CN107065328A - 一种像素结构、显示面板、显示装置及像素结构制作方法 - Google Patents

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Abstract

本申请提供了一种像素结构、显示面板、显示装置及像素结构制作方法，用以将实现光的反射功能的反射结构设置于像素结构底部基板上，实现光的反射功能，从而节省背光源结构，减少功耗。本申请提供的一种像素结构包括：基板、位于所述基板之上的像素栅极、像素电极，在所述像素栅极和所述像素电极之间设置有第一绝缘层，在所述基板之上，所述第一绝缘层、所述像素栅极之下，还设置有满足光的反射条件的反射结构。本申请将反射结构设置于像素结构底部基板上，实现光的反射功能，从而节省了背光源结构，降低了整体功耗。

Description

一种像素结构、显示面板、显示装置及像素结构制作方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种像素结构、显示面板、显示装置及像素结构制作方法。
背景技术
现有技术的液晶面板进行显示时需要背光源(BackLight)提供光源，背光源是位于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)背后的一种光源，它的发光效果将直接影响到液晶显示模块(LCM)的视觉效果。
背光源主要由光源、导光板、光学用模片、结构件组成，其中：
光源：主要有面光源(EL)、线光源(CCFL)及点光源(LED)三种背光源类型；
导光板：分为印刷、化学蚀刻(Etching)、精密机械刻画法(V-cut)、光微影(Stamper)、内部扩散、热压；
光学用模片：增光膜/片、扩散膜/片、反射片、黑/白胶；
结构件中有：背板(铁背板、铝背板、塑胶背板)、胶框、灯管架、铝型材、铝基条。
但是，现有技术中的背光源的功耗较大。
发明内容
本申请实施例提供了一种像素结构、显示面板、显示装置及像素结构制作方法，用以将实现光的反射功能的反射结构设置于像素结构底部基板上，从而节省了背光源结构，降低了整体功耗。
本申请实施例提供的一种像素结构包括：基板、位于所述基板之上的像素栅极、像素电极，在所述像素栅极和所述像素电极之间设置有第一绝缘层，在所述基板之上，所述第一绝缘层、所述像素栅极之下，还设置有满足光的反射条件的反射结构。
本申请实施例提供的该像素结构，由于在所述基板之上，所述第一绝缘层、所述像素栅极之下，还设置有满足光的反射条件的反射结构，因此，设置的反射结构，用以实现光的反射功能，从而节省了背光源结构，降低了整体功耗。
可选地，所述反射结构为满足光的漫反射条件的漫反射结构。
本申请实施例中所述漫反射结构的设置，用以实现光的漫反射功能，从而有利于增大侧向的可视角度。
可选地，所述漫反射结构包括设置在所述基板之上的至少一个凸起和覆盖在所述凸起之上的反射层；
所述像素结构还包括设置在所述反射层之上的用于将所述像素栅极与所述反射层绝缘的第二绝缘层。
本申请实施例中所述的凸起，用于破坏反射层的镜面结构，使反射层表面不再光滑，满足光的漫反射条件；所述反射层用于进行光的漫反射；所述的第二绝缘层，隔离反射层和像素栅极的信号，保证像素的正常驱动。
可选地，所述凸起位于所述基板的显示区内。
可选地，每一所述凸起包括多层子凸起。
本申请实施例中的所述多层子凸起，使凹凸结构明显，从而更好地实现光的漫反射。
可选地，在所述凸起与所述基板之间还设置有用于提高所述凸起与所述基板之间的粘附力的基底层。
本申请实施例中的所述基底层可以是设置在凸起与所述基板之间，起到了平坦膜层的作用，从而可以提高所述凸起与所述基板之间的粘附力，并且可以很好地实现各个凸起的一致性，使得每一凸起对应的漫反射效果一致。
本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的任一所述的像素结构。
本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的所述的显示面板。
本申请实施例提供的一种像素结构的制作方法，包括：
在基板上形成漫反射结构；
在形成有漫反射结构的基板之上分别形成像素栅极、第一绝缘层、像素电极。
可选地，所述在基板上形成漫反射结构，具体包括：
在所述基板之上形成至少一个凸起；
形成覆盖在所述凸起之上的反射层；
在所述反射层之上形成用于将所述像素栅极与所述反射层绝缘的第二绝缘层。
可选地，所述反射层和所述像素电极是采用同一掩膜板形成的。
本申请实施例提供的该像素结构制作方法，所述反射层与所述像素电极使用同一张掩膜板制作，因此所述反射层的设置无需增加新的掩膜板。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的第一种像素结构的剖面结构示意图；
图2为本申请实施例提供的第二种像素结构的剖面结构示意图；
图3为本申请实施例提供的第三种像素结构的剖面结构示意图；
附图中的标记说明：1-基板；2-凸起；3-反射层；4-第二绝缘层；5-像素栅极；6-第一绝缘层；7-TFT活化层；8-像素源漏极；9-像素电极；10-像素电极；11-基板；12-液晶；2a-第一层子凸起；2b-第二层子凸起；20-漫反射结构。
具体实施方式
本申请实施例提供了一种像素结构、显示面板、显示装置及像素结构制作方法，用以将实现光的反射功能的反射结构设置于像素结构底部基板上，从而节省了背光源结构，降低了整体功耗。
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
参见图1，本申请实施例提供的一种像素结构包括：基板1、位于所述基板1之上的像素栅极5、像素电极9，在所述像素栅极5和所述像素电极9之间设置有第一绝缘层6，在所述基板1之上，所述第一绝缘层6、所述像素栅极5之下，还设置有满足光的反射条件的反射结构20。
其中，所述的基板1的材料不进行限制，例如可以是玻璃基板也可以是其他材质的基板，其厚度也不进行限制，可以根据实际需要而定。
本申请实施例提供的该像素结构，由于在所述基板1之上，所述第一绝缘层6、所述像素栅极5之下，还设置有满足光的反射条件的反射结构20，因此，设置的反射结构实现光的反射功能，从而节省了背光源结构，降低了整体功耗。
可选地，为了进一步增大侧向可视角度，所述反射结构20为满足光的漫反射条件的漫反射结构20。
可选地，所述漫反射结构20包括设置在所述基板1之上的至少一个凸起2和覆盖在所述凸起2之上的反射层3；
所述像素结构还包括设置在所述反射层3之上的用于将所述像素栅极5与所述反射层3绝缘的第二绝缘层4。
本申请实施例中由于凸起2的存在使得覆盖在凸起2上的反射层3表面凹凸不平，从而满足光的漫反射条件，实现了光的漫反射功能。
本申请实施例中所述凸起2的材料包括氮化硅，当然也可以采用树脂材料，但是，氮化硅相比树脂材料，成本更低，且氮化硅与玻璃基板1的粘附力更强，从而采用氮化硅制作凸起2不仅可以节约成本，还可以省去在制作漫反射结构20之前的平坦化操作。
本申请实施例中对所述凸起2的高度也不进行限制，例如，为了使得所述凸起2的高度能更好地满足光的漫反射条件，可以将每一凸起2的高度设置在3000至4000埃的范围内。
本申请实施例中所述反射层3的材料，例如可以是金属材质，当然也可以是其他材质，或者是其他材质和金属材质的混合。其中，所述金属材质例如可以是铜、铁、铝或多种金属材料的化合物等。所述反射层3可以是单层金属材质，也可以由多层金属材质组成。
本申请实施例中所述第二绝缘层4的材料可以是氮化硅也可以是树脂，所述第二绝缘层4用来隔离反射层3和像素栅极5的信号，保证像素的正常驱动。
可选地，所述凸起2位于所述基板的显示区内。
本申请实施例中所述凸起2起位于显示区内，覆盖于凸起2之上的反射层3，可以满足光的漫反射条件，从而使漫反射结构20在显示区内形成光的漫反射。
可选地，参见图2，每一所述凸起2包括第一层子凸起2a和第二层子凸起2b，多层子凸起的设置可以使得反射层3的凹凸结构更加明显，更好地满足光的漫反射条件，从而可以使得光线更好地实现漫反射，进一步增大侧向的可视角度。
可选地，参见图3，在所述凸起2与所述基板1之间还设置有用于提高所述凸起2与所述基板1之间的粘附力的基底层13。
可选地，所述基底层13的材料与凸起2的材料一致，例如都是氮化硅，其厚度不进行限制，根据具体需要而定。基底层13可以覆盖基板1整面，从而使得所述基底层13不仅可以进一步起到了平坦凸起2所设置的膜层的作用，还可以进一步提高凸起2与基板1之间的粘附力，避免凸起2脱落。
上述基板1为像素结构的下基板，上述的像素电极9为设置在下基板一侧的第一像素电极，如图1或图2所示，本申请实施例中所述的像素结构，还包括上基板11，设置在上基板11面向下基板1一侧的第二像素电极10，以及设置在第一像素电极9和第二像素电极10之间的液晶12。另外，在第一绝缘层6之上，非显示区中，还设置有薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)活化层7，以及位于TFT活化层7之上的像素源/漏极8。
可选地，所述的上基板11和/或下基板1，可以是玻璃基板。
除此之外，本申请实施例提供的像素结构还可以包括其他现有层结构，在此不再赘述。
本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的任一所述的像素结构。
本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的所述的显示面板。
所述显示装置，例如可以是智能手机、液晶电视机、平板电脑、发光二极管(LightEmitting Diode，LED)显示屏、LCD等任何具有显示功能的产品。
下面结合附图给出本申请实施例的一种像素结构制作方法的举例说明。
例如，参见图3，本申请实施例提供的像素结构的制作方法包括:
步骤一:在像素结构底部的下基板1制作一层基底层13作为基底，当然，也可以不用制作基底层13，直接使用下基板1作为基底，即本步骤可以省略；
步骤二:在所述基底层13之上，制作反射结构20。
其中，反射结构的制作包括：
在所述基底层13上通过使用第一掩膜板并加以刻蚀，在显示区形成多个凸起2，凸起之间的间隔、每一凸起的高度都可以根据实际需要而定；
在所述的凸起2之上，使用第二掩膜板制作反射层3。
步骤三:在所述的反射层3上制作第二绝缘层4；
步骤四:在第二绝缘层4之上，非显示区部分，制作像素栅极5；
步骤五：在像素栅极5和第二绝缘层4之上制作第一绝缘层6；
步骤六：在第一绝缘层6之上，非显示区，形成TFT活化层7；
步骤七：在TFT活化层7之上，形成像素源/漏极8；
步骤八：在第一绝缘层6之上，显示区内，采用所述第二掩膜板形成第一像素电极9；
步骤九：将形成有第二像素电极10的上基板11，与上述步骤形成的结构对盒封装，并且在第一像素电极9和第二像素电极10之间填充液晶12。
其中，反射层3和像素电极9共用同一张掩膜板制作，未增加新的掩膜板，并且还可以避开像素栅极5，不会对像素驱动造成影响。另外，由于反射层3和像素电极9共用同一掩模板，在像素设计中像素电极9不会和像素栅极5存在交叠，反射层3也不会和像素栅极5存在交叠，即像素栅极5可以在较低的平坦区域完成制作。另外，第二绝缘层4和第二绝缘层6交叠后，其厚度可以使得膜层变得平坦，不影响制作像素电极9。
另外，为了将凸起的高度满足要求，例如做到可以做多层子凸起，例如，参见图2，凸起2的制作分两部分制作，首先在基底层上用一张半曝光(HTM)掩膜板制作第一层子凸起2a，然后使用制作第一层子凸起2a的半曝光(HTM)掩膜板堆叠生成第二层子凸起2b。其中，制作的第一层子凸起2a和制作的第二层子凸起2b构成了凸起2，在由第一层子凸起2a和第二层子凸起2b构成凸起2的表面沉积一层铝作为反射层3，从而使得整个反射结构更好地实现光的漫反射。
综上所述，本申请实施例提供的技术方案，在下基板1上设置有满足光的反射条件的反射结构20，设置的反射结构20实现光的反射功能，从而节省了背光源结构，降低了整体功耗；进一步，将反射结构20设置为用以实现光的漫反射功能的漫反射结构，有利于增大侧向的可视角度；进一步，将基底层13设置在凸起2与下基板1之间，起到了平坦膜层的作用，从而可以提高凸起的粘附力，避免凸起脱落，并且可以很好地实现各个凸起的一致性，使得每一凸起对应的漫反射效果一致；进一步，所述凸起2的材料采用氮化硅，可以使得成本更低，且氮化硅与玻璃基板1的粘附力更强，从而采用氮化硅制作凸起不仅可以节约成本，还可以省去在制作漫反射结构之前的平坦化操作；另外，反射层3与像素电极9使用同一张掩膜板制作，因此反射层的设置无需增加新的掩膜板。
显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种像素结构，包括：基板、位于所述基板之上的像素栅极、像素电极，在所述像素栅极和所述像素电极之间设置有第一绝缘层，其特征在于，在所述基板之上，所述第一绝缘层、所述像素栅极之下，还设置有满足光的反射条件的反射结构。
2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述反射结构为满足光的漫反射条件的漫反射结构。
3.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述漫反射结构包括设置在所述基板之上的至少一个凸起和覆盖在所述凸起之上的反射层；
所述像素结构还包括设置在所述反射层之上的用于将所述像素栅极与所述反射层绝缘的第二绝缘层。
4.根据权利要求3所述的像素结构，其特征在于，所述凸起位于所述基板的显示区内。
5.根据权利要求3所述的像素结构，其特征在于，每一所述凸起包括多层子凸起。
6.根据权利要求3所述的像素结构，其特征在于，在所述凸起与所述基板之间还设置有用于提高所述凸起与所述基板之间的粘附力的基底层。
7.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至6任一权项所述的像素结构。
8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7所述的显示面板。
9.一种像素结构的制作方法，其特征在于，包括：
在基板上形成反射结构；
在形成有反射结构的基板之上分别形成像素栅极、第一绝缘层、像素电极。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述在基板上形成反射结构，具体包括：
在所述基板之上形成至少一个凸起；
形成覆盖在所述凸起之上的反射层；
在所述反射层之上形成用于将所述像素栅极与所述反射层绝缘的第二绝缘层。
11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述反射层和所述像素电极是采用同一掩膜板形成的。
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