 44 透明電極層 45 對準膜 46 液晶層 47 對準膜 48 透明電極層 49 背側玻璃基底 50 第二偏光板 51 自動附著體 56 樣品 57 売度計 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -17- 1273968 Α7 Β7 五、發明説明（15 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 59 反射光線 60 鑽石鋸齒物 61 入射光線 62 微透鏡 63 理想的反射特性 64 曲線 65 曲線 67 曲線 70 凹與凸圖案 71 基底 72 支撐 79 疊片 80 凹與凸圖案 81 下層 82 基膜 83 薄膜層 84 覆蓋膜 85 應用基底 86 可光化光 87 反射膜層 88 平坦膜 89 對準膜 90 液晶 91 對準膜 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中_家標準（_ Μ規格（21〇Χ·董）-18 _ 1273968 A7 B7 五、發明説明（16) 92 透明電極 93 平面化膜 94 黑矩陣 95 濾色器 96 玻璃基底 97 相位差異膜 98 偏光板 99 間隔物 99， 間隔物 102 透鏡面 103 X中心線 104 Y平行線 121 處理台 123 細微驅動機構 124 Z軸驅動單元 125 NC控制單元 126 細微驅動機構之控制單元 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 較佳實施例之敘述： 現在參見附圖，以指出本發明之較佳實施例。 須注意在實施本發明時，通過微透鏡的中心且彼此以 直角相交之微透鏡的一個直徑稱爲長軸，另一個直徑稱爲 短軸。然而，以此關係，不管長軸或短軸，短軸與長軸之長度 彼此相對亦是在本發明之範圍內。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -19- 1273968 A7 B7 五、發明説明（17 ) 圖1A是一立體圖，指出依據本發明之微透鏡造形，圖 1 B是圖1 A中沿著線A - A之剖面圖，圖1 C是圖1 A中沿著 線B - B之剖面圖，且圖1D是一剖面圖，指出具有許多微透 鏡造形之微透鏡轉移主圖案。圖1中，$專移主圖案被表示 爲1，且設有一透鏡面2。參考數字3表示一 X中心線，通 過透鏡面2,且參考數字4表示一 Y中心線，與X中心線3 垂直，且通過透鏡面2。沿著中心線3之透鏡面2的直徑爲 D 1，且沿著Y中心線4之透鏡面2的直徑爲D2。雖然D 1 、D2具有大約相同的長度，一直徑在下文中稱爲長軸，且另 一直徑稱爲短軸，以彼此區分直徑D 1、D2。X中心線3之 剖面形狀表示於圖1 B中，其爲取自沿著圖1 A之線A-A 的剖面，且Y中心線4之剖面形狀表示於圖1C中，其爲取 自沿著圖1 A之線B - B的剖面。 此例子的微透鏡造形具有一半徑R1，相對於通過X中 心線3之剖面形狀，及一半徑R2,剖面形狀通過Y中心線 。在此情形中，當剖面形狀是取在透鏡面的任意位置，相對 於與X中心線3垂直相交的面，得到半徑R2之剖面形狀， 其是Y中心線的剖面形狀。特別是，在圖1B中，線a至d 之剖面形狀爲例如在圖1C中由虛線表示的圓圏a至d，全 部圓圏a至d分別具有半徑R2。在相對於與Y中心線4 垂直相交的面取剖面形狀之情形，在透鏡之任意位置取的 剖面形狀爲半徑R1之形狀，其對應X中心線3之剖面形狀 〇 此例子的微透鏡造形之應用，根據設計之値，可以形成 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、言 Γ- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -20- 1273968 A7 B7 五、發明説明（18 ) 高精確度的微透鏡形狀轉移主圖案。在此例子中，在微透 鏡面 2 之尺寸爲 Dl = l〇Hm，Rl = 20pm 且 R2 = 20pm。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖ID是提供有許多透鏡面之微透鏡的轉移主圖案之 剖面圖，指出透鏡面2之深度爲d。 圖17A是一體圖，指出依據本發明之半月形微透金見， 圖17B是一剖面圖，取自沿著圖17A之線A-A，圖17C是一 剖面圖，取自沿著圖17A之線B-B，且圖17D指出具有許多 微透鏡造形之微透鏡轉移主圖案。圖17中，參考數字1表 示設有透鏡面102之轉移主圖案，透鏡面102具有半月形 輪廓。參考數字10 3表不一 X中心線，其相等地分割一段 距離，沿著透鏡面102之高度，且參考數字104表示Y平行 線，其與X中心線103垂直，且與半月形透鏡面102之線性 部份平行。X中心線103上之半月形透鏡面102的寬度取 爲D3,且Y平行線104上之透鏡面102的距離取爲D4。X 中心線103之剖面形狀表示於圖17B，其是一剖面圖，取自 沿著圖17A之線A-A，且Y中心線4之剖面形狀表示於圖 17C，其是一剖面圖，取自沿著圖17A之線B-B。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此例子之微透鏡造形具有此一輪廓，使得它具有一剖 面形狀，通過X中心線103,且具有一半徑R1，連同一線性 部份。相對於與X中心線103垂直地相交之面，在透鏡面 之任意位置的剖面形狀是具有半徑R2,其是Y平行線104 之剖面形狀。特別是，在圖17B中，在線a至d之剖面形狀 分別具有半徑R2,如同圖17C中由虛線所表示的圓圈a至 d。此外，在與Y中心線104垂直相交的面取剖面形狀之情 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -21 - 1273968 A7 B7 五、發明説明（19 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 形，得到一剖面形狀，其具有由半徑R1構成的相同輪廓，及 在透鏡面的任意位置之線性部份，且其對應X中心線1 03 之剖面形狀。 此例子之微透鏡造形之應用，根據設計之値，可以構成 高精確的微透鐃形狀轉移主圖案。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖2A是切割工具之前視圖，切割工具用於製造一轉移 主圖案，以形成依據本發明之微透鏡陣列，且圖2B是轉移 主圖案及切割工具之剖面圖。在此例子中，使用鑽石鑽頭， 依據切割系統形成透鏡面2。在圖形中，參考數字11表示 一切割工具，且參考數字12表示一鑽石尖端。在鑽石尖端 12之尖端的鼻輪廓12a之形狀具有在形成微透鏡之透鏡 面的路徑上的一方向之剖面形狀。特別是，在圖1所示的 透鏡面2的剖面形狀之中選定的剖面形狀被成形以提供由 在A-A剖面之側面的曲線所表示之半徑R1。工具移動軌 跡13被控制在一處理裝置（未示）上，使得圖2之切割工具 11沿著相對於形成轉移主圖案的材料之半徑R 1的軌跡移 動，此材料亦即基底la，當透鏡面被切割一次時，可以形成 一微透鏡。 切割工具之工具移動軌跡13被轉移至透鏡面2以做 成圖1 B所示的微透鏡造形之a-A剖面形狀。鑽石尖端之 鼻輪廓12a導致圖1C所示之微透鏡造形的B-B剖面形狀 〇 相對於工具移動軌跡13，使用商業化超準確處理機器， 且切割工具11及轉移主圖案1分別被附著至處理機器之 本紙張尺度適财麵家縣（CNS) A4規格（21()>< 297公釐） '' -22- 1273968 A7 B7 五、發明説明（20) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 驅動軸，接著相對地移動切割工具1 1及轉移主圖案以得到 一處理的轉移主圖案1。有鑑於工具之移動軌跡小如次微 米級，且爲了減少由於處理機器之驅動軸的後擊所產生的 幾何誤差，使用一壓電元件，藉著使用細微移動之驅動機構， 執行切割工具1 1之移動，藉以得到具有良好幾何準確度之 轉移主圖案。 圖1 8A是切割工具之前視圖，切割工具用於製造一轉 移主圖案，以形成半月形微透鏡，且圖18B是轉移主圖案及 切割工具之剖面圖。在圖形中，參考數字1 la表示一切割 工具，且參考數字12a表示半月形鑽石晶片。在切割工具 12a之尖端的鼻輪廓12b具有一剖面形狀，沿著形成微透鏡 之透鏡面102的情形中之一方向。亦即，選自圖17所示之 透鏡面102的這些剖面形狀之此一剖面形狀被成形以提供 半徑R1，如在A-A剖面之側面的曲線所表示。工具移動軌 跡13被控制在一處理裝置（未示）上，圖18之切割工具11a 沿著相對於形成轉移主圖案之材料亦即一基底1 a之半徑 R1的軌跡移動，當透鏡面被切割一次時，可形成一微透鏡。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 切割工具11 a之工具移動軌跡1 3被轉移至透鏡面 102,以提供圖17B所示的微透鏡造形之A-A剖面形狀，且 鑽石尖端12a之鼻輪廓12b導致圖17C所示之微透鏡造形 的B-B剖面形狀。 相對於工具移動軌跡13,使用一商業化超準確處理機 器，且切割工具11a及轉移主圖案1分別被附著至處理機 器之驅動軸，接著相對地移動切割工具1 la及轉移主圖案 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -23- 1273968 A7 B7 五、發明説明（21 ) 以得到轉移主圖案1。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖1 9 A是用於形成一微透鏡之處理裝置的前視圖，且 圖19B是一側面圖，指出處理裝置。在圖形中，參考數字 120表示一裝置底座，參考數字121表示一可於X與γ方 向上移動的工作或處理台，參考數字124表示一 Z軸驅動 單元，可移動於Z方向，且參考數字123表示一細微驅動機 構，使用一壓電元件用於細微移動。切割工具11被附著至 細微驅動機構1 2 3，且轉移主圖案1被附著至處理台121。 參考數字125表示處理裝置之NC控制單元，且參考數字 1 26表示細微驅動機構之控制單元。附帶一提，細微驅動機 構123藉著使用處理裝置之Z軸驅動單元124,被移動於Z 軸方向，使得切割工具11、11 a及轉移主圖案彼此靠近至 一給定程度，使得它們可被處理。接著，藉著驅動處理台 121至X的方向，以一給定的速度移動轉移主圖案1。在此 階段，切割工具1 1受到在Z之方向上的往復移動小程度， 藉著細微驅動機構1 23。以此方式，切割工具11之尖端部 份可相對於轉移主圖案1移動，其方式使得可拉出圖2B或 圖1 8B所示的工具移動軌跡。由於一壓電元件使用於細 微驅動機構123中，在轉移主圖案1中之許多微透鏡的形 成可以是在一段短時間內。須注意在此例子中，壓電元件 被使用作爲細微驅動機構1 23之驅動源，但在本發明之實 施中驅動源並不限於特定的驅動源。可以使用任意型式的 驅動源，只要它可細微地驅動切割工具11或11a。例如，可 使用磁伸縮元件、超音波振盪器等等。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -24- 1273968 A7 ___B7 _ 五、發明説明（22 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 此例子的微透鏡造形具有剖面形狀，在通過透鏡面2 的中心且彼此以直角相交的兩條線分別具有半徑R1，R2,依 據上述處理系統，可精確地得到高準確微透鏡造形。 圖3A是一側面圖，指出鑽石尖端之齒面垂直於轉移主 圖案站立之情形，以指出切割工具的齒面相對於轉移主圖 案之關係，圖3B是一側面圖，指出鑽石晶片之齒面相對於 轉移主圖案傾斜之情形，圖3C是轉移主圖案之剖面圖，指 出透鏡面之三角。雖然圖2A所示的切割工具及圖18A所 示的切割工具11 a可分別使用作爲此例子的切割工具，在 下文中使用切割工具11來表示此例子的工具。如圖3 A 所示，切割工具11之鑽石尖端12的齒面12b相對於水平 面lb垂直站立，邊緣的角度取爲Θ 2。相對地，圖3B指出 切割工具1 1進一步傾斜Θ 3之狀態。此外，如圖3C所示， 在透鏡面2與轉移主圖案1之水平面lb相交的部份之三 角取爲Θ 1。 在此例子中，微透鏡造形之三角θ 1被界定在23度或 以下。此値是有鑑於當透鏡面2形成時切割工具1 1之鑽 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 石尖端的邊緣角度Θ 2之關係而界定的。其理由指出如下 〇 考慮材料之結晶朝向及使用作爲工具之壽命，鑽石尖 端應具有Θ 2在20度或以下之値。處理時，切割工具1 1可 被使用以在切割方向上轉動且傾斜Θ 3。然而，以此關係， 相對於Θ 3的大小，適當的切割條件包括負3度至正3度的 這些條件。以此方式，使用於處理之工具1 1可相對於水平 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -25- 1273968 Α7 Β7 五、發明説明（23 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 面被傾斜Θ 2+ Θ 3,且此角度爲23度。在需要轉移主圖案 1相對於水平面1 b之傾斜爲Θ 2+ Θ 3或以上之切線角度之 情形，透鏡面2之造形經由與在鑽石尖端之邊緣12a後面 的後部份1 2c接觸而被變形，使得切線角度θ 1被界定在 23度或更小。透鏡面2之直徑最好在鑽石尖端之邊緣輪 廓的鼻之半徑的3 0%或更低。此理由是此例子的微透鏡造 形在形狀上與習知相對於中心軸軸向對稱的軸對稱微透鏡 面不同，且在光學特性上亦與幾何差異必須被減小的不同 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖4是一特性曲線，指出此例子中形成的球形微透鏡 幾何之誤差，其中橫座標表示微透鏡造形之直徑（μηι)，且縱 座標表示幾何誤差（μπι)。相對於球形微透鏡與此例子的微 透鏡的透鏡面2之間在剖面形狀上的差異，指出根據球形 透鏡面作爲參考之幾何誤差的計算結果。爲了計算，對應 沿著透鏡面2之切割方向的半徑R1被設定在20μηι,且透 鏡面2之直徑被設定在1 0 μπι。在此情形中，幾何誤差是在 0.0 3 μιη或更低，其是在習知處理系統的處理誤差內。因此， 微透鏡造形應用至設計爲球面之透鏡陣列視爲有效的。雖 然因爲當透鏡面的直徑D與鑽石尖端12之鼻輪廓12a的 半徑R2之比亦即D/R2是0.73或以上時幾何誤差會增加， 限制在可以允許幾何誤差之應用。 圖5是一特性曲線，指出最大幾何誤差，其中橫座標表 示D與R之比（D/R)，其中D是透鏡直徑且R是指出鑽石 尖端之鼻輪廓的半徑，且縱座標表示最大誤差（μιη)。如圖 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） ~ -26- 1273968 A7 B7 五、發明説明（24 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 中所示，當D對R之比，其中D是透鏡直徑（其是圖1中 D1=D2之例子）且R是確定形成鑽石尖端12之鼻輪廓12 的半徑，最大誤差容易增加。依據我們所做的實驗，當最大 誤差是0.1 μπι或更大時，微透鏡之特性變差開始發生。因 此，最大誤差最好是在0 . 1 μιη或更小的程度。 在最大誤差是〇. 1之情形，D/R之値是0.73。D/R之値 最好是0.73或更低。如果D/R之値是0.2或更低，是在很 難形成微透鏡之範圍內。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 現在參考本發明之第二例子，其中圖1Β與1C及圖 17Β與17C中的Α-Α剖面形狀及Β-Β剖面形狀不是圓形 成球形，而是非球形。在此例子中，橢圓曲線20(圖6)的一 部份，亦即曲線POQ，被使用以提供一非球形。非球形的使 用可以改善光學特性之設計的自由度。於是，可以形成具 有良好光利用效率之透鏡陣列。形成本發明之微透鏡造形， 使得通過X中心線3及Υ中心線4之剖面分別爲所要的 非球形。發生是圖6所示的橢圓曲線20的部份之曲線 POQ被取爲非球形。當橢圓曲線20之長軸與短軸的參數 a，b被設定，可因此決定一曲線。當使用相同的曲線作爲橢 圓曲線之X中心線3與Y中心線4時，可以形成一大致圓 的微透鏡。 在此例子中，使用於形成微透鏡之曲線並不限於橢圓 曲線，可以使用二次曲線或更高次的曲線。 圖7是一前視圖，指出依據本發明藉著擺設許多微透 鏡造形而構成的反射板的一個例子。欲反射白光而不涉及 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -2F- 1273968 A7 B7 五、發明説明（25) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 相對於來自外側的入射光之反射光中的虹光，以不等間距 擺設微透鏡造形。藉著使用鋸齒處理系統形成或製造微透 鏡，當在與先前形成的微透鏡接觸的位置或附近形成微透 鏡時，由於在窄區域中之微透鏡之間的衝突，發生塑膠流，使 得微透鏡之形狀改變，於是無法得到所要的特性。當使用 依據本發明所形成的微透鏡2時，依據切割系統能以不等 間距處理高精確的微透鏡造形，於是可以高效率形成反射 板。 經由賓驗確認在藉著以不等間距在一平面上形成微透 鏡而做成反射板32之情形，最好擺設微透鏡在一間距，相 鄰的微透鏡造形介於根據透鏡半徑的50至100%之範圍內 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖8A至8F分別爲剖面圖，指出依據本發明形成反射 板之處理程序的一個例子。圖8A是作爲一印模（die)之基 底的剖面圖，其中基底1 a依據圖2所示之切割系統被切割 。圖8B是在處理之後的轉移主圖案之剖面圖，指出形成有 許多微透鏡造形之轉移主圖案。圖8C是轉移主圖案1之 反向圖案的剖面圖，指出藉著施加UV-固化樹脂至轉移主 圖案上，得到反向圖案（凹與凸圖案）之步驟。此方向允許 凹形的微透鏡造形被轉換成凸造形。圖8D是反向圖案之 剖面圖，指出凸造形承載反向圖案（凸圖案）31。圖8E是所 形成的反射板及反向圖案之剖面圖，指出在反射板之表面 中形成反向圖案3 1之外側形狀的步驟。圖8F是具有微透 鏡造形或陣列形成於其中之反射板的剖面形狀，指出反射 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 1273968 A7 B7 五、發明説明（26 ) 板3 2,其中藉著使用反向圖案31已形成微透鏡造形圖案 〇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖9是一剖面圖，指出使用依據本發明之反射板的反 射型液晶顯示裝置的一個例子。圖形中，反射型液晶顯示 裝置40提供具有透鏡面2之反射板32,各作爲一微透鏡， 以不等或不規則間距形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖9之反射型液晶顯示裝置40具有一對顯示側玻璃 基底43及一背側玻璃基底49,各具有0.7mm之厚度，其間 提供一液晶層46。相位差異板42設在顯示側玻璃基底43 的上側，且第一偏光板4 1進一步設在相位差異板4 2之上 側。背側玻璃基底49被附著在本發明之反射板32及第二 偏光板50的下側。反射板32被附著至第二偏光板50的 下側，使得具有不等間距之微透鏡面2的反射板32之透鏡 面相對於下側是成面對面關係。爲了附著，由不會負面影 響光之折射率的材料做成之自動附著體5 1塡充於第二偏 光板5 0與反射板3 2之間。透明電極層4 4，4 8分別形成於 玻璃基底43，49之面向側上，且對準膜45,47分別形成在透 明電極層44,48上。液晶層46中之液晶以一給定角度被 扭轉，視對準膜45，47之間的關係而定，且其分子擺設被透 明電極44,48所給予的電解效果改變，藉以確保光之折射 控制。如果一濾色器，圖中未示，形成於背側玻璃基底49 與透明電極層48之間，可以形成彩色液晶顯示裝置。 現在參見圖1 0，指出測量反射板之反射特性的方法。 使用此測量方法，敘述依據本發明做成之反射板如何表現 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐）~ --29 - 1273968 A7 B7 五、發明説明（27 ) 比依據其它方法做成的反射板更好的效果。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖1 0是一立體圖，指出依據本發明之反射板的反射特 性之測量方法。入射光線6 1進入樣品56,且所得到的反 射光線59藉由亮度計57來測量。當入射光線61與反射 光線59之量的角度爲Θ，且沿著相對於在Θ的需要角度內 之擴散反射板的法線觀察之亮度亦即反射強度增加，可以 得到具有良好反射特性之反射板。 圖1 1是一圖形，指出反射特性。圖形中，參考數字63 表示一理想的反射特性。特別是，當藉著使用圖1 0之測量 裝置，旋轉光源20至30度來測量亮度，且旋轉樣品180度 來同樣測量亮度，在任意角度的反射之亮度的測量是相同 的。曲線64指出依據噴沙法做成的反射板之反射特性，表 示出第一穿透增益很弱，具有弱的反射亮度。曲線65是對 於依據鋸齒方法做成的反射板，表示出對反射角之各向異 性是嚴重的。曲線66指出依據本發明做成的反射板之反 射特性，其非常接近理想的反射特性63。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 可依據以上所提出的程序得到反射板，但使用具有依 據本發明之另一實施例的半月形透鏡面1 02之轉移主圖案 1。藉著使用具有透鏡面102之轉移主圖案，得到反射板之 特性，反射之方向可被集中只向著從〇°至正角度的方向， 如同曲線67,使得當保持類似於曲線63之形狀，其指出理 想的反射特性，可以改善亮度。特別是，曲線67之特性確 保可以藉著控制半月形透鏡面的直線部份之方法，來控制 亮度之改善方向。於是，反射方向之可控制性比由鋸齒系 本紙張尺度適用中周國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） -30- 1273968 A7 B7 五、發明説明（28 ) 統得到之不規則地發生各向異性之曲線6 5的樣品更爲良 好。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 如上所述，依據本發明之微透鏡造形的透鏡面可藉著 上述的切割系統來形成，且根據設計値之透鏡面是可用的 。此外，可以產生非球形的透鏡面造形，使得所得到的微透 鏡造形具有高度的光學設計自由度。 此外，當使用以不等間距襬設的微透鏡之反射板時，可 以得到一反射板，其與根據設計資料或値之反射特性一樣 良好。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖1 2 A至1 2D分別爲剖面圖，指出從依據本發明之轉 移主圖案做成凹與凸圖案之處理程序的例子。圖12A是 基底之剖面圖，其中基底1 a依據圖2所示之切割系統被切 割。圖12B是轉移主圖案之剖面圖，其是藉著切割基底la 而做成。圖1 2 C是一剖面圖，指出用於轉移的基底之支撐 的轉移主圖案及欲被轉移的基底，其是形成在支撐上，其中 基底71欲被轉移，其設在轉移的基底之支撐上，被壓靠在 轉移主圖案1之凹部份。圖12D是基底71及用於轉移的 基底之支撐的剖面圖，各具有凹與凸圖案形成於其中，其中 基底71及用於支撐基底71之支撐與轉移主圖案1分開， 以提供凹與凸圖案70。藉著反向形成形成在凹形的轉移 主圖案1上之微透鏡造形分別是凸的，如圖1 2D所示。以 此方式，藉著固定欲被轉移之可變形的基底靠著轉移主圖 案1，可以做成凹與凸圖案。欲被轉移之基底71應由可變 形的塑膠膜做成，且可變形的基底7 1設在轉移的基底之支 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） " 一 31 - 1273968 A7 ____ B7 _ 五、發明説明（29 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 撐72上。（如果需要的話，欲被轉移的基底7 1可在變形之 後被固化。）熱、光等等在固定步驟的過程中可被施加至 基底7 1。凹與凸圖案70最好是做成膜的形狀。 圖1 3是一剖面圖，指出依據本發明之凹與凸圖案承載 膜的例子，且指出依據參見圖1 2所示之方法做成的凹與凸 圖案承載膜8 0。圖1 3之凹與凸圖案承載膜具有凹與凸圖 案轉移的下層81，建在基膜（或基底）82上。 使用於本發明之基膜82是可變形的，且最好是化學及 熱穩定的。基膜8 2之材料的特定例子包括聚烯類，例如聚 乙烯、聚丙烯等等，聚鹵乙烯，例如聚氯乙烯、聚氯亞乙烯 等等，纖維衍生物例如乙酸纖維素、硝基纖維素、賽璐玢 等等，聚醯胺、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚亞醯胺、聚酯或 .金屬，例如鋁、銅等等。在這些之中，最好是具有良好的尺 寸穩定性之雙軸定位的聚乙烯對苯二酸酯。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在形成凹與凸圖案之後，下層81最好是上述的薄膜層 硬。例如，使用至少一有機聚合物，選自例如聚乙烯、聚丙 烯等等之聚烯類，例如乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯丙烯 酸酯共聚物、乙烯乙烯醇共聚物等等之乙烯共聚物，聚氯 乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙烯醇共聚物 、聚氯亞乙烯、聚苯乙烯、苯乙烯共聚物，例如苯乙烯_( 甲基）丙烯酸酯共聚物、聚乙烯甲苯、乙烯基曱苯共聚物， 例如乙烯基甲苯-(甲基）丙烯酸酯共聚物、聚（甲基）丙烯酸 酯、（甲基）丙烯酸酯共聚物，例如乙烯基（甲基）丙烯酸酯-乙酸乙烯酯共聚物，纖維衍生物，例如乙酸纖維素、硝基纖 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -32 - 1273968 A7 B7 五、發明説明（30 ) 維素、賽璐玢等等，聚醯胺、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚亞 醯胺、聚酯、合成橡膠等等。 爲了形成下層81，如果需要的話，可以事先加入具有烯 型雙鍵之單體，以在形成凹與凸圖案之後固化。感光型可 以是負或正型。 使用於本發明之塗覆下層81之方式包括：藉由滾輪塗 覆器之塗覆、藉由旋轉塗覆器之塗覆、噴射塗覆、鞭打塗 覆、藉由浸漬塗覆器之塗覆、藉由簾狀流動塗覆器之塗覆 、藉由線桿塗覆器之塗覆、藉由凹印塗覆器之塗覆、藉由 氣刀塗覆器之塗覆等等。 圖14A至14E分別爲側面圖，用於指出使用轉移疊體 做成擴散反射板之方法，其細節將敘述於後。圖1 4 A是一 側面圖，指出依據本發明用於轉移之疊片的例子。圖1 4 A 中，凹與凸圖案轉移的下層81被建立在基膜82上，其上進 一步形成薄膜層83及覆蓋膜84,以提供用於轉移之疊片 79。對於疊片79,可以省略覆蓋膜84。 疊片79之薄膜層83可以由可變形的有機聚合物做成， 其成份包括：聚合物、無機化合物、金屬等等。最好，有機 聚合物或其成份可以被施加至一支撐，取膜滾輪之形狀。 如果使用包含有機聚合物之成份，如果需要的話，可以單獨 或結合地包含染料、有機色素、無機色素、粉末及其組合 物。作爲薄膜層83,可以使用感光樹脂組成或熱固性樹脂 組成。關於介電常數、硬度、折射率及頻譜穿透，薄膜層 83不是嚴格的。薄膜層83最好是由具有對基底亦即例如 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -33- 1273968 Α7 Β7 五、發明説明（31) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 玻璃基底之液晶面板8 5有良好附著性之材料做成，且容易 從下層8 1剝落（如果使用不具有下層8 1之塑膠膜，材料應 具有可從塑膠膜剝落之良好特性）。 薄膜層83之材料包括，例如丙烯酸樹脂、聚烯類，例 如聚乙烯、聚丙烯等等，聚鹵乙烯，例如聚氯乙烯、聚氯亞 乙烯等等，纖維衍生物例如乙酸纖維素、硝基纖維素、賽 璐玢等等，聚醯胺、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚亞醯胺、聚 酯等等。亦可以使用具有感光特性之材料。在某些情形中， 可使用感光樹脂，其可用鹼等等被顯影，使得不需要的部份 被移除，而只留下凹與凸圖案需要的部份。欲改善熱及抗 溶劑及形狀保持，亦可使用一樹脂組成，其在形成凹與凸圖 案之後可藉著施加熱或光而固化。此外，如果加入耦合劑 .及附著施加劑，可以改善附著至基底。爲了改善附著性，附 著施加劑可施加至薄膜層83或基底之附著表面。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 可用鹼顯影之樹脂最好是具有20至3 00之酸値及 1，5〇〇至200,000之平均分子重量。最好的例子包括以苯 乙烯爲底質的單體之共聚物及馬來酸與其衍生物（下文中 稱爲SM聚合物或共聚物），不飽和的單體之共聚物，具有羧 基，例如丙烯酸、甲基丙烯酸等等，及苯乙烯單體、甲基丙 烯酸烷酯，例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸特丁酯、甲 基丙烯酸羧基乙酯等等，及丙烯酸烷酯，具有以上所述之類 似的烷基。 SM共聚物包括得自：共聚合苯乙烯或其衍生物（亦即 以苯乙烯爲底質的單體）例如苯乙烯、α -甲基苯乙烯、間 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） ' ~ -34- 1273968 A7 B7 五、發明説明（32 ) 或對-甲氧基苯乙烯、對-甲基苯乙烯、對-羧基苯乙烯、 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 3-羧基甲基-4_羧基苯乙烯等等，及馬來酸酐，馬來酸或馬來 酸衍生物，例如馬來酸單甲酯、馬來酸單乙酯、馬來酸單 正丙酸、馬來酸單異丙酯、馬來酸正丁酯、馬來酸單異丁 酯、馬來酸單特丁酯等等（這些共聚物在下文中稱爲共聚 物（I))。共聚物（I)包括得自帶有反應性雙鍵的化合物（共 聚物（II))之修改。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 可藉著在共聚物（I)中之酸酐基或羧基的反應，製備共 聚物（II),例如使用不飽和的醇，如烯丙基醇、糠基醇、油 基醇、肉桂基醇、丙烯酸2-羧基乙酯、甲基丙烯酸羧基 乙酯、N-羧甲基丙烯醯胺等等，或環氧化合物，分別具有氧 基矽烷及一反應雙鍵，例如丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯 酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油醚、丙烯酸α -乙基縮水 甘油酯、單衣康酸單烷基單縮水甘油酯等等。然而，以此 關係，主要是用於執行鹼顯影所需之羧基必須留在共聚物 中。從感光的觀點，最好是如上所述之具有反應雙鍵的SM 聚合物以外之帶有羧基的聚合物。可以依據在日本未審查 專利公告號 Sho 47-25470、Sho 48-85679 及 Sho 51-21572 等等中所提出之方法，製備這些共聚物。形成薄膜層83,其 厚度大於下層81中峰對谷高度，可以確保容易再生凹與凸 圖案。如果厚度與高度類似，凹與凸圖案被變形。此外，如 以下所述，凹與凸圖案之變形會出現一問題。 薄膜層之塗覆方法與下層8 1之塗覆方法類似，且包括: 藉由滾輪塗覆器之塗覆、藉由旋轉塗覆器之塗覆、噴射塗 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） " ' 一 1273968 A7 B7 五、發明説明（33) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 覆、鞭打塗覆、藉由浸漬塗覆器之塗覆、藉由簾狀流動塗 覆器之塗覆、藉由線桿塗覆器之塗覆、藉由凹印塗覆器之 塗覆、藉由氣刀塗覆器之塗覆等等。 轉移疊片7 9之覆蓋膜最好是化學及熱穩定，且從容從 薄膜層8 3剝落。特定及最好的例子包括聚乙烯、聚丙烯 、聚乙烯對苯二酸酯、聚乙烯醇等等之片，其具有光滑表 面。欲施加良好的剝落特性，在其表面上受到釋放處理之 這些片包括於本發明之範圍內。 接著，參見圖14A至14E，敘述做成擴散反射板之方法 〇 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖1 4A至1 4E分別爲側面圖，用於指出使用轉移疊片 製造擴散反射板之方法。圖1 4 A是一剖面圖，指出依據本 發明之轉移疊片的一個例子。圖1 4B指出一情形，薄膜層 83在覆蓋膜84與轉移疊片79分開之後，如圖14A所示，被 接合至基底85。換句話說，圖14B是一側面圖，指出轉移疊 片開始與液晶面板接觸之情形。如此圖形所示，薄膜層83 之曝光表面被固定靠著例如玻璃基底亦即液晶面板之應用 基底85。爲了令人滿意及均勻的推壓，最好使用以熱推壓 橡膠滾輪之熱推壓。然而，加熱並非總是需要的。圖14C 是一側面圖，指出圖14B中使用作爲薄膜層之感光樹脂的 情形。在感光樹脂被使用作爲薄膜層83之情形，最好照射 例如UV光之可光化光，如圖14C所示。藉著此照射，當令 人滿意地附著至玻璃基底，可以令人滿意地保持凹與凸形 狀，且允許下層8 1可容易從薄膜層83剝落。應注意在此 本紙張尺度適用中國國家標準（ CNS ) A4規格（210X297公釐） -36- 1273968 Α7 Β7 五、發明説明（34 ) 例子中，圖14C之步驟並不一定需要。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 圖14D是一側面圖，指出基膜及下層與圖14B之疊片 分開的情形。如圖形中所示，下層8 1與薄膜層8 3之分開（ 包括基膜8 2之移除）導致疊合凹與凸造形承載薄膜層8 3 於應用基底8 5上。 此外，圖1 4E是一側面圖，指出反射膜層被提供在應用 基底的情形。如圖形中所示，反射膜層8 7被形成在薄膜層 83上以做成一擴散反射板。 視反射所要的反射區域而定，適當地選擇反射膜層8 7 之材料的型式。例如，使用反射LCD顯示裝置，在3 OOnm 至8 OOnm之可見光區域內表現高反射係數之金屬，例如鋁 、金、銀等等，藉由真空沈積方法或濺射方法被形成作爲 一薄膜。反射增加膜（提出於Kougaku Gairon (Outlines of 0ptics)2,由 Jyunpei Tsujiuchi 撰寫且由 Asakura Shoten 於 1976公開）可依據上述方法被進一步疊合。反射膜層87 最好具有0.01 μηι至50 μηι之厚度。反射膜層87可藉由光 石印方法、掩罩真空沈積方法等等被形成於圖案中。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在反射膜層87形成於轉移疊片的薄膜層83與下層 8 1之間的情形，在移除覆蓋膜如果有的話之後，接著從反射 膜層87移除下層（包括基膜82之移除），轉移疊片79被疊 合，與應用基底85的凹與凸造形承載薄膜層83接觸，藉以 做成一擴散反射板（參見圖14Ε)。轉移疊片79可被施加 至應用基底85,其方向與上述相同。隨後，可光化光86例 如UV光可以如上所述之相同方式被照射。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐） 1273968 A7 B7 五、發明説明（35 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在疊合轉移疊片79於基底上以與薄膜層接觸之前，基 底可以化學溶劑沖洗，以移除附著物，黏著劑可被施加至基 底，或使用照射UV光等等至基底的方法。對於疊合轉移 疊片79於應用基底85上之裝置，最好使用滾輪疊合器，藉 此應用基底85被夾在加熱及推壓橡膠滾輪與基膜之間，旋 轉滾輪以饋送基底，同時保持轉移疊片靠著應用基底85。 以此方式形成在應用基底的表面上之薄膜層的厚度最 好是在0. Ιμηι至50μπι範圍內。在固定凹與凸造形承載下 層81之前，當薄膜層83具有厚度大於下層81中之凹與凸 造形的峰對谷値時，凹與凸圖案容易被產生。如果厚度與 此値相等，薄膜層83與下層之凸部份會破裂，以做成一平 坦部份，可以不容易以高效率得到擴散反射。 在負型感光樹脂使用於薄膜層83之情形，感光部份藉 由曝光裝置被曝光，如圖14C所示，以施加形狀保持。本發 明中可使用的曝光裝置包括：碳電弧燈、超高壓水銀蒸氣 燈、高壓水銀蒸氣燈、氙燈、金屬鹵化物燈、螢光燈、鎢 燈等等。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 曝光裝置可以是一平行對準器，用於形成例如圖素及 ΒΜ(黑矩陣）之圖案。雖然如此，可以使用任意裝置，只要先 前形成的凹與凸造形可被固化。爲此目的，應用光之量，大 於可固化感光樹脂之曝光。因此，使用UV照射系統，其通 常使用作爲基底淸潔裝置且利用直線的散射光。使用此型 式的系統，可以比使用光罩之技術更便宜地製造，且曝光之 誤差可大於使用光罩之情形。在基膜82的準備材料與8 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X 297公釐) — -38 - 1273968 A7 B7 五、發明説明（36) 分開之前或之後，可以執行曝光。爲了改善附著至基底及 以下的反應，在基膜上可形成一緩衝層。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在本發明之實施中，薄膜層83事先形成於應用基底 85上，且由下層81做成之凹與凸圖案承載膜被固定靠著薄 膜層83,薄膜層83與其形成方法可分別與前述類似。應 注意薄膜層83最好在固定凹與凸圖案之後被曝光。 當反射膜層87被疊合在凹與凸圖案承載膜80之凹與 凸表面上，以得到一擴散反射板。圖1 5指出依據此方法所 得到之擴散反射板的一個例子。 圖1 5是依據本發明之擴散反射板的一個例子之剖面 圖。圖形中，下層81是形成在基膜82上，其上疊合反射膜 層87。可以如上所述之相同方式，執行在凹與凸圖案承載 膜之凹與凸表面上形成反射膜層87之方法。 參見圖16,指出依據本發明使用擴散反射板之反射型 LCD裝置。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖16是依據本發明之反射型LCD裝置的一個例子之 側面圖。圖形中，薄膜層83與反射膜層87分別連續地疊 合在由玻璃基底做成的應用基底8 5上之凹部份以形成擴 散反射板。一平面化或平坦膜88被塡充在擴散反射板之 凹部份以形成一平坦表面。透明電極1 00分別形成在平坦 化膜88上，其上形成對準膜89。以此方式，構成一液晶保 持基底。另一方面，黑矩陣94及濾色器95形成在玻璃基 底96之表面上，玻璃基底96與應用基底85成面對面關係， 且在進一步形成平面化膜93之後，透明電極92及對準膜 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -39- 1273968 A7 B7 五、發明説明（37 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 91被連續地疊合。玻璃基底96具有一相位差異膜97及 形成在另一側之偏光板98。以此方式，形成另一液晶保持 基底。兩個液晶保持基底被擺設成使得對準膜9 1及對準 膜88相面向，且液晶90容納於沿著間隔物99、99’建立之 空間中。 雖然以上已敘述反射型LCD顯示裝置，例如本發明之 擴散反射板可被使用於需要外部光之擴散反射的這些裝置 。例如，爲了改善太陽能電池之效率，提供一擴散反射板。 由下層81及基膜82做成的凹與凸圖案膜80可使用 於製造遮光板、裝飾板、無光澤玻璃、用於投影銀幕之白 板、濾光器、聚光板、消弧板等等。於是，本發明之凹與 凸圖案膜8 0可被轉移至任何玻璃板、合成樹脂板、合成 .樹脂膜、金屬板及金屬箔。欲被轉移之基底表面可以不僅 是平坦的，亦可以是彎曲的。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 應注意下層8 1可被疊合在本發明之轉移疊片中的應 用基底85。爲此目的，下層81及基膜82被如此擺設，使得 它們必須在其間被剝落。爲什麼下層8 1被疊合在應用基 底85上之許多理由包括：使下層81作用爲在反射膜層87 被使用爲電極之情形中的電絕緣層；使下層8 1作爲反射膜 層87之凹與凸造形的平坦化層；使下層81作爲反射膜層 87之抗蝕刻，其中感光樹脂被使用作爲下層81;及使下層 S1作爲反射膜層87之部份遮光層，其中下層爲彩色。 以下敘述更特定的例子。 各具有0.6 μπι之深度的微透鏡造形在15mm平方的區 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -40 - 1273968 Α7 Β7 五、發明説明（38) 域內被形成在45mm平方及20mm厚之不 基底的中心，藉 由依據本發明之切割系統的鑽石鑽頭，以做成轉移主圖案 接著，1 ΟΟμιη厚的聚乙烯對苯二酸酯被提供作爲基膜， 且具有以下公式之可光固化樹脂溶液藉由一塗覆機器被塗 覆至基膜，以2 〇 μπι之乾厚度且被乾燥化。隨後，轉移主圖 案被固定靠著塗覆膜，接著照射U V光以固化可光固化樹 脂，且從轉移主圖案剝落，藉以得到一凹與凸圖案承載膜，其 中凹與凸形狀或造形被形成在光固化的樹脂（下層）之表面 中〇 可光固化樹脂溶液（下層）之公式： 丙烯酸/丙烯酸丁酯/乙酸乙烯酯共聚物重量5部份 重量8部份 重量2部份 重量0.3部份 重量〇 . 2部份 2.5重量％ 乙酸丁酯（單體） 乙酸乙烯酯（單體） 丙烯酸（單體） 丙烯酸己二醇酯（單體） 安息香異丁基醚（起始劑 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著，用於形成具有以下公式之薄膜層的溶液藉由塗 覆機器被施加至可光固化樹脂層（下層），具有形成於其中 凹與凸造形，以8 μπι的平均厚度被乾燥化，接著藉著塗覆聚 丙烯膜作爲覆蓋膜以得到一轉移膜。 用於形成薄膜層之溶液的公式： 對於聚合物，使用苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -41 - 1273968 Α7 Β7 五、發明説明（39 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 乙酯、丙烯酸及甲基丙烯酸縮水甘油酯的共聚物樹脂（聚 合物A)。分子重量約爲3 5,000,且酸値爲110。以重量計 算部份（下文中出現是皆如此）。 聚合物A ...70部份 五赤蘚醇四丙烯酸酯（單體） ... 30部份

Irgacure 369(Ciba-Geigy AG之商品名稱）（起始劑）… 2.2部份 N，N-四乙基-4,4·-二胺基苯並酚（起始劑）·.. 2.2部份 丙二醇單甲基醇（溶劑） ... 492部份 對-甲氧基酚（聚合作用抑制劑） ... 〇.1部份 全氟烷基（表面活性試劑）... 〇.〇1部份 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 當剝落轉移膜之覆蓋膜時，轉移膜藉著使用疊合器在 9(TC之基底溫度，80°C之滾輪溫度，7kg/cm2之滾輪壓力，及 〇.5m/分之速率，被疊合在一玻璃基底上，其方式使得薄膜層 與玻璃基底接觸以得到一基底，在玻璃基底上具有薄膜層 、可光固化樹脂層（下層）及疊合的基膜。接著，可光固化 樹脂（下層）及基膜被剝落以得到薄膜層，形狀如同玻璃基 底上之轉移主圖案的凹與凸造形。這是在一爐中在23 0°C 受到熱固化3 〇分，接著真空沈積以疊合〇 . 2 μηι厚鋁薄膜， 於是形成一反射層。 現在敘述第二個例子。 凹與凸圖案膜之凹與凸表面藉由真空沈積被疊合 0.2 μιη厚鋁薄膜。關於在-40°至40°之入射角的範圍上 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ297公釐） 一 -42- 1273968 Α7 Β7 五、發明説明（40 ) 之反射強度，這是令人滿意的，於是得到具有良好反射特性 之擴散反射板。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 接著，指出第三個例子。 用於形成如同第一個例子之薄膜層的溶液被施加至一 玻璃基底，作爲永久基底，且以20001*.p.m.被旋轉塗覆15秒, 接著藉由一熱板在90 °C被加熱2分鐘以得到8μηι厚薄膜 層。接著，第一個例子之凹與凸圖案承載膜藉由使用疊合 器在90°C之基底溫度，80°C之滾輪溫度，7kg/cm2之滾輪壓 力，及0.5m/分之速率被疊合，接觸薄膜層，以得到一基底，在 玻璃基底上具有薄膜層、可光固化樹脂層（下層）及疊合的 基膜。藉由對準器以UV光照射，且可光固化樹脂（下層）及 基膜被剝落以得到薄膜層，具有與玻璃基底上之轉移主圖 案相同的凹與凸造形。接著，在一爐中於23 0°C執行熱固 化30分，接著以真空沈積方法疊合〇.2μπι厚鋁薄膜，以形 成一反射層。於是，得到一擴散反射板。關於在-4 0 °至4 0 °之入射角的範圍上之反射強度，這是令人滿意的，於是得 到具有良好反射特性之擴散反射板。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 如上所述，可依據切割系統形成本發明之微透鏡造形 的透鏡面，且根據設計之値的透鏡造形是有用的。此外，可 以產生非球形的透鏡面造形，於是所得到的微透鏡相對於 光設計的自由度變高。當使用一反射板，其中此造形是以 不等間距被擺設，所得到的反射板是良好的，具有根據設計 之値的反射特性。 當使用依據本發明之微透鏡造形承載轉移主圖案、凹 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210X297公釐） -43- A7 B7 1273968 五、發明説明（41 ) 與凸圖案及用於轉移之疊片，可以做成使用於反射型液晶 顯示裝置等等且具有良好的反射特性之擴散反射板。當事 先適當地形成凹與凸面時，可以任意地控制擴散反射板之 反射特性，且反射特性可以再生地得到。此外，對於基底，可 以容易且適當地給予具有給定功態之表面輪廓。 如上所述，依據本發明，根據設計之値之透鏡造形依據 切割系統是可用的，使得可以得到具有高度自由度的光學 設計之微透鏡。 此外，可以得到根據設計之値的良好反射特性之反射 板。凹與凸面之適當重置允許擴散反射板之反射特性可任 意地被控制，可再生地得到反射特性。對於一適當的基底， 可以容易給予具有給定的功能之表面輪廓。 在不偏離其精神或主要特徵下，能以其它特定的形式 來實施本發明。本實施例是用來說明而非限制，本發明之 範圍是由以下的申請專利範圍而非前面的敘述來界定，包 含申請專利範圍之等效物及範圍內的全部改變。 經 濟 部 智 慧 財 產 局 消 費 合 作 社 印 製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） I---------0—----——、妬------1^- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -44 -

Claims (1)

1. A8 B8 C8 D8 Ι2Τϊ9ύ^—-—— %年r月％日修(更)正本; 六、申請專利範圍 第9 1 1 1 6 1 7 1號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 (請先閲·#背面之注意事項再填寫本頁) 民國95年8月8日修正 1 · 一種凹凸零件，具有用於光會聚、光擴散或光繞 射的凹凸圖案，該凹凸零件包含·· 一凹凸圖案，藉由轉移一轉移主圖案的表面造形而 形成’該轉移主圖案係依據具有2 〇度或以下的邊緣角 度之切割工具的圓形切割軌跡而形成，該切割工具的圓 形切割軌跡係藉由將該切割工具的齒面擺設成相對於該 轉移主圖案的表面在9 0±3度或以下之角度範圍內，且 移動該轉移主圖案於水平方向上及相對於該轉移主圖案 的表面移動該切割工具於垂直方向上； 其中該凹凸圖案具有相對於該凹凸圖案的水平方向 成2 3度或以下的切線角度，且該凹凸圖案被擺設於小 於該凹凸圖案的長軸或短軸之長度的間距內。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 2 種藉由製造轉移主圖案形成模具之方法，該轉 移主圖案在凹凸零件的表面上形成一凹凸圖案，該方法 包含以下步驟·· 擺設具有2 0度或以下的邊緣角度之切割工具的齒 面，相對於該轉移主圖案的表面成9 0：t3度或以下之角 度範圍內； 移動該轉移主圖案於水平方向上，且移動該切割工 具於相對於該轉移主圖案的表面之垂直方向上；及 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210 X 297公釐） A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 形成該凹凸圖案於該轉移主圖案的表面上，依據該 切割工具的圓形切割軌跡，該切割工具擺設於小於該凹 軌 割 切 形 圓 的 具;Η 害 距 切 間該 勺到 S得 長驟 之步 軸動 ΙΕΙ 短移 或該 軸由 長藉 的中 案其 圖 凸 跡 凹 該 在 中 其 件 零 凸 凹。 之膜 旨(射 P反 第一 圍置 miy 範 利 專 請 串 如 上 面 表 凸 凹 的 案 圖 凸 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -2-