JP4828124B2 - 電極支持体ガイド、前記ガイドを備える蝸牛移植体、及び、その製造方法 - Google Patents
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Description
(a)犠牲ウェーハを準備するサブステップと、
(b)前記ウェーハ上に電気絶縁材料から作られたベース層を堆積するサブステップと、
(c)前記電気絶縁層上に感光性樹脂層を堆積し、電極とトラックと接点との幾何学形状をフォトリソグラフィ的に設計するサブステップと、
(d)前記樹脂層上に導電材料から作られた層を堆積した後、前記樹脂と、前記フォトリソグラフィ的に設計された幾何学形状の領域外部に堆積された前記導電材料とを除去するサブステップと、
(e)前記導電層を完全に被覆する第2の電気絶縁層を堆積するサブステップと、
(f)フォトリソグラフィ技術によりアクセス窓を開口してケミカルアタック(化学的攻撃)を実行することによって、前記第2の電気絶縁層上に、その下に在る電極及び接点へのいくつかのアクセスを形成するサブステップと、
を有し、
前記サブステップ(c)乃至(f)は基本セルが各ガイド上に積み重ねられようとしている数と同じ回数だけ繰り返され、最後に前記犠牲ウェーハが除去されることを特徴とする方法に関する。
Claims (19)
- 対応する接点(3)に導電トラック(4)を介して各々が接続された複数の電極(2)を提供する、長く実質的に平坦な、組織に印加される電気信号を伝送するための、電極キャリアガイドであって、前記電極キャリアガイドは、少なくとも2個の重なり合う基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)を備え、各セルは、導電材料から作られた層(12)が配置された、電気絶縁材料から作られたベース層(11)を備え、前記導電材料は、前記電極(2)と前記導電トラック(4)と前記接点(3)とを形成し、
前記各基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)は、その下に在る前記基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)の長さより短い長さを有し、一端の電極領域と他端の接点領域とを除いて、その下に在る前記基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)を被覆することを特徴とする電極キャリアガイド。 - 少なくとも1つの前記基本セルでは、
前記電極(2)は前記基本セルの長手方向に配置され、
前記接点(3)は前記基本セルの短手方向に配置され、
複数のトラック(4)は前記基本セルの長手方向に配置され、対応する前記電極(2)と接点(3)とを接続することを特徴とする請求項1に記載のガイド。 - 前記接点(3)が前記基本セルの短手方向に配置される前記基本セルの一端は、前記電極(2)が前記基本セルの長手方向に配置される反対側の一端より幅が広いことを特徴とする請求項2に記載のガイド。
- 前記各基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)は、前記導電層(12)上に配置された絶縁層(13)を備え、前記絶縁層(13)は、前記各電極(2)と前記各接点(3)とに対応するアクセス開口部を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のガイド。
- 前記各基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)の前記絶縁層(13)は、重なり合う前記基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)の前記ベース層(11)を構成することを特徴とする請求項4に記載のガイド。
- 少なくともいくつかの前記基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)は、前記基本セルの長手方向に本質的に整列した3個の前記電極(2)を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のガイド。
- 前記基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)は、0.3mm乃至2.5mmの範囲の幅を有することを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載のガイド。
- 前記各基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)の前記ベース層(11)は、2μm乃至5μmの範囲の厚さを有し、前記導電層(12)は、0.1μm乃至0.5μmの範囲の厚さを有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載のガイド。
- 1個の前記基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)の前記電極(2)間の距離は、0.25μm乃至10μmの範囲にあることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載のガイド。
- 前記ベース層(11)の材料は、PTFE、PET、ポリイミド、シリコーン、パラキシレン系ポリマーのなかから選択されることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載のガイド。
- 前記導電層(12)は、金、白金、又は、白金イリジウム合金のなかから選択された材料から作られることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか一項に記載のガイド。
- 前記各基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)は、接着力を向上させるために適した材料から作られ、前記ベース層(11)と前記導電層(12)との間に配置された膜を備えることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか一項に記載のガイド。
- 前記接着性生体適合材料は、チタン、タンタル、クロムのなかから選択されることを特徴とする請求項12に記載のガイド。
- 請求項1乃至13に記載の電極キャリアガイド(G)を備えていることを特徴とする蝸牛移植体。
- 請求項1乃至14のいずれかに記載の、組織に印加される電気信号を伝送するための電極キャリアガイドの製造方法であって、少なくとも一つのガイド(G)の一つの基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)を形成する第1のステップを含み、前記第1のステップは、
(a)犠牲ウェーハ(15)を準備するサブステップと、
(b)前記ウェーハ(15)上に電気絶縁材料から作られたベース層(11)を堆積するサブステップと、
(c)前記電気絶縁層(11)上に感光性樹脂層を堆積し、電極(2)とトラック(4)と接点(3)との幾何学形状をフォトリソグラフィ的に設計するサブステップと、
(d)前記樹脂層上に導電材料から作られた層(12)を堆積した後、前記樹脂と、前記フォトリソグラフィ的に設計された幾何学形状の領域外部に堆積された前記導電材料とを除去するサブステップと、
(e)前記導電層(12)を完全に被覆する第2の電気絶縁層(13)を堆積するサブステップと、
(f)フォトリソグラフィ技術を用いてアクセス窓を開口し、ケミカルアタック(化学的攻撃)を実行することにより、前記第2の電気絶縁層(13)に、その下に在る前記電極(2)と前記接点(3)とへのいくつかのアクセスを形成するサブステップと、
を有し、
前記サブステップ(c)乃至(f)は、前記基本セル(CB,CB’;CB1,CB2,...CB11)が前記各ガイド(G)上に積み重ねられようとしている数と同じ回数だけ繰り返され、最後に前記犠牲ウェーハ(15)が除去されることを特徴とする電極キャリアガイドの製造方法。 - 少なくとも2個の前記電極キャリアガイド(G)が前記ウェーハ(15)上に形成され、前記方法は、前記ウェーハ(15)を切断することにより前記ガイド(G)を相互に分離するステップをさらに含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 少なくとも2個の前記電極キャリアガイド(G)が前記ウェーハ(15)上に形成され、前記サブステップ(f)において、前記ガイド(G)の形態を画定し、これらを前記ウェーハ(15)上において相互に分離するために、総ての隣接する2個のガイド(G)間に存在する電気絶縁材料を除去するために開口されるアクセス窓も設計されることを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記サブステップ(b)、(c)、(e)及び(f)のうちの少なくともいくつかは、
前記材料を硬化するプロセスを含むことを特徴とする請求項15乃至17のいずれか一項に記載の方法。 - 前記サブステップ(d)は、前記樹脂層と前記導電層(12)との間の接着力を向上させる材料の膜を堆積することを含むことを特徴とする請求項15乃至17のいずれか一項に記載の方法。
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