JP3094546B2 - 液晶表示体用拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法 - Google Patents
液晶表示体用拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示体に用いられる
拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法に関
する。
拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶表示体用拡散反射板は、フィ
ルム状の物（反射板のみの物や、反射板と偏光板とが一
体となった物）で表示体の液晶パネル（偏光板を含む）
の下部に配置していた。
ルム状の物（反射板のみの物や、反射板と偏光板とが一
体となった物）で表示体の液晶パネル（偏光板を含む）
の下部に配置していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述した従来
の構成においては反射型表示体の明るさが不足であると
いう課題を有していた。
の構成においては反射型表示体の明るさが不足であると
いう課題を有していた。
【０００４】すなわち、反射型液晶表示体の入射光は、
液晶パネル（偏光板ーガラス基板ー透明電極層ー配向膜
層ー液晶層ー配向膜層ー透明電極層ーガラス基板ー偏光
板）を通過し反射板に到達する。反射板により反射され
た反射光は、液晶パネルを通過し液晶表示体外部へと到
達する。すなわち、光は液晶パネルを２回通過すること
になり、よって反射型液晶表示体の入射光に対して反射
光の光量は液晶表示体の液晶パネル（偏光板を含む）の
光損失を考慮するとその３分の１以下に落ちて暗くなっ
てしまうという問題点があった。
液晶パネル（偏光板ーガラス基板ー透明電極層ー配向膜
層ー液晶層ー配向膜層ー透明電極層ーガラス基板ー偏光
板）を通過し反射板に到達する。反射板により反射され
た反射光は、液晶パネルを通過し液晶表示体外部へと到
達する。すなわち、光は液晶パネルを２回通過すること
になり、よって反射型液晶表示体の入射光に対して反射
光の光量は液晶表示体の液晶パネル（偏光板を含む）の
光損失を考慮するとその３分の１以下に落ちて暗くなっ
てしまうという問題点があった。
【０００５】そこで本発明は、このような従来技術にお
ける問題点を克服し、明るい表示を可能とする液晶表示
体用拡散反射板、及び液晶表示体を容易に製造すること
を目的とする。
ける問題点を克服し、明るい表示を可能とする液晶表示
体用拡散反射板、及び液晶表示体を容易に製造すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示体用拡
散反射板の製造方法は、反射膜を基板上に形成する液晶
表示体用拡散反射板の製造方法において、前記基板上に
有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨
脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有
してなり、前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５
０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には凹凸が形成さ
れることを特徴とする。また、前記有機膜を形成する工
程においては凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形
成することを特徴とする。
散反射板の製造方法は、反射膜を基板上に形成する液晶
表示体用拡散反射板の製造方法において、前記基板上に
有機膜を形成する工程、及び前記有機膜とは異なる熱膨
脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成する工程を有
してなり、前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５
０℃に加熱しながら行い、前記反射膜には凹凸が形成さ
れることを特徴とする。また、前記有機膜を形成する工
程においては凹凸を有する前記有機膜を前記基板上に形
成することを特徴とする。
【０００７】本発明の液晶表示体の製造方法は、一対の
基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射
膜が形成されてなる液晶表示体を製造する方法におい
て、前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前
記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機
膜上に形成する工程を有してなり、前記反射膜を形成す
る工程は１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記
反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする。また、
前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する有機
膜を前記基板上に形成することを特徴とする。
基板間に液晶層を有しており一方の前記基板上には反射
膜が形成されてなる液晶表示体を製造する方法におい
て、前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前
記有機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機
膜上に形成する工程を有してなり、前記反射膜を形成す
る工程は１００℃〜２５０℃に加熱しながら行い、前記
反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする。また、
前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する有機
膜を前記基板上に形成することを特徴とする。
【０００８】
（実施例１）図１（ａ）及び（ｂ）は、本発明の実施例
を説明するものであって、液晶表示体用拡散反射板の概
略平面図及びＡ−Ａ’線に沿った概略断面図である。
を説明するものであって、液晶表示体用拡散反射板の概
略平面図及びＡ−Ａ’線に沿った概略断面図である。
【０００９】この液晶表示体用拡散反射板は、平面基板
１の上に有機薄膜層２を持ち、その上にパターン形成さ
れた反射電極３を設けた構造である。前記有機薄膜２は
レジストであり、前記反射電極３はスパッタ法もしくは
蒸着法により堆積され、エッチングによってパターン形
成されている。
１の上に有機薄膜層２を持ち、その上にパターン形成さ
れた反射電極３を設けた構造である。前記有機薄膜２は
レジストであり、前記反射電極３はスパッタ法もしくは
蒸着法により堆積され、エッチングによってパターン形
成されている。
【００１０】図２（ａ）〜（ｄ）は、前述した液晶表示
体用拡散反射板の製造方法を説明するものであって、重
要な製造工程終了後のガラス基板の概略断面図である。
図２に基づき液晶表示体用拡散反射板の製造工程を説明
する。
体用拡散反射板の製造方法を説明するものであって、重
要な製造工程終了後のガラス基板の概略断面図である。
図２に基づき液晶表示体用拡散反射板の製造工程を説明
する。
【００１１】まず、平面基板１の表面を有機洗浄したの
ち、さらにプラズマもしくはＵＶ＋Ｏ3により完全に基
板表面の有機物及び異物の除去を行なう（図２
（ａ））。次に、平面基板１の表面に、レジストをスピ
ンコート法により１〜１０μｍの厚みに塗布し、それを
１００〜２００℃でベーキングして有機薄膜層２を形成
する（同図（ｂ））。次に、有機薄膜層２の表面全体
に、スパッタ法もしくは蒸着法によりＡｌ薄膜もしくは
Ｐｔ薄膜よりなる反射薄膜層４を堆積する（同図
（ｃ））。このとき、有機薄膜層２を含む平面基板１を
１００〜２５０℃に加熱することによって、拡散反射に
必要な微細な凹凸が同時に形成される。これは有機薄膜
層２と反射薄膜層４との熱膨張率の違いにより有機薄膜
層２にシワが発生し、また、スパッタ時あるいは蒸着時
にＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜自身がグレーン成長するた
めである。次に、反射薄膜層４をエッチングによってパ
ターン形成し反射電極３を形成する（同図（ｄ））。
ち、さらにプラズマもしくはＵＶ＋Ｏ3により完全に基
板表面の有機物及び異物の除去を行なう（図２
（ａ））。次に、平面基板１の表面に、レジストをスピ
ンコート法により１〜１０μｍの厚みに塗布し、それを
１００〜２００℃でベーキングして有機薄膜層２を形成
する（同図（ｂ））。次に、有機薄膜層２の表面全体
に、スパッタ法もしくは蒸着法によりＡｌ薄膜もしくは
Ｐｔ薄膜よりなる反射薄膜層４を堆積する（同図
（ｃ））。このとき、有機薄膜層２を含む平面基板１を
１００〜２５０℃に加熱することによって、拡散反射に
必要な微細な凹凸が同時に形成される。これは有機薄膜
層２と反射薄膜層４との熱膨張率の違いにより有機薄膜
層２にシワが発生し、また、スパッタ時あるいは蒸着時
にＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜自身がグレーン成長するた
めである。次に、反射薄膜層４をエッチングによってパ
ターン形成し反射電極３を形成する（同図（ｄ））。
【００１２】図３（ａ）〜（ｄ）は、前述した液晶表示
体用拡散反射板のもう一つの製造方法を説明するもので
あって、重要な製造工程終了後のガラス基板の概略断面
図である。図３に基づき液晶表示体用拡散反射板の製造
工程を説明する。
体用拡散反射板のもう一つの製造方法を説明するもので
あって、重要な製造工程終了後のガラス基板の概略断面
図である。図３に基づき液晶表示体用拡散反射板の製造
工程を説明する。
【００１３】まず、平面基板１の表面を有機洗浄したの
ち、さらにプラズマもしくはＵＶ＋Ｏ3により完全に基
板表面の有機物及び異物の除去を行なう（図３
（ａ））。次に、平面基板１の表面に、レジストを印刷
法により１〜５μｍの厚みに塗布し、それを１００〜２
００℃でベーキングして凹凸の有する有機薄膜層２を形
成する。次に、有機薄膜層２の表面全体に、スパッタ法
もしくは蒸着法によりＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜よりな
る反射薄膜層４を堆積する（同図（ｃ））。このとき、
有機薄膜層２を含む平面基板１を１００〜２５０℃に加
熱することによって、拡散反射に必要な凹凸が同時に形
成される（この凹凸は、前述した印刷法によって形成さ
れた凹凸より更に微細な凹凸であり、印刷法により形成
された凹凸の上に形成される）。これは有機薄膜層２と
反射薄膜層４との熱膨張率の違いにより有機薄膜層２に
シワが発生し、また、、スパッタ時あるいは蒸着時にＡ
ｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜自身がグレーン成長するためで
ある。次に、反射薄膜層４をエッチングによってパター
ン形成し反射電極３を形成する（同図（ｄ））。
ち、さらにプラズマもしくはＵＶ＋Ｏ3により完全に基
板表面の有機物及び異物の除去を行なう（図３
（ａ））。次に、平面基板１の表面に、レジストを印刷
法により１〜５μｍの厚みに塗布し、それを１００〜２
００℃でベーキングして凹凸の有する有機薄膜層２を形
成する。次に、有機薄膜層２の表面全体に、スパッタ法
もしくは蒸着法によりＡｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜よりな
る反射薄膜層４を堆積する（同図（ｃ））。このとき、
有機薄膜層２を含む平面基板１を１００〜２５０℃に加
熱することによって、拡散反射に必要な凹凸が同時に形
成される（この凹凸は、前述した印刷法によって形成さ
れた凹凸より更に微細な凹凸であり、印刷法により形成
された凹凸の上に形成される）。これは有機薄膜層２と
反射薄膜層４との熱膨張率の違いにより有機薄膜層２に
シワが発生し、また、、スパッタ時あるいは蒸着時にＡ
ｌ薄膜もしくはＰｔ薄膜自身がグレーン成長するためで
ある。次に、反射薄膜層４をエッチングによってパター
ン形成し反射電極３を形成する（同図（ｄ））。
【００１４】（実施例２）図４は、本発明の液晶表示体
用拡散反射板を用て作成した反射型液晶パネルの概略断
面図であり、図５は、従来の反射型液晶パネルの概略断
面図である。従来の反射型液晶パネルにおいて、入射光
１０は、偏光板９−対向平面基板８−透明電極７−配向
膜５−液晶層６−配向膜５−透明電極７−平面基板１−
偏光板９を通過し反射フィルム１２に達し反射する。反
射板により反射された反射光１１は、その逆を通過して
液晶パネル外部へと到達するため、入射光に対し反射光
は３分の１以下となる。しかし、本発明の液晶表示体用
拡散反射板を用いた反射型液晶パネルでは、入射光１０
は、偏光板９−対向平面基板８−透明電極７−配向膜５
−液晶層６−配向膜５を通過し反射電極３に達し反射す
る。反射板により反射された反射光１１は、その逆を通
過して液晶パネルの外部に達するので、従来の反射型液
晶パネルより光の損失が少なく明るさも従来より２倍以
上明るくなった。また、反射電極３は、金属薄膜で反射
板と電極とを兼ねるので、従来の透明電極による配線抵
抗より低抵抗になるため、液晶パネル駆動時のクロスト
ークを無くし表示品質も向上した。以上、単純マトリク
スを例に述べたが、アクティブマトリクスにおいては、
アクティブ素子の形成されていない対向基板上に本発明
の液晶表示体用拡散反射板を形成することにより応用が
可能である。
用拡散反射板を用て作成した反射型液晶パネルの概略断
面図であり、図５は、従来の反射型液晶パネルの概略断
面図である。従来の反射型液晶パネルにおいて、入射光
１０は、偏光板９−対向平面基板８−透明電極７−配向
膜５−液晶層６−配向膜５−透明電極７−平面基板１−
偏光板９を通過し反射フィルム１２に達し反射する。反
射板により反射された反射光１１は、その逆を通過して
液晶パネル外部へと到達するため、入射光に対し反射光
は３分の１以下となる。しかし、本発明の液晶表示体用
拡散反射板を用いた反射型液晶パネルでは、入射光１０
は、偏光板９−対向平面基板８−透明電極７−配向膜５
−液晶層６−配向膜５を通過し反射電極３に達し反射す
る。反射板により反射された反射光１１は、その逆を通
過して液晶パネルの外部に達するので、従来の反射型液
晶パネルより光の損失が少なく明るさも従来より２倍以
上明るくなった。また、反射電極３は、金属薄膜で反射
板と電極とを兼ねるので、従来の透明電極による配線抵
抗より低抵抗になるため、液晶パネル駆動時のクロスト
ークを無くし表示品質も向上した。以上、単純マトリク
スを例に述べたが、アクティブマトリクスにおいては、
アクティブ素子の形成されていない対向基板上に本発明
の液晶表示体用拡散反射板を形成することにより応用が
可能である。
【００１５】以上実施例を述べたが、本発明は以上の実
施例における平面基板上に形成される液晶表示体用拡散
反射板のみに限定されるものではなく、各種の反射板等
に応用が可能である。
施例における平面基板上に形成される液晶表示体用拡散
反射板のみに限定されるものではなく、各種の反射板等
に応用が可能である。
【００１６】
【発明の効果】以上述べてきたように本発明は、有機膜
上に反射膜を形成する際に、１００℃〜２５０℃に加熱
する。その際、有機膜と反射膜との熱膨脹係数の違いに
より散乱反射に必要な凹凸が反射膜上に形成される。
上に反射膜を形成する際に、１００℃〜２５０℃に加熱
する。その際、有機膜と反射膜との熱膨脹係数の違いに
より散乱反射に必要な凹凸が反射膜上に形成される。
【図１】（ａ）は実施例１における液晶表示体用拡散反
射板の概略平面図であり、（ｂ）はＡ−Ａ’線に沿った
概略断面図である。
射板の概略平面図であり、（ｂ）はＡ−Ａ’線に沿った
概略断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は実施例１における液晶表示体
用拡散反射板の製造プロセスを説明するものであって、
重要な製造工程終了後の基板の概略断面図である。
用拡散反射板の製造プロセスを説明するものであって、
重要な製造工程終了後の基板の概略断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｄ）は実施例１における液晶表示体
用拡散反射板のもう一つの製造プロセスを説明するもの
であって、重要な製造工程終了後の基板の概略断面図で
ある。
用拡散反射板のもう一つの製造プロセスを説明するもの
であって、重要な製造工程終了後の基板の概略断面図で
ある。
【図４】実施例２における本発明の液晶表示体用拡散反
射板を用いた反射型液晶パネルの概略断面図。
射板を用いた反射型液晶パネルの概略断面図。
【図５】従来の反射型液晶パネルの概略断面図。
１ 平面基板 ２ 有機薄膜層 ３ 反射電極 ４ 反射薄膜層 ５ 配向膜 ６ 液晶層 ７ 透明電極 ８ 対向平面基板 ９ 偏光板 １０ 入射光 １１ 反射光 １２ 反射フィルム １３ シール剤
Claims (4)
- 【請求項１】反射膜を基板上に形成する液晶表示体用拡
散反射板の製造方法において、 前記基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有機膜と
は異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上に形成
する工程を有してなり、 前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃に加熱
しながら行い、 前記反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする液晶
表示体用拡散反射板の製造方法。 - 【請求項２】請求項１に記載の液晶表示体用拡散反射板
の製造方法において、 前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する前記
有機膜を前記基板上に形成することを特徴とする液晶表
示体用拡散反射板の製造方法。 - 【請求項３】一対の基板間に液晶層を有しており一方の
前記基板上には反射膜が形成されてなる液晶表示体を製
造する方法において、 前記一方の基板上に有機膜を形成する工程、及び前記有
機膜とは異なる熱膨脹率を有する反射膜を前記有機膜上
に形成する工程を有してなり、 前記反射膜を形成する工程は１００℃〜２５０℃に加熱
しながら行い、 前記反射膜には凹凸が形成されることを特徴とする液晶
表示体の製造方法。 - 【請求項４】請求項３に記載の液晶表示体の製造方法に
おいて、 前記有機膜を形成する工程においては凹凸を有する有機
膜を前記基板上に形成することを特徴とする液晶表示体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03243632A JP3094546B2 (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 液晶表示体用拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03243632A JP3094546B2 (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 液晶表示体用拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22245499A Division JP3686556B2 (ja) | 1999-08-05 | 1999-08-05 | 液晶表示体、液晶表示体用拡散板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0580327A JPH0580327A (ja) | 1993-04-02 |
| JP3094546B2 true JP3094546B2 (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=17106711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03243632A Expired - Lifetime JP3094546B2 (ja) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | 液晶表示体用拡散反射板の製造方法、及び液晶表示体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3094546B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2768313B2 (ja) * | 1995-06-13 | 1998-06-25 | 日本電気株式会社 | 反射型液晶表示装置 |
| JP3043638B2 (ja) * | 1996-11-05 | 2000-05-22 | 日本電気株式会社 | 反射型液晶表示装置およびその製造方法 |
| JP2000047200A (ja) | 1998-07-31 | 2000-02-18 | Hitachi Ltd | 拡散反射板とそれを用いた液晶表示装置およびその製法 |
| JP4614483B2 (ja) * | 1999-11-10 | 2011-01-19 | 京セラ株式会社 | 反射型液晶表示装置 |
| US7480019B2 (en) | 2001-01-25 | 2009-01-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a substrate for an lcd device |
| TW548689B (en) | 2001-01-25 | 2003-08-21 | Fujitsu Display Tech | Reflection type liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
| JP3908552B2 (ja) | 2001-03-29 | 2007-04-25 | Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| KR100798528B1 (ko) * | 2006-04-07 | 2008-01-28 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 반사형 액정표시장치의 제조방법 |
| KR100744397B1 (ko) * | 2006-04-18 | 2007-07-30 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 반투과형 액정표시장치의 어레이기판 제조방법 |
| KR101384382B1 (ko) * | 2007-03-12 | 2014-04-10 | 코니카 미놀타 어드밴스드 레이어즈 인코포레이티드 | 방현성 반사 방지 필름의 제조 방법, 방현성 반사 방지 필름, 편광판 및 표시 장치 |
-
1991
- 1991-09-24 JP JP03243632A patent/JP3094546B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0580327A (ja) | 1993-04-02 |
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|
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|
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|
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|
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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