JP4198365B2 - 光散乱層形成用転写フィルムとそれを用いた光散乱層の形成方法および光散乱膜並びに光散乱反射板 - Google Patents
光散乱層形成用転写フィルムとそれを用いた光散乱層の形成方法および光散乱膜並びに光散乱反射板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4198365B2 JP4198365B2 JP2002032165A JP2002032165A JP4198365B2 JP 4198365 B2 JP4198365 B2 JP 4198365B2 JP 2002032165 A JP2002032165 A JP 2002032165A JP 2002032165 A JP2002032165 A JP 2002032165A JP 4198365 B2 JP4198365 B2 JP 4198365B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- light scattering
- film
- transparent resin
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型液晶表示装置などに用いられる光散乱シートまたは光散乱層を有する反射板を製造するための光散乱層形成用転写フィルム、およびそれを用いて光散乱層を形成する方法、その方法により製造された光散乱性を有する光散乱膜及び光散乱反射板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、フラットパネルディスプレイとして最も普及しているカラー液晶表示装置（以下ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）において、液晶パネルの背面にバックライトと呼ばれる光源の配置された透過型ＬＣＤが一般的であった。しかし、近年携帯情報端末（以下ＰＤＡ：Personal Digital Assistant）用ディスプレイとして、また携帯電話用ディスプレイとして、反射型ＬＣＤが市場において急速な勢いで普及している。反射型ＬＣＤは、透過型ＬＣＤのバックライトの代わりに、やはり液晶パネルの背面に反射板を設置することで外光（周囲からの光）を前面に反射して、これを光源として表示を行うものである。このため、反射型ＬＣＤは透過型ＬＣＤに比べてバックライトがないので、薄くて軽量であり、また低消費電力であり、ＰＤＡや携帯電話などのモバイル用途に適している。
【０００３】
従来、反射型ＬＣＤはその構成上二枚の偏光板を使用していたが、偏光板の光吸収による光量損失でパネルの明るさが乏しかったため、現在は偏光板一枚と位相差板で表示を行う方式が一般的である。この場合、液晶相を挟んだ前面基板（カラーフィルターが形成されている基板）上の観測者側には位相差板、偏光板、及び光散乱板が設けられている構成となっている。この光散乱板は光散乱機能を有するものであり、鏡面である反射板への映り込み防止のため、またパネルに入射した光に適度の散乱を生じさせて視認性（コントラスト）を確保するために必要な部材である。
【０００４】
しかしながら、パネル前面に光散乱板が設置されるということは、入射光もその表面により散乱されてしまうため、必ずしも視認性を向上できるとは限らず、また入射光量が減少してしまうことから、パネルの明るさを損なう結果となっていた。また、カラーフィルターが前面基板に形成されていることから、入射光がカラーフィルターを通過後、液晶層を通過して反射板で反射されて再度液晶層、そしてカラーフィルターを通過してパネル外部に出て観測者に至る時、観測者の目の位置により色混ざり、いわゆる視差による画像ボケが発生してしまう問題があった。これらのことは、前面基板にカラーフィルター、その上に光散乱板を配置した反射型ＬＣＤでは避けられない問題であった。
【０００５】
そのため、より高品質な反射型ＬＣＤを得るためには、カラーフィルターを後面基板上に設け、反射板、光散乱板をできるだけカラーフィルターに近い位置に設置する方法や、カラーフィルター自身に光散乱性能を付与させて光散乱板を不要にさせる方法、あるいは光散乱性を有する反射板を用いる方法などが考えられている。
【０００６】
光散乱層の形成方法は種々検討されており、例えば感光性高分子樹脂層を基板上に付与し、フォトリソにより凹凸を形成させる方法、透明樹脂に微粒子顔料（有機顔料、無機顔料、あるいは金属フレーク等）を含有させたものを塗布して凹凸を形成する方法、そして二種類以上の透明樹脂を相分離状態で混合させて形成する方法等が知られている。
【０００７】
しかし、感光性高分子樹脂を用いるフォトリソ法では、基板上に感光性高分子樹脂組成物を塗布・乾燥後、あらかじめ所定のパターンを有したマスクを介して露光、そして現像処理、リンス処理、ベイク処理を経てガラス基板上にパターンを形成するため、作業は非常に繁雑で、行程数が多いことから歩留まり低下の原因となっていた。品質的にも形成するパターンを考慮しないと、最終的な光散乱反射板としての性能において、その表面で作製されたパターンによる光干渉（虹模様）が発生し、画質が著しく低下してしまう場合がある。なお、フォトリソ法で使用される感光性高分子樹脂組成物が高価であったり、また露光装置、現像装置などの製造装置自身も非常に高価なものであるため、フォトリソ法による光散乱板の製造では製造コストが高くなってしまう問題があった。
【０００８】
また、透明樹脂に微粒子顔料を含有させて基板上に付与する方法では使用する顔料の種類、形状、粒径を選択することで表面凹凸をコントロールすることが可能であり、またフォトリソを使用する方法に比べてランダムなパターン形成が可能なため、反射光の光干渉は発生せずに、高品質の光散乱層を形成するには有効な方法である。しかし、散乱層表面に顔料が存在するため、その上に金属薄膜を形成する場合、その表面に存在する樹脂部分と顔料部分において形成される金属薄膜の均一性が劣るため、目標の拡散反射率が得られないことがある。
【０００９】
また、暗所における使用を考慮した半透過タイプ反射型ＬＣＤの場合、暗所ではバックライトを使用して表示を確認することになるため、パネルの光透過性が重要になる。光散乱層中に顔料が含有されていると、バックライトの光を遮ることになり、また、顔料自身による光吸収のため目標の光透過性を得ることが難しい。光透過性を目標値まで高めるために金属薄膜を薄く形成すると、逆に金属薄膜が薄いため拡散反射率が低下してしまうという問題があった。
さらに透明樹脂の相分離状態を使用して光散乱性能を付与する方法では、その表面に凹凸はほとんどないため、この上に金属薄膜を形成すると、その表面は鏡面状態になり光散乱反射効果はほとんど発生しなくなる。このため、本来目標である光散乱反射板は得られない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、反射型液晶表示装置などに用いられる光散乱反射板の製造方法において、上述のような従来の光散乱層形成方法における種々の問題点を解決し、良好な光散乱性能を有する光散乱層を、非常に簡便で、安価に製造することができる転写フィルムを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、請求項１によれば支持体上に順次凹凸を付与した離型層、透明樹脂層を設けてなることを特徴とする光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
この光散乱層形成用転写フィルムにより、被着体上には所定の表面凹凸を有した透明樹脂層を付与することができ、しかもこの層は表面凹凸により光散乱性能を有する。
また、上記課題は、請求項２によれば前記離型層の表面形状が十点平均粗さで０．２〜２．０μｍであり、ヘイズ度が３０〜６０％であることを特徴とする請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このような表面特性をもった離型層を有する転写フィルムにより目標とする光散乱性能が得られる。
また、上記課題は、請求項３によれば前記離型層中に顔料を含有したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このように離型層中に顔料を含有することにより離型層表面を目標とする表面形状で形成することが出来る。
また、上記課題は、請求項４によれば前記離型層中に含有される顔料の平均粒子径が０．１〜４．０μｍであることを特徴とする請求項３に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このような粒子径をもった顔料を離型層中に含有することにより目標とする表面形状の離型層を形成することが出来る。
また、上記課題は、請求項５によれば前記離型層において樹脂固形分と顔料固形分の比率が９５／５〜５０／５０であることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このように顔料を所定の割合で離型層中に含有することにより目標とする表面形状と適度な剥離性が得られる。
また、上記課題は、請求項６によれば請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムの透明樹脂層を被着体に加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、支持体および離型層を取り去り、被着体表面に離型層の表面形状を移し取った透明樹脂層を転写し、被着体表面に光散乱層を形成することを特徴とする光散乱層の形成方法によって達成される。
このようにして本発明の光散乱層形成用転写フィルムを用いて所定の表面形状を有する光散乱層を簡便で安価に高品質で形成することが出来る。
また、上記課題は、請求項７によればあらかじめ８０〜１５０℃に加熱した被着体に前記透明樹脂層を付与することを特徴とする請求項６に記載の光散乱層の形成方法によって達成される。
被着体をあらかじめ加熱すると転写性が向上し、透明樹脂層と被着体との密着強度が強くなり、被着体から透明樹脂層が剥がれ難くなる。
また、上記課題は、請求項８によれば請求項６または請求項７に記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層の全光線透過率が９０％以上、表面形状が十点平均粗さで１．０μｍ以下、そしてヘイズ度が２０〜６０％であることを特徴とする光散乱膜によって達成される。
このような特性をもった光散乱膜により目標とする光散乱効果が得られる。
また、上記課題は、請求項９によれば請求項６または請求項７に記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層上に金属薄膜を形成したことを特徴とする光散乱反射板によって達成される。
本発明による所定の表面形状を有する光散乱層上に金属薄膜を付与して得られた光散乱反射板は光散乱性能に優れ、従来方法で得られる反射板と比べても著しく目標とする光散乱反射性能を有する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明により提供する光散乱層形成用転写フィルムは、一例としては図１の構成よりなる。最も大きな特徴は所定の表面形状を既に形成してある離型層の上に透明樹脂を主成分とした層が形成されており、この透明樹脂層と被着体とを加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、透明樹脂層と離型層の間から透明樹脂層以外の層を剥ぎ取ることにより、被着体上には透明樹脂層のみが転写付与できることであり、またこの時、透明樹脂層表面は、所定の凹凸が付与されている離型層（マット化離型層）の表面形状を移し取っていることが大きな特徴である。
【００１３】
つまり、本発明の光散乱層形成用転写フィルムにより、被着体上には所定の表面凹凸を有した透明樹脂層を付与することができ、しかもこの層は顔料を含有しないが、表面凹凸により光散乱性能を有することが特徴である。
【００１４】
以下、本発明の光散乱層形成用転写フィルムの実施形態について説明する。
図１において、１は保護フィルムであり、透明樹脂層を保護するために設けてある。透明樹脂層を被着体に転写する際に剥がしてしまうので、透明樹脂層から剥離することが可能な程度に疑似接着していることが必要である。使用可能な基材としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のフィルムをそのまま使用するか、場合によってはこれらのフィルム基材に離型処理を施して使用することができる。保護フィルムの厚さは特に制限はないが、１０μｍ厚〜５０μｍ厚が好ましい。
【００１５】
２は透明樹脂層で、感光性を有する樹脂、あるいは非感光性の樹脂のいずれも使用することが可能で、場合によっては両者を混合して使用、積層して使用することもできる。また二種類以上の感光性樹脂を積層して使用したり、また非感光性樹脂を積層して使用することもできる。
つまり、被着体に転写付与後、所定の表面形状が透明樹脂層表面に付与されるが、その後工程で加熱処理（ベイキング処理）が施される。これにより、光散乱層の耐溶剤性、表面強度が付与できるのであるが、このとき加熱処理により表面の凹凸がメルトして表面形状が変化することがある。つまり光散乱特性が変化してしまうのである。そのため、感光性樹脂を使用して光照射により表面を硬化させて、加熱処理により表面形状が変化しないようにするか、あるいは非感光性樹脂でも加熱処理で表面形状が大きく変化しないものを使用するか、場合によっては、感光性樹脂と非感光性樹脂を混合して使用し、光照射により表面を硬化させるか、または感光性樹脂と非感光性樹脂を積層させる構成にして、表面に現れる方に感光性樹脂を使用して光照射により表面を硬化させ、被着体に接する方を被着体との接着性を重視した非感光性樹脂を使用することも有効である。
【００１６】
透明樹脂層２の塗布量は離型層の表面形状を移し取れる厚みが必要であり、０．５〜２０μｍ厚が好ましい。
透明樹脂層２として用いることができる感光性樹脂の具体例を以下に示す。水溶性の感光性樹脂としては、
（１）ゼラチン、フィッシュグルー、アラビアゴム、ポリビニルアルコール等の水溶性樹脂と重クロム酸アンモニウム、重クロム酸カリウム、クロム酸アンモニウムとの組成物。
（２）クエン酸第二鉄アンモニウム、蓚酸第二鉄アンモニウムの如き露光によって第一鉄イオンを与える感光性第二鉄とゼラチンの如き水溶性樹脂からなる組成物。
（３）ゼラチン、フィッシュグルー、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水溶性樹脂と、ｐ−アミノジフェニルアミン、ベンジン、ジアニシジン、トルイソジンなどのジアミノ化合物のテトラゾニウム塩、またはｐ−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドを縮合したジアゾ樹脂とからなる組成物。
（４）ｐ−ジアゾジフェニルアミンの如きジアゾ化合物とパラホルムアルデヒドを縮合したジアゾ樹脂とからなる組成物。
（５）４，４'−ジアジドスチルベンゼン、２，２'−ジスルホン酸ソーダの如きアジド化合物とポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン等の水溶性樹脂からなる組成物。
（６）４，４'−ジアジドスチルベンゼン、４，４'−ジアジドカルコンなどのアジド化合物の環化ゴムとからなる組成物。
（７）ナフトキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸エステル等のキノンジアジド化合物とアルカリ可溶性フェノールホルムアルデヒド樹脂との組成物。
（８）ポリビニルアルコールの桂皮酸エステルのような分子中に桂皮酸基が導入されたポリマーとニトロアセナフテン、１，２−ベンザンスラキノン、ミヒラーズケトン等の増感剤からなる組成物。
（９）ポリビニルアルコールにスチルビニリウム基、スチルバゾリウム基、スチルキノリウム基等の感光性基を付加した変性ポリビニルアルコール組成物。
などが使用できる。
【００１７】
感光性樹脂で溶剤系のものについては、カルボン酸基と不飽和二重結合を有する単量体から得られる重合体樹脂、あるいは二種類以上の単量体を共重合させて得られる重合体樹脂に、光重合性モノマー、光重合性開始剤、溶剤を混合し、必要に応じて界面活性剤を添加して得た感光性樹脂が挙げられる。
【００１８】
上記重合体樹脂の具体例としては、カルボン酸基と不飽和二重結合を有する単量体としてアクリル酸、メタアクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに酸無水物を付加させたもの、そして共重合体を形成する他の単量体としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート等を挙げることができ、これらを一種類、または二種類以上を組み合わせて得た共重合体を挙げることができる。
【００１９】
光重合性モノマーの具体例としては、二官能モノマー、三官能モノマー、多官能モノマーがある。二官能モノマーとしては、トリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等がある。三官能モノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等がある。多官能モノマーとしては、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等がある。
【００２０】
光重合性モノマーの添加量は特に限定されないが、重合体樹脂の固形分と光重合性モノマーの固形分の比率が９０／１０〜３０／７０であることが好ましい。ここで重合体樹脂量の添加量が多い場合、光重合性モノマー量が少ないために光重合が不完全になりやすく、かなり多量の紫外線を照射する必要が出てくるし、場合によっては光重合しなくなる。また光重合性モノマーの添加量が過剰に多い場合、透明樹脂層の凝集力が低下するため被着体への転写行程において、転写フィルムのエッヂ部から透明樹脂のはみ出しが発生したり、支持体を剥離除去する際に透明樹脂層が凝集破壊を起こすなどのトラブルが発生することがある。
【００２１】
また光重合性開始剤としてはトリアジン系化合物として、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４'−メトキシ−１'−ナフチル）４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等、及びこれらの混合物が使用できる。
【００２２】
さらに、アセトフェノン系化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル（４−ドデシル）プルパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンー１等がある。
【００２３】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、４，４−ジエチルアミノベンゾフェノン、３，３−ジメチルー４−メトキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾフェノン安息香酸メチル等がある。
チオキサンソン系化合物としては、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン等がある。
イミダゾール系化合物としては、２−（２，３−ジクロロフェニル）−４，５−ジフェニルーイミダゾール二量体、２−（２，３−ジクロロフェニル）−４，５−ビス（３−メトキシフェニル）―イミダゾール二量体があげられる。
【００２４】
透明樹脂層２に、上記の感光性の樹脂を使用する場合、被着体に付与後、紫外線照射により光重合、あるいは光架橋を充分させる。なお場合によっては被着体に転写後、ベースフィルムを通して露光を実施してからベースフィルムを剥がす場合、あるいは転写後、ベースフィルムを通してプレ露光してからベースフィルムを剥がし、その後、充分に光照射させる場合もあり、透明樹脂層として選択した感光性樹脂の特徴により、最適な転写付与方法を選ぶことができる。
【００２５】
また、非感光性の樹脂としては、一般に塗膜形成樹脂として用いられている樹脂が使用可能であり、塗膜形成後無色透明である樹脂が好ましい。例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。また、硬化型樹脂の場合、エポキシ系硬化剤、メラミン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤などを使用する熱硬化系が使用できる。
なお、感光性樹脂と非感光性樹脂を１層中に併用して使用する場合は、相溶性の良いものを選択すれば、その種類に限定されるものではない。
【００２６】
３はマット化された離型層であり、表面に凹凸が付与されている。また、このような表面形状をコントロールするために離型層３中には顔料が含有されることが好ましい。離型層３として使用される樹脂は支持体または支持体上に設けられたクッション層との密着性が良好であり、かつ透明樹脂層との１８０ー剥離時の剥離力が０．８〜１０．０g/25mmの範囲（好ましくは１．０〜５．０g/25mm）となる樹脂、が使用でき、例えばウレタン樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂、あるいはこれらとの共重合物、混合物等が挙げられる。その他ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、そしてカルボキシメチルセルロース等の一般的な水溶性高分子樹脂も使用できる。
【００２７】
また離型層３の表面粗さを十点平均粗さで０．２〜２．０μｍになるように、またヘイズ度が３０〜６０％となるように形成することが好ましい。離型層３の表面形状は、そのまま透明樹脂層２を被着体に転写付与した際の表面形状、つまり光散乱層の表面形状を決めることになる。この表面形状が光散乱層上に金属薄膜を形成して光散乱反射板とした時の光散乱性能を左右する。十点平均粗さが０．２μｍ未満であると、全反射光量に対する正反射光成分が多くなるため充分な光散乱反射性能が得られなくなる。また十点平均粗さが２．０μｍを超えると、表面の凹凸が大きいために、金属薄膜の形成が均一にできなかったり、また金属薄膜上に形成されるカラーフィルター層、オーバーコート層の表面性が劣るため、透明電極が断線する問題がある。
また、十点平均粗さが０．２〜２．０μｍであっても、その表面凹凸の密度が光散乱性能を左右する。そこで表面凹凸の突起密度の指標としてヘイズ度の管理が必要である。良好な光散乱性能を得るためには、ヘイズ度は３０〜６０％であることが望ましい。ヘイズ度が３０％を下回る状態では表面の突起密度が疎なため、金属薄膜を形成しても正反射光成分が多くなり充分な光散乱反射性能は得られない。ヘイズ度が６０％を超える状況では、その表面は当然突起密度が密な状態になるため表面平滑性が劣り、金属薄膜の形成が不均一になったり、カラーフィルター層が不均一になり色ムラが発生する原因となる。
本発明では特に離型層の十点平均粗さが０．５〜１．５μｍ、ヘイズ度が４０〜６０％の範囲であることがより好ましい。
なお、十点平均粗さの測定方法に関してはＪＩＳ Ｂ ０６０１、ヘイズ度の測定方法に関してはＪＩＳ Ｋ ７１０５に記載されている。
【００２８】
さて、離型層３を十点平均粗さ０．２〜２．０μｍで作製するには、顔料としては平均粒子径が０．１〜４．０μｍの範囲のものであれば、無機系、有機系のいずれのものも使用することができる。また、これらの顔料を二種以上混合して使用することもできる。平均粒子径が０．１μｍ未満の顔料を使用する場合、離型層表面を所定の表面形状で形成するためには樹脂成分を極端に減配する必要があり、この場合表面強度が弱くなるため顔料の欠落が発生しやすくなる。また、平均粒子径が４．０μｍを超えるものであると、顔料が大きいため、十点平均粗さ０．２〜２．０μｍで離型層を作製することが困難となる。樹脂成分の増配によりある程度のコントロールはできるが、離型層表面の顔料密度が低下してしまうため、光散乱層の突起密度が疎になることになり光散乱性能は著しく低下する。本発明では上記平均粒子径が０．５〜３．５μｍの範囲であることが特に好ましい。
【００２９】
顔料の具体例としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、酸化セリウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムや、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、シリコン系樹脂などの顔料が使用できる。このなかでも、特に有機系のものは粒度分布の非常に狭いものが得られやすく、均一な面性を得るために好ましい。
【００３０】
また、離型層３中の顔料添加量は、離型層の樹脂固形分と顔料固形分の比率が９５／５〜５０／５０であることが望ましいが、前述のごとく使用される樹脂の種類や顔料の種類、そして粒径などにより最適添加量を決める必要がある。顔料の添加量が多くなると、離型性を有する樹脂を使用していても、透明樹脂層と接触する表面積が増えるために剥離が重くなり、前述の剥離力範囲０．８〜１０．０g/25mmを越える場合がある。なおこの場合、離型層上に剥離力調整層として離型層で使用している樹脂、あるいは離型層で使用している樹脂と良好な剥離性を有する樹脂を表面形状が損なわれない程度に薄膜で設けることで、剥離力を前述の範囲内にコントロールすることも可能である。また、顔料の添加量が多くなると前述のヘイズ度が６０％を超えてしまう場合が考えられる。なお、本発明では上記比率が９０／１０〜６０／４０であることが特に望ましい。
離型層３の厚さは特に限定されるものではないが、０．５〜５．０g/m2の乾燥重量が好ましい。
【００３１】
また、４はクッション層で、透明樹脂層を被着体に加熱、加圧下で転写する際、被着体の表面に多少の凹凸があってもエアーの混入がなく確実に転写するために設けることが好ましい。また、そのためにはクッション層の厚さはその材料特性にもよるが、５〜５０μｍが好ましい。５μｍ未満であると、場合によっては転写不良（エアー混入）の発生することがあるし、また５０μｍを超えると、クッション層が厚いために転写フィルムの熱伝導性が劣り、転写の際に転写ロールからの熱でクッション層を充分軟化できないため、やはり転写不良の原因となる場合があるし、転写条件によっては軟化できても、転写フィルムのエッヂ部からクッション層材料がはみ出して、転写ロールや被着体表面を汚してしまうことがある。
【００３２】
クッション層４の材料としては、熱可塑性の樹脂が使用でき、例えばエチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、エチレン酢酸ビニル共重合体、低密度ポリエチレン、エチレンエチルアクリレート共重合体、スチレンとイソプレン、あるいはブタジエンの共重合体、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂等があげられる。これらの樹脂を単独で、あるいは適当な配合で混合したり、適当な組み合わせで積層させて使用することができる。また必要であれば、可塑剤を添加しても良い。
【００３３】
５の支持体は従来公知のプラスチックフィルムが利用できる。例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、トリアセテート等があげられる。特に機械強度に強く、熱安定性に優れたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましい。支持体の厚さは特に制限はないが、１５０μｍ〜３５μｍが好ましい。これは転写フィルムの製品形態、つまりロール状製品に仕上げる時、支持体が１５０μｍを超える厚さのフィルムの場合では転写フィルムの剛度が高くなるため、ロール仕上げや既定幅へのスリット作業でカバーフィルムにウキが発生したり、製品重量が重くなり既定長にロールが仕上げられない等の、作業上のトラブルが発生することがある。また、転写フィルムの熱伝導性が劣るため、被着体への転写の際に転写温度を高くするか、転写速度を落とさないと良好な転写が得られないことになり、作業性、経済性の点で好ましくない。
【００３４】
また３５μｍ未満の厚さではフィルムにシワが入りやすく作業性に劣ったり、あるいはバック層、クッション層付与時のカールの問題が顕著になり好ましくない。
なお、剥離帯電によるゴミの混入防止のために、プラスチックフィルムの面積固有抵抗値は１０８ 〜 １０Ωが好ましい。このため、帯電防止処理フィルムを使
用するか、又は／及び６の帯電防止層を付与したフィルムを支持体として使用することが好ましい。
【００３５】
次に、上述の構成による図１の光散乱層形成用転写フィルムの製造方法について説明する。まず帯電防止処理された、又は／及び裏面に帯電防止層を付与した支持体上にクッション層を塗設する。クッション層は樹脂塗布液をロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設したり、樹脂を溶融させて支持体と共に共押し出しすることによって塗設することができる。支持体との接着性が悪い場合は、支持体上に接着補助処理（アンカー処理）を施すか、易接着処理された支持体を使用しても良い。なお、本発明におけるクッション層を設けた支持体には、支持体自身がクッション性を有するものも包含されるが、この場合、クッション層を新たに塗設する必要はない。
【００３６】
次に離型層をクッション層上に塗設する。離型層は顔料を含有する離型性樹脂の塗布液をロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設する。塗布液の調製について、粉体である顔料は樹脂中にダイレクトに添加しても均一な分散状態を得ることが困難であるため、まず顔料を適当な溶媒中で分散機で分散するか、あるいはガラスビーズを添加して分散機で分散する。また必要に応じて分散剤を添加したりすることで顔料分散液を調製してから樹脂中に添加することで塗布液を調製する。
次に離型層上に透明樹脂層を塗設する。透明樹脂層もクッション層や離型層の塗設方法と同様にロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設することができる。
【００３７】
最後に透明樹脂層を保護するために保護フィルムを貼合する。貼合は適当な条件の温度、圧力下で貼合することで、容易に実施することができる。
【００３８】
以上説明した図１の転写フィルムを用いて被着体上に所定の表面形状を有する透明樹脂層を付与する工程での転写条件について図２を参照しながら説明する。
まず保護フィルム１を剥離し（図２（ａ）参照）、現れた透明樹脂層２と被着体７表面とを貼合させる（同（ｂ）参照）。貼合は公知のラミネーターを使用し、ラミネーターのロール温度８０〜１５０℃、圧力３〜１０Kg/cm2、速度３００〜１５００mm/minの条件で実施するのが実用上好ましい。
【００３９】
貼合時のロール温度に関して、８０℃未満の貼合温度では透明樹脂層２と被着体７との接着性に劣り貼合不良の発生することがある。また１５０℃を超える貼合温度では転写フィルムの熱変形によるシワの発生や転写フィルムのエッヂから溶融したクッション層樹脂がはみ出して被着体上に残渣として残ったり、ラミネーターロールを汚してしまうなどの問題が発生するので好ましくない。貼合時の圧力に関しては、３Kg/cm2未満の圧力では貼合力が弱くなり、貼合不良となる可能性が高くなり、また１０Kg/cm2を超える圧力では貼合力は強くなるものの、ラミネーターロールを痛めたり、転写フィルムの物理的変形によるシワの発生や被着体の破損などの問題が起きやすくなる。なお、貼合速度は貼合温度や貼合圧力との兼ね合いがあるものの、３００mm/min未満の速度では生産性の面で実用的ではないし、また１５００mm/minを超える速度では転写フィルムの走行不良が発生しやすくなったり、被着体、及び転写フィルムの熱伝導性の点で貼合面の温度が充分高くならないため、貼合不良の発生することがある。また、被着体７をあらかじめ８０〜１５０℃に加熱すると転写性は向上し、透明樹脂層２と被着体７との密着強度が強くなるので、被着体７から透明樹脂層２が剥がれにくくなり好ましい。８０℃未満の加熱では転写速度にもよるが、充分な効果が得られにくく、また１５０℃を超える加熱では転写フィルムが被着体７に接触した瞬間の熱変形によりシワが発生したり、透明樹脂層２が発泡してエアーが発生する場合がある。本発明では特に９０〜１３０℃の範囲に被着体を加熱するのが好ましい。
【００４０】
ラミネーターによる貼合が終了した後、離型層３と透明樹脂層２間から透明樹脂層２以外の物（支持体５、クッション層４、離型層３等）を剥離し（同（ｃ）参照）、被着体７上には透明樹脂層２のみを残す（同（ｄ）参照）。この透明樹脂層表面は離型層３表面の凹凸を映し取っており、所定の表面形状を有している。
【００４１】
次に透明樹脂層２が感光性を有する場合、必要であれば所定のパターンを有するマスクを介して紫外線照射するか、あるいは不要であればマスクを介さずに全面に対して紫外線照射する。その後、現像工程、リンス工程を経てパターニングされた、あるいは全面光硬化した透明樹脂層を得る。反射板製造のために透明樹脂層の上に金属膜を蒸着法で作製する場合、蒸着中に透明樹脂層に熱がかかるため、透明樹脂層中の揮発成分により金属膜が均一に付与できなかったり、透明樹脂層表面の熱変形により金属膜が均一に付与できないことがある。このため、透明樹脂層を前処理として１３０〜２５０℃の熱で加熱処理しておくと良い。透明樹脂層が非感光性の場合、前記の露光、現像工程は不要であるが、硬化を進めるために、場合によっては１３０℃以下の温度で熱処理を施してから前記前処理をおこなっても良い。
【００４２】
以上のようにして、図１の転写フィルムを用いて被着体７上に所定の表面形状を有する透明樹脂層２を形成することができる。なお、得られた透明樹脂層２はマット化離型層３の表面形状を移し取っており、その表面の凹凸形状のために光散乱性を有する。
また、このようにして形成された透明樹脂層（光散乱層）の全光線透過率が９０％以上で、十点平均粗さが１．０μｍ以下、ヘイズ度が２０〜６０％であることが好ましい。光透過性が低いと半透過タイプ反射型ＬＣＤに使用することが困難になる。また、ヘイズ度が２０％を下回る状態では表面の突起密度が疎であるため、金属薄膜を形成しても正反射光成分が多くなり充分な光散乱性能は得られない。ヘイズ度が６０％を超える状態では、その表面は突起密度が密な状態になるため表面平滑性が劣り、金属薄膜の形成が不均一になったり、また金属薄膜上に形成されるカラーフィルター層に色ムラが発生したり、オーバーコート層の表面性が劣る問題が発生する。
なお、本発明では、光散乱層の十点平均粗さが０．５〜１．０μｍ、ヘイズ度が３０〜６０％の範囲であることが特に望ましい。
【００４３】
またこのようにして形成した光散乱層に対して、表面の凹凸を覆うように金属薄膜８を形成すると光散乱反射板を作製することができる（同（ｅ）参照）。金属薄膜はアルミニウム、クロム、ニッケル、パラジウム、銀などが単体で、あるいは複合物のかたちで形成することができ、金属薄膜形成方法としては蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法などの公知の方法が採用できる。また、金属薄膜の厚みは２００〜１０００Å、好ましくは３００〜５００Åの範囲で、目標透過率と目標光散乱性を得ることができる厚みに設定することができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項１の発明によれば、所定の表面形状を有する光散乱層を非常に簡便で、安価に、かつ高品質で製造することができるという効果を奏する。
また、請求項２の発明によれば、離型層の表面形状が十点平均粗さで０．２〜２．０μｍであり、ヘイズ度が３０〜６０％である表面特性をもった離型層を有する転写フィルムにより目標とする光散乱性能を得ることができる。
また、請求項３の発明によれば、離型層中に顔料を含有することにより離型層表面を目標とする表面形状で形成することが出来る。
また、請求項４の発明によれば、平均粒子径が０．１〜４．０μｍである顔料を離型層中に含有することにより目標とする表面形状の離型層を形成することが出来る。
また、請求項５の発明によれば、顔料を所定の割合で離型層中に含有することにより目標とする表面形状と適度な剥離性が得られる。
また、請求項６の発明によれば、本発明の光散乱層形成用転写フィルムを用いて所定の表面形状を有する光散乱層を簡便で安価に高品質で形成することが出来る。
また、請求項７の発明によれば、被着体をあらかじめ加熱すると転写性が向上し、透明樹脂層と被着体との密着強度が強くなるので、被着体と透明樹脂層との剥離を防止できる。
また、請求項８によれば、形成された光散乱層の全光線透過率が９０％以上であり、表面形状が十点平均粗さで１．０μｍ以下、そしてヘイズ度が２０〜６０％であるような特性をもった光散乱膜により目標とする光散乱効果が得られる。
また、請求項９の発明によれば、本発明による光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層上に金属薄膜を形成したことで得られた光散乱反射板は光散乱性能に優れ、従来方法で得られる反射板と比べても著しく目標とする光散乱反射性能を有する。
【００４５】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明の特徴とするところをより具体的に説明する。
実施例１
（転写フィルムの製造）
支持体として、７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：面積固有抵抗値１０8Ω）を用い、クッション層は、低密度ポリエチレン（ミラソンＭ１１Ｐ：三井・デュポンポリケミカル株式会社製）２０μｍをＴダイによる溶融膜で支持体上に付与した。なおこの時、クーリングロールはミラーロールを使用して表面平滑性を高めた。
【００４６】
離型層は透明樹脂層と離型性を有する樹脂として、テスファイン３２２（メラミン系樹脂：日立化成ポリマー株式会社製）を選択し、これへの添加顔料としてエポスターＳ１２（平均粒径１．２μｍ、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物：株式会社日本触媒製）を用い、これをトルエン/酢酸エチルの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で樹脂に添加して充分混合することで塗液を得た。なお、顔料の平均粒径はレーザー回折式粒度分布測定装置で測定し、体積５０％の粒径値で示した。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。この時、樹脂固形分と顔料固形分の比率が８５／１５になるように調製し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化離型層の表面形状として、十点平均粗さは１．０２μｍ（三次元表面粗さ測定器 ＳＥ−３０Ｋ 小坂研究所製使用。以下同じ）であり、ヘイズ度は５１．６％（直読ヘイズメーター 東洋精機製作所製使用。以下同じ）であった。
【００４７】
透明樹脂層は主成分のベンジルメタアクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリレート共重合体（分子量１５０００、酸価９８．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）とモノマー成分として多官能アクリレート（Ｍ−４００：東亞合成株式会社製）を固形分比で５０／５０になるようにし、これに開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（IRGACURE369：チバガイギー株式会社製）を対固形１０％で添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解し、２０％塗布液とし、バーコート法にて離型層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
【００４８】
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを透明樹脂層と６０℃で貼合し擬似接着させた。
（被着体への転写付与）
カバーフィルムを剥がした後、現れた透明樹脂層と被着体であるガラス基板を合わせてラミネーター（大成ラミネーター製）で貼合し、その後ベースフィルムと離型層を同時に剥離除去することで、ガラス基板上に既定の表面凹凸を有した透明樹脂層を付与した。なおラミネーターでの転写条件を下に示す。この時、ガラス基板は転写直前に１００℃になるように予め加熱した。
転写条件
転写温度：１２０℃、転写圧力：６Ｋｇｆ／ｃｍ2、転写速度：１ｍ／分
ガラス基板に転写後、ベースフィルム背面よりプレ露光として全体にＵＶ照射２０ｍｊ/ｃｍ2（３６５ｎｍでの積算光量）を実施し、透明樹脂層を半硬化状態にした後、離型層よりベースフィルムを剥離し、さらに透明樹脂層全体にＵＶ照射５００ｍｊ/ｃｍ2により完全に光硬化させ、その後２４０℃、４０分の加熱処理をして目的の光散乱層を得た。
この光散乱層は、十点平均粗さが０．８３μｍ、ヘイズ度４０．５％、全光線透過率９１．４％であった。
【００４９】
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、アルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。アルミニウム薄膜は真空蒸着法により厚さ３００Åで形成した。蒸着機は高真空蒸着装置（ＪＥＥ−４Ｘ 日本電子製）を使用し、ターゲット金属はアルミニウム９９．９９％を使用した。
こうして作製した光散乱反射板の拡散反射率を分光光度計（Ｕ−３３１０形分光光度計：日立製作所製）で測定したところ７３％（５５０ｎｍ）であり、きわめて優れた光散乱反射特性を示した。また、このとき透過率は６．１％であった。
【００５０】
実施例２
（転写フィルムの製造）
支持体として７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：面積固有抵抗値１０８Ω）を用い、クッション層はアクリル系共重合樹脂（Ｍｎ１２７０００，Ｔｇ３５℃：三菱レイヨン株式会社製）を乾燥後の塗布厚が１５μｍになるように塗設した。
離型層は透明樹脂層と離型性を有する材料のなかから、ポリビニルアルコール（Ｂ−１７：電気化学工業株式会社製）を用い、溶媒として水／メタノールで溶解させたものに、顔料としてＸ５２−８５４（平均粒径０．８μｍ、シリコンパウダー：信越化学工業株 式会社製）をあらかじめ水／メタノールの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。この時、離型層塗液は樹脂固形分と顔料固形分の比率が６０／４０になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化離型層の表面形状は十点平均粗さは０．６８μｍであり、ヘイズ度は５０．８％であった。
【００５１】
透明樹脂層は主成分のベンジルメタアクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリレート共重合体（分子量１６０００，酸価９５．８ｍｇＫＯＨ・ｇ）にモノマー成分として４官能アクリレート（ＥＢ１４０：ダイセル・ユーシービー株式会社製）を固形分比で４０／６０になるようにし、これに開始剤である２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド（Lucirin TPO：ＢＡＳＦ製）を対固形１０％添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解し、２０％塗布液としてバーコート法にて離型層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを透明樹脂層と３０℃で貼合し疑似接着させた。
【００５２】
（被着体への付与）
実施例１と同じプロセス、各条件でガラス基板へ転写し、やはり実施例１と同じ条件でベイク処理を実施することにより光散乱層を得た。
この光散乱層は十点平均粗さが０．５４μｍ、ヘイズ度４６．１％、全光線透過率は９２．９％であった。
【００５３】
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同じ方法でアルミニウム薄膜を付与した。
得られた光散乱反射板の拡散反射率は７３．６％、透過率は６．２％であった。このように表面平滑性に優れ、また光反射特性に優れる光散乱反射板が得られた。
【００５４】
実施例３
（転写フィルムの製造）
支持体として７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：面積固有抵抗値１０８Ω）を用い、クッション層は実施例２と同じ樹脂を同じ方法で支持体上に塗設した。
離型層に使用した樹脂も実施例２と同じであるが、顔料はトスパール１３０（平均粒径 ３μｍ、シリコンパウダー：東芝シリコーン株式会社製）をあらかじめ水／メタノールの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。この時、離型層塗液は樹脂固形分と顔料固形分の比率が９０／１０になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚５μｍになるように塗設した。
【００５５】
得られたマット化離型層の表面形状は十点平均粗さは１．１３μｍであり、ヘイズ度は５７．５％であった。
透明樹脂層は主成分の樹脂は実施例２と同じものを用い、モノマー成分として多官能アクリレート（Ｍ−４００：東亜合成株式会社製）と３官能アクリレート（Ｍ−３１０： 東亜合成株式会社製）を固形分比で４０／１０／５０になるようにし、これに開始剤である２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド（Lucirin TPO ：ＢＡＳＦ製）を対固形１０％添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解し、２０％塗布液としてバーコート法にて離型層上に乾燥後の塗布厚が３μｍになるように塗設した。
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを透明樹脂層と３０℃で貼合し疑似接着させた。
【００５６】
（被着体への付与）
基板の予熱温度を１２０℃にした以外は実施例１と同じプロセス、各条件でガラス基板へ転写し、やはり実施例１と同じ条件でベイク処理を実施することにより光散乱層を得た。
この光散乱層は十点平均粗さが０．９４μｍ、ヘイズ度５２．３％、全光線透過率は９１．２％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同じ条件でアルミニウム薄膜を付与した。
得られた光散乱反射板の拡散反射率は７８．３％、透過率は４．３％であった。
【００５７】
実施例４
（転写フィルムの製造）
支持体として７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：面積固有抵抗値１０８Ω）を用い、クッション層は実施例２及び実施例３と同じ樹脂を同じ方法で支持体上に塗設した。
離型層に使用した樹脂も実施例２及び実施例３と同じであるが、顔料は実施例１と同じエポスターＳ１２（平均粒径１．２μｍ、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物：株式会社日本触媒製）をあらかじめ水／メタノールの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。この時、離型層塗液は樹脂固形分と顔料固形分の比率が９０／１０になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化離型層の表面形状は十点平均粗さは０．８９μｍであり、ヘイズ度は４３．２％であった。
【００５８】
透明樹脂層は実施例２と同じ樹脂、モノマー、開始剤を用い、配合量も同じものを使用した。この塗液をバーコートにて離型層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを透明樹脂層と３０℃で貼合し疑似接着させた。
【００５９】
（被着体への付与）
実施例１と同じプロセス、各条件でガラス基板へ転写し、やはり実施例１と同じ方法でベイク処理を実施することにより光散乱層を得た。
この光散乱層は十点平均粗さが０．７８μｍ、ヘイズ度３８．６％、全光線透過率は９３．１％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同じ条件でアルミニウム薄膜を付与した。
得られた光散乱反射板の拡散反射率は５０．１％、透過率は５．１％であった。実施例４で得られた光散乱反射板は拡散反射率は低いものの正反射率が高く、いわゆる指向性の強い光散乱反射板であった。
【００６０】
【比較例】
比較例１
（転写フィルムの製造）
支持体は実施例１と同じものを使用した。離型層は顔料を添加しないテスファイン３２２単独をクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
透明樹脂層は、使用する材料、配合割合は実施例１と同様であるが、これに樹脂固形分と顔料固形分の比率が８５／１５になるように顔料として実施例１と同じエポスターＳ１２をトルエン／酢酸エチルの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。これを離型層上に乾燥塗布厚が３μｍになるように塗布した。
保護フィルムとして実施例１と同じポリプロピレンフィルムを６０℃で貼合し、疑似接着させた。
【００６１】
（被着体への転写付与）
実施例１と同方法、同条件で被着体であるガラス基板に転写した。転写後背面からのプレ露光を実施せずに離型層よりベースフィルムを剥離し、その後透明樹脂層全体にＵＶ照射５００ｍｊ／ｃｍ2を実施した。その後２４０℃、４０分の加熱処理を実施し、目的の光散乱層を得た。
この光散乱層は、十点平均粗さが０．９８μｍ、ヘイズ度４６．２％、全光線透過率８７．８％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同様にアルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。
作製した光散乱反射板の拡散反射率は６５％（５５０ｎｍ）、透過率は５．８％であった。比較例１の場合、光散乱層中には顔料が存在するため、実施例１と比較して光散乱層はヘイズ度の割に全光線透過率が低くなる。そのため、アルミニウム薄膜形成後の透過率を所定値まで上げるには、アルミニウム蒸着量を少なくする必要があり、従って拡散反射率も下がってしまうのである。
【００６２】
比較例２
（転写フィルムの製造）
実施例１の離型層処方において、樹脂固形分と顔料固形分の比率が９８／２になるように調製した以外は全て同じ材料を使用して、同じ方法で転写フィルムを製造した。
得られたマット化離型層の表面形状として、十点平均粗さは０．４８μｍ、ヘイズ度は１９．８％であった。
（被着体への転写付与）
実施例１と同じ条件、方法で被着体であるガラス基板に転写した。
得られた光散乱層は、十点平均粗さは０．３３μｍ、ヘイズ度は１８．２％、全光線透過率９２．９％であった。
（金属薄膜の形成）
実施例１と同じ条件、方法でアルミニウムの薄膜を形成した。
作製した光散乱反射板の拡散反射率は２０．６％（５５０ｎｍ）、透過率は５．３％であり、実施例１に比べてマット化離型層中の顔料添加量が少なく、目標のヘイズ度まで至らなかったことにより、アルミニウム薄膜形成後の性能として正反射光が強くなったため、拡散反射率がかなり低い値になってしまった。
【００６３】
比較例３
（転写フィルムの製造）
実施例１の離型層処方において、樹脂固形分と顔料固形分の比率が４５／５５になるように調製した以外は全て同じ材料を使用して、同じ方法で転写フィルムを製造した。
得られたマット化離型層の表面形状として、十点平均粗さは１．５１μｍであり、ヘイズ度は８３．８％であった。
（被着体への転写付与）
実施例１と同じ条件、方法で被着体であるガラス基板に転写した。この時、離型層中の顔料割合が多く、離型層とクッション層の界面に存在する顔料が多くなるため、密着力が低下する傾向があった。また離型層表面の突起密度が密であるため透明樹脂層と離型層との接触面積が大きくなることで剥離力が重くなっている。さらに透明樹脂層表面が離型層凹凸の影響により塗布厚が不均一であるため、ガラス基板との密着性が不均一になっていることから、転写性が非常に不安定であり、転写不良が発生しやすく一部転写できない部分が発生した。またベイク処理後に光散乱層の一部はガラス基板から剥離してしまった。
得られた光散乱層は、十点平均粗さが１．２７μｍ、ヘイズ度は７９．３％、全光線透過率は９２．５％であった。
【００６４】
（金属薄膜の形成）
実施例１と同じ条件、方法でアルミニウムの薄膜を形成した。
作製した光散乱反射板の拡散反射率は８７．５％（５５０ｎｍ）、透過率は４．７％であった。マット化離型層のヘイズ度が高くなったため、ガラス基板に転写後の光散乱層のヘイズ度も高くなり、アルミニウム蒸着後の拡散反射率が高くなったものである。ただし、表面性が悪化して十点平均粗さが１．０μｍを超えているため、金属薄膜上に形成される機能層（例えばカラーフィルター層、オーバーコート層、透明電極）を付与する過程でトラブルが発生する。
【００６５】
比較例４
（転写フィルムの製造）
支持体は実施例１と同じものを使用した。離型層は実施例１で使用した透明樹脂テスファイン３２２に添加顔料ＫＭＰ−６００（平均粒径５．０μｍ、シリコンパウダー：信越化学工業株式会社）をトルエン/酢酸エチルの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して、充分混合することで塗液を得た。
これを実施例１と同様にクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。なお、この時の樹脂固形分と顔料固形分の比率が同様になるように８５／１５で調整した。また、塗布厚はウエット状態では実施例１と同様に塗布したが、顔料粒子径が大きいため乾燥後の塗布厚は８μｍであった。
得られたマット化離型層の表面形状は十点平均粗さが３．６０μｍであり、ヘイズ度は８９．８％であった。
透明樹脂層は実施例１と同処方を同方法にて塗設した。乾燥後の塗布厚が３μｍになるように塗設したが、表面粗さが大きいため塗布厚は不均一であった。
保護フィルムとして実施例１と同じポリプロピレンフィルムを８０℃で貼合したが、離型層の表面凹凸の影響で透明樹脂層は均一性に劣り、表面粗さが大きいため接着性は弱かった。
【００６６】
（被着体への転写付与）
実施例１と同方法、同条件で被着体であるガラス基板に転写した。転写後背面から２０ｍｊ／ｃｍ2 のプレ露光を実施して離型層よりベースフィルムを剥離し、その後透明樹脂層全体にＵＶ照射５００ｍｊ／ｃｍ2 を実施した。その後２４０℃、４０分の加熱処理を実施し、目的の光散乱層を得た。
この光散乱層は、十点平均粗さが２．７８μｍ、ヘイズ度８２．３％、全光線透過率９１．８％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同様にアルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。作製した光散乱反射板の拡散反射率は８５．５％（５５０ｎｍ）、透過率は４．３％であった。光散乱層表面の粗さが大きいため金属薄膜形成後の光散乱性は良好であったものの、金属薄膜形成後でも表面粗さが大きいため、その上に形成される機能層（例えばカラーフィルター層、オーバーコート層、透明電極）を付与する過程でトラブルが発生する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光散乱層形成用転写フィルムの一実施例を示す概略縦断面図である。
【図２】本発明の光散乱層の形成方法を工程順に示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
１ 保護フィルム
２ 透明樹脂層
３ マット化離型層
４ クッション層
５ 支持体
６ 帯電防止層
７ 被着体
８ 金属薄膜
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型液晶表示装置などに用いられる光散乱シートまたは光散乱層を有する反射板を製造するための光散乱層形成用転写フィルム、およびそれを用いて光散乱層を形成する方法、その方法により製造された光散乱性を有する光散乱膜及び光散乱反射板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、フラットパネルディスプレイとして最も普及しているカラー液晶表示装置（以下ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）において、液晶パネルの背面にバックライトと呼ばれる光源の配置された透過型ＬＣＤが一般的であった。しかし、近年携帯情報端末（以下ＰＤＡ：Personal Digital Assistant）用ディスプレイとして、また携帯電話用ディスプレイとして、反射型ＬＣＤが市場において急速な勢いで普及している。反射型ＬＣＤは、透過型ＬＣＤのバックライトの代わりに、やはり液晶パネルの背面に反射板を設置することで外光（周囲からの光）を前面に反射して、これを光源として表示を行うものである。このため、反射型ＬＣＤは透過型ＬＣＤに比べてバックライトがないので、薄くて軽量であり、また低消費電力であり、ＰＤＡや携帯電話などのモバイル用途に適している。
【０００３】
従来、反射型ＬＣＤはその構成上二枚の偏光板を使用していたが、偏光板の光吸収による光量損失でパネルの明るさが乏しかったため、現在は偏光板一枚と位相差板で表示を行う方式が一般的である。この場合、液晶相を挟んだ前面基板（カラーフィルターが形成されている基板）上の観測者側には位相差板、偏光板、及び光散乱板が設けられている構成となっている。この光散乱板は光散乱機能を有するものであり、鏡面である反射板への映り込み防止のため、またパネルに入射した光に適度の散乱を生じさせて視認性（コントラスト）を確保するために必要な部材である。
【０００４】
しかしながら、パネル前面に光散乱板が設置されるということは、入射光もその表面により散乱されてしまうため、必ずしも視認性を向上できるとは限らず、また入射光量が減少してしまうことから、パネルの明るさを損なう結果となっていた。また、カラーフィルターが前面基板に形成されていることから、入射光がカラーフィルターを通過後、液晶層を通過して反射板で反射されて再度液晶層、そしてカラーフィルターを通過してパネル外部に出て観測者に至る時、観測者の目の位置により色混ざり、いわゆる視差による画像ボケが発生してしまう問題があった。これらのことは、前面基板にカラーフィルター、その上に光散乱板を配置した反射型ＬＣＤでは避けられない問題であった。
【０００５】
そのため、より高品質な反射型ＬＣＤを得るためには、カラーフィルターを後面基板上に設け、反射板、光散乱板をできるだけカラーフィルターに近い位置に設置する方法や、カラーフィルター自身に光散乱性能を付与させて光散乱板を不要にさせる方法、あるいは光散乱性を有する反射板を用いる方法などが考えられている。
【０００６】
光散乱層の形成方法は種々検討されており、例えば感光性高分子樹脂層を基板上に付与し、フォトリソにより凹凸を形成させる方法、透明樹脂に微粒子顔料（有機顔料、無機顔料、あるいは金属フレーク等）を含有させたものを塗布して凹凸を形成する方法、そして二種類以上の透明樹脂を相分離状態で混合させて形成する方法等が知られている。
【０００７】
しかし、感光性高分子樹脂を用いるフォトリソ法では、基板上に感光性高分子樹脂組成物を塗布・乾燥後、あらかじめ所定のパターンを有したマスクを介して露光、そして現像処理、リンス処理、ベイク処理を経てガラス基板上にパターンを形成するため、作業は非常に繁雑で、行程数が多いことから歩留まり低下の原因となっていた。品質的にも形成するパターンを考慮しないと、最終的な光散乱反射板としての性能において、その表面で作製されたパターンによる光干渉（虹模様）が発生し、画質が著しく低下してしまう場合がある。なお、フォトリソ法で使用される感光性高分子樹脂組成物が高価であったり、また露光装置、現像装置などの製造装置自身も非常に高価なものであるため、フォトリソ法による光散乱板の製造では製造コストが高くなってしまう問題があった。
【０００８】
また、透明樹脂に微粒子顔料を含有させて基板上に付与する方法では使用する顔料の種類、形状、粒径を選択することで表面凹凸をコントロールすることが可能であり、またフォトリソを使用する方法に比べてランダムなパターン形成が可能なため、反射光の光干渉は発生せずに、高品質の光散乱層を形成するには有効な方法である。しかし、散乱層表面に顔料が存在するため、その上に金属薄膜を形成する場合、その表面に存在する樹脂部分と顔料部分において形成される金属薄膜の均一性が劣るため、目標の拡散反射率が得られないことがある。
【０００９】
また、暗所における使用を考慮した半透過タイプ反射型ＬＣＤの場合、暗所ではバックライトを使用して表示を確認することになるため、パネルの光透過性が重要になる。光散乱層中に顔料が含有されていると、バックライトの光を遮ることになり、また、顔料自身による光吸収のため目標の光透過性を得ることが難しい。光透過性を目標値まで高めるために金属薄膜を薄く形成すると、逆に金属薄膜が薄いため拡散反射率が低下してしまうという問題があった。
さらに透明樹脂の相分離状態を使用して光散乱性能を付与する方法では、その表面に凹凸はほとんどないため、この上に金属薄膜を形成すると、その表面は鏡面状態になり光散乱反射効果はほとんど発生しなくなる。このため、本来目標である光散乱反射板は得られない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、反射型液晶表示装置などに用いられる光散乱反射板の製造方法において、上述のような従来の光散乱層形成方法における種々の問題点を解決し、良好な光散乱性能を有する光散乱層を、非常に簡便で、安価に製造することができる転写フィルムを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、請求項１によれば支持体上に順次凹凸を付与した離型層、透明樹脂層を設けてなることを特徴とする光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
この光散乱層形成用転写フィルムにより、被着体上には所定の表面凹凸を有した透明樹脂層を付与することができ、しかもこの層は表面凹凸により光散乱性能を有する。
また、上記課題は、請求項２によれば前記離型層の表面形状が十点平均粗さで０．２〜２．０μｍであり、ヘイズ度が３０〜６０％であることを特徴とする請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このような表面特性をもった離型層を有する転写フィルムにより目標とする光散乱性能が得られる。
また、上記課題は、請求項３によれば前記離型層中に顔料を含有したことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このように離型層中に顔料を含有することにより離型層表面を目標とする表面形状で形成することが出来る。
また、上記課題は、請求項４によれば前記離型層中に含有される顔料の平均粒子径が０．１〜４．０μｍであることを特徴とする請求項３に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このような粒子径をもった顔料を離型層中に含有することにより目標とする表面形状の離型層を形成することが出来る。
また、上記課題は、請求項５によれば前記離型層において樹脂固形分と顔料固形分の比率が９５／５〜５０／５０であることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の光散乱層形成用転写フィルムによって達成される。
このように顔料を所定の割合で離型層中に含有することにより目標とする表面形状と適度な剥離性が得られる。
また、上記課題は、請求項６によれば請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムの透明樹脂層を被着体に加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、支持体および離型層を取り去り、被着体表面に離型層の表面形状を移し取った透明樹脂層を転写し、被着体表面に光散乱層を形成することを特徴とする光散乱層の形成方法によって達成される。
このようにして本発明の光散乱層形成用転写フィルムを用いて所定の表面形状を有する光散乱層を簡便で安価に高品質で形成することが出来る。
また、上記課題は、請求項７によればあらかじめ８０〜１５０℃に加熱した被着体に前記透明樹脂層を付与することを特徴とする請求項６に記載の光散乱層の形成方法によって達成される。
被着体をあらかじめ加熱すると転写性が向上し、透明樹脂層と被着体との密着強度が強くなり、被着体から透明樹脂層が剥がれ難くなる。
また、上記課題は、請求項８によれば請求項６または請求項７に記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層の全光線透過率が９０％以上、表面形状が十点平均粗さで１．０μｍ以下、そしてヘイズ度が２０〜６０％であることを特徴とする光散乱膜によって達成される。
このような特性をもった光散乱膜により目標とする光散乱効果が得られる。
また、上記課題は、請求項９によれば請求項６または請求項７に記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層上に金属薄膜を形成したことを特徴とする光散乱反射板によって達成される。
本発明による所定の表面形状を有する光散乱層上に金属薄膜を付与して得られた光散乱反射板は光散乱性能に優れ、従来方法で得られる反射板と比べても著しく目標とする光散乱反射性能を有する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明により提供する光散乱層形成用転写フィルムは、一例としては図１の構成よりなる。最も大きな特徴は所定の表面形状を既に形成してある離型層の上に透明樹脂を主成分とした層が形成されており、この透明樹脂層と被着体とを加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、透明樹脂層と離型層の間から透明樹脂層以外の層を剥ぎ取ることにより、被着体上には透明樹脂層のみが転写付与できることであり、またこの時、透明樹脂層表面は、所定の凹凸が付与されている離型層（マット化離型層）の表面形状を移し取っていることが大きな特徴である。
【００１３】
つまり、本発明の光散乱層形成用転写フィルムにより、被着体上には所定の表面凹凸を有した透明樹脂層を付与することができ、しかもこの層は顔料を含有しないが、表面凹凸により光散乱性能を有することが特徴である。
【００１４】
以下、本発明の光散乱層形成用転写フィルムの実施形態について説明する。
図１において、１は保護フィルムであり、透明樹脂層を保護するために設けてある。透明樹脂層を被着体に転写する際に剥がしてしまうので、透明樹脂層から剥離することが可能な程度に疑似接着していることが必要である。使用可能な基材としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のフィルムをそのまま使用するか、場合によってはこれらのフィルム基材に離型処理を施して使用することができる。保護フィルムの厚さは特に制限はないが、１０μｍ厚〜５０μｍ厚が好ましい。
【００１５】
２は透明樹脂層で、感光性を有する樹脂、あるいは非感光性の樹脂のいずれも使用することが可能で、場合によっては両者を混合して使用、積層して使用することもできる。また二種類以上の感光性樹脂を積層して使用したり、また非感光性樹脂を積層して使用することもできる。
つまり、被着体に転写付与後、所定の表面形状が透明樹脂層表面に付与されるが、その後工程で加熱処理（ベイキング処理）が施される。これにより、光散乱層の耐溶剤性、表面強度が付与できるのであるが、このとき加熱処理により表面の凹凸がメルトして表面形状が変化することがある。つまり光散乱特性が変化してしまうのである。そのため、感光性樹脂を使用して光照射により表面を硬化させて、加熱処理により表面形状が変化しないようにするか、あるいは非感光性樹脂でも加熱処理で表面形状が大きく変化しないものを使用するか、場合によっては、感光性樹脂と非感光性樹脂を混合して使用し、光照射により表面を硬化させるか、または感光性樹脂と非感光性樹脂を積層させる構成にして、表面に現れる方に感光性樹脂を使用して光照射により表面を硬化させ、被着体に接する方を被着体との接着性を重視した非感光性樹脂を使用することも有効である。
【００１６】
透明樹脂層２の塗布量は離型層の表面形状を移し取れる厚みが必要であり、０．５〜２０μｍ厚が好ましい。
透明樹脂層２として用いることができる感光性樹脂の具体例を以下に示す。水溶性の感光性樹脂としては、
（１）ゼラチン、フィッシュグルー、アラビアゴム、ポリビニルアルコール等の水溶性樹脂と重クロム酸アンモニウム、重クロム酸カリウム、クロム酸アンモニウムとの組成物。
（２）クエン酸第二鉄アンモニウム、蓚酸第二鉄アンモニウムの如き露光によって第一鉄イオンを与える感光性第二鉄とゼラチンの如き水溶性樹脂からなる組成物。
（３）ゼラチン、フィッシュグルー、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水溶性樹脂と、ｐ−アミノジフェニルアミン、ベンジン、ジアニシジン、トルイソジンなどのジアミノ化合物のテトラゾニウム塩、またはｐ−ジアゾジフェニルアミンとパラホルムアルデヒドを縮合したジアゾ樹脂とからなる組成物。
（４）ｐ−ジアゾジフェニルアミンの如きジアゾ化合物とパラホルムアルデヒドを縮合したジアゾ樹脂とからなる組成物。
（５）４，４'−ジアジドスチルベンゼン、２，２'−ジスルホン酸ソーダの如きアジド化合物とポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン等の水溶性樹脂からなる組成物。
（６）４，４'−ジアジドスチルベンゼン、４，４'−ジアジドカルコンなどのアジド化合物の環化ゴムとからなる組成物。
（７）ナフトキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸エステル等のキノンジアジド化合物とアルカリ可溶性フェノールホルムアルデヒド樹脂との組成物。
（８）ポリビニルアルコールの桂皮酸エステルのような分子中に桂皮酸基が導入されたポリマーとニトロアセナフテン、１，２−ベンザンスラキノン、ミヒラーズケトン等の増感剤からなる組成物。
（９）ポリビニルアルコールにスチルビニリウム基、スチルバゾリウム基、スチルキノリウム基等の感光性基を付加した変性ポリビニルアルコール組成物。
などが使用できる。
【００１７】
感光性樹脂で溶剤系のものについては、カルボン酸基と不飽和二重結合を有する単量体から得られる重合体樹脂、あるいは二種類以上の単量体を共重合させて得られる重合体樹脂に、光重合性モノマー、光重合性開始剤、溶剤を混合し、必要に応じて界面活性剤を添加して得た感光性樹脂が挙げられる。
【００１８】
上記重合体樹脂の具体例としては、カルボン酸基と不飽和二重結合を有する単量体としてアクリル酸、メタアクリル酸、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートに酸無水物を付加させたもの、そして共重合体を形成する他の単量体としてメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート等を挙げることができ、これらを一種類、または二種類以上を組み合わせて得た共重合体を挙げることができる。
【００１９】
光重合性モノマーの具体例としては、二官能モノマー、三官能モノマー、多官能モノマーがある。二官能モノマーとしては、トリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート等がある。三官能モノマーとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等がある。多官能モノマーとしては、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等がある。
【００２０】
光重合性モノマーの添加量は特に限定されないが、重合体樹脂の固形分と光重合性モノマーの固形分の比率が９０／１０〜３０／７０であることが好ましい。ここで重合体樹脂量の添加量が多い場合、光重合性モノマー量が少ないために光重合が不完全になりやすく、かなり多量の紫外線を照射する必要が出てくるし、場合によっては光重合しなくなる。また光重合性モノマーの添加量が過剰に多い場合、透明樹脂層の凝集力が低下するため被着体への転写行程において、転写フィルムのエッヂ部から透明樹脂のはみ出しが発生したり、支持体を剥離除去する際に透明樹脂層が凝集破壊を起こすなどのトラブルが発生することがある。
【００２１】
また光重合性開始剤としてはトリアジン系化合物として、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４'−メトキシ−１'−ナフチル）４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等、及びこれらの混合物が使用できる。
【００２２】
さらに、アセトフェノン系化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル（４−ドデシル）プルパン−１−オン、２−ベンジルー２−ジメチルアミノー１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンー１等がある。
【００２３】
ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、４，４−ジエチルアミノベンゾフェノン、３，３−ジメチルー４−メトキシベンゾフェノン、ｏ−ベンゾフェノン安息香酸メチル等がある。
チオキサンソン系化合物としては、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン、２，４−ジメチルチオキサンソン等がある。
イミダゾール系化合物としては、２−（２，３−ジクロロフェニル）−４，５−ジフェニルーイミダゾール二量体、２−（２，３−ジクロロフェニル）−４，５−ビス（３−メトキシフェニル）―イミダゾール二量体があげられる。
【００２４】
透明樹脂層２に、上記の感光性の樹脂を使用する場合、被着体に付与後、紫外線照射により光重合、あるいは光架橋を充分させる。なお場合によっては被着体に転写後、ベースフィルムを通して露光を実施してからベースフィルムを剥がす場合、あるいは転写後、ベースフィルムを通してプレ露光してからベースフィルムを剥がし、その後、充分に光照射させる場合もあり、透明樹脂層として選択した感光性樹脂の特徴により、最適な転写付与方法を選ぶことができる。
【００２５】
また、非感光性の樹脂としては、一般に塗膜形成樹脂として用いられている樹脂が使用可能であり、塗膜形成後無色透明である樹脂が好ましい。例えば、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。また、硬化型樹脂の場合、エポキシ系硬化剤、メラミン系硬化剤、イソシアネート系硬化剤などを使用する熱硬化系が使用できる。
なお、感光性樹脂と非感光性樹脂を１層中に併用して使用する場合は、相溶性の良いものを選択すれば、その種類に限定されるものではない。
【００２６】
３はマット化された離型層であり、表面に凹凸が付与されている。また、このような表面形状をコントロールするために離型層３中には顔料が含有されることが好ましい。離型層３として使用される樹脂は支持体または支持体上に設けられたクッション層との密着性が良好であり、かつ透明樹脂層との１８０ー剥離時の剥離力が０．８〜１０．０g/25mmの範囲（好ましくは１．０〜５．０g/25mm）となる樹脂、が使用でき、例えばウレタン樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂、あるいはこれらとの共重合物、混合物等が挙げられる。その他ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、そしてカルボキシメチルセルロース等の一般的な水溶性高分子樹脂も使用できる。
【００２７】
また離型層３の表面粗さを十点平均粗さで０．２〜２．０μｍになるように、またヘイズ度が３０〜６０％となるように形成することが好ましい。離型層３の表面形状は、そのまま透明樹脂層２を被着体に転写付与した際の表面形状、つまり光散乱層の表面形状を決めることになる。この表面形状が光散乱層上に金属薄膜を形成して光散乱反射板とした時の光散乱性能を左右する。十点平均粗さが０．２μｍ未満であると、全反射光量に対する正反射光成分が多くなるため充分な光散乱反射性能が得られなくなる。また十点平均粗さが２．０μｍを超えると、表面の凹凸が大きいために、金属薄膜の形成が均一にできなかったり、また金属薄膜上に形成されるカラーフィルター層、オーバーコート層の表面性が劣るため、透明電極が断線する問題がある。
また、十点平均粗さが０．２〜２．０μｍであっても、その表面凹凸の密度が光散乱性能を左右する。そこで表面凹凸の突起密度の指標としてヘイズ度の管理が必要である。良好な光散乱性能を得るためには、ヘイズ度は３０〜６０％であることが望ましい。ヘイズ度が３０％を下回る状態では表面の突起密度が疎なため、金属薄膜を形成しても正反射光成分が多くなり充分な光散乱反射性能は得られない。ヘイズ度が６０％を超える状況では、その表面は当然突起密度が密な状態になるため表面平滑性が劣り、金属薄膜の形成が不均一になったり、カラーフィルター層が不均一になり色ムラが発生する原因となる。
本発明では特に離型層の十点平均粗さが０．５〜１．５μｍ、ヘイズ度が４０〜６０％の範囲であることがより好ましい。
なお、十点平均粗さの測定方法に関してはＪＩＳ Ｂ ０６０１、ヘイズ度の測定方法に関してはＪＩＳ Ｋ ７１０５に記載されている。
【００２８】
さて、離型層３を十点平均粗さ０．２〜２．０μｍで作製するには、顔料としては平均粒子径が０．１〜４．０μｍの範囲のものであれば、無機系、有機系のいずれのものも使用することができる。また、これらの顔料を二種以上混合して使用することもできる。平均粒子径が０．１μｍ未満の顔料を使用する場合、離型層表面を所定の表面形状で形成するためには樹脂成分を極端に減配する必要があり、この場合表面強度が弱くなるため顔料の欠落が発生しやすくなる。また、平均粒子径が４．０μｍを超えるものであると、顔料が大きいため、十点平均粗さ０．２〜２．０μｍで離型層を作製することが困難となる。樹脂成分の増配によりある程度のコントロールはできるが、離型層表面の顔料密度が低下してしまうため、光散乱層の突起密度が疎になることになり光散乱性能は著しく低下する。本発明では上記平均粒子径が０．５〜３．５μｍの範囲であることが特に好ましい。
【００２９】
顔料の具体例としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、酸化セリウム、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムや、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、シリコン系樹脂などの顔料が使用できる。このなかでも、特に有機系のものは粒度分布の非常に狭いものが得られやすく、均一な面性を得るために好ましい。
【００３０】
また、離型層３中の顔料添加量は、離型層の樹脂固形分と顔料固形分の比率が９５／５〜５０／５０であることが望ましいが、前述のごとく使用される樹脂の種類や顔料の種類、そして粒径などにより最適添加量を決める必要がある。顔料の添加量が多くなると、離型性を有する樹脂を使用していても、透明樹脂層と接触する表面積が増えるために剥離が重くなり、前述の剥離力範囲０．８〜１０．０g/25mmを越える場合がある。なおこの場合、離型層上に剥離力調整層として離型層で使用している樹脂、あるいは離型層で使用している樹脂と良好な剥離性を有する樹脂を表面形状が損なわれない程度に薄膜で設けることで、剥離力を前述の範囲内にコントロールすることも可能である。また、顔料の添加量が多くなると前述のヘイズ度が６０％を超えてしまう場合が考えられる。なお、本発明では上記比率が９０／１０〜６０／４０であることが特に望ましい。
離型層３の厚さは特に限定されるものではないが、０．５〜５．０g/m2の乾燥重量が好ましい。
【００３１】
また、４はクッション層で、透明樹脂層を被着体に加熱、加圧下で転写する際、被着体の表面に多少の凹凸があってもエアーの混入がなく確実に転写するために設けることが好ましい。また、そのためにはクッション層の厚さはその材料特性にもよるが、５〜５０μｍが好ましい。５μｍ未満であると、場合によっては転写不良（エアー混入）の発生することがあるし、また５０μｍを超えると、クッション層が厚いために転写フィルムの熱伝導性が劣り、転写の際に転写ロールからの熱でクッション層を充分軟化できないため、やはり転写不良の原因となる場合があるし、転写条件によっては軟化できても、転写フィルムのエッヂ部からクッション層材料がはみ出して、転写ロールや被着体表面を汚してしまうことがある。
【００３２】
クッション層４の材料としては、熱可塑性の樹脂が使用でき、例えばエチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、エチレン酢酸ビニル共重合体、低密度ポリエチレン、エチレンエチルアクリレート共重合体、スチレンとイソプレン、あるいはブタジエンの共重合体、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂等があげられる。これらの樹脂を単独で、あるいは適当な配合で混合したり、適当な組み合わせで積層させて使用することができる。また必要であれば、可塑剤を添加しても良い。
【００３３】
５の支持体は従来公知のプラスチックフィルムが利用できる。例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、トリアセテート等があげられる。特に機械強度に強く、熱安定性に優れたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムが好ましい。支持体の厚さは特に制限はないが、１５０μｍ〜３５μｍが好ましい。これは転写フィルムの製品形態、つまりロール状製品に仕上げる時、支持体が１５０μｍを超える厚さのフィルムの場合では転写フィルムの剛度が高くなるため、ロール仕上げや既定幅へのスリット作業でカバーフィルムにウキが発生したり、製品重量が重くなり既定長にロールが仕上げられない等の、作業上のトラブルが発生することがある。また、転写フィルムの熱伝導性が劣るため、被着体への転写の際に転写温度を高くするか、転写速度を落とさないと良好な転写が得られないことになり、作業性、経済性の点で好ましくない。
【００３４】
また３５μｍ未満の厚さではフィルムにシワが入りやすく作業性に劣ったり、あるいはバック層、クッション層付与時のカールの問題が顕著になり好ましくない。
なお、剥離帯電によるゴミの混入防止のために、プラスチックフィルムの面積固有抵抗値は１０８ 〜 １０Ωが好ましい。このため、帯電防止処理フィルムを使
用するか、又は／及び６の帯電防止層を付与したフィルムを支持体として使用することが好ましい。
【００３５】
次に、上述の構成による図１の光散乱層形成用転写フィルムの製造方法について説明する。まず帯電防止処理された、又は／及び裏面に帯電防止層を付与した支持体上にクッション層を塗設する。クッション層は樹脂塗布液をロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設したり、樹脂を溶融させて支持体と共に共押し出しすることによって塗設することができる。支持体との接着性が悪い場合は、支持体上に接着補助処理（アンカー処理）を施すか、易接着処理された支持体を使用しても良い。なお、本発明におけるクッション層を設けた支持体には、支持体自身がクッション性を有するものも包含されるが、この場合、クッション層を新たに塗設する必要はない。
【００３６】
次に離型層をクッション層上に塗設する。離型層は顔料を含有する離型性樹脂の塗布液をロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設する。塗布液の調製について、粉体である顔料は樹脂中にダイレクトに添加しても均一な分散状態を得ることが困難であるため、まず顔料を適当な溶媒中で分散機で分散するか、あるいはガラスビーズを添加して分散機で分散する。また必要に応じて分散剤を添加したりすることで顔料分散液を調製してから樹脂中に添加することで塗布液を調製する。
次に離型層上に透明樹脂層を塗設する。透明樹脂層もクッション層や離型層の塗設方法と同様にロールコート、バーコート、コンマコート、ダイコート、グラビアコートなど公知の塗布方式を用いて塗布、乾燥して塗設することができる。
【００３７】
最後に透明樹脂層を保護するために保護フィルムを貼合する。貼合は適当な条件の温度、圧力下で貼合することで、容易に実施することができる。
【００３８】
以上説明した図１の転写フィルムを用いて被着体上に所定の表面形状を有する透明樹脂層を付与する工程での転写条件について図２を参照しながら説明する。
まず保護フィルム１を剥離し（図２（ａ）参照）、現れた透明樹脂層２と被着体７表面とを貼合させる（同（ｂ）参照）。貼合は公知のラミネーターを使用し、ラミネーターのロール温度８０〜１５０℃、圧力３〜１０Kg/cm2、速度３００〜１５００mm/minの条件で実施するのが実用上好ましい。
【００３９】
貼合時のロール温度に関して、８０℃未満の貼合温度では透明樹脂層２と被着体７との接着性に劣り貼合不良の発生することがある。また１５０℃を超える貼合温度では転写フィルムの熱変形によるシワの発生や転写フィルムのエッヂから溶融したクッション層樹脂がはみ出して被着体上に残渣として残ったり、ラミネーターロールを汚してしまうなどの問題が発生するので好ましくない。貼合時の圧力に関しては、３Kg/cm2未満の圧力では貼合力が弱くなり、貼合不良となる可能性が高くなり、また１０Kg/cm2を超える圧力では貼合力は強くなるものの、ラミネーターロールを痛めたり、転写フィルムの物理的変形によるシワの発生や被着体の破損などの問題が起きやすくなる。なお、貼合速度は貼合温度や貼合圧力との兼ね合いがあるものの、３００mm/min未満の速度では生産性の面で実用的ではないし、また１５００mm/minを超える速度では転写フィルムの走行不良が発生しやすくなったり、被着体、及び転写フィルムの熱伝導性の点で貼合面の温度が充分高くならないため、貼合不良の発生することがある。また、被着体７をあらかじめ８０〜１５０℃に加熱すると転写性は向上し、透明樹脂層２と被着体７との密着強度が強くなるので、被着体７から透明樹脂層２が剥がれにくくなり好ましい。８０℃未満の加熱では転写速度にもよるが、充分な効果が得られにくく、また１５０℃を超える加熱では転写フィルムが被着体７に接触した瞬間の熱変形によりシワが発生したり、透明樹脂層２が発泡してエアーが発生する場合がある。本発明では特に９０〜１３０℃の範囲に被着体を加熱するのが好ましい。
【００４０】
ラミネーターによる貼合が終了した後、離型層３と透明樹脂層２間から透明樹脂層２以外の物（支持体５、クッション層４、離型層３等）を剥離し（同（ｃ）参照）、被着体７上には透明樹脂層２のみを残す（同（ｄ）参照）。この透明樹脂層表面は離型層３表面の凹凸を映し取っており、所定の表面形状を有している。
【００４１】
次に透明樹脂層２が感光性を有する場合、必要であれば所定のパターンを有するマスクを介して紫外線照射するか、あるいは不要であればマスクを介さずに全面に対して紫外線照射する。その後、現像工程、リンス工程を経てパターニングされた、あるいは全面光硬化した透明樹脂層を得る。反射板製造のために透明樹脂層の上に金属膜を蒸着法で作製する場合、蒸着中に透明樹脂層に熱がかかるため、透明樹脂層中の揮発成分により金属膜が均一に付与できなかったり、透明樹脂層表面の熱変形により金属膜が均一に付与できないことがある。このため、透明樹脂層を前処理として１３０〜２５０℃の熱で加熱処理しておくと良い。透明樹脂層が非感光性の場合、前記の露光、現像工程は不要であるが、硬化を進めるために、場合によっては１３０℃以下の温度で熱処理を施してから前記前処理をおこなっても良い。
【００４２】
以上のようにして、図１の転写フィルムを用いて被着体７上に所定の表面形状を有する透明樹脂層２を形成することができる。なお、得られた透明樹脂層２はマット化離型層３の表面形状を移し取っており、その表面の凹凸形状のために光散乱性を有する。
また、このようにして形成された透明樹脂層（光散乱層）の全光線透過率が９０％以上で、十点平均粗さが１．０μｍ以下、ヘイズ度が２０〜６０％であることが好ましい。光透過性が低いと半透過タイプ反射型ＬＣＤに使用することが困難になる。また、ヘイズ度が２０％を下回る状態では表面の突起密度が疎であるため、金属薄膜を形成しても正反射光成分が多くなり充分な光散乱性能は得られない。ヘイズ度が６０％を超える状態では、その表面は突起密度が密な状態になるため表面平滑性が劣り、金属薄膜の形成が不均一になったり、また金属薄膜上に形成されるカラーフィルター層に色ムラが発生したり、オーバーコート層の表面性が劣る問題が発生する。
なお、本発明では、光散乱層の十点平均粗さが０．５〜１．０μｍ、ヘイズ度が３０〜６０％の範囲であることが特に望ましい。
【００４３】
またこのようにして形成した光散乱層に対して、表面の凹凸を覆うように金属薄膜８を形成すると光散乱反射板を作製することができる（同（ｅ）参照）。金属薄膜はアルミニウム、クロム、ニッケル、パラジウム、銀などが単体で、あるいは複合物のかたちで形成することができ、金属薄膜形成方法としては蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法などの公知の方法が採用できる。また、金属薄膜の厚みは２００〜１０００Å、好ましくは３００〜５００Åの範囲で、目標透過率と目標光散乱性を得ることができる厚みに設定することができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、請求項１の発明によれば、所定の表面形状を有する光散乱層を非常に簡便で、安価に、かつ高品質で製造することができるという効果を奏する。
また、請求項２の発明によれば、離型層の表面形状が十点平均粗さで０．２〜２．０μｍであり、ヘイズ度が３０〜６０％である表面特性をもった離型層を有する転写フィルムにより目標とする光散乱性能を得ることができる。
また、請求項３の発明によれば、離型層中に顔料を含有することにより離型層表面を目標とする表面形状で形成することが出来る。
また、請求項４の発明によれば、平均粒子径が０．１〜４．０μｍである顔料を離型層中に含有することにより目標とする表面形状の離型層を形成することが出来る。
また、請求項５の発明によれば、顔料を所定の割合で離型層中に含有することにより目標とする表面形状と適度な剥離性が得られる。
また、請求項６の発明によれば、本発明の光散乱層形成用転写フィルムを用いて所定の表面形状を有する光散乱層を簡便で安価に高品質で形成することが出来る。
また、請求項７の発明によれば、被着体をあらかじめ加熱すると転写性が向上し、透明樹脂層と被着体との密着強度が強くなるので、被着体と透明樹脂層との剥離を防止できる。
また、請求項８によれば、形成された光散乱層の全光線透過率が９０％以上であり、表面形状が十点平均粗さで１．０μｍ以下、そしてヘイズ度が２０〜６０％であるような特性をもった光散乱膜により目標とする光散乱効果が得られる。
また、請求項９の発明によれば、本発明による光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層上に金属薄膜を形成したことで得られた光散乱反射板は光散乱性能に優れ、従来方法で得られる反射板と比べても著しく目標とする光散乱反射性能を有する。
【００４５】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明の特徴とするところをより具体的に説明する。
実施例１
（転写フィルムの製造）
支持体として、７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：面積固有抵抗値１０8Ω）を用い、クッション層は、低密度ポリエチレン（ミラソンＭ１１Ｐ：三井・デュポンポリケミカル株式会社製）２０μｍをＴダイによる溶融膜で支持体上に付与した。なおこの時、クーリングロールはミラーロールを使用して表面平滑性を高めた。
【００４６】
離型層は透明樹脂層と離型性を有する樹脂として、テスファイン３２２（メラミン系樹脂：日立化成ポリマー株式会社製）を選択し、これへの添加顔料としてエポスターＳ１２（平均粒径１．２μｍ、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物：株式会社日本触媒製）を用い、これをトルエン/酢酸エチルの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で樹脂に添加して充分混合することで塗液を得た。なお、顔料の平均粒径はレーザー回折式粒度分布測定装置で測定し、体積５０％の粒径値で示した。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。この時、樹脂固形分と顔料固形分の比率が８５／１５になるように調製し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化離型層の表面形状として、十点平均粗さは１．０２μｍ（三次元表面粗さ測定器 ＳＥ−３０Ｋ 小坂研究所製使用。以下同じ）であり、ヘイズ度は５１．６％（直読ヘイズメーター 東洋精機製作所製使用。以下同じ）であった。
【００４７】
透明樹脂層は主成分のベンジルメタアクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリレート共重合体（分子量１５０００、酸価９８．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）とモノマー成分として多官能アクリレート（Ｍ−４００：東亞合成株式会社製）を固形分比で５０／５０になるようにし、これに開始剤である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（IRGACURE369：チバガイギー株式会社製）を対固形１０％で添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解し、２０％塗布液とし、バーコート法にて離型層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
【００４８】
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを透明樹脂層と６０℃で貼合し擬似接着させた。
（被着体への転写付与）
カバーフィルムを剥がした後、現れた透明樹脂層と被着体であるガラス基板を合わせてラミネーター（大成ラミネーター製）で貼合し、その後ベースフィルムと離型層を同時に剥離除去することで、ガラス基板上に既定の表面凹凸を有した透明樹脂層を付与した。なおラミネーターでの転写条件を下に示す。この時、ガラス基板は転写直前に１００℃になるように予め加熱した。
転写条件
転写温度：１２０℃、転写圧力：６Ｋｇｆ／ｃｍ2、転写速度：１ｍ／分
ガラス基板に転写後、ベースフィルム背面よりプレ露光として全体にＵＶ照射２０ｍｊ/ｃｍ2（３６５ｎｍでの積算光量）を実施し、透明樹脂層を半硬化状態にした後、離型層よりベースフィルムを剥離し、さらに透明樹脂層全体にＵＶ照射５００ｍｊ/ｃｍ2により完全に光硬化させ、その後２４０℃、４０分の加熱処理をして目的の光散乱層を得た。
この光散乱層は、十点平均粗さが０．８３μｍ、ヘイズ度４０．５％、全光線透過率９１．４％であった。
【００４９】
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、アルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。アルミニウム薄膜は真空蒸着法により厚さ３００Åで形成した。蒸着機は高真空蒸着装置（ＪＥＥ−４Ｘ 日本電子製）を使用し、ターゲット金属はアルミニウム９９．９９％を使用した。
こうして作製した光散乱反射板の拡散反射率を分光光度計（Ｕ−３３１０形分光光度計：日立製作所製）で測定したところ７３％（５５０ｎｍ）であり、きわめて優れた光散乱反射特性を示した。また、このとき透過率は６．１％であった。
【００５０】
実施例２
（転写フィルムの製造）
支持体として７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：面積固有抵抗値１０８Ω）を用い、クッション層はアクリル系共重合樹脂（Ｍｎ１２７０００，Ｔｇ３５℃：三菱レイヨン株式会社製）を乾燥後の塗布厚が１５μｍになるように塗設した。
離型層は透明樹脂層と離型性を有する材料のなかから、ポリビニルアルコール（Ｂ−１７：電気化学工業株式会社製）を用い、溶媒として水／メタノールで溶解させたものに、顔料としてＸ５２−８５４（平均粒径０．８μｍ、シリコンパウダー：信越化学工業株 式会社製）をあらかじめ水／メタノールの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。この時、離型層塗液は樹脂固形分と顔料固形分の比率が６０／４０になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化離型層の表面形状は十点平均粗さは０．６８μｍであり、ヘイズ度は５０．８％であった。
【００５１】
透明樹脂層は主成分のベンジルメタアクリレート／メチルメタアクリレート／メタアクリレート共重合体（分子量１６０００，酸価９５．８ｍｇＫＯＨ・ｇ）にモノマー成分として４官能アクリレート（ＥＢ１４０：ダイセル・ユーシービー株式会社製）を固形分比で４０／６０になるようにし、これに開始剤である２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド（Lucirin TPO：ＢＡＳＦ製）を対固形１０％添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解し、２０％塗布液としてバーコート法にて離型層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを透明樹脂層と３０℃で貼合し疑似接着させた。
【００５２】
（被着体への付与）
実施例１と同じプロセス、各条件でガラス基板へ転写し、やはり実施例１と同じ条件でベイク処理を実施することにより光散乱層を得た。
この光散乱層は十点平均粗さが０．５４μｍ、ヘイズ度４６．１％、全光線透過率は９２．９％であった。
【００５３】
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同じ方法でアルミニウム薄膜を付与した。
得られた光散乱反射板の拡散反射率は７３．６％、透過率は６．２％であった。このように表面平滑性に優れ、また光反射特性に優れる光散乱反射板が得られた。
【００５４】
実施例３
（転写フィルムの製造）
支持体として７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：面積固有抵抗値１０８Ω）を用い、クッション層は実施例２と同じ樹脂を同じ方法で支持体上に塗設した。
離型層に使用した樹脂も実施例２と同じであるが、顔料はトスパール１３０（平均粒径 ３μｍ、シリコンパウダー：東芝シリコーン株式会社製）をあらかじめ水／メタノールの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。この時、離型層塗液は樹脂固形分と顔料固形分の比率が９０／１０になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚５μｍになるように塗設した。
【００５５】
得られたマット化離型層の表面形状は十点平均粗さは１．１３μｍであり、ヘイズ度は５７．５％であった。
透明樹脂層は主成分の樹脂は実施例２と同じものを用い、モノマー成分として多官能アクリレート（Ｍ−４００：東亜合成株式会社製）と３官能アクリレート（Ｍ−３１０： 東亜合成株式会社製）を固形分比で４０／１０／５０になるようにし、これに開始剤である２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィンオキサイド（Lucirin TPO ：ＢＡＳＦ製）を対固形１０％添加した。これを溶剤であるポリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート中で溶解し、２０％塗布液としてバーコート法にて離型層上に乾燥後の塗布厚が３μｍになるように塗設した。
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを透明樹脂層と３０℃で貼合し疑似接着させた。
【００５６】
（被着体への付与）
基板の予熱温度を１２０℃にした以外は実施例１と同じプロセス、各条件でガラス基板へ転写し、やはり実施例１と同じ条件でベイク処理を実施することにより光散乱層を得た。
この光散乱層は十点平均粗さが０．９４μｍ、ヘイズ度５２．３％、全光線透過率は９１．２％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同じ条件でアルミニウム薄膜を付与した。
得られた光散乱反射板の拡散反射率は７８．３％、透過率は４．３％であった。
【００５７】
実施例４
（転写フィルムの製造）
支持体として７５μｍＰＥＴフィルム（裏面に帯電防止層を付与：面積固有抵抗値１０８Ω）を用い、クッション層は実施例２及び実施例３と同じ樹脂を同じ方法で支持体上に塗設した。
離型層に使用した樹脂も実施例２及び実施例３と同じであるが、顔料は実施例１と同じエポスターＳ１２（平均粒径１．２μｍ、メラミン・ホルムアルデヒド縮合物：株式会社日本触媒製）をあらかじめ水／メタノールの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。
この塗液をバーコートにてクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。この時、離型層塗液は樹脂固形分と顔料固形分の比率が９０／１０になるように調整し、これをクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
得られたマット化離型層の表面形状は十点平均粗さは０．８９μｍであり、ヘイズ度は４３．２％であった。
【００５８】
透明樹脂層は実施例２と同じ樹脂、モノマー、開始剤を用い、配合量も同じものを使用した。この塗液をバーコートにて離型層上に乾燥後の塗布厚が２μｍになるように塗設した。
保護フィルムは両面未処理のポリプロピレンフィルム２０μｍを透明樹脂層と３０℃で貼合し疑似接着させた。
【００５９】
（被着体への付与）
実施例１と同じプロセス、各条件でガラス基板へ転写し、やはり実施例１と同じ方法でベイク処理を実施することにより光散乱層を得た。
この光散乱層は十点平均粗さが０．７８μｍ、ヘイズ度３８．６％、全光線透過率は９３．１％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同じ条件でアルミニウム薄膜を付与した。
得られた光散乱反射板の拡散反射率は５０．１％、透過率は５．１％であった。実施例４で得られた光散乱反射板は拡散反射率は低いものの正反射率が高く、いわゆる指向性の強い光散乱反射板であった。
【００６０】
【比較例】
比較例１
（転写フィルムの製造）
支持体は実施例１と同じものを使用した。離型層は顔料を添加しないテスファイン３２２単独をクッション層上に乾燥塗布厚３μｍになるように塗設した。
透明樹脂層は、使用する材料、配合割合は実施例１と同様であるが、これに樹脂固形分と顔料固形分の比率が８５／１５になるように顔料として実施例１と同じエポスターＳ１２をトルエン／酢酸エチルの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して充分混合することで塗液とした。これを離型層上に乾燥塗布厚が３μｍになるように塗布した。
保護フィルムとして実施例１と同じポリプロピレンフィルムを６０℃で貼合し、疑似接着させた。
【００６１】
（被着体への転写付与）
実施例１と同方法、同条件で被着体であるガラス基板に転写した。転写後背面からのプレ露光を実施せずに離型層よりベースフィルムを剥離し、その後透明樹脂層全体にＵＶ照射５００ｍｊ／ｃｍ2を実施した。その後２４０℃、４０分の加熱処理を実施し、目的の光散乱層を得た。
この光散乱層は、十点平均粗さが０．９８μｍ、ヘイズ度４６．２％、全光線透過率８７．８％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同様にアルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。
作製した光散乱反射板の拡散反射率は６５％（５５０ｎｍ）、透過率は５．８％であった。比較例１の場合、光散乱層中には顔料が存在するため、実施例１と比較して光散乱層はヘイズ度の割に全光線透過率が低くなる。そのため、アルミニウム薄膜形成後の透過率を所定値まで上げるには、アルミニウム蒸着量を少なくする必要があり、従って拡散反射率も下がってしまうのである。
【００６２】
比較例２
（転写フィルムの製造）
実施例１の離型層処方において、樹脂固形分と顔料固形分の比率が９８／２になるように調製した以外は全て同じ材料を使用して、同じ方法で転写フィルムを製造した。
得られたマット化離型層の表面形状として、十点平均粗さは０．４８μｍ、ヘイズ度は１９．８％であった。
（被着体への転写付与）
実施例１と同じ条件、方法で被着体であるガラス基板に転写した。
得られた光散乱層は、十点平均粗さは０．３３μｍ、ヘイズ度は１８．２％、全光線透過率９２．９％であった。
（金属薄膜の形成）
実施例１と同じ条件、方法でアルミニウムの薄膜を形成した。
作製した光散乱反射板の拡散反射率は２０．６％（５５０ｎｍ）、透過率は５．３％であり、実施例１に比べてマット化離型層中の顔料添加量が少なく、目標のヘイズ度まで至らなかったことにより、アルミニウム薄膜形成後の性能として正反射光が強くなったため、拡散反射率がかなり低い値になってしまった。
【００６３】
比較例３
（転写フィルムの製造）
実施例１の離型層処方において、樹脂固形分と顔料固形分の比率が４５／５５になるように調製した以外は全て同じ材料を使用して、同じ方法で転写フィルムを製造した。
得られたマット化離型層の表面形状として、十点平均粗さは１．５１μｍであり、ヘイズ度は８３．８％であった。
（被着体への転写付与）
実施例１と同じ条件、方法で被着体であるガラス基板に転写した。この時、離型層中の顔料割合が多く、離型層とクッション層の界面に存在する顔料が多くなるため、密着力が低下する傾向があった。また離型層表面の突起密度が密であるため透明樹脂層と離型層との接触面積が大きくなることで剥離力が重くなっている。さらに透明樹脂層表面が離型層凹凸の影響により塗布厚が不均一であるため、ガラス基板との密着性が不均一になっていることから、転写性が非常に不安定であり、転写不良が発生しやすく一部転写できない部分が発生した。またベイク処理後に光散乱層の一部はガラス基板から剥離してしまった。
得られた光散乱層は、十点平均粗さが１．２７μｍ、ヘイズ度は７９．３％、全光線透過率は９２．５％であった。
【００６４】
（金属薄膜の形成）
実施例１と同じ条件、方法でアルミニウムの薄膜を形成した。
作製した光散乱反射板の拡散反射率は８７．５％（５５０ｎｍ）、透過率は４．７％であった。マット化離型層のヘイズ度が高くなったため、ガラス基板に転写後の光散乱層のヘイズ度も高くなり、アルミニウム蒸着後の拡散反射率が高くなったものである。ただし、表面性が悪化して十点平均粗さが１．０μｍを超えているため、金属薄膜上に形成される機能層（例えばカラーフィルター層、オーバーコート層、透明電極）を付与する過程でトラブルが発生する。
【００６５】
比較例４
（転写フィルムの製造）
支持体は実施例１と同じものを使用した。離型層は実施例１で使用した透明樹脂テスファイン３２２に添加顔料ＫＭＰ−６００（平均粒径５．０μｍ、シリコンパウダー：信越化学工業株式会社）をトルエン/酢酸エチルの混合溶媒中でビーズ分散して得た顔料分散液の状態で添加して、充分混合することで塗液を得た。
これを実施例１と同様にクッション層上に塗布、乾燥して離型層を形成した。なお、この時の樹脂固形分と顔料固形分の比率が同様になるように８５／１５で調整した。また、塗布厚はウエット状態では実施例１と同様に塗布したが、顔料粒子径が大きいため乾燥後の塗布厚は８μｍであった。
得られたマット化離型層の表面形状は十点平均粗さが３．６０μｍであり、ヘイズ度は８９．８％であった。
透明樹脂層は実施例１と同処方を同方法にて塗設した。乾燥後の塗布厚が３μｍになるように塗設したが、表面粗さが大きいため塗布厚は不均一であった。
保護フィルムとして実施例１と同じポリプロピレンフィルムを８０℃で貼合したが、離型層の表面凹凸の影響で透明樹脂層は均一性に劣り、表面粗さが大きいため接着性は弱かった。
【００６６】
（被着体への転写付与）
実施例１と同方法、同条件で被着体であるガラス基板に転写した。転写後背面から２０ｍｊ／ｃｍ2 のプレ露光を実施して離型層よりベースフィルムを剥離し、その後透明樹脂層全体にＵＶ照射５００ｍｊ／ｃｍ2 を実施した。その後２４０℃、４０分の加熱処理を実施し、目的の光散乱層を得た。
この光散乱層は、十点平均粗さが２．７８μｍ、ヘイズ度８２．３％、全光線透過率９１．８％であった。
（金属薄膜の形成）
このようにしてガラス基板上に形成した光散乱層上に、実施例１と同様にアルミニウムの薄膜を形成して、光散乱反射板を作製した。作製した光散乱反射板の拡散反射率は８５．５％（５５０ｎｍ）、透過率は４．３％であった。光散乱層表面の粗さが大きいため金属薄膜形成後の光散乱性は良好であったものの、金属薄膜形成後でも表面粗さが大きいため、その上に形成される機能層（例えばカラーフィルター層、オーバーコート層、透明電極）を付与する過程でトラブルが発生する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光散乱層形成用転写フィルムの一実施例を示す概略縦断面図である。
【図２】本発明の光散乱層の形成方法を工程順に示す概略縦断面図である。
【符号の説明】
１ 保護フィルム
２ 透明樹脂層
３ マット化離型層
４ クッション層
５ 支持体
６ 帯電防止層
７ 被着体
８ 金属薄膜
Claims (6)
- 支持体上に順次凹凸を付与した離型層、透明樹脂層を設けてなる光散乱層形成用転写フィルムであって、前記離型層中に平均粒子径が０．１〜４．０μｍの顔料を含有し、前記離型層の表面形状が十点平均粗さで０．５〜１．５μｍであり、ヘイズ度が４０〜６０％であることを特徴とする光散乱層形成用転写フィルム。
- 前記離型層において、樹脂固形分と顔料固形分の比率が９５／５〜５０／５０であることを特徴とする請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルム。
- 請求項１に記載の光散乱層形成用転写フィルムの透明樹脂層を被着体に加熱、加圧条件下で貼り合わせた後、支持体および離型層を取り去り、被着体表面に離型層の表面形状を移し取った透明樹脂層を転写し、被着体表面に光散乱層を形成することを特徴とする光散乱層の形成方法。
- あらかじめ８０〜１５０℃に加熱した被着体に前記透明樹脂層を付与することを特徴とする請求項３に記載の光散乱層の形成方法。
- 請求項３または請求項４に記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層の全光線透過率が９０％以上、表面形状が十点平均粗さで１．０μｍ以下、そしてヘイズ度が２０〜６０％であることを特徴とする光散乱膜。
- 請求項３または請求項４に記載の光散乱層の形成方法によって形成された光散乱層上に金属薄膜を形成したことを特徴とする光散乱反射板。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002032165A JP4198365B2 (ja) | 2001-03-30 | 2002-02-08 | 光散乱層形成用転写フィルムとそれを用いた光散乱層の形成方法および光散乱膜並びに光散乱反射板 |
| CNB028006046A CN1287164C (zh) | 2001-03-30 | 2002-03-28 | 光散射层形成用转印薄膜和相应的光散射膜形成方法 |
| KR1020027014629A KR100855535B1 (ko) | 2001-03-30 | 2002-03-28 | 광산란층 형성용 전사필름과 이것을 사용한 광산란층의형성방법 및 광산란막 그리고 광산란 반사판 |
| PCT/JP2002/003040 WO2002082131A1 (fr) | 2001-03-30 | 2002-03-28 | Couche de diffusion de la lumiere formant film de transfert et procede de formation de couche de diffusion de la lumiere le mettant en oeuvre et film de diffusion de la lumiere et plaque de diffusion/reflexion de la lumiere |
| TW091106553A TWI316146B (ja) | 2001-03-30 | 2002-03-29 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001-98021 | 2001-03-30 | ||
| JP2001098021 | 2001-03-30 | ||
| JP2002032165A JP4198365B2 (ja) | 2001-03-30 | 2002-02-08 | 光散乱層形成用転写フィルムとそれを用いた光散乱層の形成方法および光散乱膜並びに光散乱反射板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002357704A JP2002357704A (ja) | 2002-12-13 |
| JP4198365B2 true JP4198365B2 (ja) | 2008-12-17 |
Family
ID=26612660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002032165A Expired - Fee Related JP4198365B2 (ja) | 2001-03-30 | 2002-02-08 | 光散乱層形成用転写フィルムとそれを用いた光散乱層の形成方法および光散乱膜並びに光散乱反射板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4198365B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100604221B1 (ko) * | 2004-05-29 | 2006-07-24 | 서광석 | 액정 디스플레이용 먼지 부착 방지 확산판 및 이를제조하는 방법 |
| US9709700B2 (en) | 2005-04-06 | 2017-07-18 | 3M Innovative Properties Company | Optical bodies including rough strippable boundary layers |
| EP1890869B1 (en) * | 2005-04-06 | 2008-10-15 | 3M Innovative Properties Company | Optical bodies including rough strippable boundary layers and asymmetric surface structures |
| US20060227421A1 (en) | 2005-04-06 | 2006-10-12 | Stover Carl A | Optical bodies including strippable boundary layers |
| JP5913938B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-05-11 | 富士フイルム株式会社 | 光拡散性転写材料、光拡散層の形成方法、及び有機電界発光装置の製造方法 |
| CN106794679B (zh) * | 2014-10-24 | 2019-06-11 | 富士胶片株式会社 | 转印薄膜及其制造方法和层叠体、静电电容型输入装置及图像显示装置的制造方法 |
| JP7000653B2 (ja) * | 2016-12-14 | 2022-01-19 | 大日本印刷株式会社 | 加飾フィルム、転写シート、加飾成形品及びその製造方法 |
-
2002
- 2002-02-08 JP JP2002032165A patent/JP4198365B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002357704A (ja) | 2002-12-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2006163082A (ja) | 光学部材及びその製造方法、並びに液晶表示装置 | |
| JP4198365B2 (ja) | 光散乱層形成用転写フィルムとそれを用いた光散乱層の形成方法および光散乱膜並びに光散乱反射板 | |
| JP4395317B2 (ja) | ブラックマトリックス作製用着色組成物及び感光性転写材料、ブラックマトリックス及びその製造方法、カラーフィルター、液晶表示素子並びにブラックマトリックス基板 | |
| JP4269196B2 (ja) | 拡散反射板の製造法及び転写フィルム | |
| KR100855535B1 (ko) | 광산란층 형성용 전사필름과 이것을 사용한 광산란층의형성방법 및 광산란막 그리고 광산란 반사판 | |
| JPH1097061A (ja) | 感光性多層シート及び多色画像シートの製造方法 | |
| JP4112235B2 (ja) | 光散乱層形成用転写フィルムとそれを用いた光散乱層の形成方法および光散乱膜並びに光散乱反射板 | |
| JP4178506B2 (ja) | 反射下地感光性エレメント | |
| JP4171167B2 (ja) | 光硬化性組成物及び液晶表示素子 | |
| JP3808212B2 (ja) | 転写フィルム及び拡散反射板の製造法 | |
| JP3646613B2 (ja) | 光拡散板の製造方法及びそれにより得られた光拡散板 | |
| JP2004037520A (ja) | 表面凹凸形成方法、それにより得られる光学フィルム及び拡散反射板並びに拡散反射板の製造方法 | |
| JP2005121811A (ja) | 光拡散層転写シート及び光拡散層の形成方法 | |
| JP2001310334A (ja) | 転写原型、凹凸型、これらの製造方法、転写用積層体及び拡散反射板 | |
| JP2001350005A (ja) | 光学シートおよびその製造方法 | |
| JP2001133608A (ja) | 拡散反射板および転写原型 | |
| JP2001108806A (ja) | フィラーレンズおよびその製造方法 | |
| JP3608609B2 (ja) | 転写フィルム及び拡散反射板の製造方法 | |
| JP3900909B2 (ja) | 拡散反射板、それを製造するのに用いられる転写原型、転写ベースフィルム、転写フィルム及び拡散反射板の製造方法 | |
| JP2004246314A (ja) | 表面凹凸形成方法およびその利用 | |
| JP2003207787A (ja) | スペーサー用樹脂組成物及びスペーサー並びに液晶表示素子 | |
| JP2004034325A (ja) | 表面凹凸形成方法、それにより得られる光学フィルム及び拡散反射板並びに拡散反射板の製造方法 | |
| JP2002148792A (ja) | 樹脂積層体の製造方法及びカラーフィルタ | |
| JP2009080506A (ja) | 拡散反射板の製造法及び転写フィルム | |
| JP2003302639A (ja) | スペーサー用樹脂組成物及び液晶表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050204 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071204 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080204 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080311 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080509 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080702 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080916 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081001 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111010 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111010 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141010 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |