JP2003043477A - 拡散反射板、それを製造するのに用いられる転写原型、転写ベースフィルム、転写フィルム及び拡散反射板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 モアレ縞の視認されない表示素子用拡散反射
板を提供する。 【構成】 基板表面に微細な凹凸面の形成された拡散反
射板の多数の凹部または凸部を交差する２方向に並べて
連続形成し、所定の凹部または凸部と対角方向の凹部ま
たは凸部で結ばれる方向を、表示素子の隣接しあう画素
の規則的配置の方向に対し０度以上５度未満に配列し、
かつ、多数の凹部または凸部の対角方向の配列間隔と表
示素子の隣接しあう画素の配列間隔との関係が式（ａ）
に示される値になる拡散反射板。 ｎ＋０．３５ ≦ ２・Ｐ／Ｓ ≦ ｎ＋０．６５ ・
・・・・（ａ） Ｐ：表示素子の隣接し合う画素の配列間隔 Ｓ：凹部または凸部の対角方向の配列間隔 ｎ：任意の自然数

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、バックライトを必
要としない反射型液晶表示装置や高効率を必要とされる
太陽電池などに使用される反射型液晶ディスプレイ用拡
散反射板、表示素子用拡散反射板及びその製造に使用さ
れる転写原型に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ（以下ＬＣＤと略す）
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ
始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予
想されている。特に、外部から入射した光を反射させて
表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要である
ために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点
で携帯用端末機器用途として注目されている。

【０００３】従来から反射型ＬＣＤにはツイステッドネ
マティック方式並びにスーパーツイステッドネマティッ
ク方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光
子により入射光の１／２が表示に利用されないことにな
り表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を１枚に減
らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・
ホスト方式の表示モードが提案されている。

【０００４】反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用
して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度から
の入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光
の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上
の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御するこ
とが必要である。このため反射板に反射率の高い金属、
例えばアルミニウムや銀を使用したり、金属表面の反射
率を向上するために、増反射膜を金属に積層することが
試みられている。さらに、基板に感光性樹脂を塗布しフ
ォトマスクを用いてパターン化して凹凸を形成し、金属
薄膜を形成して反射板を形成するいわゆるフォトリソグ
ラフィー法による方法（特開平４−２４３２２６号公
報）が提案されている。このとき、凹凸の傾斜角度を所
定の角度以下に制御することで、正反射方向を中心とし
た所定の限定した角度範囲で、反射率の向上が試みられ
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】適切な反射特性は、液
晶セルの使用方法に立ち返り検討をすすめなければなら
ない。液晶セルは、外光からの反射によって、光源その
ものの像が液晶セル表面や表面に平行に存在する界面に
鏡の様に映るため、正反射方向で使用されることは無
く、正反射方向からずれた明るい角度で使用される。基
板表面に微細な凹凸面の形成された拡散反射板の多数の
凹部が不規則に配置される場合、反射特性には反射光量
の視野角依存性が生じ、正反射方向で最も明るい表示が
得られるはずであるが、前述の通り、液晶セルは正反射
方向で使用されることはなく、正反射方向をはずれた角
度で使用されるので、反射光量が低くなり、液晶セルの
表示品位が低いものとなる。一方、拡散反射板の多数の
凹部が規則的に配置されている場合、正反射方向の反射
光量が減る分、正反射方向をはずれた角度で反射光量が
増し、表示品位は向上するが、液晶セルの画素の配置の
規則性や、画素駆動用ストライプ状電極の配置の規則性
と拡散反射板の凹部の配置の規則性が重なり表示画面上
にモアレが生じる。このため、表示品位を下げることに
なる。したがって、表示品質の優れる明るい反射光量を
液晶セルに与える拡散反射板は、凹部の規則性を乱すこ
となく、モアレを視認させないことが要求される。本発
明は、上記課題に取り組み、表示品質の良好な拡散反射
板を与えるためになされたもので、モアレの視認されな
い規則的凹凸配置をなす表示品質の良好な拡散反射板及
びそれを製造するのに用いられる転写原型、転写ベース
フィルム、転写フィルム、拡散反射板の製造方法を提供
するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、［１］基板表
面に微細な凹凸面の形成された拡散反射板の多数の凹部
または凸部を交差する２方向に並べて連続形成し、所定
の凹部または凸部と対角方向の凹部または凸部で結ばれ
る方向を、表示素子の隣接しあう画素の規則的配置の方
向に対し０度以上５度未満に配列し、かつ、多数の凹部
または凸部の対角方向の配列間隔と表示素子の隣接しあ
う画素の配列間隔との関係が式（ａ）に示される値にな
る拡散反射板であり、 ｎ＋０．３５ ≦ ２・Ｐ／Ｓ ≦ ｎ＋０．６５ ・・・・・（ａ） Ｐ：表示素子の隣接し合う画素の配列間隔 Ｓ：凹部または凸部の対角方向の配列間隔 ｎ：任意の自然数 ［２］上記［１］に記載の拡散反射板の多数の凹部の表
面を粗面化することを特徴とする拡散反射板であり、
［３］基板表面に微細な凹凸面の形成された転写原型の
多数の凹部または凸部を交差する２方向に並べて連続形
成し、所定の凹部または凸部と対角方向の凹部または凸
部で結ばれる方向を、表示素子の隣接しあう画素の規則
的配置の方向に対し０度以上５度未満に配列し、かつ、
多数の凹部または凸部の対角方向の配列間隔と表示素子
の隣接しあう画素の配列間隔との関係が式（ａ）に示さ
れる値になる転写原型であり、 ｎ＋０．３５ ≦ ２・Ｐ／Ｓ ≦ ｎ＋０．６５ ・・・・・式（ａ） Ｐ：表示素子の隣接し合う画素の配列間隔Ｓ：凹部また
は凸部の対角方向の配列間隔ｎ：任意の自然数 ［４］上記［３］に記載の転写原型の多数の凹部または
凸部の表面を粗面化することを特徴とする転写原型であ
り、［５］上記［３］または上記［４］に記載の転写原
型を用い、その転写原型の表面形状を転写した拡散反射
板であり、［６］上記［３］または上記［４］に記載の
転写原型を用い、その転写原型の表面形状を転写し、転
写した転写原型の表面形状をさらに転写した拡散反射板
であり、［７］上記［３］または上記［４］に記載の転
写原型を用い、転写原型を被転写フィルムに押し当てる
ことにより形状が転写された転写ベースフィルムであ
り、［８］上記［７］に記載の転写ベースフィルムの転
写原型を転写した面に反射膜を設けた拡散反射板であ
り、［９］上記［７］に記載の転写ベースフィルムを仮
支持体として用い、仮支持体の転写原型を転写した面に
薄膜層を積層し、薄膜層の仮支持体に積層されていない
面が被転写基板への接着面を構成する転写フィルムであ
り、［１０］上記［９］に記載の転写フィルムにおい
て、仮支持体と薄膜層の間に反射膜が積層された転写フ
ィルムであり、［１１］上記［９］に記載の転写フィル
ムを基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前
記仮支持体を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面に
反射膜を形成する工程により拡散反射板を作製する拡散
反射板の製造方法であり、［１２］上記［７］に記載の
転写ベースフィルムを基板上に形成された薄膜層に、転
写された面が面するように押し当てる工程と、前記転写
ベースフィルムを剥がす工程と、表面に反射膜を形成す
る工程を含む拡散反射板の製造方法であり、［１３］上
記［１０］に記載の転写フィルムを基板に薄膜層が面す
るように押し当てる工程と、前記仮支持体を剥がす工程
を含む拡散反射板の製造方法であり、［１４］上記［１
１］ないし上記［１３］のいずれかに記載の拡散反射板
の製造方法により得られた拡散反射板であり、［１５］
上記［１］、［２］、［５］、［６］、［８］、［１
４］のいずれかに記載の拡散反射板を用いた反射型液晶
ディスプレイである。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の拡散反射板により得られ
る表示素子は、広い角度範囲で反射光量が高く得られ、
視認されるモアレがない。したがって、反射型液晶ディ
スプレイ（図５参照）等に使用される拡散反射板に本願
の拡散反射板を用いることで、光源が液晶セル表面や表
面に平行に存在する界面に鏡の様に映る正反射の方向を
避けても明るい表示が得られ、モアレの視認されないＬ
ＣＤの使用が可能となるため、ＬＣＤの表示品位を高く
できる。

【０００８】本発明の拡散反射板は、多数の凹部または
凸部が規則的に形成されており、凹部または凸部の配置
の規則性は、表示素子の隣接しあう画素の規則的配置の
方向や表示素子の隣接しあう画素の配列間隔に依存す
る。また、モアレが視認されるのは、反射光量が表示面
内で規則的に増減し、反射光量の増減の間隔が、視認で
きる間隔であるためと考えられるので、反射光量の増減
を小さくし、間隔を狭くし、視認不可能にするものであ
る。したがって、表示素子の画素がカラーフィルター等
で着色されている場合は、各所定の色毎に着色されたと
びとびに配置された画素の繰り返し配置間隔規則性と隣
接し合う画素の配置間隔規則性のいずれも式（ａ）を満
たす配置であることが好ましい。

【０００９】本発明の反射型液晶ディスプレイ等に用い
る拡散反射板は、例えば転写法により、容易に大量に生
産される。拡散反射板は、基板表面に微細な凹凸面の形
成された転写原型の表面形状を転写することにより、ま
た、さらに、その転写原型の表面形状を転写し、転写し
た転写原型の表面形状をさらに転写することにより作製
することができる。転写原型の微細な凹凸面を転写する
と、その凹凸形状の反転された凹凸形状が転写され、こ
れをさらに転写すると転写原型と同じ表面形状を転写す
ることができる。また、転写原型を被転写フィルムに押
し当てることにより形状が転写された転写ベースフィル
ムとすることができる。この転写ベースフィルムの転写
原型を転写した面に反射膜を設けて拡散反射板とするこ
とができる。さらに、この転写ベースフィルムを仮支持
体として用い、仮支持体の転写原型を転写した面に薄膜
層を積層し、薄膜層の仮支持体に積層されていない面が
被転写基板への接着面を構成する転写フィルムとするこ
とができる。この場合、仮支持体と薄膜層の間に反射膜
が積層された転写フィルムとすることもできる。転写ベ
ースフィルムに反射膜を積層した後、薄膜層を積層して
得ることができる。そして、この転写フィルムを基板に
薄膜層が面するように押し当てる工程と、前記仮支持体
を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面に反射膜を形
成する工程により拡散反射板を作製することができる。
さらに、仮支持体と薄膜層の間に反射膜が積層された転
写フィルムを基板に薄膜層が面するように押し当てる工
程と、前記仮支持体を剥がす工程により拡散反射板を作
製することができる。また、本発明の拡散反射板は、転
写原型を被転写フィルムに押し当てることにより形状が
転写された転写ベースフィルムを基板上に形成された薄
膜層に、転写された面が面するように押し当てる工程
と、前記転写ベースフィルムを剥がす工程と、表面に反
射膜を形成する工程を含むことにより製造することがで
きる。

【００１０】微細な凹凸は、例えば彫刻子の上下運動と
被彫刻材表面の水平運動により穴を形成する機械的加工
等によって形成される。その例として以下の工程により
形成されるが、これに限定されるものではなく、レーザ
ーカッティング、フォトリソ法や斜方エッチング等を施
してもよく、それらを組み合わせて用いることもでき
る。ｘｙｚ空間上ｘｙ面内に基材表面または転写原型表
面または転写原型の転写原型表面を配置し、ｘ方向に等
速運動させながら、彫刻子をｚ方向に周期的に上下運動
させ基材表面または転写原型表面または転写原型の転写
原型表面に直線上に並ぶ彫刻穴を連続形成する。ｘ方向
に等速運動する基材表面または転写原型表面または転写
原型の転写原型表面を端部まで彫刻し終えたら、次に先
の彫刻始点に彫刻子を戻し、彫刻始点をｙ方向に所定の
距離移動し、上下運動の開始位置を半位相ずらした後、
再度ｘ方向に基材表面または転写原型表面または転写原
型の転写原型表面を等速運動させ、上下運動をして彫刻
を施す。この作業を繰り返し、基材表面または転写原型
表面または転写原型の転写原型表面全面に、彫刻穴であ
る凹部を形成する。このとき、基材表面または転写原型
表面または転写原型の転写原型表面がロール状である場
合、ｘ方向に等速運動の他に、一定角速度で回転運動し
ていてもよく、さらに好ましくは、１周分の彫刻を終え
たときに、回転軸方向に所定の距離移動しているように
所定速度で運動させかつ彫刻子の上下運動が１周で半位
相ずれるように螺旋状に彫刻すると連続してロール全面
に彫刻穴である凹部が形成される。また、彫刻子の上下
運動は、等速運動である必要はなく、時間軸を横軸に変
位量を縦軸にしたとき正弦波運動、三角波運動、２次曲
線運動等でもよい。上記各運動、水平運動、回転運動、
上下運動は、彫刻子と被彫刻材表面との相対運動であれ
ばよく、上記は一例である。凹部または凸部の並ぶ２方
向のなす角度は、ｚ方向の上下運動の周期とｙ方向の移
動距離とｘ方向の運動速度により定まる。ロール状であ
る場合、ｚ方向の上下運動の周期とロールの回転周期と
回転軸方向の運動速度により定まる。例えば、ロールに
凹部を形成した場合、隣接する凹部の並ぶ２方向のなす
角α（図８参照）は、以下の式（ｂ）で求まる。 Ｒ：ロール半径 Ｔｚ：彫刻子の上下運動周期 Ｔｘ：ロールの回転周期 Ｖｙ：回転軸方向の運動速度 ｔａｎ（α／２）＝（Ｖｙ・Ｔｘ・Ｔｘ）／（π・Ｒ・Ｔｚ）・・・式（ｂ） αを８０度未満にすると、反射特性に指向性が生じるの
で、好ましくはαを８０度以上９０度以下にする。基材
表面または転写原型表面または転写原型の転写原型表面
の彫刻子加工の後、凹部により形成された面を、サンド
ブラスト、めっき、ビーズ含有の膜積層等によりさらに
微細な凹凸を形成して粗面化する。また、基材表面また
は転写原型表面または転写原型の転写原型表面の彫刻子
加工の後、レベリングを施し、粗面化し凹部または凸部
としてもよい。レベリングの工程として、例えば、レベ
リングメッキ、リフロー、ソフトエッチング、レベリン
グ膜積層等がある。粗化メッキ後に再度光沢メッキを行
って凹部または凸部形状を最適化することもできる。

【００１１】本発明の転写原型または、転写原型の転写
原型の材質は金属、樹脂等、限定されないが、好ましく
は寸法安定性、導電性に優れるステンレス等の鉄合金、
さらに加工裕度のある銅が積層されたものを用いる。表
面は機械研磨、エッチング、洗浄する等して均一にして
用いる。板状、シート状、ロール状等限定されないが、
ロール状であると回転しながら加工が可能となるのでよ
り好ましい。本発明の転写原型または、転写原型の転写
原型の製造方法の一例は、まず、ロール状基材を回転さ
せながら、ダイヤモンド彫刻子を移動させる、またはロ
ールを移動させながら、彫刻子を押圧することにより、
穴形状が並んだ凹凸部を形成する。穴と穴の間は密接し
てもよく任意の距離をあけてもよい。また複数の形状の
異なる彫刻子を押圧したり、同じ彫刻子を位置を変えて
押圧することもできる。ダイヤモンド彫刻子の形状を選
択することで反射特性を最適化することができる。ま
た、さらに表面の硬度を上げたり、酸化を防止する目的
で保護メッキを行ってもよい。保護メッキとしてクロ
ム、ニッケル、亜鉛等のメッキを行うのが好ましい。光
を拡散し得る凹凸形状面が形成された転写原型または、
転写原型の転写原型は、シート状、平板またはロール状
または曲面の一部等の基材の表面に全面または必要な部
分に光を拡散し得る凹凸形状面が形成されたものを用い
ることができ、加圧装置に貼り付けたり、凹凸を形成す
る面と加圧装置との間に挟み込んで用いてもよい。押し
当てる工程で熱、光等を与えてもよい。

【００１２】所定の凹部または凸部と対角方向の凹部ま
たは凸部で結ばれる方向を、表示素子の隣接しあう画素
の規則的配置の方向に対し０度以上５度未満に配列する
には、例えば以下の方法による。表示素子は、一般に四
角形の表示面形状をしており、基材も同様に四角形の平
板形状をしている。また、１枚の基材からは、単一また
は複数の表示素子が作製される。基材を効率よく使用し
無駄をなくす必要から、表示素子の各辺は、基材の各辺
に平行になるように配置され製造される。したがって一
般に、表示素子の画素の規則的配置の方向は、基材の各
辺と平行になる。この場合、基材の各辺に対し所定の凹
部と対角方向の凹部で結ばれる方向を、０度以上５度未
満に配列することで、所定の凹部と対角方向の凹部で結
ばれる方向を、表示素子の隣接しあう画素の規則的配置
の方向に対し０度以上５度未満に配列することができ
る。基材の各辺に対し所定の凹部または凸部と対角方向
の凹部または凸部で結ばれる方向を、０度以上５度未満
に配列する一例は、微細な凹凸を形成する際にｘｙｚ空
間上ｘｙ面内に四角形の基材表面または転写原型表面ま
たは転写原型の転写原型表面をセットする際の辺の向き
を、ｘ方向あるいはｙ方向にたいし、０度以上５度未満
にｘｙ面内で傾けセットし、この上で、微細な凹凸を例
えば彫刻子のｚ方向の上下運動と被彫刻材表面のｘ方向
の水平運動により穴を形成する機械的加工等によって形
成すればよい。あるいは、転写原型表面または転写原型
の転写原型表面から、基材表面または転写原型表面に凹
形状を転写する際に、基材の各辺に対し転写された結果
の所定の凹部と対角方向の凹部で結ばれる方向を、０度
以上５度未満に配列するよう傾けて転写すればよい。あ
るいは、微細な凹凸を形成した基材の表示素子用への面
取り方向と、所定の凹部と対角方向の凹部で結ばれる方
向を、０度以上５度未満に配列する方向になるように、
基材あるいは拡散反射板の裁断をすればよい。所定の凹
部または凸部と対角方向の凹部または凸部で結ばれる方
向と表示素子の隣接しあう画素の規則的配置の方向のな
す角βを５度以上にすると拡散反射板の多数の凹部また
は凸部の配置関係の別の規則性により別のモアレが生じ
る。表示素子の隣接しあう画素の規則的配置の方向でな
す角βに、所定の凹部または凸部と対角方向の凹部また
は凸部で結ばれる方向を用いるのは、所定の凹部または
凸部と対角方向の凹部または凸部の間に半周期ずれた凹
部または凸部が存在するため、凹部または凸部の配列間
隔が、あたかも半分になったように視認されるからであ
る。これにより、凹部または凸部が小さくなることで生
じる虹色に観察される光干渉を必要以上に強くすること
なく、後述するモアレの対策に要する式（ａ）のｎの値
を大きくできる。

【００１３】光を拡散し得る凹凸形状面が形成された転
写原型または、転写原型の転写原型の凹凸の程度は、通
常、薄膜層を硬化することで変形することを考慮し設計
する必要がある。薄膜層の硬化後の形状として、凹部と
凸部の高さの差が０．１μｍ〜１５μｍ、さらには、
０．１μｍ〜５μｍ、凹部のピッチが０．７μｍ以上１
５０μｍあるいは画素ピッチのいずれか小さい方以下、
さらには２μｍ以上１５０μｍあるいは画素ピッチのい
ずれか小さい方以下の範囲で式（ａ）を満たせばよい。
式（ａ）のｎの値は、大きい方がモアレを淡くし、より
視認しにくくできる効果があるので好ましい。式（ａ）
を満足しない場合、モアレの間隔が大きくなり、視認さ
れる。図６に本発明の拡散反射板の反射特性の測定装置
を示す。反射光線２１と入射光線２２のなす角度をθと
すると、必要とされるθの範囲で拡散反射板の法線方向
で観測される輝度すなわち反射強度を大きくすれば反射
特性に優れる拡散反射板が得られる。また、凹凸の面形
状は特に限定されないが、複合平面だけでなく凹曲面あ
るいは凸曲面、凹凸複合の曲面、さらには球面や放物面
に近似した凹曲面あるいは凸曲面、凹凸複合の曲面であ
ることが好ましい。なぜなら、曲面とすることで、より
広範囲の光源位置からの拡散反射光を期待できるからで
ある。

【００１４】本発明の転写ベースフィルムは、下塗り層
が設けられたベースフィルムであってもよい。ベースフ
ィルムとしては、化学的、熱的に安定であり、シートま
たは板状に成形できるものを用いることができる。具体
的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフ
ィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハ
ロゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセル
ロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエ
ステル、あるいはアルミニウム、銅等の金属類等であ
る。これらの中で特に好ましいのは寸法安定性に優れた
２軸延伸ポリエチレンテレフタレートである。

【００１５】薄膜層としては支持体上に塗布しフィルム
状に巻き取ることが可能な樹脂組成物を用いる。またこ
の中に必要に応じて、染料、有機顔料、無機顔料、粉体
及びその複合物を単独または混合して用いてもよい。薄
膜層には光硬化性樹脂組成物を用いることができる。薄
膜層の軟化温度は特に制限されないが、２００℃以下で
あることが望ましい。また加熱による流動性を得るため
に分子量１００００以下の低融点物質を添加することが
できる。

【００１６】そのようなものの中で、基板に対する密着
性が良好で、ベースフィルムからの剥離性がよいものを
用いるのが好ましい。たとえば光硬化性樹脂組成物に含
まれる有機重合体としては、アクリル樹脂、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、
セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等
のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリエステル等を用いることができる。
ＴＦＴ液晶表示装置に用いる場合は基板に形成されたＴ
ＦＴとのコンタクトホールを形成するためにその部分の
薄膜層を除けるように、アルカリ等で現像可能な感光性
樹脂を用いることもできる。また耐熱性、耐溶剤性、形
状安定性を向上させるために、熱によって硬化可能な樹
脂組成物を用いることもできる。さらに、カップリング
剤、接着性付与剤を添加することで基板との密着を向上
させることもできる。接着を向上させる目的で基板また
は薄膜層の接着面に接着性付与剤を塗布することもでき
る。

【００１７】薄膜層の加熱による流動性を得るために分
子量１００００以下の低融点物質を添加する。例えば
「プラスチックス配合剤」（遠藤 昭定、須藤 眞編、
大成社発行、平成８年１１月３０日発行）記載の可塑剤
や、エチレン性二重結合を分子内に少なくとも１つ以上
有するモノマーを添加する。本成分の使用量は、感光性
組成物中の固形分総量の１〜７０重量％とすることが好
ましい。

【００１８】例えば、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジア
クリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、フルフリ
ルアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリ
レート、レゾルシノールジアクリレート、ｐ，ｐ’−ジ
ヒドロキシジフェニルジアクリレート、スピログリコー
ルジアクリレート、シクロヘキサンジメチロールジアク
リレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、エチレングリコール化ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、及び上記のアクリレートに対
応するメタクリレート化合物、メチレンビスアクリルア
ミド、ウレタン系ジアクリレート等の多官能モノマーが
挙げられる。また、ＥＣＨ変性フタル酸ジアクリレー
ト、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、
トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、ト
リス（２-ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート、トリブロモフェ
ニルアクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェノールアク
リレート，ＥＯ変性テトラブロモビスフェノールジメタ
クリレートなどの２５℃で固体または粘度が１００Ｐａ
・ｓ（１０万ｃｓｐ）以上であるモノマー及びオリゴマ
ーを用いてもよい。さらに「感光材料リストブック」
（フォトポリマー懇話会編、ぶんしん出版発行、１９９
６年３月３１日発行）記載のものから選ばれるのが好ま
しい。

【００１９】また、メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメ
タクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ア
ルキルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、モノ（２−メタクリロイルオキシエチ
ル）アシッドホスフェート、ジメチルアミノエチルメタ
クリレート四級化物等の単官能モノマーが挙げられる。
これらの成分は単独または２種以上を混合して用いるこ
ともできる。

【００２０】光硬化性樹脂組成物の光開始剤としては、
例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−
４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−
４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベ
ンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフ
ェノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メ
チル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モル
ホリノ−１−プロパン、ｔ−ブチルアントラキノン、１
−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキ
ノン、３−クロル−２−メチルアントラキノン、２−エ
チルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０
−フェナントラキノン、１，２−ベンゾアントラキノン
ラチ−１，４−ジメチルアントラキノン、２−フェニル
アントラキノン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール二量体等が挙げられる。これ
らの光開始剤は単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用される。本成分の使用量は、感光性組成物中の固形分
総量の０．０１〜２５重量％とすることが好ましく、１
〜２０重量％であることがより好ましい。

【００２１】下塗り層としては、凹凸形成後は薄膜層よ
りも硬いものが好ましい。例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニ
ル、エチレンとアクリル酸エステル、エチレンとビニル
アルコールのようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルと
ビニルアルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルの
ようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニル
トルエンと（メタ）アクリル酸エステルのようなビニル
トルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、
（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニルのような（メ
タ）アクリル酸エステルの共重合体、合成ゴム、セルロ
ース誘導体等から選ばれた、少なくとも１種類以上の有
機高分子を用いることができる。凹凸形成後硬化させる
ために必要に応じて光開始剤やエチレン性二重結合を有
するモノマー等を添加することができる。ネガ型、ポジ
型の感光タイプであっても問題はない。

【００２２】薄膜層や下塗り層の塗布方法としては、ロ
ールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレー塗布、デ
ィップコータ塗布、カーテンフローコータ塗布、ワイヤ
バーコータ塗布、グラビアコータ塗布、エアナイフコー
タ塗布等がある。仮支持体上等に上記の方法で薄膜層ま
たは下塗り層組成物を塗布する。

【００２３】反射膜としては、反射したい波長領域によ
って材料を適切に選択すれば良く、例えば反射型ＬＣＤ
表示装置では、可視光波長領域である３００ｎｍから８
００ｎｍにおいて反射率の高い金属、例えばアルミニウ
ムや金、銀等を真空蒸着法またはスパッタリング法等に
よって形成する。また反射増加膜（光学概論２、辻内順
平、朝倉書店、１９７６年発行）を上記の方法で積層し
てもよい。反射膜の厚みは、０．０１〜５０μｍが好ま
しい。また反射膜は、必要な部分だけフォトリソグラフ
ィー法、マスク蒸着法等によりパターン形成してもよ
い。

【００２４】薄膜層の基板に転写される面の保護フィル
ムであるカバーフィルムとしては、化学的および熱的に
安定で、薄膜層との剥離が容易であるものが望ましい。
具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリビニルアルコール等の薄いシー
ト状のもので表面の平滑性が高いものが好ましい。剥離
性を付与するために表面に離型処理をしたものも含まれ
る。

【００２５】図２に示したような転写原型をベースフィ
ルムと下塗り層からなる被転写フィルムに押し当てるこ
とにより形状が転写された転写ベースフィルムを仮支持
体として用い、仮支持体の転写原型を転写した面に薄膜
層を積層し（図２では薄膜層の保護のためカバーフィル
ムを積層している）、薄膜層の仮支持体に積層されてい
ない面が被転写基板への接着面を構成する転写フィルム
上の薄膜層を基板に転写する方法としては、図４に示し
たようにカバーフィルムを剥がし、ガラス基板上に加熱
圧着すること等が挙げられる。さらに密着性を必要とす
る場合には基板を必要な薬液等で洗浄したり、基板に接
着付与剤を塗布したり、基板に紫外線等を照射する等の
方法を用いてもよい。薄膜層を転写する装置としては基
板を加熱、加圧可能なゴムロールとベースフィルムとの
間に挟み、ロールを回転させて、薄膜層を基板に押し当
てながら基板を送りだすロールラミネータを用いること
が好ましい。このようにして基板表面に形成した薄膜層
の膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍの範囲が好ましい。こ
のとき凹凸形状の最大高低差より薄膜層の膜厚が厚い方
が凹凸形状を再現しやすい。膜厚が等しいあるいは薄い
と原型凸部で薄膜層を突き破ってしまい、不必要な平面
部が発生し反射効率の良好な拡散反射板を得にくくな
る。

【００２６】光を拡散し得る形状を保持するためには、
薄膜層を露光し、感光、硬化させる。露光機としては、
カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノ
ンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タング
ステンランプ等が挙げられる。露光は仮支持体を剥がす
前、または剥がした後に行う。露光後、温風加熱炉、ま
たは赤外線加熱炉、ホットプレート等で加熱を行う場合
がある。

【００２７】以上では反射型液晶ディスプレイで説明し
たが、本発明の拡散反射板は外部光線を拡散反射させる
ことが必要な表示デバイスに用いることが出来る。以下
実施例により本発明を具体的に説明する。

【００２８】

【実施例】（実施例１）図１に示したように、直径１３
０ｍｍの円筒形の鉄製基材を回転させながら、銅メッキ
を行って、鉄に銅が２００μｍ積層された原型基材を得
た。これを研磨して表面が鏡面となるように加工した。
次にこれを回転させながら先端角度が１６４度のダイヤ
モンド針で連続的に螺旋彫刻し、底面形状が対角長５
０．５μｍ×４５．７μｍの菱形で深さ３．２μｍの四
角錐擬似形を押し付けた形状が全面に隣接して並んだロ
ール型を得た。次にこれを回転させながら以下に示す銅
メッキ液に浸漬し、電流密度（メッキ面積１０平方セン
チメートルあたりの電流値）が８Ａ／平方デシメートル
となるように電流を調節し、光沢メッキを行った後、同
じメッキ液中で電流密度を２Ａ／平方デシメートルとな
るように電流を調整し、粗化メッキを行った後、メッキ
液を除去する目的で純水で洗浄した。次に銅の酸化を抑
えるために、以下に示すニッケルメッキ液に浸漬しなが
ら、電流密度２Ａ／平方デシメートルとなるように電流
を調整して光沢ニッケルメッキを行って転写原型を得
た。 （銅メッキ液）： 硫酸銅 ２１０ｇ／リットル 硫酸 ６０ｇ／リットル チオ尿素 ０.０１ｇ／リットル デキストリン ０.０１ｇ／リットル 塩酸 ０.０１ｇ／リットル 液温 ３０℃ （ニッケルメッキ液）： 硫酸ニッケル ２４０ｇ／リットル 塩化ニッケル ４５ｇ／リットル 硼酸 ３０ｇ／リットル 浴温 ５０℃

【００２９】ベースフィルムに厚さ１００μｍのポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用い、このベースフィ
ルム上に下塗り層として光硬化性樹脂溶液をコンマコー
ターで２０μｍの膜厚になるよう塗布乾燥した。次に前
記転写原型を押しあて紫外線を照射し光硬化性樹脂を硬
化し転写原型から分離し、凹凸形状が光硬化性樹脂層
（下塗り層）の表面に形成された転写ベースフィルムを
得た。 （光硬化性樹脂（下塗り層）溶液）： アクリル酸-ブチルアクリレート-ビニルアセテート共重合体 ５重量部 ブチルアセテート（モノマー） ８重量部 ビニルアセテート（モノマー） ２重量部 アクリル酸（モノマー） ０.３重量部 ヘキサンジオールアクリレート（モノマー） ０.２重量部 ベンゾインイソブチルエーテル（開始剤） ２.５重量％

【００３０】次に光硬化性樹脂層（下塗り層）上に下記
の薄膜層形成用溶液をコンマコーターで平均膜厚が８μ
ｍの膜厚になるよう塗布乾燥し、カバーフィルムとして
ポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルムを得た
（図２）。 次に、図４に示したように、この転写フィ
ルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層がガラス
基板に接する様にラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ
１５００、日立化成テクノプラント株式会社製商品名）
を用いて基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧
力０．６８６ＭＰａ（７ｋｇ／ｃｍ²）、速度０．５ｍ
／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層、光硬化性
樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムが積層された基板
を得た。次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフ
ィルムを剥離し、ガラス基板上に転写原型の凹凸形状と
同様な薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０
分間の熱硬化を行い、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜
を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成し
た。図１１には方位角（φ）を４５度とした場合の反射
強度（標準白色板に対する相対強度）の入射角度依存性
を示す。方位角φ＝４５度において標準白色板より高い
反射光量の得られるθの角度範囲が、−３０〜３０度の
拡散反射板を得た。 （薄膜層形成用溶液）：ポリマーとしてスチレン、メチ
ルメタクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、
グリシジルメタクリレート共重合樹脂を用いた（ポリマ
ーＡ）。分子量は約３５０００、酸価は１１０である。 ポリマーＡ ７０重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート（モノマー） ３０重量部 イルガキュアー369(チバスペシャルティーケミカルズ)(開始剤)２．２重量部 N，N−テトラエチル-４,４’-ジアミノベンゾフェノン(開始剤)２．２重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤） ４９２重量部 ｐ−メトキシフェノール（重合禁止剤） ０．１重量部 パーフルオロアルキルアルコキシレート（界面活性剤） ０．０１重量部

【００３１】次に、この拡散反射板に、屈折率１．５の
光硬化性樹脂を塗布し、図７のＰで示した横方向に８０
μｍピッチのＲＧＢ画素が順に繰り返し隣接し縦方向に
２４０μｍピッチ（図７中のＰｙ）の同色画素が隣接す
るブラックマトリクス付きカラーフィルターが形成され
ているガラス板を、拡散反射板の凹部の底面形状の菱形
の対角長が４５．７μｍ（図７中のＳ）の方向とＲＧＢ
画素が繰り返し並ぶの方向が０．２度交差する傾きに
（図７中のβ）積層した後、紫外線を照射し光硬化性樹
脂を光硬化し、模擬液晶セルを作製した。模擬液晶セル
を観察したところ、モアレが観察されないことを確認で
き、本発明の拡散反射板がＬＣＤの表示品質を明るく高
めながらもモアレを視認されなくすることが実証され
た。式（ａ）について計算してみると、横方向では、Ｐ
＝８０μｍ、Ｓ＝４５．７μｍであり、２・Ｐ／Ｓ＝２
・８０／４５．７＝３．５０１となり、任意の自然数を
ｎ＝３とすると３．３５＜ ２・Ｐ／Ｓ＝３．５０ ＜
３．６５の関係が成り立っている。また、縦方向では、
Ｐｙ＝２４０μｍ、Ｓｙ＝５０．５μｍであり、２・Ｐ
ｙ／Ｓｙ＝２・２４０／５０．５＝９．５０５となり、
任意の自然数をｎ＝９とすると９．３５＜ ２・Ｐｙ／
Ｓｙ＝９．５０ ＜９．６５の関係が成り立っている。

【００３２】（実施例２）実施例１で得られた転写ベー
スフィルムの凹凸面に真空蒸着法で、アルミニウム薄膜
を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成し
た。これにより方位角φ＝４５度において標準白色板よ
り高い反射光量の得られるθの角度範囲が、−３０度〜
３０度の拡散反射板を得た。さらに、拡散反射板に、屈
折率１．５の光硬化性樹脂を塗布し、横方向に８０μｍ
ピッチのＲＧＢ画素が順に繰り返し隣接し縦方向に２４
０μｍピッチの同色画素が隣接するブラックマトリクス
付きカラーフィルターが形成されているガラス板を、拡
散反射板の凹部の底面形状の菱形の対角長が４５．７μ
ｍの方向とＲＧＢ画素が繰り返し並ぶの方向が０．２度
交差する傾きに積層した後、紫外線を照射し光硬化性樹
脂を光硬化し、模擬液晶セルを作製した。模擬液晶セル
を観察したところ、モアレが観察されないことを確認で
き、本発明の拡散反射板がＬＣＤの表示品質を明るく高
めながらもモアレを視認されなくすることが実証され
た。実施例２においては、式（ａ）の関係は、実施例１
と同様である。実施例１は、転写原型と同じ凹凸形状で
あるが、実施例２は、転写原型の凹凸を反転させた形状
である。

【００３３】（実施例３）基板としてガラス基板を用
い、実施例１と同様の薄膜層形成用溶液を塗布し２００
０回転で１５秒間スピンコートし、ホットプレートで９
０℃、２分間加熱して８μｍの薄膜層を得た。次に実施
例１と同様にベースフィルムに厚さ１００μｍのポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用い、下塗り層として
光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで２０μｍの膜厚に
なるよう塗布乾燥して転写原型を押しあて紫外線を照射
し光硬化性樹脂を硬化し転写原型から分離して得られた
凹凸形状が光硬化性樹脂層（下塗り層）の表面に形成さ
れた転写ベースフィルムを作製した。この転写ベースフ
ィルムの凹凸面が薄膜層に面するようにラミネータ（ロ
ールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノプラン
ト株式会社製商品名）を用いて基板温度９０℃、ロール
温度８０℃、ロール圧力０．６８６ＭＰａ（７ｋｇ／ｃ
ｍ²）、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板
上に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィ
ルムが積層された基板を得た。これに露光装置で紫外線
を照射し次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）とベースフ
ィルムを剥離し、ガラス基板上に転写原型の凹凸形状と
同様な薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０
分間の熱硬化を行い、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜
を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成し
た。これにより方位角φ=４５度において標準白色板よ
り高い反射光量の得られるθの角度範囲が、−３０〜３
０度の拡散反射板を得た。さらに、拡散反射板に、屈折
率１．５の光硬化性樹脂を塗布し、横方向に８０μｍピ
ッチのＲＧＢ画素が順に繰り返し隣接し縦方向に２４０
μｍピッチの同色画素が隣接するブラックマトリクス付
きカラーフィルターが形成されているガラス板を、拡散
反射板の凹部の底面形状の菱形の対角長が４５．７μｍ
の方向とＲＧＢ画素が繰り返し並ぶの方向が０．２度交
差する傾きに積層した後、紫外線を照射し光硬化性樹脂
を光硬化し、模擬液晶セルを作製した。模擬液晶セルを
観察したところ、モアレが観察されないことを確認で
き、本発明の拡散反射板がＬＣＤの表示品質を明るく高
めながらもモアレを視認されなくすることが実証され
た。実施例３においては、式（ａ）の関係は、実施例１
と同様である。

【００３４】（比較例１）実施例１で得られた拡散反射
板に、屈折率１．５の光硬化性樹脂を塗布し、横方向に
９０μｍピッチのＲＧＢ画素が順に繰り返し隣接し縦方
向に２４０μｍピッチの同色画素が隣接するブラックマ
トリクス付きカラーフィルターが形成されているガラス
板を、拡散反射板の凹部の底面形状の菱形の対角長が４
５．７μｍの方向とＲＧＢ画素が繰り返し並ぶの方向が
０．２度交差する傾きに積層した後、紫外線を照射し光
硬化性樹脂を光硬化し、模擬液晶セルを作製した。模擬
液晶セルを観察したところ、１．４ｍｍのピッチのモア
レが観察された。式（ａ）について計算してみると、横
方向では、Ｐ＝９０μｍ、Ｓ＝４５．７μｍであり、２
・Ｐ／Ｓ＝２・９０／４５．７＝３．９３９となり、任
意の自然数をｎ＝３とすると ３．３５＜ ２・Ｐ／Ｓ
＝３．９３ ＜３．６５ であり式（ａ）の関係が成り
立たない。また、縦方向では、Ｐｙ＝２４０μｍ、Ｓｙ
＝５０．５μｍであり、２・Ｐｙ／Ｓｙ＝２・２４０／
５０．５＝９．５０５となり、任意の自然数をｎ＝９と
すると９．３５＜ ２・Ｐｙ／Ｓｙ＝９．５０ ＜９．
６５ であり式（ａ）の関係が成り立っている。比較例
１では、横方向に式（ａ）の関係が成り立たず、モアレ
が観察された。

【００３５】（比較例２）実施例１で得られた拡散反射
板に、屈折率１．５の光硬化性樹脂を塗布し、横方向に
８０μｍピッチのＲＧＢ画素が順に繰り返し隣接し縦方
向に２５０μｍピッチの同色画素が隣接するブラックマ
トリクス付きカラーフィルターが形成されているガラス
板を、拡散反射板の凹部の底面形状の菱形の対角長が４
５．７μｍの方向とＲＧＢ画素が繰り返し並ぶの方向が
０．２度交差する傾きに積層した後、紫外線を照射し光
硬化性樹脂を光硬化し、模擬液晶セルを作製した。模擬
液晶セルを観察したところ、２．４ｍｍのピッチのモア
レが観察された。式（ａ）について計算してみると、横
方向では、Ｐ＝８０μｍ、Ｓ＝４５．７μｍであり、２
・Ｐ／Ｓ＝２・８０／４５．７＝３．５０１となり、任
意の自然数をｎ＝３とすると ３．３５＜ ２・Ｐ／Ｓ
＝３．５０ ＜３．６５の関係が成り立っている。ま
た、縦方向では、Ｐｙ＝２５０μｍ、Ｓｙ＝５０．５μ
ｍであり、２・Ｐｙ／Ｓｙ＝２・２５０／５０．５＝
９．９０１ となり、任意の自然数をｎ＝９とすると
９．３５＜ ２・Ｐｙ／Ｓｙ＝９．９０ ＜９．６５
であり式（ａ）の関係が成り立たない。比較例２では、
縦方向に式（ａ）の関係が成り立たず、モアレが観察さ
れた。

【００３６】（比較例３）実施例１で得られた拡散反射
板に、屈折率１．５の光硬化性樹脂を塗布し、横方向に
８０μｍピッチのＲＧＢ画素が順に繰り返し隣接し縦方
向に２４０μｍピッチの同色画素が隣接するブラックマ
トリクス付きカラーフィルターが形成されているガラス
板を、拡散反射板の凹部の底面形状の菱形の対角長が４
５．７μｍの方向とＲＧＢ画素が繰り返し並ぶの方向が
７．０度交差する傾きに積層した後、紫外線を照射し光
硬化性樹脂を光硬化し、模擬液晶セルを作製した。模擬
液晶セルを観察したところ、２．５ｍｍのピッチのモア
レが観察された。比較例３では、式（ａ）の関係は、実
施例１と同様であり成り立つが、表示素子の隣接しあう
画素の規則的配置の方向に対し０度以上、５度未満に配
列してなく、７．０度で交差させているためモアレが観
察された。

【００３７】

【発明の効果】本発明の拡散反射板は、反射型液晶表示
装置等の表示品質向上を目的に、規則的凹凸面の形成さ
れたものであるが、モアレを視認しないよう新規な特徴
を形状にもたせた。その特徴は、多数の凹部または凸部
を交差する２方向に並べて連続形成し、かつ所定の凹部
または凸部と対角方向の凹部または凸部で結ばれる方向
を、表示素子の隣接しあう画素の規則的配置の方向に対
し０度以上、５度未満に配列した点にあり、この拡散反
射板により、表示品質を明るく高めながらもモアレを視
認されなくする表示を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の転写原型の製造工程の一例を示す断
面図。

【図２】 本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。

【図３】 本発明の拡散反射板の一例を示す断面図。

【図４】 本発明の拡散反射板の製造例を示す断面図。

【図５】 反射型ＬＣＤの一例を示す断面図。

【図６】 拡散反射板の反射特性の測定装置を示す斜視
図。

【図７】 本発明の拡散反射板の凹部または凸部の配列
間隔と表示素子の隣接し合う画素の配列間隔の関係を示
す図。

【図８】 本発明の拡散反射板の彫刻セル形状の１例を
示す斜視図。

【図９】 実施例の拡散反射板の反射光量の出射角依存
性を示す図。

【符号の説明】

１．ガラス基板 ２．薄膜層 ３．反射膜 ４．ベースフィルム ５．カバーフィルム ６．下塗り層 ９．表示素子の画素 １０．拡散反射板 １１．カラーフィルタ １２．ブラックマトリクス １３．透明電極 １４．平坦化膜 １５．配向膜 １６．液晶層 １７．スペーサ １８．位相差フィルム １９．偏光板 ２０．試料

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高根 信明 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 伴野 秀邦 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 木沢 桂子 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA12 BA20 DA02 DA04 DA05 DA08 DA11 DA17 DA21 DC02 DE04 2H091 FA14Z FA31Z FC12 FD23 LA17 LA18 LA21

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板表面に微細な凹凸面の形成された拡
   散反射板の多数の凹部または凸部を交差する２方向に並
   べて連続形成し、所定の凹部または凸部と対角方向の凹
   部または凸部で結ばれる方向を、表示素子の隣接しあう
   画素の規則的配置の方向に対し０度以上５度未満に配列
   し、かつ、多数の凹部または凸部の対角方向の配列間隔
   と表示素子の隣接しあう画素の配列間隔との関係が式
   （ａ）に示される値になる拡散反射板。 ｎ＋０．３５ ≦ ２・Ｐ／Ｓ ≦ ｎ＋０．６５ ・・・・・（ａ） Ｐ：表示素子の隣接し合う画素の配列間隔 Ｓ：凹部または凸部の対角方向の配列間隔 ｎ：任意の自然数
2. 【請求項２】 請求項１に記載の拡散反射板の多数の凹
   部または凸部の表面を粗面化することを特徴とする拡散
   反射板。
3. 【請求項３】 基板表面に微細な凹凸面の形成された転
   写原型の多数の凹部または凸部を交差する２方向に並べ
   て連続形成し、所定の凹部または凸部と対角方向の凹部
   または凸部で結ばれる方向を、表示素子の隣接しあう画
   素の規則的配置の方向に対し０度以上５度未満に配列
   し、かつ、多数の凹部または凸部の対角方向の配列間隔
   と表示素子の隣接しあう画素の配列間隔との関係が式
   （ａ）に示される値になる転写原型。 ｎ＋０．３５ ≦ ２・Ｐ／Ｓ ≦ ｎ＋０．６５ ・・・・・式（ａ） Ｐ：表示素子の隣接し合う画素の配列間隔 Ｓ：凹部または凸部の対角方向の配列間隔 ｎ：任意の自然数
4. 【請求項４】 請求項３に記載の転写原型の多数の凹部
   または凸部の表面を粗面化することを特徴とする転写原
   型。
5. 【請求項５】 請求項３または請求項４に記載の転写原
   型を用い、その転写原型の表面形状を転写した拡散反射
   板。
6. 【請求項６】 請求項３または請求項４に記載の転写原
   型を用い、その転写原型の表面形状を転写し、転写した
   転写原型の表面形状をさらに転写した拡散反射板。
7. 【請求項７】 請求項３または請求項４に記載の転写原
   型を用い、転写原型を被転写フィルムに押し当てること
   により形状が転写された転写ベースフィルム。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の転写ベースフィルムの
   転写原型を転写した面に反射膜を設けた拡散反射板。
9. 【請求項９】 請求項７に記載の転写ベースフィルムを
   仮支持体として用い、仮支持体の転写原型を転写した面
   に薄膜層を積層し、薄膜層の仮支持体に積層されていな
   い面が被転写基板への接着面を構成する転写フィルム。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載の転写フィルムにおい
    て、仮支持体と薄膜層の間に反射膜が積層された転写フ
    ィルム。
11. 【請求項１１】 請求項９に記載の転写フィルムを基板
    に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前記仮支持
    体を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面に反射膜を
    形成する工程により拡散反射板を作製する拡散反射板の
    製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項７に記載の転写ベースフィルム
    を基板上に形成された薄膜層に、転写された面が面する
    ように押し当てる工程と、前記転写ベースフィルムを剥
    がす工程と、表面に反射膜を形成する工程を含む拡散反
    射板の製造方法。
13. 【請求項１３】 請求項１０に記載の転写フィルムを基
    板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前記仮支
    持体を剥がす工程を含む拡散反射板の製造方法。
14. 【請求項１４】 請求項１１ないし請求項１３のいずれ
    かに記載の拡散反射板の製造方法により得られた拡散反
    射板。
15. 【請求項１５】 請求項１、２、５、６、８、１４のい
    ずれかに記載の拡散反射板を用いた反射型液晶ディスプ
    レイ。