CN1246634A - 漫反射片和使用它的液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents

漫反射片和使用它的液晶显示装置及其制造方法 Download PDF

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Abstract

提供一种液晶显示装置,从任何方向看都能获得明亮的、反差大的图象,且成本低廉。通过在玻璃基板上形成随机形成了多个凸部或凹凸部的树脂层,在上述树脂层上依次重叠反射片、绝缘层兼平坦层、透明电极及取向控制膜形成一个电极基板,通过在玻璃基板上重叠透明电极和取向控制膜形成另一个电极基板,并在上述两个电极基板之间夹持有液晶层。

Description

漫反射片和使用它的液晶显示装置及其制造方法
本发明涉及液晶显示装置，特别是涉及能有效地进行反射型彩色显示的内部装有反射片的液晶显示装置及其制造方法。
作为现有的反射型彩色液晶显示装置，有JP-A3-223715、JP-A5-80327、JP-A4-243226所述的技术。这些技术都是使反射膜下面的形状呈凹凸状，能简单地制造内部装有该漫反射膜的液晶显示装置。
这些方法是：(1)将铝薄膜设置在毛玻璃表面上，(2)使反射电极和热胀系数不同的薄膜层呈双层结构，(3)将反射膜设置在用树脂形成的许多微细的凸部上，这些结构都是将反射片和电极兼用。
上述现有技术中的(1)是用喷砂等方法在玻璃基板面上形成微细的凹凸。(2)是利用反射膜和在反射膜下面形成的树脂的热胀系数的不同而产生的应力，在反射膜表面上形成微细的凹凸。
另外，这些反射膜都是经过图形刻蚀后，兼作反射片和电极用。
可是，在这些方法中，存在这样一些问题：①微细凹凸图形的再现性不好，②反射膜的图形刻蚀困难，③难以在反射膜上形成彩色滤光片等。
另外，(3)由于使用感光性树脂、并采用光刻法形成，所以制作过程复杂，工序多，存在成本高的问题。另外，由于反射片兼作电极用，所以是一种在反射片上形成彩色滤光片的元件结构，存在加在液晶上的电压下降的问题。
另外，在(2)和(3)中，由于在电极端子下面有树脂层，所以在通过导电性薄膜，对安装了液晶驱动器IC的带载封装(以下称TCP)进行加热、加压的连接工序中，树脂层成为连接不良的主要原因，还存在电极端子部分容易引起膜剥离等、以及难以再连接的问题。
本发明的目的在于提供一种解决了上述这些问题的漫反射片和使用它的液晶显示装置、以及该液晶显示装置的制造方法。
为了达到该目的，本发明如下构成。
[1]一种漫反射片，具有基板、在该基板上形成的有凹凸的薄膜层、以及在有该凹凸的薄膜层上形成的反射层，该漫反射片是薄膜层和上述反射层预先呈一体形成的层。
[2][1]中的漫反射片在薄膜层和反射层之间有将两者粘接起来的粘接层。
[3]漫反射片有基板、以及通过转印薄膜转印并粘接在该基板上的漫反射层。
[4]一种漫反射片，具有：基板、在该基板上形成的有凹凸的薄膜层、在有该凹凸的薄膜层上形成的反射层、以及在该反射层上形成的平坦层，该漫反射片是薄膜层和上述反射层预先呈一体形成的层，薄膜层和基板通过粘接层而被粘接起来。
[5][4]中的漫反射片的薄膜层兼作粘接层用。
[6]一种液晶显示装置，具有一对基板、以及夹在该一对基板之间的液晶层，还有：在一对基板中的一个基板上形成的粘接层、在该粘接层上形成的有凹凸的薄膜层、在有该凹凸的薄膜层上形成的反射层、在该反射层上形成的平坦层、以及在该平坦层和一对基板中的另一个基板之间使液晶层上产生电场的电极结构。
[7]一种液晶显示装置，配置有通过在其玻璃基板上形成随机形成了多个凸部或凹凸部的树脂层，在树脂层上依次重叠反射片、绝缘层兼平坦层、透明电极及取向控制膜而形成的一个电极基板a，和通过在玻璃基板上重叠透明电极和取向控制膜而形成的另一电极基板b，电极基板a和b配置为使其取向控制膜相对；且在该两个基板之间夹持有液晶层。
[8][7]中的液晶显示装置在其绝缘层兼平坦层上形成遮光层和彩色滤光片，液晶层的厚度由在遮光层上形成的多个柱状树脂部分决定。
[9]一种液晶显示装置的制造方法，它包括以下工序：配置通过下列工序形成的一个电极基板a，即在玻璃基板面上形成薄膜状的树脂层，将具有随机形成许多微细的凸部或凹凸部的压模在树脂层表面加热、加压，在树脂层表面上形成微细的凸部或凹凸部的工序，在树脂层上形成反射膜，在该反射膜上形成绝缘层兼平坦层的工序，在绝缘层兼平坦层上形成遮光层及彩色滤光层的工序，在彩色滤光层上形成平坦层的工序，在平坦层上形成透明电极的工序，以及在透明电极上形成液晶的取向控制膜的工序；和配置通过在玻璃基板表面上形成透明电极，再在透明电极上形成液晶的取向控制膜而形成的另一个电极基板b；将两个电极基板a、b的取向控制膜相向地组合起来；将液晶填充在该两电极基板之间并进行密封。
[10][9]中的液晶显示装置的制造方法，是在随机地形成了许多微细的凸部或凹凸部的高分子基底膜上层叠感光性树脂或热硬化性树脂构成的转印膜，通过加热、加压将上述转印膜粘贴在上述玻璃基板表面上，将高分子基底膜剥离后，在玻璃基板表面上形成许多微细的凸部或凹凸部。
[11][9]或[10]中的液晶显示装置的制造方法，包括在平坦层上形成的遮光层上形成决定液晶层的厚度用的多个柱状树脂部的工序。
图1是实施例1的反射型彩色液晶显示装置的制造工序的示意性的剖面图。
图2是实施例2的反射型彩色液晶显示装置的制造工序的示意性的剖面图。
图3是实施例3的反射型彩色液晶显示装置的制造工序的示意性的剖面图。
图4是实施例4的反射型彩色液晶显示装置的制造工序的示意性的剖面图。
图5是实施例5的反射型彩色液晶显示装置的制造工序的示意性的剖面图。
图6是表示本发明的反射型彩色液晶显示装置的结构的示意性的剖面图。
图7是表示本发明的有源矩阵驱动型液晶显示装置的结构的示意性的剖面图。
图8是表示本发明的反射型彩色液晶显示装置的结构的示意性的剖面图。
图9是表示反射型彩色液晶显示装置的反射特性的测定方法的示意性的透视图。
图10是表示反射型彩色液晶显示装置的反射特性之一例的曲线图。
图11是表示本发明的漫反射片上的球状突起的形状和结构尺寸的示意性的剖面图。
以下说明使用本发明的漫反射片、带遮光层的漫反射片或漫反射片用的基底膜等的发射型彩色液晶显示装置的具体的制造方法。通过以下(1)～(9)的工序制成一个电极基板：
(1)将感光性树脂或热硬化性树脂涂敷在随机地形成了许多微细的凸部或凹凸部(间距：10～30微米，高度或深度：1～2微米)的高分子基底膜上(厚度：1～3微米)，干燥后作为转印膜用，利用滚筒积层装置等，从作为支撑体的基底膜上加热(50～150℃)和加压(1～12kg/cm2)，将上述感光性树脂或热硬化性树脂薄膜粘贴在玻璃基板表面上(滚筒速度：0.1～3米/分钟)的工序；
(2)将作为支撑体的高分子基底膜剥离的工序；
(3)在有上述凸或凹凸的树脂薄膜上形成反射膜(铝、银等薄膜，膜厚：100～300纳米)的工序；
(4)在上述反射膜上形成绝缘膜兼平坦膜(膜厚：1～2微米)的工序；
(5)在上述绝缘膜上形成遮光膜(膜厚：0.5～2微米)的工序；
(6)在上述遮光膜上形成红、绿及蓝色的彩色滤光片(膜厚：0.5～2微米)的工序；
(7)在上述彩色滤光片上形成平坦层(膜厚：1～3微米)的工序；
(8)在上述平坦膜上形成构成透明电极的ITO(氧化铟锡)膜(100～300纳米)的工序；
(9)在上述透明电极上形成取向控制膜(50～150纳米)的工序；
在玻璃基板上，通过以下(10)～(11)的工序制成另一个电极基板：
(10)形成透明电极的工序；
(11)在上述透明电极上形成取向控制膜(50～150纳米)的工序；
通过以下(12)、(13)两工序，将上述的两个电极基板制成液晶显示元件：
(12)通过隔离材料(聚合物颗粒、二氧化硅颗粒、玻璃纤维)，使取向控制膜面彼此相对地组合起来，用密封材料(上述的隔离材料与环氧树脂配合而成的材料)将两电极基板周边粘接起来进行密封的工序；
(13)将液晶密封在两电极基板之间的密封工序；
然后，通过(14)～(16)的工序，制成本发明的液晶显示装置：
(14)将规定的相位片和偏振片粘贴在只形成了上述液晶显示元件的透明电极的玻璃基板面上的工序；
(15)将安装了液晶驱动用IC的TCP及与驱动用外部电路连接的端子等连接在上述液晶显示元件上的工序；
(16)将上述液晶显示元件组装在外壳、框架等中的工序。
另外，本发明的第二个特征在于，也可以采用将设置了规定的凸或凹凸的滚子、模子或高分子片作为原模的压模的方式进行处理，以代替随机地形成了上述(1)中所述的许多微细的凸部或凹凸部的高分子基底膜。
具体地说，(1)将树脂涂敷在玻璃基板上，干燥后形成树脂层薄膜(膜厚：1～3微米)，
(2)用随机地设置了许多微细的凸部或凹凸部的上述压模，通过加热和加压，在树脂层薄膜上压制出凹凸图形。
然后，以下的工序与上述(3)～(16)所述的工序相同。
本发明通过使用将分散混合了颜料(黑、红、绿或蓝色)的感光性树脂膜、反射膜层、树脂层重叠在高分子基底膜上而成的薄膜(以下称漫反射片一体型彩色滤光膜)、或者使用将分散混合了红色、绿色、蓝色颜料的感光性树脂膜重叠在高分子基底膜上而成的薄膜(以下称彩色滤光膜)，与以往相比，能大幅度地减少其制造工序，同时由于在不形成反射片的相对的基板上可以不形成遮光膜或彩色滤光片等，所以在相对基板上容易形成电极，能容易地进行该电极的修正或TCP的连接。
另外，在本发明中，作为在玻璃基板上形成树脂层/反射膜层、或树脂层/反射膜层/遮光膜层的简便方法，可以通过张贴预先在高分子基底膜上重叠了反射膜层及树脂层、或遮光膜层、反射膜层及树脂层的转印膜，一并形成。
另外，由于在一个电极基板上形成形状微细且电极条数多的信号电极，所以电极的修正或TCP连接时的校正等都变得容易了，能谋求提高合格率、降低成本。
另外，在将有凸或凹凸的树脂层设置在高分子基底膜上的薄膜上，依次重叠反射膜、感光性黑色膜，将带有这样形成的漫反射片的彩色滤光片重叠在玻璃基板上，通过光掩模，对感光性黑色膜进行曝光、显像，通过硬化也能形成遮光层。
另外，将上述彩色滤光膜重叠在玻璃基板上，或利用旋转涂敷法，在玻璃基板上形成分别混合分散了绿色或蓝色颜料的感光性树脂薄膜(以下称彩色抗蚀剂)，通过光掩模，进行曝光、显像及硬化，使第一彩色滤光片形成图形。
然后，同样地形成第二、第三彩色滤光片。
在形成了使上述第一、第二及第三彩色滤光片的表面平坦的平坦层后，在它上面形成由ITO膜构成的透明电极图形。
在上述透明电极上形成控制液晶分子的取向的取向膜(聚酰亚胺系树脂)，用众所周知的方法，对它进行摩擦取向处理，也能制成一个电极基板。
另外，本发明的漫反射片也可不用光刻法，而通过简便的薄膜转印等方法形成凸或凹凸，通过在它上面形成铝、银等的反射层，能制作内装型漫反射片。因此，与以往相比，能获得工序少、成本低的漫反射片内装型的液晶显示装置。
如果采用本发明，由于电极和反射片不共用，能将电极和反射片分开，所以金属电极的图形刻蚀非常容易，由于这样构成，所以能在电极和内装反射片之间形成其他构成元件，特别是不降低加在液晶层上的电压，而在形成了反射片的基板上形成在相对的基板上形成的彩色滤光片和遮光膜(BM)等。
另外，由于能在形成了漫反射片的基板上形成BM等，所以相对的基板的构成元件少，能容易地对在相对的基板上形成的电极校正。特别是由于能在玻璃基板上直接形成电极数多、而且间隔窄的信号电极，所以能容易地进行安装了液晶驱动用IC的TCP的连接、以及IC的校正。
另外，作为漫反射片的形成方法，如果采用粘贴转印膜的方法，则工序少，玻璃基板的校正等也容易，能谋求降低成本，同时能使漫反射片的漫反射面一侧平坦，所以能提高基板和基板之间的间隔精度，能实现与液晶层之间形成的构件的平坦化。
下面，说明实施本发明时优选的反射型液晶显示元件。在本发明中，主要说明显示规模为640×240点(象素间距：0.3mm×0.3mm，象素尺寸：0.288mm×0.288mm，画面对角线尺寸：8.1英寸)的对应于1/2VGA的手提个人计算机(以下称手提PC)、监视器等中使用的超扭曲向列液晶(STN)液晶显示装置、或反射式STN彩色液晶显示装置(以下简称反射式彩色液晶显示装置)。
但是，本发明与液晶显示装置的液晶驱动方式无关，所以本发明也能适用于有源寻址方式、无源方式中的任意一种方式，不限定于STN液晶显示方式。
下面给出实施例，进行具体说明。
[实施例1]
根据图1所示的示意剖面图，说明本发明的反射型液晶显示元件的制造方法之一例。
工序(a)：准备转印膜，即在其表面上形成了许多凹部的成为支撑体的高分子膜15(聚对苯二甲酸乙二酯，膜厚：50微米，凹部间距：约15微米，凹部深度：1.2微米)上，涂敷由丙烯酸系树脂构成的树脂层2(也可以是环氧系树脂或亚胺系树脂，另外，树脂层可以是感光性的或非感光性的都可以)(膜厚：1.5微米)，干燥后，在树脂层2上设置保护膜(图中未示出，聚乙烯，膜厚：6微米)。
利用滚筒积层装置18(基板温度：100℃，滚筒温度：100℃，滚筒压力：6kg/cm2，进给速度：0.5米/分钟)，将上述转印膜转印在玻璃基板1(钠玻璃，厚度：0.7毫米)上，然后进行正式硬化(240℃/30分钟)，将保护膜剥离，形成了有凸部的树脂层2。
工序(b)：在有许多凸部的树脂层2上，形成铝反射膜层3(也可以是银，膜厚：100微米)。
工序(c)：在上述反射膜层3上，形成丙烯酸系树脂绝缘层兼平坦层4(膜厚：2微米)。
工序(d)：在上述绝缘层兼平坦层4上，涂敷混合分散了黑色颜料的感光性树脂层5，通过光掩模16，用紫外线17曝光后，进行显影，形成丙烯酸系树脂(也可以是环氧系树脂)遮光层5a(膜厚：1.2微米)。
工序(e)：在上述遮光层5a上，涂敷混合分散了红色颜料的母材为丙烯酸系树脂(也可以是环氧系树脂)感光性树脂层6(膜厚：1.2微米)，过光掩模16，用紫外线17曝光后，进行显影。
工序(f)：在感光性树脂层6上形成红色着色层6a。
工序(g)：其次，与上述红色着色层6a的形成一样，依次形成绿色着色层6b、蓝色着色层6c后，在上述遮光层5a、以及着色层6a、6b、6c上，形成丙烯酸系树脂(也可以是环氧系树脂)平坦层7(膜厚：2微米)、透明电极8(ITO膜，膜厚：260纳米，电极数：240条，电极间距：300微米，电极宽度：288微米，电极间隙：12微米的扫描电极)、以及聚酰亚胺取向控制膜(膜厚：70纳米)。
工序(h)：在通过上述(a)～(g)形成的一个电极基板和玻璃基板10(钠玻璃，厚度：0.7毫米)上，形成透明电极11(ITO膜，膜厚：260纳米，电极数：1920条，电极间距：100微米，电极宽度：88微米，电极间隙：12微米的信号电板)、聚酰亚胺取向控制膜12(膜厚：700纳米)，将这样形成的另一个电极基板通过与液晶14的厚度相当的作为聚合物颗粒的隔离材料13(粒径：6微米)组合起来，使电极8、11彼此相对地配置。
其次，基板周边用在环氧系树脂中配合了聚合物颗粒(也可以使用玻璃纤维等)的密封材料进行密封，将液晶14(由蓝色PCH及tolane电介质构成的液晶组成物，折射率各向异性Δn：0.133，扭曲角：250°)封装在两电极基板之间，通过密封(感光性丙烯酸系树脂或感光性环氧系树脂)，制成了反射型液晶显示元件。
另外，在本发明中，作为漫反射片的底层，随机地配置了直径为15微米、高度为1.2微米的许多微小的凸状(半球状)树脂，以便不发生光的干涉，作为反射膜形成了厚度为100纳米的铝膜，但凸状树脂的材料、形状及大小等，可以根据不同的目的进行选择。
如果采用本实施例，则由于用薄膜转印法制成的漫反射片能用与光刻法相同的精度形成所希望的形状的树脂层，所以能以低成本提供内部装有该漫反射片的反射型彩色液晶显示装置。另外，由于将漫反射片安装在内部，所以能提供一种从哪个方向看都是明亮的、反差大的画像的反射型彩色液晶显示装置。
特别是由于将象素电极和反射片分离，所以即使是在反射片上形成彩色滤光片的元件结构，也能提供一种不会降低加在液晶上的电压的反射型液晶显示装置。
另外，由于不使用制造方法复杂的光刻法，而是使用图形原模，所以能容易地在转印膜上形成所希望的图形，再现性好。
另外，由于在玻璃基板上直接形成电极宽度窄、配置间距窄的信号电极，所以装有液晶驱动用IC的TCP的安装及修正容易，能有效地提高元件的制作成品率。
另外，不使用在有微细的凸或凹部的高分子基底膜上依次重叠了遮光膜层、反射膜层、树脂层的转印膜，能大幅度减少制造工序，另外，通过将转印膜用于着色膜，使得着色层的表面变得平坦，能获得整个显示面均匀、反差大的图象。
另外，根据不同的目的，任意采用上述绝缘层兼平坦层4及平坦层7。例如，如果只形成有效显示区，则连接TAB更有利。
另外，将绝缘层配置在任意一个透明电极和取向控制膜之间，都能获得同样的效果。
本发明的漫反射片的制造方法是在滚筒、板或片上预先形成成为原模的凸或凹凸的图形，将该图形转印在薄膜树脂层上，在它上面形成并获得反射膜，所以能容易地获得图形再现性好的漫反射片。
[实施例2]
下面，根据图2说明本发明的另一反射型液晶显示装置的制造方法的一例。
工序(a)：在玻璃基板1(钠玻璃，厚度：0.7毫米)上用旋转涂敷法形成丙烯酸系树脂构成的树脂层2(膜厚：1.5微米)，然后进行干燥。
其次，用形成了凹部或凹凸部的板状的金属压模19(图中未示出，凹部间距：约15微米，凹部深度：1.2微米)，在该树脂层2上加热及加压20(温度：100℃，压力：6kg/cm2)，转印在树脂层2上后，将该树脂层2置于恒温槽中(240℃)硬化30分钟，形成凸部。
工序(b)以下与实施例1相同，制成反射型液晶显示装置。另外，漫反射片的底层也与实施例1相同。
另外，用光刻法时，在各工序结束后不能确定是否合适。而如果采用本实施例，则由于在最初的工序(a)中将规定的凹部或凹凸部转印在半硬化了的树脂层2上，所以能直接确认是否合适。因此，能容易地直接进行玻璃基板的再生，对于降低成本极其有利。
[实施例3]
其次，根据图3说明本发明的另一反射型液晶显示装置的制造方法之一例。
工序(a)：用滚筒21，将在滚筒21的表面上形成的凹部或凹凸部转印到在玻璃基板1上与实施例2同样形成的树脂层2上。
接着在工序(b)以下与实施例2相同，所以其说明从略。另外，漫反射片的底层也与实施例1相同。
本实施例的特征在于：不仅能简单地形成漫反射片用的底层，而且与光刻法一样，通过对转印在薄膜树脂层上的有凸部或凹凸部的底层控制紫外线照射量或硬化温度等，能任意地控制凸部或凹凸部的形状。
另外，与上述的实施例2相同，在成为漫反射片的底层的有凸部或凹凸部的树脂层2的形成工序中，在发生不适合的情况下，能容易地再利用剥离树脂层的玻璃基板。
[实施例4]
其次，根据图4说明本发明的另一反射型液晶显示装置的制造方法之一例。
工序(a)：在表面上形成了许多凹部的实施例1中使用的高分子基底膜15上涂敷同样的树脂层2(膜厚：1.5微米)，干燥后，将聚乙烯保护膜(图中未示出，膜厚：6微米)设置在树脂层2上形成转印膜，与实施例1一样，利用滚筒积层装置18，将上述转印膜转印在玻璃基板1上后，将该树脂层2放置在恒温槽中(240℃)硬化30分钟，形成凸部。
工序(b)：与实施例1一样，在有许多凸部的树脂层2上形成反射膜层3。
工序(c)：在上述反射膜层3上形成绝缘层兼平坦层4(丙烯酸系树脂或环氧系树脂，膜厚：2.0微米)。
工序(d)：与实施例1一样，在上述绝缘层兼平坦层4上形成涂敷或重叠的混合分散了黑色颜料的感光性树脂层5。
工序(e)：在上述遮光层5a上涂敷(或重叠)混合分散了红色颜料的感光性树脂层6(母材：丙烯酸系树脂或环氧系树脂，膜厚：1.2微米)，通过光掩模16，用紫外线17曝光后进行显影。
工序(f)：在遮光层5a上呈柱状地形成红色着色层6a。
工序(g)：其次，与上述红色着色层6a的形成方法一样，依次形成绿色着色层6b、蓝色着色层6c后，在上述遮光层5a、以及着色层6a、6b、6c上形成透明电极8(ITO膜，膜厚：260纳米，电极：扫描电极)、聚酰亚胺取向控制膜(膜厚：70纳米)。
工序(h)：除了不使用规定液晶厚度的隔离材料以外，与实施例1一样，配置相对电极基板，将液晶14封装在两电极基板之间，通过密封，制成了反射型液晶显示装置。另外，漫反射片的底层也与实施例1相同。
另外，在本实施例中，不使用隔离材料，利用在遮光层5a上形成的柱状的着色层6a，规定液晶的厚度，所以对于反射型液晶显示装置来说是有效的。
[实施例5]
其次，根据图5说明本发明的另一反射型液晶显示装置的制造方法之一例。
工序(a)：在表面上形成了许多凹部的成为支撑体的高分子基底膜15(聚对苯二甲酸乙二酯，膜厚：50微米，凹部间距：约15微米，凹部深度：1.2微米)上，涂敷实施例1中的树脂层2(膜厚：1.5微米)，干燥后，将实施例1中的保护膜(图中未示出)设置在树脂层2上，准备好转印膜。
与实施例1一样，利用滚筒积层装置18，将上述转印膜转印在玻璃基板1上后，将该树脂层2放置在恒温槽中(240℃)硬化30分钟，形成凸部。
工序(b)：在有凸部的树脂层2上形成反射膜层3(铝、银，膜厚：100纳米)。
工序(c)：在上述反射膜层3上形成绝缘层兼平坦层4(丙烯酸系树脂或环氧系树脂，膜厚：2.0微米)。
工序(d)：在上述绝缘层兼平坦层4上涂敷或重叠了混合分散了黑色颜料的感光性树脂层5上，通过光掩模16用紫外线17曝光，显影后形成遮光层5a(母材：丙烯酸系树脂或环氧系树脂，膜厚：1.2微米)。
工序(e)：在上述遮光层5a上涂敷(或重叠)混合分散了红色颜料的感光性树脂层6(母材：丙烯酸系树脂或环氧系树脂，膜厚：1.2微米)，通过光掩模16，用紫外线17曝光后进行显影。
工序(f)：利用上述感光性树脂层6，在遮光层5a上呈柱状地形成红色着色层6a。
工序(g)：与上述红色着色层6a的形成方法一样，形成绿色着色层6b、蓝色着色层6c，在遮光层5a及着色层6a、6b、6c的柱状层上形成弹性层22(感光性树脂，膜厚：1.2微米)、透明电极8(ITO膜，膜厚：260纳米的扫描电极)、聚酰亚胺取向控制膜9(膜厚：70纳米)。
工序(h)：与实施例1一样，配置相对电极基板，将液晶14封装在两电极基板之间，通过密封，制成了反射型液晶显示装置。另外，漫反射片的底层也与实施例1相同。
另外，本实施例中的在遮光层5a上形成了着色层6及弹性层22后规定液晶厚度的方法，不限于本实施例所述的方法，在液晶显示装置中用隔离材料规定液晶的厚度是有效的方法。
另外，最好考虑画面尺寸后，再设置着色层6及弹性层22的柱。
另外，通过使用在基底膜上重叠了着色层(黑、红、绿及蓝任意一种颜色)、平坦膜层、反射膜层及薄膜树脂层的转印膜，具有能大幅度减少工序数，并能在漫反射片上直接形成彩色滤光片的优点。另外，如果利用该方法在漫反射片上形成彩色滤光片，则具有能使彩色滤光片的表面平坦的效果。
另外，由于在相对基板上没有彩色滤光片，所以连接TCP时有利。另外，由于能平坦化，所以能防止反差比下降和辉度模糊。
在上述漫反射片上形成彩色滤光片时，不限定于上述的方法，也可以用颜料抗蚀剂或转印膜等在漫反射片上形成。
另外，该着色层在使用混合分散了黑色染料等的感光性树脂的情况下，在图形刻蚀之前是透明的，此后，通过加热进行化学反应，如果使用进行黑化的着色层，能形成线幅细的遮光层，能提供一种大数值孔径的(亮的)反射型液晶显示装置。
另外，由于将有凸部或凹凸部的树脂层只配置在有效显示区，能在玻璃基板上直接形成透明电极的端子，所以有利于连接TAB。
[实施例6]
其次，根据图6说明本发明的另一反射型液晶显示装置的制造方法之一例。
工序(a)：在实施例1中使用的聚对苯二甲酸乙二酯高分子膜15上形成树脂层2，在树脂层2上配置保护膜，准备好转印膜。
在与实施例1相同的条件下，利用滚筒积层装置18，将上述转印膜转印在玻璃基板1上后，将上述树脂层2放置在恒温槽中(240℃)硬化30分钟，形成有凸部的树脂层2。
工序(b)：在有许多凸部的树脂层2上形成铝反射膜层3(100纳米)。
工序(c)：在上述反射膜层3上形成丙烯酸系树脂绝缘层兼平坦层4(膜厚：2微米)。
工序(d)：在上述绝缘层兼平坦层4上形成ITO透明电极8(260纳米，信号电极)及聚酰亚胺系树脂取向控制膜9(70纳米)，制成一个电极基板。
工序(e)：其次，在另一个玻璃基板10(厚度为0.7毫米的钠玻璃)上旋转涂敷混合分散了黑色颜料的由丙烯酸系树脂构成的黑色感光性树脂层5，通过光掩模24，用紫外线23进行曝光。
工序(f)：通过显影，形成遮光层5a(膜厚：1.2微米)。
工序(g)：在上述遮光层5a上，涂敷(或重叠)混合分散了红色颜料的丙烯酸系树脂着色感光性树脂层6(膜厚：1.2微米)，然后通过光掩模24，用紫外线17曝光，进行显影。
工序(h)：在遮光层5a之间形成红色着色层6a。
工序(i)：在与形成红色着色层6a同样的工序中，形成绿色着色层6b及蓝色着色层6c，在其上面形成平坦层7(丙烯酸系树脂或环氧系树脂，膜厚：2微米)、ITO透明电极8(260纳米，扫描电极)、以及取向控制膜12(聚酰亚胺系树脂，膜厚：70纳米)。
将通过上述工序(a)～(d)获得的电极基板1和通过上述工序(e)～(i)获得的电极基板10与取向控制膜9及12相对配置，通过隔离材料13(聚合物颗粒)进行组合，用实施例1中使用的密封材料密封基板周边，接着，将实施例1中使用的液晶14(由蓝色PCH及tolane电介质构成的液晶组成物，折射率各向异性Δn：0.133，扭曲角：250°)封装在两电极基板之间，通过密封(感光性丙烯酸系树脂)，制成了反射型液晶显示元件。
另外，在本发明中，作为漫反射片的基底层，随机地配置了微小凸状物(半球状：直径约15微米×高度1.2微米)，以便不发生光的干涉，在它上面形成了铝反射膜(100纳米)，微小凸状物的材料、形状、大小等，可以根据不同的目的进行选择。
本实施例由于在另一玻璃基板上形成彩色滤光片和漫反射片，所以能借用透射型液晶显示元件用的彩色滤光片基板，能获得成本低的反射线彩色液晶显示装置。
[实施例7]
根据图7说明具有薄膜晶体管(TFT)的有源矩阵驱动型液晶显示装置之一例。
使用如下的基板作为一个电极基板：与实施例1一样，使用转印膜，在玻璃基板1(厚度为0.7毫米的无碱玻璃片)上，有通过工序(a)～(g)形成的许多微细的凸部，在遮光层5a及着色层6a、6b、6c上有平坦层7、ITO透明电极(公共电极)8、取向控制膜9。
使用如下的基板作为另一个电极基板：在玻璃基板80(厚度为0.7毫米的无碱玻璃片)上，形成了栅极81、蓄电电容电极82、绝缘膜83、非晶硅沟道层84、漏极85、源极86、象素电极(透明电极)87、取向控制膜9。
使上述两电极基板上的电极8、87相对配置，将规定液晶厚度用的隔离材料(图中未示出)夹在中间组合起来，用密封材料(图中未示出)粘接基板周边，将TN型的液晶14封装在两电极基板之间。
将1/4波片90、偏振片91配置在上述玻璃基板80的外侧，同时设置电源电路、驱动电路、控制电路(图中未示出)等，制成了反射型彩色液晶显示装置。
本实施例的反射型彩色液晶显示装置不需要象现有的产品那样利用光刻法在TFT上形成凹凸树脂膜和反射膜的工序，没有使晶体管一侧的基板(80)的合格率下降的因素，因此，能谋求降低成本。
另外，仍然能够使用现在成为主流的透射型彩色液晶显示元件中使用的形成TFT的基板。另外，本产品利用设置在偏振片下面的1/4波片，使来自栅极或漏极等金属电极的反射光旋转90度后被偏振片吸收，由于采用这样的方式，所以不会由于来自金属电极的反射光而造成反差下降。
另外，在本实施例中，虽然用纵向电场方式的有源矩阵型液晶显示元件进行了说明，但即使在横向电场方式的有源矩阵型液晶显示元件中，也能获得同样的效果。在应用于该横向电场方式的元件中的情况下，在彩色滤光片上形成平坦膜是有效的。最好用转印膜形成该平坦膜。
[实施例8]
其次，根据图8说明本发明的反射型彩色液晶显示装置之一例。
在图8中，在不形成反射型液晶显示元件30的反射片的一个玻璃基板上配置了相位片31、32、偏振片33的反射型彩色液晶显示装置40中，将安装了液晶驱动器的集成电路的带载封装34、以及安装了电源电路及控制电路等的印刷布线板35连接起来，同时用树脂外壳和金属框(图中未示出)使其一体化。
这样制作的反射型彩色液晶显示装置，从任何一个方向看，都能获得明亮的、反差大的图象，另外，能谋求以往没有的低成本化。
本发明的反射型彩色液晶显示装置的反射特性的测定方法示于图9，其具有代表性的反射特性示于图10。
图9所示的反射特性的测定方法是这样进行的；用固定在上述反射型彩色液晶显示装置40的上方的光电倍增管43，检测入射到反射型彩色液晶显示装置40上的入射光41的散射光42。
另外，图10是用上述测定方法的获得的反射特性之一例的曲线图，是检测相对于反射型彩色液晶显示装置40的法线入射角θ为±60°范围内的散射光42获得的特性曲线。
在图10中，虚线70表示采用镜面反射片作为反射片、且在图6所示的元件结构中在偏振片33或相位片31、32的下面备有光散射膜的反射型彩色液晶显示装置的特性曲线。
虚线60表示内部安装了转印膜方式的漫反射片的反射型彩色液晶显示装置的特性曲线，上述转印膜采用通过喷砂处理形成微细凹凸的作为临时支撑对的基底膜。
而且，实线50表示内部安装了随机地配置了图11所示的半球状突起的漫反射片的反射型彩色液晶显示装置的特性曲线。
由图10可知，图11所示的半球状突起的转印膜方式的漫反射片是不言而喻的，即使是与使用喷砂处理过的基底膜的转印膜方式的漫反射片、角度θ为±40°、将镜面反射片和光散射膜组合起来的方式相比，也能获得约四倍以上的亮度，确认了用作反射型液晶显示装置的有效性。
另外，也能确认，本实施例的反射型液晶显示装置的图象质量，与内部安装了用光刻法形成的漫反射片的现有的反射型液晶显示装置相比，相同或更好。
本发明用一个玻璃基板制作多个面板，所以适合于谋求低成本化的玻璃基板尺寸的大型化，同时平坦性及黑色滤光片的细线化等、以及着色膜材料的有效使用等从经济方面来看也极好。
因此本发明能有效地用于手提个人计算机、笔记本电脑、小型笔记本电脑、电视接收机、以及个人数字辅助装置(PDA)等中安装的液晶显示器、或监视器用大型液晶显示器。
特别是在不容易获得均匀的图象显示的大画面液晶显示装置中，本发明的不使用隔离材料的方法在图象质量方面具有显著的效果。
另外，本发明提供一种能在内部安装的反射片上或内部安装的漫反射片上形成电极的液晶显示装置、以及不使加在液晶层上的电压降低而能在内部安装的反射片上或内部安装的漫反射片上形成彩色滤光片的液晶显示装置，不限定显示方式等。
如果采用本发明，则
(1)用转印膜方式或压模方式能容易地形成任意形状的、且再现性好、设有凹凸面的内部安装漫反射片，能低成本地获得从任何方向看都是明亮的反射型液晶显示装置。
(2)由于能在同一个基板上配置反射片和彩色滤光片，所以能以高成品率制作液晶显示元件，能以低成本获得高反差、高透射率、显示特性均匀的反射型液晶显示装置。
(3)由于可以不使用隔离材料规定液晶厚度，所以能以低成本获得图象均匀性好的反射型及透射型液晶显示装置。
(4)通过使用转印膜(不着色或着色)，能省略平坦层，与液体状的抗蚀剂或彩色抗蚀剂比较，在减少废品、降低成本方面有效。

Claims (12)

1.一种漫反射片，具有基板、在该基板上形成的有凹凸的薄膜层、以及在该薄膜层上形成的反射层，其特征在于：上述薄膜层和上述反射层是一体形成的层。
2.根据权利要求1所述的漫反射片，其特征在于：在上述薄膜层和上述反射层之间有粘接层。
3.一种漫反射片，其特征在于：具有基板、以及将转印薄膜转印并粘接在该基板上形成的漫反射层。
4.一种漫反射片，具有基板、在该基板上形成的有凹凸的薄膜层、在该薄膜层上形成的反射层、以及在该反射层上形成的平坦层，其特征在于：
上述薄膜层和上述反射层是一体形成的层，
上述薄膜层和上述基板通过粘接层被粘接起来。
5.根据权利要求4所述的漫反射片，其特征在于：上述薄膜层兼作粘接层用。
6.一种液晶显示装置，具有一对基板、以及夹在该一对基板之间的液晶层，其特征在于还具有：
在上述一对基板中的一个基板上形成的粘接层、在该粘接层上形成的有凹凸的薄膜层、在该薄膜层上形成的反射层、在该反射层上形成的平坦层、以及在该平坦层和上述一对基板中的另一个基板之间使上述液晶层上产生电场的电极结构。
7.一种液晶显示装置，其特征在于：
配置有一个电极基板a和另一个电极基板b，上述电极基板a是通过在玻璃基板上形成随机形成了多个凸部或凹凸部的树脂层，在上述树脂层上依次层叠反射片、绝缘层兼平坦层、透明电极和取向控制膜而形成的，上述电极基板b是在玻璃基板上层叠透明电极和取向控制膜形成的，电极基板a和b配置为使取向控制膜相对；而且
在上述两个电极基板a、b之间夹持有液晶层。
8.根据权利要求7所述的液晶显示装置，其特征在于：在上述绝缘层兼平坦层上形成遮光层和彩色滤光片，上述液晶层的厚度由在遮光层上形成的多个柱状树脂部分决定。
9.一种液晶显示装置的制造方法，其特征在于包括下列步骤：
配置通过下列工序形成的一个电基板a，即
在玻璃基板表面形成薄膜状的树脂层，将具有随机形成的许多微细凸部或凹凸部的压模在上述树脂层表面加热、加压，在该树脂层表面形成微细的凸部或凹凸部的工序，
在上述树脂层上形成反射膜，在该反射膜上形成绝缘层兼平坦层的工序，
在上述绝缘层兼平坦层上形成遮光层及彩色滤光层的工序，
在上述彩色滤光层上形成平坦层的工序，
在上述平坦层上形成透明电极的工序，以及
在上述透明电极上形成液晶取向控制膜的工序；
并配置通过在玻璃基板表面上形成透明电极，再在该透明电极上形成液晶取向控制膜而形成的电极基板b；
将上述两个电极基板a、b的取向控制膜相向地组合起来；以及
将液晶填充在该两电极基板之间并进行密封。
10.根据权利要求9所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于：在随机地形成了许多微细的凸部或凹凸部的高分子基底膜上，层叠感光性树脂或热硬化性树脂构成的转印膜，通过加热、加压将上述转印膜粘贴在上述玻璃基板表面上，将上述高分子基底膜剥离后，在上述玻璃基板表面上形成许多微细的凸部或凹凸部。
11.根据权利要求9所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于还包括：在上述平坦层上形成的遮光层上形成决定液晶层的厚度用的多个柱状树脂部分。
12.根据权利要求10所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于还包括：在上述平坦层上形成的遮光层上形成决定液晶层的厚度用的多个柱状树脂部分。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100383626C (zh) * 2002-02-13 2008-04-23 统宝香港控股有限公司 使用光学漫反射结构的液晶显示设备及其制造方法
CN100409037C (zh) * 2004-03-03 2008-08-06 木本股份有限公司 光控制薄膜以及使用了它的背照光装置
US7746430B2 (en) 2005-07-08 2010-06-29 Fujitsu Limited Reflective liquid crystal display device of lamination type wherein the difference in orientation regulating force results whether or not the orientation film is present
CN104166175A (zh) * 2013-05-15 2014-11-26 新和因特泰科株式会社 复合光学薄膜以及包括该复合光学薄膜的光源组件
CN107065328A (zh) * 2017-05-23 2017-08-18 京东方科技集团股份有限公司 一种像素结构、显示面板、显示装置及像素结构制作方法

Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3384398B2 (ja) 2000-05-25 2003-03-10 セイコーエプソン株式会社 液晶装置、その製造方法および電子機器
JP2002116438A (ja) * 2000-10-11 2002-04-19 Alps Electric Co Ltd 液晶表示装置
JP4812971B2 (ja) * 2000-10-13 2011-11-09 共同印刷株式会社 液晶表示装置の電極基材の製造方法
GB0030675D0 (en) * 2000-12-15 2001-01-31 Rue De Int Ltd Methods of creating high efficiency diffuse back-reflectors based on embossed surface relief
JP3649145B2 (ja) * 2000-12-28 2005-05-18 オムロン株式会社 反射型表示装置及びその製造方法並びにそれを用いた機器
US7018674B2 (en) * 2001-03-02 2006-03-28 Omron, Corporation Manufacturing methods and apparatuses of an optical device and a reflection plate provided with a resin thin film having a micro-asperity pattern
JP3753673B2 (ja) * 2001-06-20 2006-03-08 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置の製造方法
KR100764591B1 (ko) * 2001-09-28 2007-10-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 필름 전사법에 의한 액정표시장치용 컬러필터 기판 및그의 제조방법
TW561295B (en) * 2002-02-01 2003-11-11 Prime View Int Corp Ltd Reflective optical self-compensated LCD structure
US6882394B2 (en) * 2002-05-30 2005-04-19 Fujitsu-Display Technologies Corporation Reflective liquid crystal display including a step of applying charged particles on the organic resin and film method of manufacturing
TWI266924B (en) * 2002-09-11 2006-11-21 Ind Tech Res Inst Reflective plastic liquid crystal display device and method for forming the same
US7567318B2 (en) * 2002-11-28 2009-07-28 Alps Electric Co., Ltd. Reflector and liquid crystal display panel
KR101005355B1 (ko) * 2003-12-29 2011-01-05 엘지디스플레이 주식회사 반사투과형 액정표시장치와 그 제조방법
KR101100880B1 (ko) * 2004-09-24 2012-01-02 삼성전자주식회사 가요성 표시 장치의 제조 방법
WO2006038575A1 (ja) * 2004-10-07 2006-04-13 Sharp Kabushiki Kaisha 透明電極およびこれを備えた液晶表示装置
KR20070043487A (ko) * 2005-10-21 2007-04-25 삼성전자주식회사 플렉서블 액정표시장치와 이의 제조방법
US20090195741A1 (en) * 2006-06-30 2009-08-06 Yoshihito Hara Liquid crystal display and method for manufacturing liquid crystal display
JPWO2008047517A1 (ja) * 2006-10-18 2010-02-18 シャープ株式会社 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法
EP2124093A4 (en) * 2006-12-14 2010-06-30 Sharp Kk LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
EP2128690B1 (en) * 2007-01-24 2013-10-23 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
US20100118238A1 (en) * 2007-01-31 2010-05-13 Junya Shimada Liquid crystal display device
WO2008129748A1 (ja) * 2007-04-13 2008-10-30 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法
JPWO2009001508A1 (ja) * 2007-06-26 2010-08-26 シャープ株式会社 液晶表示装置、及び液晶表示装置の製造方法
KR101396938B1 (ko) * 2007-10-09 2014-05-20 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 설계 방법
JP4900736B2 (ja) * 2009-03-31 2012-03-21 カシオ計算機株式会社 光源装置及びプロジェクタ
CN104165330A (zh) * 2014-06-27 2014-11-26 合肥京东方显示光源有限公司 光学组件、背光模组及显示装置
US10330832B2 (en) * 2015-06-25 2019-06-25 Apple Inc. High-luminance surface

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2751392B2 (ja) * 1989-05-12 1998-05-18 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置
JPH0359522A (ja) * 1989-07-28 1991-03-14 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP2924055B2 (ja) 1989-12-08 1999-07-26 セイコーエプソン株式会社 反射型液晶表示素子
JP2698218B2 (ja) 1991-01-18 1998-01-19 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置及びその製造方法
JP3094546B2 (ja) 1991-09-24 2000-10-03 セイコーエプソン株式会社 液晶表示体用拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法
JP2756206B2 (ja) 1992-02-19 1998-05-25 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置及びその製造方法
JPH0659228A (ja) * 1992-08-12 1994-03-04 Toshiba Corp 液晶表示素子の製造方法
JPH06230364A (ja) * 1993-02-02 1994-08-19 Toppan Printing Co Ltd 反射型液晶表示装置用カラーフィルター
JP2760274B2 (ja) * 1993-12-28 1998-05-28 日本電気株式会社 反射電極板の製造方法
JP2930517B2 (ja) * 1994-02-03 1999-08-03 シャープ株式会社 反射型液晶表示装置の製造方法
JPH07318950A (ja) * 1994-05-27 1995-12-08 Sony Corp 電気光学表示セルのスペーサ形成方法
US5757459A (en) 1995-03-03 1998-05-26 Vision-Ease Lens, Inc. Multifocal optical elements
JPH09120062A (ja) 1995-08-18 1997-05-06 Toshiba Electron Eng Corp カラーフィルタ基板及びその製造方法、それを用いた液晶表示素子及びその製造方法
JP3999824B2 (ja) * 1995-08-21 2007-10-31 東芝電子エンジニアリング株式会社 液晶表示素子
TW373098B (en) 1995-09-06 1999-11-01 Toshiba Corp Liquid crystal exposure component and its fabricating method
JPH0980447A (ja) 1995-09-08 1997-03-28 Toshiba Electron Eng Corp 液晶表示素子
JP2845783B2 (ja) 1995-09-19 1999-01-13 松下電器産業株式会社 反射板及びその製造方法並びにその反射板を用いた反射型液晶表示パネル
JPH09152630A (ja) * 1995-11-30 1997-06-10 Sony Corp 反射型ゲストホスト液晶表示装置
US6061111A (en) 1995-11-30 2000-05-09 Sony Corporation Reflective LCD having orientation film formed on quarter wavelayer and planarizing film formed on reflector layer
JPH10177106A (ja) 1995-12-11 1998-06-30 Sharp Corp 反射板並びに反射型液晶表示装置およびその製造方法
KR100190855B1 (ko) 1995-12-22 1999-06-01 윤종용 엘시디용 칼라필터 및 그의 제조방법
US5735988A (en) * 1996-03-19 1998-04-07 Physical Optics Corporation Method of making liquid crystal display system
JP3458620B2 (ja) * 1996-10-03 2003-10-20 東レ株式会社 液晶表示装置用基板および液晶表示装置
JPH10111508A (ja) * 1996-10-04 1998-04-28 Sony Corp 反射型ゲストホスト液晶表示装置
JPH10197707A (ja) * 1997-01-10 1998-07-31 Alps Electric Co Ltd 反射板の製造方法
US6130736A (en) 1997-06-13 2000-10-10 Alps Electric Co., Ltd. Liquid crystal display with corrugated reflective surface
JP3406207B2 (ja) * 1997-11-12 2003-05-12 シャープ株式会社 表示用トランジスタアレイパネルの形成方法
US6151089A (en) 1998-01-20 2000-11-21 Sony Corporation Reflection type display with light waveguide with inclined and planar surface sections
JP3791224B2 (ja) * 1998-02-13 2006-06-28 セイコーエプソン株式会社 反射型液晶装置及びその製造方法並びに電子機器
JPH11338134A (ja) 1998-05-29 1999-12-10 Hitachi Chem Co Ltd 転写フィルム及びカラーフィルタの製造法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100383626C (zh) * 2002-02-13 2008-04-23 统宝香港控股有限公司 使用光学漫反射结构的液晶显示设备及其制造方法
CN100409037C (zh) * 2004-03-03 2008-08-06 木本股份有限公司 光控制薄膜以及使用了它的背照光装置
US7746430B2 (en) 2005-07-08 2010-06-29 Fujitsu Limited Reflective liquid crystal display device of lamination type wherein the difference in orientation regulating force results whether or not the orientation film is present
CN104166175A (zh) * 2013-05-15 2014-11-26 新和因特泰科株式会社 复合光学薄膜以及包括该复合光学薄膜的光源组件
CN104166175B (zh) * 2013-05-15 2015-11-25 新和因特泰科株式会社 复合光学薄膜以及包括该复合光学薄膜的光源组件
CN107065328A (zh) * 2017-05-23 2017-08-18 京东方科技集团股份有限公司 一种像素结构、显示面板、显示装置及像素结构制作方法
WO2018214628A1 (zh) * 2017-05-23 2018-11-29 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置
US11397348B2 (en) 2017-05-23 2022-07-26 Beijing Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Array substrate having convex component, method for fabricating the same, liquid crystal display panel, and display device

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