ES2211325B1 - Guia portadora de electrodos, especialmente para implantes cocleares, implante coclear provisto de dicha guia, y procedimiento de fabricacion de guias portadoras de electrodos. - Google Patents
Guia portadora de electrodos, especialmente para implantes cocleares, implante coclear provisto de dicha guia, y procedimiento de fabricacion de guias portadoras de electrodos.Info
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Abstract
Guía portadora de electrodos, especialmente para implantes cocleares, implante coclear provisto de dicha guía, y procedimiento de fabricación de guías portadoras de electrodos. La guía es alargada y substancialmente plana, y presenta una pluralidad de electrodos (2), conectados a correspondientes contactos (3) a través de pistas (4); comprende por lo menos dos células básicas (CB1, CB2, ... CB11) superpuestas, cada una con una capa base (11) aislante sobre la que está dispuesta una capa (12) conductora que forma los electrodos (2), las pistas (4) y los contactos (3). El procedimiento comprende superponer sucesivas capas aislantes y conductoras y definir por fotolitografía las geometrías adecuadas para formar electrodos, contactos, pistas y ventanas de acceso a los electrodos y contactos. La invención permite fabricar de manera automatizada una guía con un número elevado de electrodos y con dimensiones adecuadas para su implantación atraumática exteriormente a la rampa timpánica.
Description
Guía portadora de electrodos, especialmente para
implantes cocleares, implante coclear provisto de dicha guía, y
procedimiento de fabricación de guías portadoras de electrodos.
La presente invención se refiere a una guía
portadora de electrodos, especialmente para implantes cocleares,
alargada y substancialmente plana, que presenta una pluralidad de
electrodos, cada uno conectado a un correspondiente contacto a
través de una pista conductora.
La invención también se refiere a un implante
coclear, y a un procedimiento de fabricación de guías portadoras de
electrodos.
Son conocidos en el estado de la técnica
distintos tipos de implantes cocleares. Estos implantes están
destinados a mejorar la función auditiva de pacientes cuya cóclea
no es capaz de transformar las señales acústicas en impulsos
nerviosos.
Un implante coclear es básicamente un transductor
que transforma señales acústicas en señales eléctricas, que se
aplican mediante electrodos al tejido neural auditivo.
Tradicionalmente, en los implantes cocleares se
ha utilizado una guía portadora de electrodos, de sección
redondeada, con una serie de electrodos dispuestos linealmente a lo
largo de la misma, que es implantada en la rampa timpánica para que
los electrodos queden en la proximidad del modiolo de la
cóclea.
Los implantes cocleares han aportado importantes
beneficios a los pacientes tratados; sin embargo, las guías
portadoras de electrodos convencionales que se han descrito
presentan una serie de limitaciones.
En primer lugar, su inserción intracoclear
favorece la aparición de lesiones cocleares que comprometen su
anatomía y su función; ante el hecho de emplear estos sistemas, por
ejemplo, en niños de edades entorno a los 2 años y que tienen
expectativas de vida que alcanzan los 100 años, se hace necesario
el uso de sistemas atraumáticos, que no limiten en el futuro el
empleo de otras alternativas terapéuticas y que permitan conservar
la audición residual. Esto posibilitaría ampliar la indicación de
implantes a hipoacusias neurosensoriales de menor grado o
intensidad que en la actualidad.
Otra limitación de las guías portadoras de
electrodos conocidas es que únicamente permiten alojar un máximo de
22 electrodos activos, lo cual limita la posibilidad de reproducir
una estimulación más concreta, puntual y versátil del tejido neural
auditivo.
Además, las guías convencionales son de
fabricación manual, a cargo de personal altamente cualificado y
experimentado; por razones obvias, este sistema de producción es
lento y costoso, y no se puede descartar el riesgo de que exista un
número relativamente elevado de fallos en las guías obtenidas.
Recientemente se ha propuesto, por ejemplo en la
solicitud de patente WO 02/080817, un implante coclear con una guía
de electrodos plana, destinada a ser implantada externamente a la
rampa timpánica, más precisamente entre el ligamento espiral y el
endostio coclear.
Un implante como el sugerido en este documento
tendría la ventaja, respecto a los tradicionales implantes
intraluminares, de poder ser insertado preservando la morfología y
la función del tejido neural auditivo; sin embargo, aunque el
documento indica unas dimensiones máximas para la guía de
electrodos, no sugiere que pueda tener una estructura distinta de la
que tienen las guías convencionales, o que se pueda fabricar de
manera automatizada.
El principal objetivo de la presente invención es
proporcionar una guía portadora de electrodos que se pueda producir
de manera más eficiente y que permita alojar un número elevado de
electrodos.
De acuerdo con este objetivo, la invención
presenta una guía portadora de electrodos para implantes cocleares
que se caracteriza por el hecho de que comprende por lo menos dos
células básicas superpuestas, comprendiendo cada célula una capa
base de material eléctricamente aislante sobre la que está
dispuesta una capa de material eléctricamente conductor que forma
los electrodos, las pistas conductoras y los contactos.
Estas características hacen que las pistas
conductoras que conectan los electrodos a sus contactos queden bien
aisladas unas de otras y permiten colocar un mayor número de
pistas, y en consecuencia de electrodos, en una longitud de guía
determinada; además, la guía se puede producir de manera
automatizada, con técnicas con un alto grado de miniaturización que
permiten elevar el número de electrodos y reducir la influencia de
un electrodo sobre la señal de sus adyacentes.
El aumento del número de electrodos es un factor
importante, puesto que permite implementar nuevas estrategias de
codificación, adaptar la estimulación al estado de la población
neural de la cóclea, proporcionar una estimulación más concreta y
puntual, reducir los periodos refractarios; en definitiva,
proporciona un sistema implantable más versátil.
Además, una guía portadora de estas
características puede dotarse de dimensiones adecuadas para ser
implantada entre el ligamento espiral y el endostio coclear,
mediante cirugía atraumática, y por tanto puede utilizarse también
en pacientes con hipoacusias neurosensoriales de menor grado; esto
aumenta el campo de aplicación de los implantes cocleares y permite
además emplearlos en sistemas híbridos de estimulación bimodal, por
ejemplo formados por un audífono y un implante coclear o bien un
implante de oído medio y un implante coclear. Por el mismo motivo,
se puede implantar en pacientes de corta edad preservando la
posibilidad de emplear en el futuro implantes más potentes o
sofisticados. Por otra parte, a estas nuevas alternativas que
ofrece este diseño de guía de electrodos aplanada, se puede añadir
su utilización en casos convencionales de hipoacusia profunda con
escasos restos auditivos, colocándola a nivel intraluminar en la
escala timpánica de la cóclea.
En realizaciones ventajosas de la invención, cada
célula básica tiene una longitud menor que la de la célula básica
subyacente; y, preferiblemente, cada célula básica cubre la célula
subyacente salvo la zona de los electrodos, en un extremo, y la
zona de los contactos, en el extremo opuesto.
De este modo, los electrodos y contactos de cada
célula quedan expuestos sin necesidad de otras operaciones.
En algunas realizaciones, cada célula básica
comprende una capa de aislamiento dispuesta sobre la capa de
material eléctricamente conductor, presentando esta capa de
aislamiento una aberturas de acceso en correspondencia con cada
electrodo y cada contacto; la capa de aislamiento evita cualquier
posible interferencia entre electrodos, pistas y contactos no
correspondientes.
Preferiblemente la capa de aislamiento de cada
célula constituye la capa base de la célula superpuesta, de manera
que una única capa cumple ambas funciones y se reduce el espesor
del conjunto.
En una realización, al menos algunas de las
células básicas presentan tres electrodos, esencialmente alineados
en la dirección longitudinal de la célula.
En algunas realizaciones previstas, las células
básicas tienen una anchura de entre 0,3 y 2,5 mm; la capa base de
cada célula básica tiene un espesor de entre 2 \mum y 5 \mum, y
la capa de material eléctricamente conductor tiene un espesor de
entre 0,1 y
\hbox{0,5 \mu m}; y la distancia entre los
electrodos de una célula básica es de entre 0,25 y 10 \mum.
Según una realización particularmente adecuada
desde el punto de vista biomédico, las células básicas tienen una
anchura menor al menos en la parte de su longitud en la que están
dispuestos los electrodos. Se puede describir la forma de esta
célula como de "lanceta".
De acuerdo con algunas realizaciones, el material
de la capa de base se selecciona de entre PTFE, PET, poliimida,
silicona, y polímeros basados en paraxileno; y la capa de material
eléctricamente conductor es de un material seleccionado de entre
oro, platino o una aleación de platino-iridio.
Preferiblemente, cada célula comprende una
película de un material para favorecer la adhesión, dispuesta entre
la capa base y la capa de material eléctricamente conductor. De
este modo se evita el riesgo de desprendimiento de los electrodos,
contactos y pistas respecto a la capa base.
De acuerdo con un segundo aspecto, la presente
invención se refiere a un implante coclear que se caracteriza por
el hecho de que comprende una guía portadora de electrodos como la
que se ha mencionado.
De acuerdo con un tercer aspecto, la presente
invención se refiere a un procedimiento para la fabricación de
guías portadoras de electrodos, caracterizado por el hecho de que
comprende una primera etapa de formación de una célula básica de al
menos una guía, con las subetapas siguientes:
(a) preparar una oblea sacrificial;
(b) depositar sobre dicha oblea una capa base de
material eléctricamente aislante;
(c) depositar sobre dicha capa eléctricamente
aislante una capa de resina fotosensible y definir por
fotolitografía una geometría de electrodos, pistas y contactos;
(d) depositar una capa de material eléctricamente
conductor sobre la capa de resina, y a continuación eliminar la
resina y el material eléctricamente conductor depositados fuera de
las zonas de la geometría definida por litofotografía;
(e) depositar una segunda capa de material
eléctricamente aislante, cubriendo totalmente la capa de material
eléctricamente conductor; y
(f) formar en dicha segunda capa de material
eléctricamente aislante unos accesos a los electrodos y a los
contactos subyacentes, definiendo ventanas de acceso con técnicas
fotolitográficas y realizando un ataque químico;
y por el hecho de que las subetapas (c) a (f) se
repiten tantas veces como células básicas se desean apilar en cada
guía, y finalmente se elimina dicha oblea sacrificial.
Este procedimiento de fabricación permite la
producción de guías de modo automatizado y en paralelo, y por
consiguiente con costos reducidos; la posibilidad de un alto grado
de miniaturización permite elevar el número de electrodos, con las
ventajas reseñadas anteriormente.
Preferiblemente, sobre la oblea se forman al
menos dos guías portadoras de electrodos, y el procedimiento
comprende además una etapa de separación de las guías una de otra
por corte de la oblea.
De este modo se pueden fabricar simultáneamente
varias guías con la misma estructura, sobre una misma oblea.
En una realización, sobre la oblea se forman al
menos dos guías portadoras de electrodos, y en la subetapa (f) se
diseñan además ventanas de acceso destinadas a eliminar el material
eléctricamente aislante existente entre cada dos guías adyacentes,
para definir la forma de las guías y para que éstas queden
separadas unas de otras sobre la oblea.
Con este sistema se pueden fabricar guías de
cualquier forma, por ejemplo con forma de lanceta, y además se hace
innecesaria la separación por corte de la oblea.
Ventajosamente, al menos algunas de las subetapas
(b), (c), (e) y (f) comprenden procesos de curado del material.
De acuerdo con realizaciones convenientes, la
subetapa (d) comprende depositar entre la capa de resina y la capa
de material eléctricamente conductor una película de un material
que favorece la adhesión.
Para mayor comprensión de cuanto se ha expuesto
se acompañan unos dibujos en los cuales, esquemáticamente y sólo a
título de ejemplo no limitativo, se representa un caso práctico de
realización.
En los dibujos:
la figura 1 es una vista en planta que muestra
una célula básica para una guía portadora de electrodos de acuerdo
con una realización de la presente invención;
la figura 2 es una vista en alzado lateral de la
célula de la figura 1;
las figuras 3 y 4 son vistas en alzado y en
planta, respectivamente, de una guía portadora de electrodos
formada por superposición de una serie de células básicas;
la figura 5 es una vista en perspectiva de una
realización alternativa de una célula básica; y
las figuras 6 a 11 son vistas en alzado que
ilustran un procedimiento de fabricación de una guía portadora de
electrodos, de acuerdo con una realización de la invención.
Una guía portadora de electrodos de acuerdo con
la presente invención está formada por la superposición de una
serie de células básicas, cada una de las cuales presenta al menos
un electrodo.
En las figuras 1 y 2 se representa
esquemáticamente una forma de realización de una célula básica CB;
es importante destacar que en las figuras que se acompañan no se
han respetado en general las proporciones reales de las células y
de la guía de electrodos, a fin de ofrecer una representación más
clara; en particular, los espesores se han exagerado en gran medida
frente a las otras dimensiones, para mostrar la estructura de los
distintos componentes.
Una célula básica CB, en la realización
representada, tiene un cuerpo 1 de material eléctricamente
aislante, con una estructura general alargada y plana, y presenta
en un extremo tres electrodos 2. Cada electrodo 2 está conectado a
un contacto 3, situado en el otro extremo de la célula, a través de
una pista conductora 4.
Los electrodos 2 y los contactos 4, ambos de
material conductor, quedan expuestos respecto al cuerpo 1 de la
célula; es decir, no quedan cubiertos por el material aislante de
éste.
Más adelante se describirán con detalle las
características físicas y geométricas de las células básicas, y su
proceso de fabricación.
Como muestran las figuras 3 y 4, una guía G
portadora de electrodos de acuerdo con una realización de la
presente invención está formada por la superposición de células
básicas CB1, CB2, CB3,... CB11 similares a la que se ha descrito,
cada una dotada de sus electrodos 2 y contactos 3. La célula
superior CB11, por su menor longitud, únicamente presenta dos
electrodos.
Las células básicas que forman la guía G tienen
en general la misma anchura y espesor, pero tienen longitudes
distintas, y se superponen en forma de pirámide de manera que todos
los electrodos 2 y contactos 3 de las células básicas queden
expuestos, mientras que las pistas conductoras 4 entre cada
electrodo y su contacto respectivo quedan encapsuladas en el
material de las células, aisladas unas de otras.
Las células básicas CB1 a CB11 tienen, en este
ejemplo, longitudes que van desde 45 mm hasta
\hbox{12,5
mm}, aproximadamente, y una anchura de unos 2 mm. Los
electrodos están distanciados uno de otros alrededor de 0,75 \mum.
El espesor de una célula básica aislada (como la de la figura 2) es
de aproximadamente 8 \mum; sin embargo, al superponer células
básicas para formar la guía G en realidad se colocan los electrodos
y contactos de cada célula directamente sobre el cuerpo de la
célula subyacente, como se explicará al describir el proceso de
fabricación, de manera que las células básicas apiladas que forman
la guía G sólo tienen un espesor de unos 40 \mum.
Con estas dimensiones, y superponiendo once
células básicas como en la guía de las figuras 3 y 4, se obtiene
una guía portadora G de unos 44 \mum de espesor, que presenta 32
electrodos en una longitud de unos 25 mm. Gracias a estas
dimensiones y a la adecuada flexibilidad del sistema implantable,
la guía puede ser adecuada para un implante destinado a ser
insertado entre el ligamento espiral y el endostio coclear, y al
mismo tiempo presenta un número elevado de electrodos.
La figura 5 muestra otra realización de una
célula básica CB' de acuerdo con la invención; la célula CB' es
similar a la de las figuras 1 y 2 salvo porque el cuerpo 1' de la
célula en este caso tiene forma de lanceta. Esta forma resulta más
apropiada para la implantación en la cóclea de un paciente, pues se
puede reducir a 0,5 mm la anchura de la guía en la región donde ésta
va a situarse a nivel del ligamento espiral de la cóclea.
A continuación, antes de describir un ejemplo del
proceso de fabricación de una guía G portadora de electrodos, se
explicará la estructura y los materiales de una célula básica, con
referencia de nuevo a las figuras 1 y 2.
La célula CB presenta una capa base 11, de un
material flexible y eléctricamente aislante, en este caso una
poliimida (Pyralin®), aunque se podrían utilizar otros materiales
como silicona, PTFE (Teflon®), PET (Mylar®), polímeros basados en
paraxileno (Parylene®), etc.
Sobre la capa base 11 se encuentra una capa de
metalización 12, que incluye los electrodos 2, las pistas
conductoras 4 y los contactos 3; algunos materiales adecuados para
esta capa son el oro, el platino, o una aleación de platino con,
por ejemplo, un 10% de iridio; esta aleación tiene una mayor
resistencia a la corrosión.
Entre la capa base 11 y la capa de metalización
12 se interpone una fina película (no representada) de tántalo,
cromo u otro material adecuado para mejorar la adhesión de la capa
de metalización a la capa base.
Finalmente, sobre la capa de metalización se
encuentra una capa de aislamiento 13, del mismo material que la
capa base 11, que únicamente deja descubiertos los electrodos 2 y
los contactos 3.
Como ya se ha apuntado, al fabricar la guía G la
capa de aislamiento 13 de la célula básica inferior constituye la
capa base 11 de la siguiente célula, sobre la que se deposita la
capa de metalización.
A continuación se describirá de manera
esquemática un proceso de fabricación de una guía G de acuerdo con
una realización de la invención, con referencia a las figuras 6 a
11.
(a) En primer lugar, se prepara una oblea
sacrificial de silicio 15 (figura 6), sobre la cual se formará la
guía G; la preparación se realiza mediante un baño en
tricloroetileno, acetona, alcohol y agua, con ultrasonidos durante
5 minutos cada uno, aclarado y secado en spinner.
(b) Sobre la oblea 15 se deposita una capa base
11 de Pyralin® de 4 \mum (figura 7) mediante spinner; a
continuación se realizan un curado rápido
(soft-bake) de 30 minutos a 120°C, para
proporcionarle mejores propiedades químicas y para polimerizarlo
parcialmente, y un curado completo a una temperatura de 300°C, que
proporciona al material las propiedades de alta resistencia química
y mecánica adecuadas para su aplicación en implantes.
(c) En la siguiente etapa se repite la limpieza
de la oblea, se deposita una capa de resina fotosensible mediante
spinner, se hace un curado rápido de esta resina (30 minutos
a 90°C), se define por fotolitografía la geometría de los
electrodos, pistas y contactos, y se realiza un curado completo de
la resina a 110°C durante 35 minutos.
(d) Sobre la resina se depositan por
sputtering la película de cromo destinada a favorecer la
adhesión, y la capa de metalización 12 de platino, de unos 200 nm
de espesor; a continuación, por lift-off,
disolución en acetona a 45°C y con ultrasonidos, se eliminan la
resina, el cromo y el platino que se han depositado fuera de las
zonas de la geometría definida por litofotografía, de manera que
sobre la capa base 11 quedan definidos (figura 8) los electrodos 2,
contactos 3 y pistas conductoras 4.
(e) La oblea se limpia nuevamente, como en la
primera etapa; se realiza una nueva deposición de Pyralin® mediante
spinner, y se hace un curado rápido de 30 minutos a 120°C.
De este modo se forma una capa de aislamiento 13 (figura 9) que
cubre totalmente la capa de metalización; esta capa de aislamiento
se deposita con un espesor de 4 \mum.
(f) A continuación se forman los accesos a los
electrodos y contactos, a través del material de la capa de
aislamiento 13, a base de definir las ventanas de acceso con
técnicas fotolitográficas y realizar un ataque químico. Se obtiene
así sobre la oblea 15 una célula básica completa (figura 10), que
se cura de nuevo a 300°C.
Sobre esta primera célula básica, y repitiendo
sucesivamente el proceso desde la etapa (c), se puede ir formando
una célula básica sobre otra, hasta construir la guía deseada sobre
la oblea 15. En la figura 11 se muestra, a título de ejemplo, una
guía formada por tres células.
Sobre una misma oblea 15 pueden formarse
simultáneamente una pluralidad de guías portadoras de electrodos,
una junto a otra; en este caso, una vez completada la formación de
las guías, se pueden obtener las guías unitarias por corte de la
oblea, por ejemplo mediante un sistema de sierra automática.
En caso de que se fabriquen células y guías con
forma de lanceta, como la representada en la figura 5, en la etapa
(f) del proceso descrito las ventanas de acceso pueden diseñarse de
forma que se elimine todo el Pyralin® sobrante y se defina ya la
forma de lanceta de las guías, que además quedarán separadas unas
de otras sobre la oblea 15; en el caso de células rectangulares, en
cambio, será necesario proceder al corte de la oblea para separar
las guías unas de otras.
En ambos casos, la última etapa del proceso es la
eliminación de la oblea de silicio, por disolución en
HF-HNO_{3} (1:1), para obtener las guías
terminadas.
Los solicitantes han realizado ensayos sobre
células básicas y guías obtenidas mediante los procesos descritos,
con ambas geometrías (células rectangulares y células con forma de
lanceta); estos ensayos han confirmado las buenas propiedades de
flexibilidad, continuidad eléctrica entre cada electrodo y su
respectivo contacto, aislamiento entre pistas conductoras y
adherencia entre capas del producto obtenido.
La geometría rectangular ha resultado más
adecuada para garantizar el buen aislamiento entre pistas.
Con respecto al aislamiento, se puede comentar
que existen distintas posibilidades para la configuración de las
pistas conductoras. Por un lado, las pistas pueden tener posiciones
similares en todas las células básicas, de modo que las pistas de
células adyacentes quedan superpuestas entre sí; pero también
pueden hacerse dos tipos distintos de células, colocando las tres
pistas más cercanas entre sí y ocupando sólo una mitad de la célula,
y superponer células alternadamente, de modo que la posición de las
pistas de una célula no coincida con la posición de las pistas de
las células adyacentes. Esta solución mejora el aislamiento entre
capas, aunque aumenta el peligro de contacto entre las pistas de
una misma célula.
A pesar de que se ha descrito y representado una
realización concreta de la presente invención, es evidente que el
experto en la materia podrá introducir variantes y modificaciones,
o substituir los detalles por otros técnicamente equivalentes, sin
apartarse del ámbito de protección definido por las
reivindicaciones adjuntas.
Por ejemplo, está claro que los materiales y el
número de electrodos de cada célula básica, así como la disposición
de las pistas y la geometría de la célula pueden ser distintos de
los representados, de acuerdo con los requerimientos y los
criterios biomédicos de cada caso.
Claims (19)
1. Guía portadora de electrodos, especialmente
para implantes cocleares, alargada y substancialmente plana, que
presenta una pluralidad de electrodos (2), cada uno conectado a un
correspondiente contacto (3) a través de una pista conductora (4),
caracterizada por el hecho de que comprende por lo menos dos
células básicas (CB, CB'; CB1, CB2,... CB11) superpuestas,
comprendiendo cada célula una capa base (11) de material
eléctricamente aislante sobre la que está dispuesta una capa (12)
de material eléctricamente conductor que forma los electrodos (2),
las pistas conductoras (4) y los contactos (3).
2. Guía según la reivindicación 1,
caracterizada por el hecho de que cada célula básica (CB,
CB'; CB1, CB2,... CB11) tiene una longitud menor que la de la
célula básica (CB, CB'; CB1, CB2,... CB11) subyacente.
3. Guía según la reivindicación 2,
caracterizada por el hecho de que cada célula básica (CB,
CB'; CB1, CB2,... CB11) cubre la célula (CB, CB'; CB1, CB2,...
CB11) subyacente salvo la zona de los electrodos (2), en un extremo,
y la zona de los contactos (3), en el extremo opuesto.
4. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
1 a 3, caracterizada por el hecho de que cada célula básica
(CB, CB'; CB1, CB2,... CB11) comprende una capa de aislamiento (13)
dispuesta sobre la capa (12) de material eléctricamente conductor,
presentando esta capa de aislamiento (13) una aberturas de acceso
en correspondencia con cada electrodo (2) y cada contacto (3).
5. Guía según la reivindicación 4,
caracterizada por el hecho de que la capa de aislamiento
(13) de cada célula (CB, CB'; CB1, CB2,... CB11) constituye la capa
base (11) de la célula (CB, CB'; CB1, CB2,... CB11) superpuesta.
6. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
anteriores, caracterizada por el hecho de que al menos
algunas de las células básicas (CB, CB'; CB1, CB2,... CB11)
presentan tres electrodos (2), esencialmente alineados en la
dirección longitudinal de la célula.
7. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
anteriores, caracterizada por el hecho de que las células
básicas (CB, CB'; CB1, CB2,... CB11) tienen una anchura de entre
0,3 y 2,5 mm.
8. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
anteriores, caracterizada por el hecho de que la capa base
(11) de cada célula básica (CB, CB'; CB1, CB2,... CB11) tiene un
espesor de entre 2 \mum y 5 \mum, y la capa (12) de material
eléctricamente conductor tiene un espesor de entre 0,1 y 0,5
\mum.
9. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
anteriores, caracterizada por el hecho de que la distancia
entre los electrodos (2) de una célula básica (CB, CB'; CB1,
CB2,... CB11) es de entre 0,25 y
\hbox{10 \mu m}.10. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
anteriores, caracterizada por el hecho de que las células
básicas (CB') tienen una anchura menor al menos en la parte de su
longitud en la que están dispuestos los electrodos (2).
11. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
anteriores, caracterizada por el hecho de que el material de
la capa de base (11) se selecciona de entre PTFE, PET, poliimida,
silicona, y polímeros basados en paraxileno.
12. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
anteriores, caracterizada por el hecho de que la capa (12)
de material eléctricamente conductor es de un material seleccionado
de entre oro, platino o una aleación de
platino-iridio.
13. Guía según cualquiera de las reivindicaciones
anteriores, caracterizada por el hecho de que cada célula
(CB, CB'; CB1, CB2,... CB1) comprende una película de un material
para favorecer la adhesión, dispuesta entre la capa base (11) y la
capa (12) de material eléctricamente conductor.
14. Implante coclear, caracterizado por el
hecho de que comprende una guía (G) portadora de electrodos según
cualquiera de las reivindicaciones 1 a
13.
13.
15. Procedimiento para la fabricación de guías
portadoras de electrodos, caracterizado por el hecho de que
comprende una primera etapa de formación de una célula básica (CB,
CB'; CB1, CB2,... CB11) de al menos una guía (G), con las subetapas
siguientes:
(a) preparar una oblea sacrificial (15);
(b) depositar sobre dicha oblea (15) una capa
base (11) de material eléctricamente aislante;
(c) depositar sobre dicha capa (11)
eléctricamente aislante una capa de resina fotosensible y definir
por fotolitografía una geometría de electrodos (2), pistas (4) y
contactos (3);
(d) depositar una capa (12) de material
eléctricamente conductor sobre la capa de resina, y a continuación
eliminar la resina y el material eléctricamente conductor
depositados fuera de las zonas de la geometría definida por
litofotografía;
(e) depositar una segunda capa (13) de material
eléctricamente aislante, cubriendo totalmente la capa (12) de
material eléctricamente conductor; y
(f) formar en dicha segunda capa (13) de material
eléctricamente aislante unos accesos a los electrodos (2) y a los
contactos (3) subyacentes, definiendo ventanas de acceso con
técnicas fotolitográficas y realizando un ataque químico;
y por el hecho de que las subetapas (c) a (f) se
repiten tantas veces como células básicas (CB, CB'; CB1, CB2,...
CB11) se desean apilar en cada guía (G), y finalmente se elimina
dicha oblea sacrificial
(15).
(15).
16. Procedimiento según la reivindicación 15,
caracterizado por el hecho de que sobre la oblea (15) se
forman al menos dos guías (G) portadoras de electrodos, y por el
hecho de que comprende además una etapa de separación de las guías
(G) una de otra por corte de la oblea (15).
17. Procedimiento según la reivindicación 15,
caracterizado por el hecho de que sobre la oblea (15) se
forman al menos dos guías (G) portadoras de electrodos, y por el
hecho de que en la subetapa (f) se diseñan además ventanas de
acceso destinadas a eliminar el material eléctricamente aislante
existente entre cada dos guías (G) adyacentes, para definir la forma
de las guías (G) y para que éstas queden separadas unas de otras
sobre la oblea (15).
18. Procedimiento según cualquiera de las
reivindicaciones 15 a 17, caracterizado por el hecho de que
al menos algunas de las subetapas (b), (c), (e) y (f) comprenden
procesos de curado del material.
19. Procedimiento según cualquiera de las
reivindicaciones 15 a 18, caracterizado por el hecho de que
la subetapa (d) comprende depositar entre la capa de resina y la
capa (12) de material eléctricamente conductor una película de un
material que favorece la adhesión.
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