JP2001310334A - 転写原型、凹凸型、これらの製造方法、転写用積層体及び拡散反射板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 良好な反射特性を有する拡散反射板の製造に
使用される転写原型及び凹凸型、転写用積層体並びに拡
散反射板を提供するものである。 【解決手段】 先端が球形状または曲面形状の圧子によ
り、成型用基材の表面に、球面または曲面の一部をなす
凹部を多数個連続して形成してなる転写原型、転写原型
の凹凸形状を反対にして被転写基材に転写してなる凹凸
型の凹凸面に薄膜層が積層されており、薄膜層の仮支持
体に接しているのと反対の表面が適用基板への接着面を
構成する転写用積層体。さらに、この転写用積層体を適
用基板に薄膜層の接着面が接するように押し当てる工
程、前記仮支持体を剥がす工程及び薄膜層の凹凸表面に
反射膜を形成する工程を含むことを特徴とする拡散反射
板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶表示装
置や高効率を必要とされる太陽電池の拡散反射板の製造
等に使用される転写原型及び凹凸型、これらの製造方
法、これらを用いた転写用積層体並びに拡散反射板に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ（以下ＬＣＤと略す）
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ
始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予
想されている。特に、外部から入射した光を反射させて
表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要である
ために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点
で携帯用端末機器用途として注目されている。

【０００３】従来から反射型ＬＣＤにはツイステッドネ
マティック方式並びにスーパーツイステッドネマティッ
ク方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光
子により入射光の１／２が表示に利用されないことにな
り表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を１枚に減
らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・
ホスト方式の表示モードが提案されている。

【０００４】反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用
して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度から
の入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光
の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上
の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御するこ
とが必要である。基板に感光性樹脂を塗布しフォトマス
クを用いてパターン化して数ミクロンの微細な凹凸を形
成し、金属薄膜を形成して拡散反射板を形成する方法
（特開平４−２４３２２６号公報）が提案されている。
また先端が球面状の圧子を押圧して凹部を連続して形成
した母型の製造方法およびそれを反射体基板に転写して
反射体を製造する方法が提案されている（特開平１１-
４２６４９号公報）。また拡散性を制御するために樹脂
に微粒子を分散させたものを基板に膜形成する方法が提
案されている（特開平７−１１０４７６号公報）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】特開平４−２４３２２
６号公報の方法では凹凸を形成するために、各基板ごと
にフォトマスクで露光し、現像する工程があるため、工
程が複雑であり、低コスト、高生産性とは言えなかっ
た。またフォトマスクを作製する工程で、大面積をラン
ダムにパターン形成することは困難である。また特開平
１１−４２６４９号公報の方法では微細な圧子を押圧し
て１つ数ミクロンの凹形状を一つ一つ形成するため大面
積に加工をすることが難しい。特開平１１−３８２１４
号公報ではストライプ状の溝に粒体を噴射してランダム
に凹部を作製する方法が提案されている。 特開平７−
１１０４７６号公報の方法では、微粒子を均一に分散す
ることが困難であることや、必要範囲の反射強度を得る
ためには同時に正反射角度の反射が高くなり、光源の映
り込みが発生するという問題が見られた。本発明は、良
好な反射特性を有する反射型ＬＣＤ用等の拡散反射板の
製造に使用される転写原型及び凹凸型、これらの製造方
法、これらを用いた転写用積層体並びに拡散反射板を提
供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、次のものに関
する。 １． 球面または曲面の一部をなす凹部が多数個連続し
て形成されてなる転写原型。 ２． 球面または曲面の一部をなす凹部が多数個連続し
て形成されてなる転写原型を複数個つなぎてなる転写原
型。 ３． 項２記載の転写原型を原型にして凹凸形状を反対
に転写された型を一体形成してなる凹凸型。 ４． 先端が球形状または曲面形状の圧子により、成型
用基材の表面に、球面または曲面の一部をなす凹部を多
数個連続して形成することを特徴とする転写原型の製造
方法。 ５． 項４に記載の方法により得られる転写原型。 ６． 項５に記載の転写原型を複数個つなげてなる転写
原型。 ７． 項１、項２、項５又は項６記載の転写原型を原型
として、その凹凸形状を反対にして被転写基材に転写す
ることを特徴とする凹凸型の製造方法。 ８． 被転写基材がプラスチックフィルム又は下塗り層
が積層されている基材である項７記載の凹凸型の製造方
法。 ９． 項７又は項８に記載の方法により得られる凹凸
型。 １０． 項３又は項９に記載の凹凸型を仮支持体として
用い、この仮支持体の凹凸面に薄膜層が積層されてお
り、薄膜層の仮支持体に接しているのと反対の表面が適
用基板への接着面を構成する転写用積層体。 １１． 薄膜層の接着面に保護フィルムを積層してなる
項１０記載の転写用積層体。 １２． 項１０に記載の転写用積層体又は項１１の転写
用積層体であって保護フィルムを剥離したものを適用基
板に薄膜層の接着面が接するように押し当てる工程、前
記仮支持体を剥がす工程及び薄膜層の凹凸表面に反射膜
を形成する工程を含むことを特徴とする拡散反射板の製
造方法。 １３． 項３又は項９記載の凹凸型を、永久基板上に形
成された薄膜層に、凹凸面が接するように押し当てる工
程と、前記凹凸型を剥がす工程と、薄膜層の凹凸面が転
写された表面に反射膜を形成する工程を含むことを特徴
とする拡散反射板の製造方法。 １４． 項３又は項９記載の凹凸型の凹凸面に反射膜を
積層してなる拡散反射板。

【０００７】本発明において、先端が球形状または曲面
形状の圧子により、原型用基材の表面に、球面または曲
面の一部をなす凹部が多数個連続して形成されるが、こ
の凹部は規則正しく配列されるよりもランダムに配列さ
れることが好ましい。

【０００８】転写原型の形状を被転写フィルム等の被転
写体に反転転写して凹凸フィルム等の凹凸型とし、これ
を仮支持体として凹凸面上に薄膜層を積層して転写用積
層体とし、ガラス基板等からなる適用基板（永久基板）
に薄膜層の仮支持体に積層されていない面を接するよう
に押し当てて仮支持体を剥がし薄膜層に反射膜を形成す
ると、拡散反射板を高い生産性で製造することができ、
大型の拡散反射板を効率よく生産できる。この転写原型
として、圧子により凹部が多数個連続して形成された原
型用基材（これも転写原型としてよい）を基に反転転写
型を作って、この反転転写原型を複数個つなげ、これを
原型として作製した反転転写原型を用いると、大型の拡
散反射板をより高い生産性で製造することができる。

【０００９】また、上記凹凸型を仮支持体として凹凸面
上に反射膜を形成し、この上に薄膜層を積層して転写用
積層体とし、前記永久基板に薄膜層の仮支持体に積層さ
れていない面を接するように押し当てて仮支持体を剥が
すことによっても拡散反射板を製造することができる。
さらに、永久基板に予め形成された薄膜層に前記凹凸型
の凹凸面が接するように押し当てて形状を転写し、つい
で、薄膜層に反射膜を形成することによっても、同様に
反射特性に優れる拡散反射板を製造することができる。

【００１０】転写原型の凹凸形状を調整することによっ
て正反射角度の反射を少なくできるために光源の映り込
みが少なく、必要範囲にわたって均一な反射強度を有す
る拡散反射板を容易に製造することができる。

【００１１】本発明における拡散反射板は、拡散反射特
性を有する凹凸形状の再現性が良好で、かつ単純な工程
で製造することができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】図面を用いて、本発明を説明す
る。図１は、本発明の転写原型の製造方法の一例を示し
概略図である。図２は、本発明の凹凸フィルムの一例を
示す断面図である。図３は、本発明の転写用積層体を使
用する拡散反射板の製造法の一例を示す断面概略図であ
る。図４は、本発明の凹凸型を使用した拡散反射板の一
例を示す断面図である。図５は、本発明の拡散反射板を
使用した反射型液晶表示装置（反射型ＬＣＤ）の一例を
示す断面図である。

【００１３】図１（ａ）において、原型用基材（例え
ば、ステンレス鋼）にダイヤモンド圧子を押し当てて、
転写原型（１）を作製する。原型用基材の材質は金属、
樹脂等であり、特に制限されないが、好ましくは寸法安
定性、導電性に優れるステンレス等の鉄合金、ニッケル
等を用いる。表面は機械研磨、洗浄するなどして平滑又
は均一にして用いる。形状は板状、シート状、ロール状
等特に制限はない。

【００１４】図１（ａ）では、板状基材を水平方向に移
動させながら、ダイヤモンド圧子を押圧させるか、また
は、板状基材を静止させて圧子を移動させながら、圧子
を押圧することにより、球面または曲面の一部を有する
凹部を多数形成する。圧子と圧子の間は一部重なっても
よいが圧子の中心位置の座標はできる限り規則性がなく
ランダムが望ましい。また複数の形状の異なる圧子を押
圧することもできる。ダイヤモンド圧子の形状を選択す
ることで反射特性を最適化することができる。押圧後の
形状は、球面または放物面の一部に隣接させた形状が好
ましい。そうすることによって、正反射方向への反射強
度を少なくすることができる。

【００１５】図１（ｂ）では、上記のようにして得られ
た転写原型（１）を基にして反転転写型を作製する。具
体的には、転写原型（１）にニッケルメッキを施して、
凹凸形状を逆にした反転転写型を積層し、メッキ終了
後、反転転写型を転写原型（１）から分離する。転写原
型（１）から同様にして多数の反転転写型をとる。

【００１６】図１（ｃ）には、多数の反転転写型を用い
て作製した転写原型（２）が示される。前記の反転転写
型を並べてつなぎ合わせることにより容易に大型の転写
原型（２）を作製することができる。具体的には、基材
の上に接着剤を塗布し、作製された接着層の上に前記の
反転転写型を並べて接着し、反転転写型同士の隙間を銀
ペースト等の導電性材料で埋める。図１（ｃ）では減ペ
ーストの領域を誇張して示しているが、隙間は、十分の
数ミリメートル以下のはわずかな隙間がよい。なお、並
べてつなぎ合わせる方法としては、精度よく研磨された
金属板に並べて接着する等精度よくつなぎ合わせる方法
であれば特に制限はない。

【００１７】図１（ｄ）では、上記のようにして得られ
た転写原型（２）を基にして反転転写型である転写原型
（３）を作製する。具体的には、転写原型（２）にニッ
ケルメッキを施して、凹凸形状を逆にした反転転写型を
積層し、メッキ終了後、反転転写型を転写原型（２）か
ら分離する。ついで、前記したのと同様のニッケルメッ
キにより大型の転写原型（３）が得られる。

【００１８】図１（ｂ）及び（ｄ）において、転写の方
法としては、電鋳法を示したが、射出成形、注型等形状
を再現よく転写できるものであればとくに制限はない。

【００１９】凹凸型は、転写原型（１）又は転写原型
（３）を変形可能な被転写基材に押し当てることによっ
て製造することができる。被転写基材としては、それ自
身変形可能なプラスチックフィルム、ベースフィルムに
変形可能な下塗り層を設けたもの（下塗り層は、変形後
必要により硬化させる）などがある。上記の押し当てる
工程で熱、光等を与えることもできる。凹凸型として
は、フィルム形状の凹凸フィルムが好ましい。図２は、
このようにして作製された凹凸フィルムの一部断面図を
示す。ベースフィルム４の上に、凹凸形状が転写された
下塗り層６が積層されている。

【００２０】本発明で使用するプラスチックフィルムは
変形可能ではあるが化学的、熱的に安定なものが好まし
く、ベースフィルムとしては、化学的、熱的に安定なも
のが好ましい。プラスチックフィルム又はベースフィル
ムの材質の具体的としては、ポリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロースアセ
テート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘
導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、
ポリイミド、ポリエステル、あるいはアルミ、銅等の金
属類等である。これらの中で特に好ましいのは寸法安定
性に優れた２軸延伸ポリエチレンテレフタレートであ
る。

【００２１】本発明における下塗り層としては、凹凸形
成後は薄膜層よりも硬いものが好ましい。例えば、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エス
テル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体の
ようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール
共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレ
ン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体のようなスチ
レン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエン−
（メタ）アクリル酸エステル共重合体のようなビニルト
ルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、
（メタ）アクリル酸ブチル−酢酸ビニル共重合体のよう
な（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、セルロース
アセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロー
ス誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリエステル、合成ゴム、セルローズ
誘導体等から選ばれた、少なくとも１種類以上の有機高
分子を用いることができる。

【００２２】凹凸形成後硬化させるために必要に応じて
光開始剤やエチレン性二重結合を有するモノマ等を予め
添加することができる。また感光タイプとしては、ネガ
型材又はポジ型材のどちらでもよい。

【００２３】本発明で用いる下塗り層の塗布方法として
は、ロールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレー塗
布、ホエラー塗布、ディップコータ塗布、カーテンフロ
ーコータ塗布、ワイヤバーコータ塗布、グラビアコータ
塗布、エアナイフコータ塗布等がある。

【００２４】図３（ａ）は、本発明おける転写用積層体
の一例を示す断面図である。ベースフィルム４の上に、
凹凸形状が転写された下塗り層６が積層されている凹凸
フィルムの上に、薄膜層２及びカバーフィルム５が積層
されている。なお、転写用積層体としては、カバーフィ
ルムはなくてもよい。

【００２５】上記の転写用積層体において、薄膜層とし
ては変形可能な有機重合体、それを含む組成物、無機化
合物、金属等を用いることができるが、好ましくは支持
体上に塗布しフィルム状に巻き取ることが可能な有機重
合体又はその組成物を用いる。また、有機重合体の組成
物中には染料、有機顔料、無機顔料、粉体及びその複合
物を単独または混合して必要に応じて含有させることが
できる。

【００２６】薄膜層には感光性樹脂組成物、熱硬化性樹
脂組成物を用いることもできる。これら薄膜層の誘電
率、硬度、屈折率、分光透過率は特に制限されない。

【００２７】そのようなものの中で、被転写基板に対す
る密着性が良好で、下塗り層からの剥離性がよいもの
（下塗り層を有しないプラスチックフィルムを使用の場
合は、プラスチックフィルムからの剥離性がよいもの）
を用いるのが好ましい。たとえば、アクリル樹脂、ポリ
エチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニ
ル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロ
ハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル等を
用いることができる。また感光性を有するものを用いる
ことができる。場合によっては凹凸が必要な部分だけを
残し、不要な部分を除けるように、アルカリ等で現像可
能な感光性樹脂を用いることもできる。耐熱性、耐溶剤
性、形状安定性を向上させるために、凹凸形成後に熱ま
たは光によって硬化可能な樹脂組成物を用いることもで
きる。さらに、カップリング剤、接着性付与剤を添加す
ることで基板との密着を向上させることもできる。接着
を向上させる目的で基板または薄膜層の接着面に接着性
付与剤を塗布することも含まれる。

【００２８】アルカリで現像可能な樹脂としては、酸価
が２０〜３００、重量平均分子量が１，５００〜２０
０，０００の範囲に入っているものが好ましく、例え
ば、スチレン系単量体とマレイン酸との共重合体又はそ
の誘導体（以下、ＳＭ系重合体という）、アクリル酸又
はメタクリル酸等のカルボキシル基を有する不飽和単量
体とスチレン系単量体、メチルメタクリレート、ｔ−ブ
チルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート
等のアルキルメタクリレート、同様のアルキル基を有す
るアルキルアクリレート等の単量体との共重合体が好ま
しい。

【００２９】ＳＭ系共重合体は、スチレン、α−メチル
スチレン、ｍ又はｐ−メトキシスチレン、ｐ−メチルス
チレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシメチ
ル−４−ヒドロキシ−スチレン等のスチレン又はその誘
導体（スチレン系単量体）と無水マレイン酸、マレイン
酸、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マ
レイン酸モノ−ｎ−プロピル、マレイン酸モノ−ｉｓｏ
−プロピル、マレイン酸−ｎ−ブチル、マレイン酸モノ
−ｉｓｏ−ブチル、マレイン酸モノ−ｔｅｒｔ−ブチル
等のマレイン酸誘導体を共重合させたもの（以下、共重
合体（Ｉ）という）がある。共重合体（Ｉ）には、メチ
ルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート等のアル
キルメタクリレート等、前記した共重合体（Ｉ）を反応
性二重結合を有する化合物で、変性したものがある（共
重合体（ＩＩ））。

【００３０】上記共重合体（ＩＩ）は、共重合体（Ｉ）
中の酸無水物基又はカルボキシル基に不飽和アルコー
ル、例えばアリルアルコール、２−ブラン−１，２−オ
ールフルフリルアルコール、オレイルアルコール、シン
ナミルアルコール、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロール
アクリアミド等の不飽和アルコール、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジル
エーテル、α−エチルグリシジルアクリレート、イタコ
ン酸モノアルキルモノグリシジルエステル等のオキシラ
ン環及び反応性二重結合をそれぞれ１個有するエポキシ
化合物と反応させることにより製造することができる。
この場合、アルカリ現像を行うために必要なカルボキシ
ル基が共重合体中に残っていることが必要である。ＳＭ
系重合体以外のカルボキシル基を有する重合体も、上記
と同様に反応性二重結合の付与は、感光度の点から好ま
しい。

【００３１】これらの共重合体の合成は特公昭４７−２
５４７０号公報、特公昭４８−８５６７９号公報、特公
昭５１−２１５７２号公報等に記載されている方法に準
じて行うことができる。薄膜層の膜厚は、凹凸を有する
仮支持体の凹凸の高低差より厚く形成すると凹凸形状を
再現しやすい。膜厚が等しいあるいは薄いと凹凸形状が
変形する。また、凹凸を形成する場合後述する問題が発
生する場合がある。

【００３２】薄膜層の塗布方法としては、下塗り層の塗
布方法と同様にロールコータ塗布、スピンコータ塗布、
スプレー塗布、ホエラー塗布、ディップコータ塗布、カ
ーテンフローコータ塗布、ワイヤバーコータ塗布、グラ
ビアコータ塗布、エアナイフコータ塗布等がある。

【００３３】前記の転写積層体のカバーフィルムとして
は、化学的および熱的に安定で、薄膜層との剥離が容易
であるものが望ましい。具体的にはポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニル
アルコール等の薄いシート状のもので表面の平滑性が高
いものが好ましい。剥離性を付与するために表面に離型
処理をしたものも含まれる。

【００３４】次に、図３を用いて、拡散反射板の作製方
法を説明する。図３（ａ）は上記した転写用積層体をし
めす。この転写用積層体から、カバフィルムを剥離し、
図３（ｂ）に示すように薄膜層２の露出した面を適用基
板（永久基板）であるガラス基板１に押しつける。十分
にしかも均一に押しつけるために、図３（ｂ）に示すよ
うに、熱圧着ゴムロールで熱圧着させることが好まし
い。しかし、必ずしも熱する必要があるとは限らない。
薄膜層２として、感光性樹脂を用いた場合には、図３
（ｃ）におけるように、活性光を照射して、硬化させる
ことが好ましい。これにより、がらす基板には十分に密
着していながら、しかも、凹凸形状を十分維持しなが
ら、薄膜層から下塗り層を容易に剥離することを可能に
することができる。図３（ｃ）の工程は必ずしも必要と
は限らない。

【００３５】ついで、下塗り層６を薄膜層２から剥離す
ることにより（当然ベースフィルム４も除去する）、ガ
ラス基板１の上に凹凸形状を有する薄膜層２が積層され
たものができ（図３（ｃ））、さらに、この薄膜層２の
上に反射膜層３を形成して拡散反射板を作製することが
できる（図３（ｄ））。

【００３６】反射膜としては、反射したい波長領域によ
って材料を適切に選択すれば良く、例えば、反射型ＬＣ
Ｄ表示装置では、可視光波長領域である３００ｎｍから
８００ｎｍにおいて反射率の高い金属、例えばアルミニ
ウムや金、銀等を真空蒸着法またはスパッタリング法等
によって形成する。また反射増加膜（光学概論２（辻内
順平、朝倉書店、１９７６年発行）に記載）を上記の方
法で積層してもよい。反射膜の厚みは、０．０１μｍ〜
５０μｍが好ましい。また反射膜は、必要な部分だけフ
ォトリソグラフィー法、マスク蒸着法等によりパターン
形成してもよい。

【００３７】また、転写用積層体の下塗り層と薄膜層の
間に予め反射層が形成されている場合は、カバーフィル
ムがあるときはこれをはがした後、転写用積層体をガラ
ス基板等の適用基板の上に凹凸形状を有する薄膜層が接
するように積層し、ついで下塗り層を反射層から剥離す
る（当然ベースフィルム４も除去する）ことにより拡散
反射板を作製することができる（図３（ｄ））。転写用
積層体の適用基板への適用は前記と同様に行うことがで
き、また、その後、前記と同様に紫外線照射を前記と同
様に行ってもよい。

【００３８】転写用積層体を薄膜層が接するように適用
基板に積層する前に、密着性を改善する目的で基板を薬
液等で洗浄したり、基板に接着付与剤を塗布したり、基
板に紫外線等を照射する等の方法を用いてもよい。ま
た、転写用積層体を適用基板に積層するための装置とし
ては、適用基板を加熱、加圧可能なゴムロールとベース
フィルムとの間に挟み、ロールを回転させて、転写用積
層体を適用基板に押し当てながら適用基板を送りだすロ
ールラミネータを用いることが好ましい。

【００３９】このようにして適用基板表面に形成した薄
膜層の膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍの範囲が好まし
い。転写原型を押し当てる前の薄膜層の膜厚は、凹凸形
状の最大高低差より、厚い方が凹凸形状を再現しやす
い。膜厚が等しいあるいは薄いと転写原型凸部で薄膜層
を突き破ってしまい、平面部が発生し拡散反射を効率よ
く得にくくなる恐れがある。

【００４０】この薄膜層にネガ型感光性樹脂を用いた場
合には、その形状の安定性を付与するために、図３
（ｃ）におけるように、露光機により露光を行い、感光
部分を硬化させる。本発明に適用し得る露光機として
は、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キ
セノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タ
ングステンランプ等が挙げられる。この露光装置は画素
及びＢＭ等のパターン形成用の平行露光機でも良いが、
本発明では予め形成された凹凸を硬化させることが出来
れば良く、このためには感光性樹脂が硬化する露光量以
上の光量を与えておけばよい。従って、一般に基板洗浄
装置として利用されているラインに組み込める散乱光を
用いるＵＶ照射装置を用いることが出来る。これらの装
置を用いることによって、フォトマスクを用いる手法に
比べて安価に作製でき、フォトマスクを用いる場合に比
べ、露光量に対する裕度が大きい。また感光タイプとし
てネガ型材を利用することで示したが、ポジ型であって
も支障はない。

【００４１】露光は仮支持体を剥がす前、または剥がし
た後に行うことができる。基板への密着性、追従性を向
上させる目的で、ベースフィルムにクッション層を設け
てもよい。

【００４２】本発明おいて、永久基板に予め薄膜層を形
成しておき、この薄膜層に凹凸型を押し当てる場合、薄
膜層及びその形成方法は前記したのと同様のもの及び方
法が適用できる。ただあし、薄膜層の露光は凹凸型を押
し当てた後が好ましい。また、前記した凹凸型の凹凸面
に反射膜を積層することができる。図４は、この方法に
より得られる拡散反射板の一例を示す。すなわち、ベー
スフィルム４の上に下塗り層６が形成されており、その
上に反射膜が積層されている。凹凸型の凹凸面への反射
膜の形成方法は、前記した方法と同様に行うことができ
る。

【００４３】本発明の拡散反射板を用いた反射型ＬＣＤ
装置について、図５により説明する。ガラス基板１の上
に薄膜層２及び反射膜３が順次積層されており、これに
より拡散反射板が構成されている。拡散反射板の凹部に
は透明の平坦化膜７により埋められ、表面が平坦化され
ている。この平坦化膜７の上に透明電極８が形成されて
おり、これを覆うようにして配向膜９が形成されてい
る。これにより一方の液晶挟持基板が構成されている。
一方、ガラス基板１０の一方の面には、ブラックマトリ
クス１１及びカラーフィルタ１２が形成されており、平
坦化膜１３を形成後、透明電極１４及び配向膜１５が順
次積層されている。ガラス基板１０の他の面には、位相
差フィルム１６及び偏光板１７がそれぞれ、形成されて
いる。以上によりもう一つの液晶挟持基板が構成されて
いる。二つの液晶挟持基板を配向膜が向かい合うように
して対向させ、スペーサ１８，１８′とともに形成され
る空間に液晶１９を収納され、封じられている。

【００４４】上記では、反射型ＬＣＤの表示装置を示し
説明したが、本発明における拡散反射板は外部光線を拡
散反射させることが必要なデバイスに用いることが出来
る。例えば太陽電池の効率向上を目的とした拡散反射板
がある。 また本発明の転写フィルムは遮光板、装飾
板、スリガラス、投影スクリ−ンの白色板、光学フィル
タ、集光板、減光板等の製造に使用することができる。
このように、本発明の転写フィルムはガラス板、合成樹
脂板、合成樹脂フィルム、金属板、金属箔いかなるもの
にも転写することができ、被転写基板面は、平面のみな
らず曲面、立体面とすることもできる。

【００４５】なお、本発明における転写用積層体におい
て、下塗り層を適用基板に積層することもできる。この
ために、下塗り層とベースフィルムの間を剥離面に設定
することが出来る。下塗り層を基板に積層する目的とし
て、反射膜を電極として用いる場合の電気絶縁層として
の機能を下塗り層に持たせる場合、あるいは反射膜凹凸
の平坦化層としての役割を下塗り層に持たせる場合、下
塗り層に感光性樹脂を用いて、反射膜のエッチングレジ
ストとしての役割を持たせる場合、更に下塗り層を着色
し、反射膜の部分的な遮光層としての役割を持たせる場
合等がある。

【００４６】図６は、本発明における拡散反射板の反射
特性を説明する図である。試料２０に入射光線２１が入
射され、反射光線２２が輝度計２３で計測される。入射
光線２１と反射光線２２のなす角度をθとすると、必要
とされるθの範囲で拡散反射板の法線方向で観測される
輝度すなわち反射強度を大きくすれば反射特性に優れる
拡散反射板が得られる。

【００４７】

【実施例】（実施例１）５０mm×５０ｍｍ厚さ３ｍｍの
ステンレス基材の中央部４０ｍｍ角の範囲に、直径２３
μｍのダイヤモンド圧子にて深さ０．６μｍの球面が一
部となる凹形状を押圧にして形成した。圧子を押圧する
座標は２００μｍ角内は凹形状が一部重なる不規則な座
標として得られるパターンとし、このパターンを繰り返
すことにより４０ｍｍ角のパターンを得た。次にこのス
テンレス転写原型をマスターにし、５０ｍｍ角厚さ０．
２ｍｍのニッケル電鋳型を１６枚製作した。次に、鏡面
研磨された２００ｍｍ角厚さ５ｍｍのステンレス板に両
面テープにて隙間がないよう１６枚の電鋳型を貼り合わ
せて転写原型とした。さらにこの転写原型の継ぎ目に銀
ペーストを塗り、凸パターン表面の導通を確保した。こ
れをマスターとし、２００ｍｍ角の電鋳型を製作して、
転写原型を得た。

【００４８】ベースフィルムとして厚さ１００μｍのポ
リエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベース
フィルム上に下記組成の光硬化性樹脂溶液をコンマコー
ターで２０μｍの膜厚になるよう塗布乾燥した。そし
て、前記転写原型を押しあて紫外線を照射し光硬化性樹
脂を硬化し転写原型から分離し、凹凸形状が光硬化性樹
脂層（下塗り層）の表面に形成された凹凸フィルムを得
た。

【００４９】 光硬化性樹脂（下塗り層）溶液： アクリル酸・ブチルアクリレート・ビニルアセテート共重合体 ５重量部 ブチルアセテート（モノマー） ８重量部 ビニルアセテート（モノマー） ２重量部 アクリル酸（モノマー） ０.３重量部 ヘキサンジオールアクリレート（モノマー） ０.２重量部 ベンゾインイソブチルエーテル（開始剤） ２.５重量％

【００５０】次に凹凸形状が形成された光硬化性樹脂層
（下塗り層）上に下記の薄膜層形成用溶液をコンマコー
ターで平均膜厚が８μｍの膜厚になるよう塗布乾燥し、
カバーフィルムとしてポリエチレンフィルムを被覆して
転写フィルムを得た。 薄膜層形成用溶液：ポリマーとしてスチレン、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、グリ
シジルメタクリレート共重合樹脂を用いた（ポリマー
Ａ）。分子量は約３５０００、酸価は１１０である。部
は重量部（以下同じ）。 ポリマーＡ ７０重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート（モノマー） ３０重量部 イルガキュアー369（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ株式会社製商品名） （開始剤） ２．２重量部 Ｎ，Ｎ−テトラエチル-４，４’-ジアミノベンゾフェノン （開始剤） ２．２重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤） ４９２重量部 ｐ−メトキシフェノール（重合禁止剤） ０．１重量部 パーフルオロアルキルアルコキシレート（界面活性剤） ０．０１重量部

【００５１】この転写フィルムのカバーフィルムを剥が
しながら、薄膜層がガラス基板に接するようにラミネー
タ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノ
プラント株式会社製商品名）を用いて基板温度９０℃、
ロール温度８０℃、ロール圧力７Ｋｇ／ｃｍ²、速度
０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層、
光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムが積層さ
れた基板を得た。次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）、
ベースフィルムを剥離し、ガラス基板上に転写原型の凹
凸形状と同様な薄膜層を得た。これを、オーブンで２３
０℃、３０分間の熱硬化を行い、真空蒸着法で、アルミ
ニウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層
を形成した。

【００５２】図７に、方位角（φ）を一定とした場合の
反射強度（標準白色板に対する相対強度）の入射角度依
存性を示した。入射角度−４０°〜４０°の範囲で十分
な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を
得ることができた。

【００５３】（実施例２）実施例１の凹凸フィルムの凹
凸面に真空蒸着法で、アルミニウム薄膜を０．２μｍの
膜厚になるよう積層し反射層を形成した。これは入射角
度−４０°〜４０°の範囲で均一で十分な反射強度が得
られ、反射特性にすぐれた拡散反射板が得られることが
分かった。

【００５４】（実施例３）永久基板となるガラス基板に
実施例１と同様の薄膜層形成用溶液を塗布し２０００回
転で１５秒間スピンコートし、ホットプレートで９０
℃、２分間に加熱して８μmの薄膜層を得た。次に実施
例１の凹凸フィルムの凹凸面が薄膜層に面するようにラ
ミネータ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成
テクノプラント株式会社製商品名）を用いて基板温度９
０℃、ロール温度８０℃、ロール圧力７Ｋｇ／ｃｍ²、
速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜
層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムが積
層された基板を得た。これに露光装置で紫外線を照射し
次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）とベースフィルムを
剥離し、ガラス基板上に転写原型の凹凸形状と同様な薄
膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０分間の熱
硬化を行い、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜を０．２
μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成し拡散反射板
を作製した。これは入射角度−４０°〜４０°の範囲で
均一で十分な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡
散反射板を得た。

【００５５】

【発明の効果】本発明の転写原型、凹凸型及び転写用積
層体を用いることにより反射型液晶表示装置等に使用さ
れる良好な反射特性を有する拡散反射板を効率良く製造
することができ、凹凸面をあらかじめ適切に設定してお
くことによって、拡散反射板の反射特性を自由に制御で
き、かつ再現性のよい反射特性が得られ、また、所定機
能をもつ表面形状を適宜の基板に容易に賦与することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の転写原型の製造方法の一例を示し概
略図である。

【図２】 本発明の凹凸フィルムの一例を示す断面図で
ある。

【図３】 本発明の転写用積層体を使用する拡散反射板
の製造法の一例を示す断面概略図である。

【図４】 本発明の凹凸型を使用した拡散反射板の一例
を示す断面図である。

【図５】 本発明の拡散反射板を使用した反射型液晶表
示装置（反射型ＬＣＤ）の一例を示す断面図である。

【図６】 拡散反射板の反射特性説明するための図であ
る。

【図７】 実施例１の拡散反射板の反射特性の入射角依
存性を示す図。

【符号の説明】

１．ガラス基板 ２．薄膜層 ３．反射膜 ４．ベースフィルム ５．カバーフィルム ６．下塗り層

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｄ // Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｂ２９Ｌ 11:00 Ｆターム(参考） 2H042 BA03 BA12 BA20 DD00 DE04 2H088 HA21 HA28 MA06 2H091 FA02Y FA08X FA11X FA16Y FA35Y FC06 FC17 FC19 FD14 LA12 LA18 LA19 4F202 AA36 AA44 AG05 AH73 CA01 CA19 CB01 CD05 CD16 CD18 CK12 5C094 AA43 BA43 CA19 DA12 ED11 FA02 GB01

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 球面または曲面の一部をなす凹部が多数
   個連続して形成されてなる転写原型。
2. 【請求項２】 球面または曲面の一部をなす凹部が多数
   個連続して形成されてなる転写原型を複数個つなぎてな
   る転写原型。
3. 【請求項３】 請求項２記載の転写原型を原型にして凹
   凸形状を反対に転写された型を一体形成してなる凹凸
   型。
4. 【請求項４】 先端が球形状または曲面形状の圧子によ
   り、成型用基材の表面に、球面または曲面の一部をなす
   凹部を多数個連続して形成することを特徴とする転写原
   型の製造方法。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の方法により得られる転
   写原型。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の転写原型を複数個つな
   げてなる転写原型。
7. 【請求項７】 請求項１、請求項２、請求項５又は請求
   項６記載の転写原型を原型として、その凹凸形状を反対
   にして被転写基材に転写することを特徴とする凹凸型の
   製造方法。
8. 【請求項８】 被転写基材がプラスチックフィルム又は
   下塗り層が積層されている基材である請求項７記載の凹
   凸型の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項７又は８に記載の方法により得ら
   れる凹凸型。
10. 【請求項１０】 請求項３又は請求項９に記載の凹凸型
    を仮支持体として用い、この仮支持体の凹凸面に薄膜層
    が積層されており、薄膜層の仮支持体に接しているのと
    反対の表面が適用基板への接着面を構成する転写用積層
    体。
11. 【請求項１１】 薄膜層の接着面に保護フィルムを積層
    してなる請求項１０記載の転写用積層体。
12. 【請求項１２】 請求項１０に記載の転写用積層体又は
    請求項１１の転写用積層体であって保護フィルムを剥離
    したものを適用基板に薄膜層の接着面が接するように押
    し当てる工程、前記仮支持体を剥がす工程及び薄膜層の
    凹凸表面に反射膜を形成する工程を含むことを特徴とす
    る拡散反射板の製造方法。
13. 【請求項１３】 請求項３又は請求項９記載の凹凸型
    を、永久基板上に形成された薄膜層に、凹凸面が接する
    ように押し当てる工程と、前記凹凸型を剥がす工程と、
    薄膜層の凹凸面が転写された表面に反射膜を形成する工
    程を含むことを特徴とする拡散反射板の製造方法。
14. 【請求項１４】 請求項３又は請求項９記載の凹凸型の
    凹凸面に反射膜を積層してなる拡散反射板。