JP3608609B2 - 転写フィルム及び拡散反射板の製造方法 - Google Patents

転写フィルム及び拡散反射板の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP3608609B2
JP3608609B2 JP2000063321A JP2000063321A JP3608609B2 JP 3608609 B2 JP3608609 B2 JP 3608609B2 JP 2000063321 A JP2000063321 A JP 2000063321A JP 2000063321 A JP2000063321 A JP 2000063321A JP 3608609 B2 JP3608609 B2 JP 3608609B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
photosensitive
undercoat layer
thin film
forming precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000063321A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000321406A (ja
Inventor
桂子 木沢
健 吉田
恭生 鶴岡
信明 高根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Showa Denko Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd, Showa Denko Materials Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2000063321A priority Critical patent/JP3608609B2/ja
Publication of JP2000321406A publication Critical patent/JP2000321406A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3608609B2 publication Critical patent/JP3608609B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0284Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in reflection
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B17/00Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
    • B32B17/06Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/02Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0221Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、バックライトを必要としない反射型液晶表示装置や高効率を必要とされる太陽電池などに使用される拡散反射板の製造に使用される転写フィルム及び拡散反射板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ(以下LCDと略す)は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現在、時計、電卓、TV、パソコン等の表示部に用いられている。更に近年、カラーLCDが開発されOA・AV機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファインダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予想されている。特に、外部から入射した光を反射させて表示を行う反射型LCDは、バックライトが不要であるために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点で携帯用端末機器用途として注目されている。
【0003】
従来から反射型LCDにはツイステッドネマティック方式並びにスーパーツイステッドネマティック方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光子により入射光の1/2が表示に利用されないことになり表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を1枚に減らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・ホスト方式の表示モードが提案されている。
図2は、反射型LCDの断面図を示すもので、1はガラス基板、2は薄膜層、3は反射膜、11はカラーフィルタ、12はブラックマトリクス、13は透明電極、14は平坦化膜、15は配向膜、16は液晶層、17はスペーサ、18は位相差フィルム、19は偏光板である。
【0004】
反射型LCDにおいて外光を効率良く利用して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御することが必要である。
基板に感光性樹脂を塗布しフォトマスクを用いてパターン化して凹凸を形成し、金属薄膜を形成して拡散反射板を形成する方法(特開平4−243226号公報)が提案されている。さらに拡散反射膜を転写フィルムとして製造する方法(特願平10−216939号)が提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
拡散反射膜の凹凸を形成するため、凹凸形成前駆体薄膜に熱硬化性樹脂を用いると、均一に熱を与える硬化装置設定が難しく、熱硬化後の凹凸形状にムラが現われやすく、一定の反射特性を持つ拡散反射板を安定に生産することは困難である。そこで反射特性を向上させる目的で、凹凸の高さを複数もつ拡散反射板を得たい場合、前記の方法では複数回の感光性樹脂の塗布、露光、現像が必要であるため工程がより煩雑となる。
また、拡散反射板を製造する工程においてネガ感光性凹凸形成前駆体薄膜を平滑性の良い基板上に転写しベースフィルムと下塗り層を剥離後露光する工程では、ベースフィルムと下塗り層を剥離時または剥離後、転写された凹凸形状が変化しやすく、一定の反射特性を持つ拡散反射板を安定に生産することは困難である。また、ベースフィルムと下塗り層を順次剥離すること、ベースフィルムと下塗り層を剥離した後露光することは、効率が悪く生産性が低い。
さらに、ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜を平滑性の良い基板上に転写した後露光し、ベースフィルムと下塗り層を剥離する工程では、下塗り層の活性光線透過率が10%未満である場合、ネガ感光性凹凸形成前駆体薄膜に十分な露光量を与えられず、ベースフィルムと下塗り層剥離時に表面の凹凸形状が崩れやすく、多数の微細な凹凸を有し、一定の反射特性を持つ拡散反射膜前駆体を形成することが困難である。また、十分な露光量を与えるために露光時間を長くすることは、生産効率を下げる原因となる。
本発明は、良好な反射特性を有する反射型LCD用拡散反射板等に使用される拡散反射板を効率良く製造するために使用される転写フィルム及び拡散反射板の製造方法を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明の転写フィルムは、(1)ベースフィルム、(2)表面に多数の微細な凹凸を有する感光性下塗り層、(3)ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜(薄膜層)が順次積層された拡散反射板の製造に使用される転写フィルムにおいて、前記(2)感光性下塗り層と(1)ベースフィルムの活性光線透過率が10%以上であることを特徴とする転写フィルムである。(3)ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜の膜厚は、0.2〜100μmであることが好ましい。本発明の拡散反射板の製造方法は、基板の表面に前記の転写フィルムのネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜面を張り合わせ、露光後、ベースフィルムと感光性下塗り層を剥離することを特徴とする拡散反射板の製造方法である。
また、 本発明の転写フィルムは、(1)ベースフィルム、(2)表面に多数の微細な凹凸を有する感光性下塗り層、(3)ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜(薄膜層)が順次積層された転写フィルム(ただし凹凸形状が隣り合う凸部又は凹部のピッチが10〜300nmの範囲にあるものを除く)において、前記(2)感光性下塗り層と(1)ベースフィルムの活性光線透過率が10%以上であることを特徴とする転写フィルムである。(3)ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜の膜厚は、0 . 2〜100μmであることが好ましい。本発明の拡散反射板の製造方法は、基板の表面に前記の転写フィルムのネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜面を張り合わせ、露光後、ベースフィルムと感光性下塗り層を剥離することを特徴とする拡散反射板の製造方法である。以下、感光性下塗り層を単に下塗り層という。
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明の反射型LCD用等拡散反射板の製造方法によれば、ベースフィルム上に下塗り層として感光性樹脂を形成しておき、その下塗り層に対して表面が多数の微細な凹凸を有する状態に加工処理された原型を押しあてることによって、表面に多数の微細な凹凸を形成し、その下塗り層にネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜を積層し転写フィルムを形成する。前記転写フィルムは表面平滑性の良い基板上に転写後、露光し、ベースフィルムと下塗り層を同時に剥離することによって、下塗り層と凹凸面形成前駆体薄膜に熱硬化性樹脂を用いた転写フィルム製造方法や活性光線透過率が10%未満のベースフィルムと下塗り層上にネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜を積層した転写フィルムよりも工程が単純かつ低コストで、表面に多数の微細な凹凸を有し、一定の反射特性を持つ拡散反射膜前駆体を形成できる。これに更に金属薄膜等の反射膜を形成すれば所望の拡散反射板が得られる。
図1は、拡散反射板の断面図であり、1はガラス基板、2は薄膜層、3は反射膜である。
【0008】
本発明のベースフィルムとしては、化学的、熱的に安定であり、シートまたは板状に成形できるものを用いることができる。また、ベースフィルムと下塗り層の活性光線透過率が10%以上となるベースフィルムを用いる。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステル、あるいはアルミ、銅等の金属類等である。これらの中で特に好ましいのは寸法安定性に優れた2軸延伸ポリエチレンテレフタレートである。
【0009】
感光性下塗り層としては、ベースフィルムと感光性下塗り層の活性光線透過率が10%以上になるネガ感光性樹脂組成物を用いる。またこの中に必要に応じて、染料、有機顔料、無機顔料、粉体及びその複合物を単独または混合して用いてもよい。これら感光性下塗り層の誘電率、硬度、屈折率、分光透過率は特に限定されない。さらに、凹凸形成後は凹凸面形成前駆体薄膜よりも硬く、ベースフィルムとの密着性が凹凸面形成前駆体薄膜との密着性よりも強いものが好ましい。例えばポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル、エチレンとアクリル酸エステル、エチレンとビニルアルコールのようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニルアルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレンと(メタ)アクリル酸エステルのようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステルのようなビニルトルエン共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニルのような(メタ)アクリル酸エステルの共重合体、合成ゴム、セルローズ誘導体等から選ばれた、少なくとも1種類以上の有機高分子を用いることができ、凹凸形成後硬化させるために光開始剤やエチレン性二重結合を有するモノマ等を添加することができる。
【0010】
本発明の凹凸面形成前駆体薄膜としては、有機重合体を含む組成物または無機化合物、金属を用いることができるが、好ましくは下塗り層に塗布しフィルム状に巻き取ることが可能なネガ感光性樹脂組成物を用いる。凹凸形成後は基板との密着性が下塗り層との密着性よりも強いものが好ましい。これら凹凸面形成前駆体薄膜の誘電率、硬度、屈折率、分光透過率は特に限定されない。例えばポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル、エチレンとアクリル酸エステル、エチレンとビニルアルコールのようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニルアルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、スチレンと(メタ)アクリル酸エステルのようなスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステルのようなビニルトルエン共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニルのような(メタ)アクリル酸エステルの共重合体、合成ゴム、セルローズ誘導体等から選ばれた、少なくとも1種類以上の有機高分子を用いることができる。凹凸形成後硬化させるために必要に応じて光開始剤やエチレン性二重結合を有するモノマ等を添加することができる。
【0011】
本発明の転写フィルムのカバーフィルムとしては、化学的および熱的に安定で、薄膜層との剥離が容易であるものが望ましい。具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルアルコール等の薄いシート状のもので表面の平滑性が高いものが好ましい。剥離性を付与するために表面に離型処理をしたものも含まれる。
【0012】
仮支持体(ベースフィルム、下塗り層が設けられたベースフィルム)上の薄膜層、反射膜を基板に転写する方法としては、カバーフィルムを剥がし、基板上に加熱圧着すること等がある。さらに密着性を必要とする場合には基板を必要な薬液等で洗浄したり、基板に接着付与剤を塗布したり、基板に紫外線等を照射する等の方法を用いてもよい。本発明の転写フィルムをラミネートする装置としては基板を加熱、加圧可能なゴムロールとベースフィルムとの間に挟み、ロールを回転させて、転写フィルムを基板に押し当てながら基板を送りだすロールラミネータを用いることが好ましい。
このようにして基板表面に形成したネガ型感光性凹凸面形成前駆体薄膜の膜厚は、0.2μm〜100μmの範囲が好ましい。このとき凹凸形状の最大高低差より薄膜層の膜厚が厚い方が凹凸形状を再現しやすい。膜厚が等しいあるいは薄いと原型凸部で薄膜層を突き破ってしまい、平面部が発生し拡散反射を効率よく得にくくなる。
【0013】
前記下塗り層とネガ型感光性凹凸面形成前駆体薄膜はその形状の安定性を付与するために、露光機によりベースフィルム上から露光を行い感光部分を硬化させる。本発明に適用し得る露光機としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ等が挙げられる。
この露光装置は画素及びBM等のパターン形成用の平行露光機でも良いが、本発明では予め形成された凹凸を硬化させることが出来れば良く、このためには感光性樹脂が硬化する露光量以上の光量を与えておけばよい。従って、一般に基板洗浄装置として利用されているラインに組み込める散乱光を用いるUV照査装置を用いることが出来る。これらの装置を用い、転写後のフィルムをベースフィルム上から露光し、下塗り層とネガ型感光性凹凸面形成前駆体薄膜を硬化させることによって、制作プロセスを簡略化し、一定の反射特性を持つ拡散反射膜を安定して形成することができる。
露光はベースフィルムと下塗り層を剥がす前に行う。
【0014】
以上反射型LCD表示装置で説明したが、本発明の拡散反射板は外部光線を拡散反射させることが必要なデバイスに用いることが出来る。例えば太陽電池の効率向上を目的とした拡散反射板がある。
図4は、拡散反射板の製造工程を示す断面図であり、4はベースフィルム、5はカバーフィルム、6は下塗り層である。
【0015】
【実施例】
実施例1
図3に示すように、ベースフィルム4に厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベースフィルム4上に下記組成の感光性樹脂組成物を溶剤(プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート)で溶解し、コンマコーターで1.5μmの膜厚になるよう塗布乾燥し下塗り層6とした。次に不規則なパターンを有するフォトマスクを介して、ベースフィルム上の感光性樹脂層(下塗り層6)を不規則なパターン(平均ピッチ15μm)に感光させた。露光機は大型マニュアル露光機(MAP1200、大日本スクリーン社製)を用い、500mJ/平方cm照射した。現像液(炭酸ナトリウム水溶液0.5%)を用い、1分間バットで現像することで、不規則な凹凸形状を感光性樹脂層(下塗り層6)の表面に形成した。次に感光性樹脂層(下塗り層6)上に下記薄膜層形成用溶液をコンマコーターで6μmの膜厚になるよう塗布乾燥しネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層2を形成し、カバーフィルム5としてポリエチレンフィルムを被覆して図3に示すような転写フィルムを得た。
次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層2がガラス基板に接する様にラミネータ(ロールラミネータHLM1500、日立化成テクノプラント社製)を用いて基板温度20℃、ロール温度90℃、ロール圧力0.59MPa(6kg/平方cm)、速度0.5m/分でラミネートし、ガラス基板上にネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層、感光性樹脂層(下塗り層6)、ベースフィルム4が積層された基板を得た。露光機(大型マニュアル露光機、MAP1200、大日本スクリーン社製)で感光性樹脂層(下塗り層6)、ベースフィルム4を介してネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層が反応する光線を500mJ/平方cm照射したのち、次にベースフィルム4、感光性樹脂層(下塗り層6)を剥離し、ガラス基板上に不規則な凹凸形状の表面の薄膜層を得た。次に、オーブンで230℃、30minの熱硬化をし、真空蒸着法で、銀薄膜を0.2μmの膜厚になるよう積層し反射膜を形成した。これによって得られた拡散反射板は、反射特性に優れ、反射型LCD用拡散反射板として使用可能であった。これによって得られた拡散反射板の平均高低差は1.2μmであった。
感光性樹脂溶液(%は重量%):
アクリル酸・ブチルアクリレート・ビニルアセテート共重合樹脂 33%
ブチルアクリレート(モノマー) 53%
ビニルアセテート(モノマー) 8%
アクリル酸(モノマー) 2%
ヘキサンジオールアクレレート(モノマー) 1%
ベンゾインイソブチルエーテル(光開始剤) 3%
薄膜層形成用溶液:
ポリマーとしてスチレン、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、グリシジルメタクリレート共重合樹脂を用いた(ポリマーA)。分子量は約35000、酸価は110である。部は重量部(以下同じ)。
Figure 0003608609
図5は、拡散反射板の反射光特性を測定する装置の斜視図であり、20は試料、21は反射光線、22は入射光線、23は輝度計である。
図6には方位角(φ)を一定とした場合の反射強度(標準白色板に対する相対強度)の入射角度依存性を示す。入射角度−60°〜60°の範囲で十分な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができることが分かった。
【0016】
実施例2
ベースフィルムに厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベースフィルム上に実施例1と同様な光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで20μmの膜厚になるよう塗布乾燥した。次に不規則なパターンを有するロール状の原盤を押しあて紫外線を照射し光硬化性樹脂を硬化しロール原盤を分離し、不規則な凹凸形状を光硬化性樹脂層(下塗り層)の表面に形成した。次に光硬化性樹脂層(下塗り層)上に実施例1と同様な薄膜層形成用溶液をコンマコーターで2μmの膜厚になるよう塗布乾燥し、ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層2を形成し、カバーフィルムとしてポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルムを得た。
次に、この転写フィルムのカバーフィルムを剥がしながら、ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層がガラス基板に接する様にラミネータ(ロールラミネータHLM1500、日立化成テクノプラント社製)を用いて基板温度90℃、ロール温度80℃、ロール圧力0.68MPa(7kg/平方cm)、速度0.5m/分でラミネートし、ガラス基板上にネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層、光硬化性樹脂層(下塗り層)、ベースフィルムが積層された基板を得た。露光機(大型マニュアル露光機、MAP1200、大日本スクリーン社製)で感光性樹脂層(下塗り層6)、ベースフィルム4を介してネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜層が反応する光線を100mJ/平方cm照射したのち、次に、光硬化性樹脂層(下塗り層)、ベースフィルムを剥離し、ガラス基板上に不規則な凹凸形状の表面の薄膜層を得た。次に、オーブンで230℃、30minの熱硬化をし、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜を0.2μmの膜厚になるよう積層し反射層を形成した。図7には方位角(φ)を一定とした場合の反射強度(標準白色板に対する相対強度)の入射角度依存性を示す。入射角度−60°〜60°の範囲で十分な反射強度が得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができることが分かった。
【0017】
【発明の効果】
本発明の反射型液晶表示装置等の拡散反射板の製造法では、良好な反射特性を有する拡散反射板を効率良く製造することができ、かつ原型の凹凸をあらかじめ適切に設定しておくことによって、拡散反射板の反射特性を自由に制御でき、かつ再現性のよい反射特性が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の拡散反射板の断面図。
【図2】反射型LCDの断面図。
【図3】本発明の拡散反射板の製造に使用される転写フィルムの断面図。
【図4】本発明の拡散反射板の製造工程を示す断面図。
【図5】本発明の拡散反射板の反射光特性を測定する装置の斜視図。
【図6】本発明の実施例1の拡散反射板の反射特性の入射角依存性を示すグラフ。
【図7】本発明の実施例2の拡散反射板の反射特性の入射角依存性を示すグラフ。
【符号の説明】
1.ガラス基板
2.薄膜層
3.反射膜
4.ベースフィルム
5.カバーフィルム
6.下塗り層
11.カラーフィルタ
12.ブラックマトリクス
13.透明電極
14.平坦化膜
15.配向膜
16.液晶層
17.スペーサ
18.位相差フィルム
19.偏光板
20.試料
21.反射光線
22.入射光線
23.輝度計

Claims (6)

  1. (1)ベースフィルム、(2)表面に多数の微細な凹凸を有する感光性下塗り層、(3)ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜が順次積層された拡散反射板の製造に使用される転写フィルムにおいて、前記(2)感光性下塗り層と(1)ベースフィルムの活性光線透過率が10%以上であることを特徴とする転写フィルム。
  2. (3)ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜の膜厚が0.2〜100μmである請求項1記載の転写フィルム。
  3. 基板の表面に請求項1又は2記載の転写フィルムのネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜面を張り合わせ、露光後、ベースフィルムと感光性下塗り層を剥離することを特徴とする拡散反射板の製造方法。
  4. (1)ベースフィルム、(2)表面に多数の微細な凹凸を有する感光性下塗り層、(3)ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜が順次積層された転写フィルム(ただし凹凸形状が隣り合う凸部又は凹部のピッチが10〜300nmの範囲にあるものを除く)において、前記(2)感光性下塗り層と(1)ベースフィルムの活性光線透過率が10%以上であることを特徴とする転写フィルム。
  5. (3)ネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜の膜厚が0.2〜100μmである請求項4記載の転写フィルム。
  6. 基板の表面に請求項4又は5記載の転写フィルムのネガ感光性凹凸面形成前駆体薄膜面を張り合わせ、露光後、ベースフィルムと感光性下塗り層を剥離することを特徴とする拡散反射板の製造方法。
JP2000063321A 1999-03-11 2000-03-03 転写フィルム及び拡散反射板の製造方法 Expired - Fee Related JP3608609B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000063321A JP3608609B2 (ja) 1999-03-11 2000-03-03 転写フィルム及び拡散反射板の製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6464499 1999-03-11
JP11-64644 1999-03-11
JP2000063321A JP3608609B2 (ja) 1999-03-11 2000-03-03 転写フィルム及び拡散反射板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000321406A JP2000321406A (ja) 2000-11-24
JP3608609B2 true JP3608609B2 (ja) 2005-01-12

Family

ID=26405736

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000063321A Expired - Fee Related JP3608609B2 (ja) 1999-03-11 2000-03-03 転写フィルム及び拡散反射板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3608609B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100855535B1 (ko) * 2001-03-30 2008-09-01 니뽄 세이시 가부시끼가이샤 광산란층 형성용 전사필름과 이것을 사용한 광산란층의형성방법 및 광산란막 그리고 광산란 반사판
KR101552172B1 (ko) * 2011-03-28 2015-09-10 제이엑스 닛코닛세키 에네루기 가부시키가이샤 요철 구조를 가지는 기판 제조 방법 및 이것을 사용한 유기 el 소자의 제조 방법
KR101642603B1 (ko) * 2013-12-04 2016-07-25 주식회사 엘지화학 유기전자장치용 기판의 제조 방법

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5847801U (ja) * 1981-09-26 1983-03-31 日東電工株式会社 光拡散性構造体
JP3314965B2 (ja) * 1991-11-25 2002-08-19 大日本印刷株式会社 耐擦傷性防眩フィルム、偏光板及びその製造方法
JP2000071290A (ja) * 1998-08-28 2000-03-07 Teijin Ltd 反射防止物品の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000321406A (ja) 2000-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4269196B2 (ja) 拡散反射板の製造法及び転写フィルム
JP3808212B2 (ja) 転写フィルム及び拡散反射板の製造法
JP3608609B2 (ja) 転写フィルム及び拡散反射板の製造方法
JP3646613B2 (ja) 光拡散板の製造方法及びそれにより得られた光拡散板
JP4198365B2 (ja) 光散乱層形成用転写フィルムとそれを用いた光散乱層の形成方法および光散乱膜並びに光散乱反射板
JP4178506B2 (ja) 反射下地感光性エレメント
JP2001310334A (ja) 転写原型、凹凸型、これらの製造方法、転写用積層体及び拡散反射板
JP2000284106A (ja) 光拡散部材、光拡散部材の製造法及び転写フィルム
JP2003191249A (ja) 転写原型、転写フィルム及び拡散反射板の製造方法
JP2004004750A (ja) 転写フィルム及び拡散反射板の製造法
JP2001188110A (ja) 拡散反射板、拡散反射板前駆基板及びそれらの製造方法
JP3900909B2 (ja) 拡散反射板、それを製造するのに用いられる転写原型、転写ベースフィルム、転写フィルム及び拡散反射板の製造方法
JP2001133608A (ja) 拡散反射板および転写原型
JP3438771B2 (ja) 光拡散部材、光拡散部材の製造法及び転写フィルム
JP3900908B2 (ja) 拡散反射板、それを製造するのに用いられる転写原型、転写ベースフィルム、転写フィルム及び拡散反射板の製造方法
JP2009080506A (ja) 拡散反射板の製造法及び転写フィルム
JP2001133614A (ja) 拡散反射板及びその転写原型、その製造方法及びそれを用いたベースフィルム、転写フィルム、並びにこれらを用いた拡散反射板の製造方法
JP2001071379A (ja) 転写原型、その製造方法及びそれを用いた凹凸フィルム、転写フィルム、拡散反射板
JP2003043477A (ja) 拡散反射板、それを製造するのに用いられる転写原型、転写ベースフィルム、転写フィルム及び拡散反射板の製造方法
TW200300512A (en) Diffusion reflection plate, transfer master, transfer base film and transfer film used for manufacturing the same, and method of manufacturing diffusion reflection plate
JP3401720B2 (ja) 反射型液晶表示体用光拡散反射板
JP2001133609A (ja) 拡散反射板及びその製造方法、並びにそれに用いるベースフィルム、転写フィルム
JP2008250312A (ja) 表示素子の製造方法
JP2001121547A (ja) 転写原型、その製造方法及びそれを用いた凹凸フィルム、転写フィルム並びに拡散反射板
JP2003043228A (ja) 拡散反射板及びその転写原型、その製造方法及びそれを用いたベースフィルム、転写フィルム、並びにこれらを用いた拡散反射板製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20040922

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20041005

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071022

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081022

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091022

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111022

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121022

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees