JP2003114452A - 表示素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のリソグラフィー技術に頼らずに隔壁を
簡便に形成することができる表示素子を提供する。 【解決手段】 一対の基板１ａ，１ｂと、該基板間に介
在する電気泳動粒子１ｅおよび分散媒１ｆからなる表示
媒体と、該表示媒体を基板面に対して垂直に分離する隔
壁１ｇを有する表示素子であって、該隔壁１ｇは自己形
成化材料の自己形成化からなり、該隔壁１ｇと該基板１
ａで構成された空孔１ｋ内に表示媒体が設けられている
表示素子。自己形成化材料が、ブロック共重合体、ホモ
ポリマー、ポリイオンコンプレックス、有機及び／又は
無機ハイブリッド材料からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子及びその
製造方法に関するものであり、更に詳しくは、一対の基
板間に介在する表示媒体を、表示画素ごとに基板面に対
して垂直に分離する隔壁を自己形成化材料の自己形成化
によって形成した表示素子、及びその製造方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報機器の発達に伴い、低消費電
力且つ薄型の表示素子のニーズが増しており、これらの
ニーズに合わせた表示素子の研究、開発が盛んに行われ
ている。中でも液晶表示素子は、液晶分子の配列を電気
的に制御し液晶の光学的特性を変化させる事ができ、上
記のニーズに対応できる表示素子として活発な開発が行
われ商品化されている。

【０００３】しかしながら、これらの液晶表示素子で
は、画面を見る時の角度や反射光によって画面上の文字
が見え難いという問題、あるいは、光源のちらつきや低
輝度などから生じる視覚への負担が十分に解決されてい
ない。この為、視覚への負担の少ない表示素子の研究が
盛んに検討されている。

【０００４】そのような表示素子の１つとして、Ｈａｒ
ｏｌｄ Ｄ．Ｌｅｅｓ等によって発明された電気泳動表
示素子（米国特許第３６１２７５８号）が知られてい
る。図１６は、その電気泳動表示素子の構造及びその動
作原理を示す概略図である。図１６において、該電気泳
動表示素子は、所定間隙を開けた状態に配置された一対
の基板５ａ、５ｂを備えており、各基板には電極５ｃ、
５ｄがそれぞれ形成されている。また基板間隙には、正
に帯電されると共に着色された多数の電気泳動粒子５
ｅ、及び電気泳動粒子とは別の色で着色された分散媒５
ｆが充填されている。更に、隔壁５ｇが該間隙を基板の
面方向に沿って多数の画素に分割するように配置され、
電気泳動粒子の偏在を防止すると共に基板間隙を規定す
るように構成されている。

【０００５】このような表示素子において、図１６
（ａ）に示すように、図示下側の電極５ｃに負極性の電
圧を印加すると共に図示上側の電極５ｄに正極性の電圧
を印加すると、正に帯電されている電気泳動粒子５ｅは
下側の電極５ｃを覆うように集まり、図示Ａ方向から表
示素子を眺めると、分散媒５ｆと同じ色の表示が行われ
る。反対に図１６（ｂ）に示すように、図示下側の電極
５ｃに正極性の電圧を印加すると共に図示上側の電極５
ｄに負極性の電圧を印加すると、電気泳動粒子５ｅは上
側の電極５ｄを覆うように集まり、図示Ａ方向から表示
素子を眺めると、電気泳動粒子５ｅと同じ色の表示が行
われる。このような駆動を画素単位で行うことにより、
多数の画素によって任意の画像が表示される。

【０００６】一方、自発光型の表示素子として、Ｃ．
Ｗ．Ｔａｎｇ等によって提案された有機ＥＬ（エレクト
ロルミネッセンス）素子（“Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅ
ｔｔ．”Ｖｏｌ．５１，ｐ．９１３（１９８７）．）が
知られている。

【０００７】図１７は、有機ＥＬ素子の概略図である。
図１７において、所定間隙を開けた状態に配置された一
対の基板６ａ、６ｂを備えており、基板６ａは透明なガ
ラス等である。基板６ａ上には、ＩＴＯ等の透明電極か
らなる第１電極６ｃが設けられている。第１電極６ｃを
含む基板６ａ上には、電気絶縁性を有する隔壁６ｅが、
所定間隔で配列、形成されている。隔壁６ｅが形成され
ていない第１電極６ｃ上に、少なくとも１層の有機ＥＬ
媒体６ｆの薄膜が形成されている。更に、各有機ＥＬ媒
体６ｆ上には第２電極６ｄが形成されている。隔壁６ｅ
及び有機ＥＬ媒体６ｆが形成されている面側を、基板６
ｂと接着剤６ｇを用いて封止されている。有機ＥＬ素子
は、第１電極６ｃと第２電極６ｄ間に電界を印加して、
有機ＥＬ媒体６ｆが発光し、基板６ａを通じて表示され
る。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】従来の電気泳動素子で
は次のような問題点を抱えていた。より高精細な表示を
行っていくには、電極パターンを高精細にしていく必要
があり、それに合わせて、隔壁も微細にしなければなら
ない。しかしながら、従来のリソグラフィー法で基板上
に微細な隔壁を形成するには、数多くの複雑な工程が必
要となり、簡便に隔壁を形成することができないといっ
た課題があった。

【０００９】また、従来の有機ＥＬ素子では次のような
問題点を抱えていた。より高精細な表示を行っていくに
は画素を小さくする必要があり、それに伴って、画素間
の発光色の異なる発光材料が混合しないように、隔壁も
微細に設けなければならない。しかしながら、従来のリ
ソグラフィー法で基板上に微細な隔壁を形成するには、
数多くの複雑な工程が必要となり、簡便に隔壁を形成す
ることができないといった課題があった。

【００１０】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであり、従来のリソグラフィー技術に頼らず
に隔壁を簡便に形成できる表示素子を提供することを目
的とする。また、本発明の目的は、一対の基板間に介在
する表示媒体を基板面に対して垂直に分離する隔壁を自
己形成化材料の自己形成化によって簡便に形成し、高精
細な表示素子を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、一対の基板
と、該基板間に介在する表示媒体と、該表示媒体を基板
面に対して垂直に分離する隔壁を有し、該隔壁と該基板
で構成された空孔内に表示媒体が設けられている表示素
子であって、該隔壁は自己形成化材料により形成された
隔壁であることを特徴とする表示素子である。

【００１２】ここで自己形成化材料（ｓｅｌｆ−ａｓｓ
ｅｍｂｌｅ ｍａｔｅｒｉａｌ）とは、これらの分子が
溶液中に分散されているとき、自発的に会合することに
よって固形物質を形成することが可能な材料であり、詳
細は後で述べる。

【００１３】また本発明の特徴は、前記隔壁と前記基板
で構成された空孔がハニカム（ｈｏｎｅｙ−ｃｏｍｂ）
状に配列した構造であって、該空孔の孔径が１０〜２０
０μｍ、その高さが０．１〜１００μｍの範囲であり、
アスペクト比が０．１〜１００の範囲であり、空孔間の
間隔が１０〜２１０μｍであることを特徴とする表示素
子である。

【００１４】さらに、前記自己形成化材料が、ブロック
共重合体、ホモポリマー、ポリイオンコンプレックス、
有機及び／又は無機ハイブリッド材料などからなること
である。また、前記隔壁が導電性を有しており、あるい
は導電性ポリマーによって自己形成された構造体である
ことを特徴としている。

【００１５】また 本発明は、一対の基板と、該基板間
に介在する表示媒体と、該表示媒体を基板面に対して垂
直に分離する隔壁を有する表示素子の製造方法であっ
て、（１）基板上に自己形成化材料により隔壁を形成す
る工程、（２）該隔壁と該基板で構成された空孔内に表
示媒体を充填する工程、（３）該隔壁上を対向する基板
で覆い、基板間を封止する工程、の各工程を有すること
を特徴とする表示素子の製造方法である。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は本発明の表示素子の一実施
態様を示す断面図であり、表示素子が電気泳動表示素子
を示す。図１（ａ）において、本発明の電気泳動表示素
子は、第１基板１ａ上の所望の位置に、自己形成化材料
により形成された隔壁１ｇが形成されている。空孔１ｋ
は第１基板１ａと隔壁１ｇで構成され、平面的にはハニ
カム状に配列している。その空孔１ｋ内に電気泳動粒子
１ｅおよび分散媒１ｆからなる分散液が充填され、第２
基板１ｂで覆われている。第１基板１ａと第２基板１ｂ
は、接着剤１ｊで封止されている。第１基板１ａ、及び
第２基板１ｂには、それぞれ第１電極１ｃ、及び第２電
極１ｄが形成されており、各電極上にはそれぞれ絶縁層
１ｈ、１ｉが形成されている。この電気泳動表示素子
は、第２基板１ｂのある側が表示面である。

【００１７】図１（ｂ）は、マイクロカプセルを用いた
電気泳動表示素子を示す。隔壁１ｇの空孔１ｋ内に、電
気泳動粒子１ｅと分散媒１ｆからなる分散液を内包した
マイクロカプセル１ｌが充填され、第２基板１ｂで覆わ
れている。第１基板１ａ、及び第２基板１ｂには、それ
ぞれ第１電極１ｃ、及び第２電極１ｄが形成されてお
り、各電極上にはそれぞれ絶縁層１ｈ、１ｉが形成され
ている。マイクロカプセルを用いる場合、絶縁層１ｉは
特に無くても良い。

【００１８】図１において、第１電極１ｃは個々の空孔
１ｋ内の分散液に対して、各々独立して所望の電界を印
加できる画素電極であり、この画素電極にはスイッチ素
子が設けられており、不図示のマトリクス駆動回路から
行電極ごとに選択信号が印加され、更に各列電極に制御
信号と駆動トランジスタからの出力が印加されて、個々
の空孔１ｋ内の分散液に対して所望の電界を印加するこ
とができる。個々の空孔１ｋ内の分散液は、第１電極１
ｃにより印加される電界によって制御され、各画素は粒
子の色と分散媒の色を表示する。第２電極１ｄは、分散
液を全面同一電位で覆うように形成された透明電極であ
る。

【００１９】次に、本実施態様の製造方法に関して図２
乃至図４を用いて説明する。図２において、第１基板１
ａ上に分散液を制御する為の第１電極１ｃを、所望の直
径を有する円形状に、かつ平面的にハニカム状にパター
ン形成する。次に、絶縁層１ｈを形成した後、第１電極
１ｃの真上の位置に同等の形状でもって親水性部分１ｍ
をパターン形成し、絶縁層１ｈ上に表面エネルギーの異
なるパターンを設ける。（図２（ａ）参照）基板１ａ
は、電気泳動表示素子を支持する任意の絶縁部材であ
り、ガラスやプラスチックなどを用いることができる。

【００２０】第１電極１ｃのパターン形成にはフォトリ
ソグラフィー法を用い、第１電極１ｃの材料には、Ａｌ
やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等を使
用することができる。第１電極１ｃの形状は円形であ
り、その直径は１０〜２００μｍ、好ましくは４０〜１
２０μｍである。

【００２１】絶縁層１ｈとしては、疎水性の絶縁性樹脂
を使用する。例えば、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリ
コーン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
アルケン樹脂、ポリアクリルエステル類等を使用するこ
とができる。

【００２２】次に、絶縁層１ｈを形成した後、第１電極
１ｃの真上の位置に同等の形状でもって親水性部分１ｍ
をパターン形成し、絶縁層１ｈ上に表面エネルギーの異
なるパターンを設ける。この場合、親水性部分１ｍのパ
ターン形成を施さなかった部位が疎水性部分となる。絶
縁層１ｈ上の親水性部分１ｍは、親水性ポリマーをパタ
ーン形成して得ることができ、親水性ポリマーとして、
ポリビニルアルコール類、ポリアクリルアミド類、多糖
類、ポリアクリル酸類、又はこれらの混合物を使用する
ことができる。親水性部分１ｍは通常の印刷工程により
パターン形成したり、あるいは、光架橋性や光溶解性等
を導入した前記親水性ポリマーを用いて、フォトリソグ
ラフィー法によってパターン形成しても良い。

【００２３】表面エネルギーの異なるパターンを形成し
た第１基板１ａ上に、溶液に分散してある自己形成化材
料が自発的に会合し、固形化することにより隔壁１ｇを
形成する。このように形成された隔壁１ｇによって形作
られた、空孔１ｋを平面的にハニカム状に含有する構造
体が得られる。（図２（ｂ）参照）上記隔壁１ｇを形成
する自己形成化材料としては、ブロック共重合体、ホモ
ポリマー、ポリイオンコンプレックス、有機・無機ハイ
ブリッド材料等が挙げられる。これらの自己形成化材料
とは、溶液中に分散された状態から、基板上に形成され
た特定の部位に自発的に会合して固体状になり、所定の
構造体を形成できる材料を意味する。

【００２４】具体的には、ブロック共重合体には、ポリ
イソプレンとポリスチレンからなるブロック共重合体、
ポリイソプレンとポリ（エチレンオキシド）からなるブ
ロック共重合体などが挙げられる。

【００２５】更には、下記の化学式（Ｉ）で表される、
高分子鎖が硬いロッドユニットと柔らかいコイルユニッ
トから構成されるロッド−コイルブロック共重合体を挙
げることができる。具体的には、ロッド−コイルブロッ
ク共重合体のロッドユニットとして、ポリキノリン、ポ
リキノキサリン、ポリフェニルキノリン、ポリフェニル
キノキサリン、ポリ（ｐ−フェニレン）、ポリ（ｐ−フ
ェニレンビニレン）、ポリピリジン、ポリ（ピリジンビ
ニレン）、ポリ（ナフタレンビニレン）、ポリチオフェ
ン、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリピロール、ポリ
アニリン、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾチアゾ
ール、ポリベンゾオキサゾール、芳香族ポリアミド、芳
香族ポリヒドラジド、芳香族ポリアゾメチン、芳香族ポ
リイミド、芳香族ポリエステル、及びその誘導体などが
挙げられる。

【００２６】一方、ロッド−コイルブロック共重合体の
コイルユニットとして、ポリスチレン、ポリ（α−メチ
ルスチレン）、ポリ（エチレンオキシド）、ポリ（プロ
ピレンオキシド）、ポリアクリル酸、ポリメタクリル
酸、ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピ
リジン）、ポリウレタン、ポリ（ビニルピロリドン）、
ポリ（メチルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ブチルメタ
クリレート）、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリエチレングリコ−ル、
ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリスチレンスルホン
酸、ポリスチレンスルホン酸塩、及びその誘導体などが
挙げられる。

【００２７】好ましくは、ロッドユニットがポリフェニ
ルキノリン、ポリフェニルキノキサリン、ポリ（ｐ−フ
ェニレン）などであり、コイルユニットがポリスチレ
ン、ポリブタジエン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリエチレングリコ−ル、ポリ（２−ビニルピリジ
ン）、ポリ（４−ビニルピリジン）であるロッド−コイ
ルブロック共重合体が挙げられる。より好ましくは、ポ
リフェニルキノリンとポリスチレンからなるブロック共
重合体（化学式（Ｉ）のＸが１）、ポリ（ｐ−フェニレ
ン）とポリスチレンからなるブロック共重合体（化学式
（Ｉ）のＸが０）などが挙げられる。

【００２８】

【化１】

【００２９】（式中、Ｘは０又は１を示す。） 必要に応じて、ブロック共重合体に界面活性剤を適宜添
加して、隔壁１ｇを形成しても良い。

【００３０】ホモポリマーとして、ポリスチレン、ポリ
乳酸、ポリフェニル乳酸、ポリヒドロキシ酪酸、ポリエ
チレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリカプ
ロラクトン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチレン
カーボネート、ポリエチレンカーボネート等が挙げられ
る。ホモポリマーの自己形成化によって隔壁１ｇを形成
する場合、界面活性剤を添加することが好ましい。添加
する界面活性剤としては、ポリエチレングリコールとポ
リプロピレングリコールとの共重合体、アクリルアミド
ポリマーを主鎖骨格とし、疎水性側鎖にドデシル基、親
水性基にカルボキシル基、又はラクト−ス基を有する両
親媒性ポリマー等を挙げることができる。

【００３１】ホモポリマーと界面活性剤の配合割合は９
９：１〜５０：５０（重量比）が好ましい。界面活性剤
の割合が１未満の場合、均一なハニカム状の空孔１ｋが
得られない。一方、界面活性剤の割合が５０を超える場
合、隔壁１ｇの力学的強度が不十分となり、好ましくな
い。

【００３２】ポリイオンコンプレックスとして、ポリ
（スチレンスルホン酸）とジメチルジヘキサデシルアン
モニウム塩からなるポリイオンコンプレックス、ポリ
（スチレンスルホン酸）とジメチルジオクタデシルアン
モニウム塩からなるポリイオンコンプレックスなどが挙
げられる。

【００３３】有機・無機ハイブリッド材料として、ビス
（ヘキサデシルホスフェート）とテトラ（イソプロピ
ル）オルトチタネートからなるハイブリッド材料、ビス
（テトラデシルホスフェート）とテトラ（イソプロピ
ル）オルトチタネートからなるハイブリッド材料などが
挙げられる。

【００３４】隔壁１ｇの形成方法として、さらに図４を
使って説明する。前述したように表面エネルギーの異な
るパターンを形成した基板上に、自己形成化材料を有機
溶媒に溶解した溶液を高湿度雰囲気下でキャストし、有
機溶媒を徐々に蒸発させることによって隔壁１ｇが得ら
れる。

【００３５】このメカニズムについては、有機溶媒が蒸
発するときにキャスト液の潜熱を奪うので、キャスト液
表面の温度が低下し、微小水滴がキャスト液表面で凝結
する。この水滴は基板上に形成された親水性部分の作用
によって、水と有機溶媒間の表面張力が減少し、キャス
ト液中での微小水滴を安定化する。さらに有機溶媒が蒸
発するに伴って、水滴は親水性部分に最密充填した形で
配列し、最終的に水滴が蒸発した結果、図４に示すよう
に、空孔１ｋが基板上の親水性部分にハニカム状（ヘキ
サゴナル）に配列した構造体を得ることができる。

【００３６】このようにして、隔壁１ｇを形成する基板
面上に表面エネルギーの異なるパターン、即ち、親水性
部分と疎水性部分のパターンを設けることによって、空
孔１ｋが親水性部分の位置に誘導され、隔壁１ｇが疎水
性部分の位置で隔壁を形成する。このように、隔壁１ｇ
を基板上に高精度でパターン形成することができる。こ
れによって、従来のフォトリソグラフィーによっては不
可能であった５μｍ以下の微細な厚みを持った隔壁が精
度良く形成できる。

【００３７】また、空孔１ｋがハニカム状に配列した隔
壁１ｇは、自己形成化材料の分子量、溶液の濃度、及び
湿度によって制御する。自己形成化材料がポリマーであ
る場合、自己形成化材料の分子量は１０００〜２０００
０００、好ましくは５０００〜５０００００である。自
己形成化材料の分子量が１０００未満の場合、隔壁１ｇ
の力学的強度が不十分で好ましくない。一方、自己形成
化材料の分子量が２００００００を超えると有機溶媒に
溶解しなくなるので好ましくない。

【００３８】自己形成化材料を溶解した溶液の濃度は
０．０１〜１０重量％であり、好ましくは０．０５〜５
重量％である。前記溶液濃度が０．０１重量％未満であ
ると、隔壁１ｇの力学的強度が不十分で好ましくない。
一方、溶液濃度が１０重量％を超えると、ハニカム状の
空孔１ｋが得られない。

【００３９】隔壁１ｇを形成する場合の湿度は、５０〜
９５％が好ましい。湿度５０％未満では、キャスト液表
面への水滴の凝結が不十分となり、均一なハニカム状の
空孔１ｋを形成することができない。一方、湿度９５％
を超える場合は、その雰囲気を維持することが非常に難
しく好ましくない。

【００４０】このような電気泳動表示素子として使用す
る場合、空孔１ｋは親水性部分１ｍの大きさに対応する
ものであり、空孔１ｋの孔径Ｒが１０〜５０２００μ
ｍ、好ましくは４０〜１２０μｍであり、隔壁１ｇの高
さＬが１０〜１００μｍ、好ましくは２０〜６０μｍで
あり、アスペクト比が１０〜１００、好ましくは１０〜
６０であり、空孔間の間隔Ｒ１が１０〜２１０μｍ、好
ましくは４０〜１２５μｍである。

【００４１】前記有機溶媒としては、自己形成化材料を
溶解する揮発性の有機溶媒であり、且つ、水との相溶性
の低いものが好ましい。例えば、塩化メチレン、クロロ
ホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、メチルイソブチルケトン、二硫化炭素等が
挙げられ、これらの有機溶媒を単独で使用しても良い
し、あるいは２種類以上を組合せて使用しても良い。

【００４２】尚、実施態様例では、絶縁層１ｈ上に親水
性部分１ｍをパターン形成した第１基板１ａに、自己形
成化材料の自己形成化によって隔壁１ｇを形成する手法
を記載したが、これに限定されるものではない。即ち、
高精細な表示素子を求めない場合、親水性部分１ｍをパ
ターン形成していない第１基板１ａに対して、空孔１ｋ
がハニカム状に配列した隔壁１ｇを形成しても良い。こ
のような場合、例えば、直径１２０μｍの円形状の第１
電極１ｃをパターン形成した第１基板１ａに対して、孔
径Ｒが２０〜４０μｍ程度である空孔１ｋを有する隔壁
１ｇを形成して、表示素子に用いても良い。

【００４３】次に図２（ｃ）に示すように分散液を充填
する。第１基板１ａ上の所望の位置に形成された隔壁１
ｇの空孔１ｋ内に、電気泳動粒子１ｅおよび分散媒１ｆ
からなる分散液を充填する。このための方法は特に制限
されないが、インクジェット方式のノズルを使用するこ
とができる。

【００４４】マイクロカプセルを用いた電気泳動表示素
子の場合、隔壁１ｇの空孔１ｋ内に、電気泳動粒子１ｅ
と分散媒１ｆからなる分散液を内包したマイクロカプセ
ル１ｌを充填する。（図２（Ｃ’）参照） 前記分散媒を内包するマイクロカプセル１ｌは、界面重
合法、ｉｎ ｓｉｔｕ重合法、コアセルベーション法等
の既知の方法で得ることができ、カプセルサイズは空孔
１ｋとほぼ同等のサイズが好ましい。

【００４５】マイクロカプセル１ｌを形成する材料には
光を十分に透過させる材料が好ましく、具体的には、尿
素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒ
ド樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ゼ
ラチン、又はこれらの共重合体等を挙げることができ
る。また、マイクロカプセル１ｌを空孔１ｋに充填する
方法は特に制限されないが、インクジェット方式のノズ
ルを使用することができる。

【００４６】電気泳動粒子１ｅは、分散媒１ｆ中で電界
により移動可能な有機顔料粒子や無機顔料粒子等を使用
することができる。具体的には、白色粒子であれば、酸
化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化
スズ等などを用いることができ、黒色粒子としてはカー
ボンブラック、ダイアモンドブラック、アニリンブラッ
ク、マンガンフェライトブラック、コバルトフェライト
ブラック、チタンブラック等を用いることができる。着
色粒子としては、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｃ、Ｍ、Ｙ等の色を有す
る顔料粒子を用いることができる。具体的には、カドミ
ウムレッド、キナクリドンレッド、レーキレッド、ブリ
リアントカーミン、マダーレーキ等の赤色顔料、ダイア
モンドグリーンレーキ、フタロシアニングリーン、ピグ
メントグリーンＢ等の緑色顔料、コバルトブルー、ビク
トリアブルーレーキ、フタロシアニンブルー、ファスト
スカイブルー等の青色顔料、ハンザイエロー、カドミウ
ムイエロー、ファストイエロー、ジスアゾイエロー、チ
タンイエロー、黄色酸化鉄、黄鉛、ハンザイエロー、ジ
スアゾイエロー等の黄色顔料を用いることができる。

【００４７】また、粒子の表面を公知の電荷制御樹脂
（ＣＣＲ）で被覆することによって、電気泳動粒子１ｅ
として用いても良い。なお、電気泳動粒子１ｅの大きさ
としては、粒径が０．１〜１０μｍのものが好ましく用
いられ、更に好ましくは、０．２〜６μｍである。ま
た、電気泳動粒子１ｅの濃度は、１〜３０重量％が好ま
しい。

【００４８】分散媒１ｆとしては、高絶縁性でしかも無
色透明な液体が挙げられるが、例えば、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、ドデシルベンゼン等の芳香族炭
化水素、ヘキサン、シクロヘキサン、ケロシン、ノルマ
ルパラフィン、イソパラフィンなどの脂肪族炭化水素、
クロロホルム、ジクロロメタン、ペンタクロロエタン、
１、２−ジブロモエタン、１、１、２、２−テトラブロ
モエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン等
のハロゲン化炭化水素、天然又は合成の各種の油等を使
用でき、これらを２種以上で混合して用いても良い。

【００４９】分散媒１ｆを着色するにはＲ、Ｇ、Ｂ、
Ｃ、Ｍ、Ｙ等の色を有する油溶染料を用いることができ
る。これらの油溶染料として、アゾ染料、アントラキノ
ン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ペ
ノリン染料、フタロシアニン染料、金属錯塩染料、ナフ
ール染料、ベンゾキノン染料、シアニン染料、インジゴ
染料、キノイミン染料等の油溶染料が好ましく、これら
を組み合せて使用しても良い。

【００５０】例えば、以下の油溶染料を挙げることがで
きる。バリファーストイエロー（１１０１、１１０５、
３１０８、４１２０）、オイルイエロー（１０５、１０
７、１２９、３Ｇ、ＧＧＳ）、バリファーストレッド
（１３０６、１３５５、２３０３、３３０４、３３０
６、３３２０）、オイルピンク３１２、オイルスカーレ
ット３０８、オイルバイオレット７３０、バリファース
トブルー（１５０１、１６０３、１６０５、１６０７、
２６０６、２６１０、３４０５、）、オイルブルー（２
Ｎ、ＢＯＳ、６１３）、マクロレックスブルーＲＲ、ス
ミプラストグリーンＧ、オイルグリーン（５０２、Ｂ
Ｇ）等であり、油溶染料の濃度は０．１〜３．５重量％
が好ましい。

【００５１】また、分散媒１ｆには、必要に応じて、電
荷調整剤、分散剤、潤滑剤、安定化剤などを添加するこ
とができる。

【００５２】隔壁１ｇの空孔１ｋ内に、電気泳動粒子１
ｅおよび分散媒１ｆからなる分散液を充填した後、第２
電極１ｄと絶縁層１ｉを備えた第２基板１ｂで覆い、第
１基板１ａと第２基板１ｂを、接着剤１ｊを用いて封止
する。（図２（ｄ）参照）

【００５３】マイクロカプセルを用いた電気泳動表示素
子の場合、隔壁１ｇの空孔１ｋ内に、電気泳動粒子１ｅ
と分散媒１ｆからなる分散液を内包したマイクロカプセ
ル１ｌを充填した後、第２電極１ｄと絶縁層１ｉを備え
た第２基板１ｂで覆い、第１基板１ａと第２基板１ｂ
を、接着剤１ｊを用いて封止する。（図３（ｄ’）参
照）

【００５４】第２基板１ｂとしては、第１基板１ａと同
様の材料を使用することができる。第２電極１ｄの材料
としては、通常ＩＴＯや有機導電性膜等の透明電極を使
用する。

【００５５】絶縁層１ｉには、絶縁層１ｈに記載した無
色透明な絶縁性樹脂を使用することができる。例えば、
アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン
樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアルケ
ン樹脂等を使用することができる。

【００５６】接着剤１ｊとしては、長期間接着効果が得
られるものであれば、特に限定されるものではないが、
例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂、酢酸ビニル系樹脂、フェノール系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、シリコーン系樹脂
等を一種単独または二種以上の組合せで使用することが
できる。

【００５７】表示は電極間に電圧を印加することにより
行う。例えば、負に帯電した白色の電気泳動粒子と青色
に着色した分散媒を用いた場合、白色の電気泳動粒子を
第１電極上に集めた場合は青表示を、第２電極上に集め
た場合は白表示を行うことができる。（図３（ｅ）、図
３（ｅ’）参照）

【００５８】別の表示例として、例えば、正に帯電した
白色の電気泳動粒子、負に帯電した黒色の電気泳動粒
子、及び無色透明の分散媒を用いた場合、白色の電気泳
動粒子を第２電極上に集めた場合は白表示を、黒色の電
気泳動粒子を第２電極上に集めた場合は黒表示を行うこ
とができる。（図３（ｆ）、図３（ｆ’）参照） 印加電圧は、電気泳動粒子の帯電量、電極間距離などに
よって異なるが、通常は、十から数十Ｖ程度が必要であ
る。

【００５９】本構成の表示素子は、自己形成化材料の自
己形成化によって、隔壁を基板上に簡便に形成すること
ができるため、高精細な表示素子を簡便に製造すること
ができる。

【００６０】図５は本発明の電気泳動表示素子の他の実
施態様を示す断面図である。図５（ａ）において、本発
明の電気泳動表示素子は、第１基板２ａ上に一対の電極
２ｃ、２ｄが形成された構成となっており、電極間及び
第２電極２ｄ上には絶縁層２ｉ、２ｊがそれぞれ形成さ
れている。絶縁層２ｉは、着色されていても無色透明で
あってもよいが、絶縁層２ｊは無色透明である。電極と
絶縁層を備えた第１基板２ａ上の所望の位置に、自己形
成化材料の自己形成化によって隔壁２ｇが形成されてい
る。空孔２ｋは第１基板２ａと隔壁２ｇで構成され、ハ
ニカム状に配列している。その空孔２ｋ内には電気泳動
粒子２ｅおよび分散媒２ｆからなる分散液が充填され、
第２基板２ｂで覆われている。第１基板２ａと第２基板
２ｂは、接着剤２ｈで封止されている。この電気泳動表
示素子は、第２基板２ｂのある側が表示面である。

【００６１】図５（ｂ）は、マイクロカプセルを用いた
電気泳動表示素子を示す。隔壁２ｇの空孔２ｋ内に、電
気泳動粒子２ｅと分散媒２ｆからなる分散液を内包した
マイクロカプセル２ｌが充填され、第２基板２ｂで覆わ
れている。第１基板２ａと第２基板２ｂは、接着剤２ｈ
で封止されている。

【００６２】図５において、第２電極２ｄは個々の空孔
２ｋ内の分散液に対して、各々独立して所望の電界を印
加できる画素電極であり、この画素電極にはスイッチ素
子が設けられており、不図示のマトリクス駆動回路から
行ごとに走査選択信号が印加され、更に各列に制御信号
と駆動トランジスタからの出力が印加されて、個々の空
孔２ｋ内の分散液に対して所望の電界を印加することが
できる。個々の空孔２ｋ内の分散液は、第２電極２ｄに
より印加される電界によって制御され、各画素は粒子の
色（黒色）と絶縁層２ｉの色（白色）を表示する。第１
電極２ｃは、分散液を全面同一電位で印加する共通電極
である。

【００６３】次に、本実施態様の製造方法を図６および
図７を用いて説明する。図６および図７は、本発明の電
気泳動表示素子の製造方法の他の例を示す工程図であ
る。図６において、まず、反射型の表示素子の場合につ
いて説明する。

【００６４】第１基板２ａ上に共通電極として第１電極
２ｃを形成し、更に絶縁層２ｉを形成する。続いて、分
散液を制御する為の第２電極２ｄを、所望の直径を有す
る円形でもってハニカム状にパターン形成した後、絶縁
層２ｊを形成する。次に絶縁層２ｊ上において、第２電
極２ｄの同心円上に所望の直径を有する円形でもって親
水性部分２ｍをパターン形成し、絶縁層２ｊ上に表面エ
ネルギーの異なるパターンを設ける。（図６（ａ）参
照） 第１基板２ａは、電気泳動表示素子を支持する任意の絶
縁部材であり、ガラスやプラスチックなどを用いる事が
できる。第１電極２ｃの材料には、Ａｌなどの光反射性
の金属電極を使用する。

【００６５】第１電極２ｃ上に形成する絶縁層２ｉに
は、光を散乱させるための微粒子、例えば酸化アルミニ
ウム、酸化チタン等を無色透明の絶縁性樹脂に混ぜ合わ
せたものを使用できる。無色透明の絶縁性樹脂には、図
２（ｄ）の説明で記述した材料を挙げることができる。
あるいは、微粒子を用いずに金属電極表面の凹凸を利用
して光を散乱させる方法を用いてもよい。

【００６６】第２電極２ｄには表示素子の観察者側から
みて暗黒色に見える導電性材料、例えば、炭化チタンや
黒色化処理したＣｒ、黒色層を表面に形成したＡｌ、Ｔ
ｉなどを用いる。第２電極２ｄのパターン形成にはフォ
トリソグラフィー法を用いる。続いて第２電極２ｄ上に
絶縁層２ｊを形成する。絶縁層２ｊには、前記した無色
透明な絶縁性樹脂を使用することができる。

【００６７】次に絶縁層２ｊ上において、第２電極２ｄ
の同心円上に所望の直径を有する円形でもって親水性部
分２ｍをパターン形成し、絶縁層２ｊ上に表面エネルギ
ーの異なるパターンを設ける。この場合、親水性部分２
ｍのパターン形成を施さなかった部位が疎水性部分とな
る。絶縁層２ｊ上の親水性部分２ｍは、親水性ポリマー
をパターン形成して得ることができ、前述した親水性ポ
リマーを単独又は混合して使用することができる。親水
性部分２ｍのパターン形成には、前述したように印刷法
やフォトリソグラフィー法を用いることができる。

【００６８】この場合の表示コントラストは、第２電極
２ｄと親水性部分２ｍの面積比に大きく依存する為、コ
ントラストを高めるためには第２電極の露出面積を親水
性部分２ｍのそれに対して小さくする必要があり、通常
は１：２〜１：５程度が好ましい。親水性部分２ｍの直
径は１０〜２００μｍ、好ましくは４０〜１２０μｍで
ある。

【００６９】表面エネルギーの異なるパターンを形成し
た第１基板２ａ上に、自己形成化材料により形成された
空孔２ｋがハニカム状に配列した隔壁２ｇを形成する。
（図６（ｂ）参照） 空孔２ｋがハニカム状に配列した隔壁２ｇを形成する自
己形成化材料として、前記したブロック共重合体、ホモ
ポリマー、ポリイオンコンプレックス、有機・無機ハイ
ブリッド材料等が挙げられ、前述した同様の方法によっ
て、図８に示す隔壁２ｇを得ることができる。

【００７０】このような電気泳動表示素子として使用す
る場合、空孔２ｋは親水性部分２ｍの大きさに対応する
ものであり、空孔２ｋの孔径Ｒが１０〜５０２００μ
ｍ、好ましくは４０〜１２０μｍであり、隔壁２ｇの高
さＬが１０〜１００μｍ、好ましくは２０〜６０μｍで
あり、アスペクト比が１０〜１００、好ましくは１０〜
６０であり、空孔間の間隔Ｒ１が１０〜２１０μｍ、好
ましくは４０〜１２５μｍである。

【００７１】第１基板２ａ上の所望の位置に形成された
隔壁２ｇの空孔２ｋ内に、電気泳動粒子２ｅおよび分散
媒２ｆからなる分散液を充填する。（図６（ｃ）参照） 前記分散液を空孔２ｋに充填する方法は特に制限されな
いが、前述したインクジェット方式のノズルを使用する
ことができる。

【００７２】マイクロカプセルを用いた電気泳動表示素
子の場合、隔壁２ｇの空孔２ｋ内に、電気泳動粒子２ｅ
と分散媒２ｆからなる分散液を内包したマイクロカプセ
ル２ｌを充填する。（図６（Ｃ’）参照） 前記分散液を内包するマイクロカプセル２ｌは、前述し
たように、界面重合法、ｉｎ ｓｉｔｕ重合法、コアセ
ルベーション法等の既知の方法で得ることができ、カプ
セルサイズは空孔２ｋとほぼ同等のサイズが好ましい。
マイクロカプセル２ｌの形成材料には、前記した同様の
ポリマー材料を使用することができる。

【００７３】また、マイクロカプセル２ｌを空孔２ｋに
充填する方法は特に制限されないが、前述したインクジ
ェット方式のノズルを使用することができる。電気泳動
粒子２ｅと分散媒２ｆに関しては、前述した同様の粒子
や分散媒を使用することができる。

【００７４】隔壁２ｇの空孔２ｋ内に、電気泳動粒子２
ｅおよび分散媒２ｆからなる分散液を充填した後、第２
基板２ｂで覆い、第１基板２ａと第２基板２ｂを、接着
剤２ｈを用いて封止する。（図６（ｄ）参照）

【００７５】マイクロカプセルを用いた電気泳動表示素
子の場合、隔壁２ｇの空孔２ｋ内に、電気泳動粒子２ｅ
および分散媒２ｆからなる分散液を内包したマイクロカ
プセル２ｌを充填した後、第２基板２ｂで覆い、第１基
板２ａと第２基板２ｂを、接着剤２ｈを用いて封止す
る。（図６（ｄ’）参照） 第２基板２ｂとしては、第１基板２ａと同様の材料を使
用することができる。接着剤２ｈとしては、前述した接
着剤を使用することができる。

【００７６】透過型の表示素子は、上記製造方法におい
て、第１電極の材料にはＩＴＯあるいは有機導電膜等の
透明電極を使用し、第１電極２ｃ上には透明な絶縁層２
ｉを形成する。

【００７７】表示は電極間に電圧を印加することにより
行う。例えば、負に帯電した黒色の電気泳動粒子と無色
透明な分散媒からなる分散液を用い、絶縁層２ｉ上が白
色であり第２電極上が黒色である場合、電気泳動粒子が
第２電極上に集まれば白表示を行うことができ、第１電
極上に集まれば黒表示を行うことができる。（図７
（ｅ）、図７（ｅ’）参照） 印加電圧は、電気泳動粒子の帯電量、電極間ピッチなど
によって異なるが、通常は、十から数十Ｖ程度が必要で
ある。

【００７８】本構成の表示素子は、自己形成化材料によ
り形成された隔壁を、微細な厚みでかつ基板上の特定の
位置に簡便に形成することができるため、高精細な表示
素子を簡便に製造することができる。

【００７９】次に、本発明の表示素子の他の実施態様例
を示す。図９は本発明の電気泳動表示素子の他の実施態
様を示す断面図である。図９（ａ）において、本発明の
電気泳動表示素子は、第１基板３ａ上に第１電極３ｃが
形成され、更に第１電極３ｃ上には絶縁層３ｇが形成さ
れている。電極と絶縁層を備えた第１基板３ａ上の所望
の位置に、自己形成化材料により形成された導電性隔壁
３ｆが形成されている。空孔３ｉは第１基板３ａと導電
性隔壁３ｆで構成され、ハニカム状に配列している。そ
の空孔３ｉ内には電気泳動粒子３ｄおよび分散媒３ｅか
らなる分散液が充填され、第２基板３ｂで覆われてい
る。第１基板３ａと第２基板３ｂは、接着剤３ｈで封止
されている。この電気泳動表示素子は、第２基板３ｂの
ある側が表示面である。

【００８０】図９（ｂ）は、マイクロカプセルを用いた
電気泳動表示素子を示す。導電性隔壁３ｆの空孔３ｉ内
に、電気泳動粒子３ｄと分散媒３ｅからなる分散液を内
包したマイクロカプセル３ｊが充填され、第２基板３ｂ
で覆われている。第１基板３ａと第２基板３ｂは、接着
剤３ｈで封止されている。

【００８１】図９において、第１電極３ｃは個々の空孔
３ｉ内の分散液に対して、各々独立して所望の電界を印
加できる画素電極であり、この画素電極にはスイッチ素
子が設けられており、不図示のマトリクス駆動回路から
行ごとに選択信号が印加され、更に各列に制御信号と駆
動トランジスタからの出力が印加されて、個々の空孔３
ｉ内の分散液に対して所望の電界を印加することができ
る。個々の空孔３ｉ内の分散液は、第１電極３ｃにより
印加される電界によって制御され、各画素は粒子の色
（白色）と第１電極３ｃの色（黒色）を表示する。導電
性隔壁３ｆは、分散液を全面同一電位で印加する共通電
極である。

【００８２】図１０および図１１は、本発明の電気泳動
表示素子の製造方法の他の例を示す工程図である。図１
０（ａ）において、第１基板３ａ上に分散液を制御する
為の第１電極３ｃを、所望の直径を有する円形でもって
ハニカム状にパターン形成する。次に、絶縁層３ｇを形
成した後、第１電極３ｃの真上の位置に同等の形状でも
って親水性部分３ｋをパターン形成し、絶縁層３ｇ上に
表面エネルギーの異なるパターンを設ける。（図１０
（ａ）参照）

【００８３】第１基板３ａは、電気泳動表示素子を支持
する任意の絶縁部材であり、ガラスやプラスチックなど
を用いることができる。第１電極３ｃには表示素子の観
察者側からみて暗黒色に見える導電性材料を用い、前述
したように、炭化チタンや黒色化処理したＣｒ、黒色層
を表面に形成したＡｌ、Ｔｉなどを用いることができ
る。第１電極３ｃのパターン形成にはフォトリソグラフ
ィー法を用いる。

【００８４】第１電極３ｃの形状は円形であり、その直
径は１０〜２００μｍ、好ましくは４０〜１２０μｍで
ある。

【００８５】絶縁層３ｇとしては無色透明な絶縁性樹脂
を使用し、前述したように、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ポ
リスチレン樹脂、ポリアルケン樹脂等を使用することが
できる。

【００８６】次に、絶縁層３ｇを形成した後、第１電極
３ｃの真上の位置に同等の形状でもって親水性部分３ｋ
をパターン形成し、絶縁層３ｇ上に表面エネルギーの異
なるパターンを設ける。この場合、親水性部分３ｋのパ
ターン形成を施さなかった部位が疎水性部分となる。絶
縁層３ｇ上の親水性部分３ｋは親水性ポリマーをパター
ン形成して得ることができ、前述した親水性ポリマーを
単独又は混合して使用することができる。親水性部分３
ｋのパターン形成には、前述したように印刷法やフォト
リソグラフィー法を用いることができる。

【００８７】表面エネルギーの異なるパターンを形成し
た第１基板３ａ上に、自己形成化材料により形成された
空孔３ｉが、平面的にハニカム状に配列した導電性隔壁
３ｆを形成する。（図１０（ｂ）参照）

【００８８】空孔３ｉがハニカム状に配列した導電性隔
壁３ｆを形成する自己形成化材料として、導電性ポリマ
ーを挙げることができ、例えば、ポリチオフェン、ポリ
ピロール等の複素環系導電性ポリマー、ポリパラフェニ
レン、ポリフェニレンビニレン、ポリフェニレンスルフ
ィド等のポリフェニレン系導電性ポリマー、ポリアセチ
レン系導電性ポリマー、ポリアニリン系導電性ポリマ
ー、ポリ（塩化−２−アクリロキシエチルジメチルスル
ホニウム）、ポリ（塩化グリシジルジメチルスルホニウ
ム）等のスルホン酸基を有する導電性ポリマー、ポリ
（塩化グリシジルトリブチルホスホニウム）等のホスホ
ン酸基を有する導電性ポリマー、ポリ（塩化ビニルトリ
メチルアンモニウム）、ポリ（塩化−Ｎ−メチルビニル
ピリジウム）等の４級アンモニウム塩基を有する導電性
ポリマー等を使用することができる。導電性ポリマーに
は、必要に応じて電子供与体または電子受容体を添加
（ドープ）しても良い。

【００８９】導電性ポリマーの自己形成化によって導電
性隔壁３ｆを形成する場合、必要に応じて界面活性剤を
適宜添加する。添加する界面活性剤としては、前述した
ように、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリ
コールとの共重合体、アクリルアミドポリマーを主鎖骨
格とし、疎水性側鎖にドデシル基、親水性基にカルボキ
シル基、又はラクト−ス基を有する両親媒性ポリマー等
を挙げることができる。導電性ポリマーと界面活性剤の
配合割合は９９：１〜５０：５０（重量比）が好まし
い。界面活性剤の割合が１未満の場合、均一なハニカム
状の空孔３ｉが得られない。一方、界面活性剤の割合が
５０を超える場合、導電性隔壁３ｆの力学的強度が不十
分となり、好ましくない。

【００９０】前述した同様の隔壁形成方法に従って、図
１２に示した導電性隔壁３ｆを形成することができる。
このような電気泳動表示素子として使用する場合、空孔
３ｉは親水性部分３ｋの大きさに対応するものであり、
空孔３ｉの孔径Ｒが１０〜５０２００μｍ、好ましくは
４０〜１２０μｍであり、導電性隔壁３ｆの高さＬが１
０〜１００μｍ、好ましくは２０〜６０μｍであり、ア
スペクト比が１０〜１００、好ましくは１０〜６０であ
り、空孔間の間隔Ｒ１が１０〜２１０μｍ、好ましくは
４０〜１２５μｍである。

【００９１】第１基板３ａ上の所望の位置に形成された
導電性隔壁３ｆの空孔３ｉ内に、電気泳動粒子３ｄおよ
び分散媒３ｅからなる分散液を充填する。（図１０
（ｃ）参照） 前記分散液を空孔３ｉに充填する方法は特に制限されな
いが、前述したインクジェット方式のノズルを使用する
ことができる。

【００９２】マイクロカプセルを用いた電気泳動表示素
子の場合、導電性隔壁３ｆの空孔３ｉ内に、電気泳動粒
子３ｄと分散媒３ｅからなる分散液を内包したマイクロ
カプセル３ｊを充填する。（図１０（ｃ’）参照）

【００９３】前記分散液を内包するマイクロカプセル３
ｊは、前述したように、界面重合法、ｉｎ ｓｉｔｕ重
合法、コアセルベーション法等の既知の方法で得ること
ができ、カプセルサイズは空孔３ｉとほぼ同等のサイズ
が好ましい。マイクロカプセル３ｊの形成材料には、前
記した同様のポリマー材料を使用することができる。

【００９４】また、マイクロカプセル３ｊを空孔３ｉに
充填する方法は特に制限されないが、前述したインクジ
ェット方式のノズルを使用することができる。電気泳動
粒子３ｄと分散媒３ｅに関しては、前述した同様の粒子
や分散媒を使用することができる。

【００９５】導電性隔壁３ｆの空孔３ｉ内に、電気泳動
粒子３ｄおよび分散媒３ｅからなる分散液を充填した
後、第２基板３ｂで覆い、第１基板３ａと第２基板３ｂ
を、接着剤３ｈを用いて封止する。（図１０（ｄ）参
照）

【００９６】マイクロカプセルを用いた電気泳動表示素
子の場合、導電性隔壁３ｆの空孔３ｉ内に、電気泳動粒
子３ｄと分散媒３ｅからなる分散液を内包したマイクロ
カプセル３ｊを充填した後、第２基板３ｂで覆い、第１
基板３ａと第２基板３ｂを、接着剤３ｈを用いて封止す
る。（図１１（ｄ’）参照） 第２基板３ｂとしては、第１基板３ａと同様の材料を使
用することができる。接着剤３ｈとしては、前述した接
着剤を使用することができる。

【００９７】表示は第１電極３ｃ、導電性隔壁３ｆに電
圧を印加することにより行う。この場合、導電性隔壁３
ｆは共通電極として用いる。例えば、負に帯電した白色
の電気泳動粒子と無色透明の分散媒を用い、第１電極３
ｃを黒色とした場合、電気泳動粒子が第１電極３ｃ上に
集まれば白表示を行うことができ、導電性隔壁３ｆ上に
集まれば黒表示を行うことができる。（図１１（ｅ）、
図１１（ｅ’）参照） 別の表示例として、例えば、正に帯電した白色の電気泳
動粒子、負に帯電した黒色の電気泳動粒子、及び無色透
明の分散媒を用いた場合、白色の電気泳動粒子を第１電
極上に集めた場合は白表示を、黒色の電気泳動粒子を第
１電極上に集めた場合は黒表示を行うことができる。こ
の場合、第１電極は黒色である必要はない。（図１１
（ｆ）、図１１（ｆ’）参照） 印加電圧は、電気泳動粒子の帯電量、電極間距離などに
よって異なるが、通常は、十から数十Ｖ程度が必要であ
る。

【００９８】本構成の表示素子は、自己形成化材料によ
り形成された導電性隔壁を基板上に簡便に形成すること
ができるため、高精細な表示素子を簡便に製造すること
ができる。

【００９９】次に、本発明の表示素子の他の実施態様例
を示す。図１３は本発明の有機ＥＬ表示素子の実施態様
を示す断面図である。図１３において、本発明の有機Ｅ
Ｌ表示素子は、絶縁層４ｃと親水性部分４ｄを備えた第
１基板４ａ上の所望の位置に、自己形成化材料の自己形
成化によって隔壁４ｅが形成されている。空孔４ｆは第
１基板４ａと隔壁４ｅで構成され、ハニカム状に配列し
ている。その空孔４ｆ内に第１電極４ｇ、有機ＥＬ媒体
４ｈ、第２電極４ｉ、被覆電極４ｊが順に形成され、第
２基板４ｂで覆われている。第１基板４ａと第２基板４
ｂは、接着剤４ｋで封止されている。

【０１００】図１３において、第１電極４ｇは個々の空
孔４ｆ内の有機ＥＬ媒体４ｈに対して、各々独立して所
望の電界を印加できる画素電極であり、第２電極４ｉは
対向電極である。この画素電極にはスイッチ素子が設け
られており、不図示のマトリクス駆動回路から行ごとに
選択信号が印加され、更に各列に制御信号と駆動トラン
ジスタからの出力が印加されて、個々の空孔４ｆ内の有
機ＥＬ媒体４ｈに対して所望の電界を印加することがで
きる。個々の空孔４ｆ内の有機ＥＬ媒体４ｈは、第１電
極４ｇにより印加される電界によって制御され、各画素
は有機ＥＬ媒体４ｈの発光色を表示する。

【０１０１】次に、本実施態様の製造方法を図１４を用
いて説明する。図１４は、本発明の有機ＥＬ表示素子の
製造方法の一例を示す工程図である。図１４において、
第１基板４ａ上に絶縁層４ｃを形成する。次に絶縁層４
ｃ上において、空孔４ｆを設けたい位置に所望の直径を
有する円形でもって、親水性部分４ｄをハニカム状にパ
ターン形成し、絶縁層４ｃ上に表面エネルギーの異なる
パターンを設ける。（図１４（ａ）参照）

【０１０２】第１基板４ａは、有機ＥＬ表示素子を支持
する任意の絶縁部材であり、ガラスやプラスチックなど
を用いることができる。絶縁層４ｃには、無色透明な絶
縁性樹脂を使用する。例えば、前述したように、アクリ
ル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、
ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアルケン樹脂
等を使用することができる。

【０１０３】次に絶縁層４ｃ上において、空孔４ｆを設
けたい位置に所望の直径を有する円形でもって、親水性
部分４ｄをハニカム状にパターン形成し、絶縁層４ｃ上
に表面エネルギーの異なるパターンを設ける。この場
合、親水性部分４ｄのパターン形成を施さなかった部位
が疎水性部分となる。絶縁層４ｃ上の親水性部分４ｄは
親水性ポリマーをパターン形成して得ることができ、前
述した親水性ポリマーを単独又は混合して使用すること
ができる。親水性部分４ｄのパターン形成には、前述し
たように印刷法やフォトリソグラフィー法を用いること
ができる。

【０１０４】表面エネルギーの異なるパターンを形成し
た第１基板４ａ上に、自己形成化材料の自己形成化によ
って空孔４ｆがハニカム状に配列した隔壁４ｅを形成す
る。（図１４（ｂ）参照） 空孔４ｆがハニカム状に配列した隔壁４ｅを形成する自
己形成化材料として、前記したブロック共重合体、ホモ
ポリマー、ポリイオンコンプレックス、有機・無機ハイ
ブリッド材料等が挙げられ、前述した同様の方法によっ
て、図１５に示す隔壁４ｅを得ることができる。

【０１０５】このような有機ＥＬ表示素子として使用す
る場合、空孔４ｆは親水性部分４ｄの大きさに対応する
ものであり、空孔４ｆの孔径Ｒが１０〜１５０μｍであ
り、好ましくは３０〜１００μｍであり、その高さＬが
０．１〜５μｍであり、アスペクト比が０．１〜１０で
あり、空孔間の間隔Ｒ１が１０〜１５５μｍであり、好
ましくは３０〜１０５μｍである。

【０１０６】隔壁４ｅの空孔４ｆ内に、第１電極４ｇ、
有機ＥＬ媒体４ｈ、第２電極４ｉ、被覆電極４ｊを順次
形成する。（図１４（ｃ）参照） 第１電極４ｇの材料には、通常ＩＴＯなどの透明電極を
使用する。第２電極４ｉの材料には、Ｍｇ又はＭｇ合金
等の低仕事関数の導電性材料を使用する。被覆電極４ｊ
は、第２電極４ｉを覆うように形成されており、その材
料としてはＡｌ等が使用でき、第２電極４ｉの酸化を防
ぐことができる。これらの電極材料を基板に形成する方
法として、真空蒸着法を用いることができる。

【０１０７】有機ＥＬ材料としては、Ｒ、Ｇ、Ｂを発光
する既知の材料を用いることができ、薄膜形成には真空
蒸着法、あるいはインクジェット法を用いることができ
る。インクジェット法では、有機ＥＬ材料又はその前駆
体を液体に溶解あるいは分散させて吐出液とし、インク
ジェット法で空孔４ｆ内に吐出液を吐出し、加熱又は光
照射により成膜する。

【０１０８】次に、隔壁４ｅ及び有機ＥＬ媒体４ｈが形
成されている面側を、第２基板４ｂと接着剤４ｋを用い
て封止すると共に、第１基板４ａ、接着剤４ｋ、第２基
板４ｂによって形成される中空の内部空間に不活性ガス
を充填して外部からの湿気や酸素を遮断することによ
り、表示素子を作製する。（図１４（ｄ）参照）第２基
板４ｂの材料としては、第１基板４ａと同様の材料を使
用することができる。

【０１０９】接着剤４ｋとしては、長期間接着効果が得
られるものであれば、特に限定されるものではないが、
例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系
樹脂、酢酸ビニル系樹脂、フェノール系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、シリコーン系樹脂
などの一種単独または二種以上の組合せを使用すること
ができる。

【０１１０】本発明の有機ＥＬ素子の第１電極４ｇと第
２電極４ｉ間に電界を印加して、有機ＥＬ媒体４ｈが発
光し、第１基板４ａを通じて表示することができる。本
構成の表示素子は、自己形成化材料の自己形成化によっ
て、隔壁を基板上に簡便に形成することができるため、
高精細な表示素子を簡便に製造することができる。

【０１１１】

【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。

【０１１２】実施例１ 図１（ａ）に示す電気泳動表示素子を図２および図３の
製造工程に従って作製した。まず、ガラス（１ｍｍ厚）
からなる第１基板１ａ上に、分散液を制御する為の第１
電極１ｃとして、アルミニウム（０．２μｍ厚）を成膜
し、フォトリソグラフィー法によって直径８０μｍの円
形でもってハニカム状にパターン形成した。この時、電
極間距離（隣り合う電極の中心間距離）を８２μｍで形
成した。その上にアクリル系樹脂を用いて絶縁層１ｈ
（１μｍ厚）を形成した。

【０１１３】ポリビニルアルコール、重クロム酸アンモ
ニウムを含む水溶液を感光剤として用い、フォトリソグ
ラフィー法によって第１電極１ｃの真上の位置に直径８
０μｍの円形でもって親水性部分１ｍ（０．２μｍ厚）
をパターン形成し、絶縁層１ｈ上に表面エネルギーの異
なるパターンを設けた。

【０１１４】下記の化学式（ＩＩ）で表されるブロック
共重合体（ｍ＝５９０、ｎ＝３８５、Ｍｗ／Ｍｎ＜１．
０５）の自己形成化によって、図４に示すように第１基
板１ａ上の所望の位置に空孔１ｋがハニカム状に配列し
た隔壁１ｇを形成した。隔壁１ｇの形成条件は、化学式
（ＩＩ）で表されるブロック共重合体の二硫化炭素溶液
（濃度３重量％）を、湿度９０％の条件下で第１基板１
ａ上にキャストし、有機溶媒を徐々に蒸発させることに
よって形成した。空孔の孔径と隔壁の高さはそれぞれ８
０μｍと５０μｍであり、アスペクト比は２５、空孔間
の間隔Ｒ１は８２μｍであった。

【０１１５】

【化２】

【０１１６】分散媒１ｆにはアイソパーＨ（エクソン化
学）を使用し、青色染料（オイルブルーＮ、アルドリッ
チ）を０．５重量％添加して分散媒１ｆを青色に着色し
た。電気泳動粒子１ｅとして白色粒子（酸化チタン、平
均粒径０．２μｍ）９重量％、及び帯電剤としてオクテ
ン酸ジルコニウム（日本化学産業）０．２５重量％を前
記分散媒１ｆに加えて分散液を調整した。

【０１１７】次に、インクジェット方式のノズルを用い
て、前記分散液を空孔１ｋ内に充填した後、隔壁１ｇの
上面を第２基板１ｂで覆い、第１基板１ａと第２基板１
ｂを接着剤１ｊで封止した。第２基板１ｂにはガラス基
板（１ｍｍ厚）を用い、第２電極１ｄとしてＩＴＯ
（０．１μｍ厚）、絶縁層１ｉとして無色透明なアクリ
ル樹脂（１μｍ厚）が順次形成されている。また、接着
剤１ｊには、エポキシ系樹脂を用いた。第１電極１ｃ、
第２電極１ｄに電圧印加回路を接続して表示素子を得
た。

【０１１８】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧±１５Ｖで駆動したところ、図３
（ｅ）に示すように各画素内の電気泳動粒子１ｅの上下
駆動によって、青白の高精細な表示を行うことができ
た。

【０１１９】実施例２ 図１（ａ）に示す電気泳動表示素子を図２および図３の
製造工程に従って作製した。実施例１と同様にして、第
１基板１ａ上に第１電極１ｃ、絶縁層１ｈ、及び親水性
部分１ｍを形成した。本実施例では、第１電極１ｃ及び
親水性部分１ｍは直径４０μｍの円形で形成し、電極間
距離を４１μｍで形成した。

【０１２０】下記の化学式（ＩＩＩ）で表されるロッド
−コイルブロック共重合体（ｍ＝２００、ｎ＝６００
０、Ｍｗ／Ｍｎ＜１．０５）の自己形成化によって、図
４に示すように第１基板１ａ上の所望の位置に空孔１ｋ
がハニカム状に配列した隔壁１ｇを形成した。隔壁１ｇ
の形成条件は、化学式（ＩＩＩ）で表されるブロック共
重合体の二硫化炭素溶液（濃度１．５重量％）を、湿度
８０％の条件下で第１基板１ａ上にキャストし、有機溶
媒を徐々に蒸発させることによって形成した。空孔の孔
径と隔壁の高さはそれぞれ４０μｍと３０μｍであり、
アスペクト比は３０、空孔間の間隔Ｒ１は４１μｍであ
った。

【０１２１】

【化３】

【０１２２】分散媒１ｆにはアイソパーＨを使用した。
電気泳動粒子１ｅには色と帯電特性の異なる２種類の粒
子を用いた。白色粒子（酸化チタン、平均粒径０．２μ
ｍ）９重量％、黒色粒子（カーボンをスチレン−ジビニ
ルベンゼン樹脂で被覆した粒子、平均粒径１．０μｍ）
８重量％、及び帯電剤としてオクテン酸ジルコニウム
０．５重量％を分散媒１ｆに加えて分散液を調整した。

【０１２３】次に、インクジェット方式のノズルを用い
て、前記分散液を空孔１ｋ内に充填した後、隔壁１ｇの
上面を第２基板１ｂで覆い、第１基板１ａと第２基板１
ｂを接着剤１ｊで封止した。第２電極１ｄと絶縁層１ｉ
を有する第２基板１ｂ、及び接着剤１ｊは実施例１と同
様のものを用いた。第１電極１ｃ、第２電極１ｄに電圧
印加回路を接続して表示素子を得た。

【０１２４】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧±１５Ｖで駆動したところ、図３
（ｆ）に示すように各画素内の２種類の電気泳動粒子の
上下駆動によって、白黒の高精細な表示を行うことがで
きた。

【０１２５】実施例３ 図１（ｂ）に示す電気泳動表示素子を図２および図３の
製造工程に従って作製した。ＰＥＴフィルム（３００μ
ｍ厚）からなる第１基板１ａ上に、実施例１と同様にし
て第１電極１ｃ、絶縁層１ｈ、及び親水性部分１ｍを形
成した。本実施例では、第１電極１ｃ及び親水性部分１
ｍは直径７０μｍの円形で形成し、電極間距離を７１．
５μｍで形成した。

【０１２６】下記の化学式（ＩＶ）で表されるポリイオ
ンコンプレックス（ｎ＝３３０、Ｍｗ／Ｍｎ＜１．０
５）の自己形成化によって、図４に示すように第１基板
１ａ上の所望の位置に空孔１ｋがハニカム状に配列した
隔壁１ｇを形成した。隔壁１ｇの形成条件は、化学式
（ＩＶ）で表されるポリイオンコンプレックスのクロロ
ホルム溶液（濃度３重量％）を、湿度８５％の条件下で
第１基板１ａ上にキャストし、有機溶媒を徐々に蒸発さ
せることによって形成した。空孔の孔径と隔壁の高さは
それぞれ７０μｍと４５μｍであり、アスペクト比は３
０、空孔間の間隔Ｒ１は７１．５μｍであった。

【０１２７】

【化４】

【０１２８】分散媒１ｆは実施例１と同様に青色染料で
着色したものを使用した。電気泳動粒子１ｅとして白色
粒子（酸化チタン、平均粒径０．２μｍ）９重量％、及
び帯電剤としてオロア（ＯＬＯＡ Ｃｈｅｖｒｏｎ化学
社製）０．２５重量％を前記分散媒１ｆに加えて分散液
を調整した。

【０１２９】前記分散液を内包するマイクロカプセル１
ｌをｉｎ ｓｉｔｕ重合法により作製し、分級操作を行
って粒径６５〜７０μｍのマイクロカプセル１ｌを得
た。膜材質は尿素−ホルムアルデヒド樹脂である。

【０１３０】次に、インクジェット方式のノズルを用い
て、前記マイクロカプセル１ｌを空孔１ｋ内に充填した
後、隔壁１ｇの上面を第２基板で覆い、第１基板１ａと
第２基板１ｂを接着剤１ｊで封止した。第２基板１ｂに
はＰＥＴフィルム（１２０μｍ厚）を用い、第２電極１
ｄとしてＩＴＯ（０．１μｍ厚）、絶縁層１ｉとして無
色透明なアクリル樹脂（１μｍ厚）が順次形成されてい
る。また、接着剤１ｊには、ポリエステル系樹脂を用い
た。第１電極１ｃ、第２電極１ｄに電圧印加回路を接続
して表示素子を得た。

【０１３１】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧±１５Ｖで駆動したところ、図３
（ｅ’）に示すように各画素内の電気泳動粒子１ｅの上
下駆動によって、青白の高精細な表示を行うことができ
た。

【０１３２】実施例４ 図１（ｂ）に示す電気泳動表示素子を図２および図３の
製造工程に従って作製した。実施例３と同様にして、第
１基板１ａ上に第１電極１ｃ、絶縁層１ｈ、及び親水性
部分１ｍを形成した。本実施例では、第１電極１ｃ及び
親水性部分１ｍは直径４５μｍの円形で形成し、電極間
距離を４６．２μｍで形成した。

【０１３３】下記の化学式（Ｖ）で表される有機・無機
ハイブリッド材料（モル比３：１）の自己形成化によっ
て、図４に示すように第１基板１ａ上の所望の位置に空
孔１ｋがハニカム状に配列した隔壁１ｇを形成した。隔
壁１ｇの形成条件は、化学式（Ｖ）で表される有機・無
機ハイブリッド材料の二硫化炭素溶液（濃度１重量％）
を、湿度８０％の条件下で第１基板１ａ上にキャスト
し、有機溶媒を徐々に蒸発させることによって形成し
た。空孔の孔径と隔壁の高さはそれぞれ４５μｍと３０
μｍであり、アスペクト比は２５、空孔間の間隔Ｒ１は
４６．２μｍであった。

【０１３４】

【化５】

【０１３５】分散媒１ｆにはアイソパーＨを使用した。
電気泳動粒子１ｅには色と帯電特性の異なる２種類の粒
子を用いた。白色粒子（酸化チタン、平均粒径０．２μ
ｍ）９重量％、黒色粒子（カーボンをスチレン−ジビニ
ルベンゼン樹脂で被覆した粒子、平均粒径１．０μｍ）
８重量％、及び帯電剤としてオロア０．５重量％を分散
媒１ｆに加えて分散液を調整した。

【０１３６】前記分散液を内包するマイクロカプセル１
ｌを界面重合法により作製し、分級操作を行って粒径４
０〜４５μｍのマイクロカプセル１ｌを得た。膜材質は
ウレタン樹脂である。

【０１３７】次に、インクジェット方式のノズルを用い
て、前記マイクロカプセル１ｌを空孔１ｋ内に充填した
後、隔壁１ｇの上面を第２基板１ｂで覆い、第１基板１
ａと第２基板１ｂを接着剤１ｊで封止した。第２電極１
ｄと絶縁層１ｉを有する第２基板１ｂ、及び接着剤１ｊ
は実施例３と同様のものを用いた。第１電極１ｃ、第２
電極１ｄに電圧印加回路を接続して表示素子を得た。

【０１３８】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧±１５Ｖで駆動したところ、図３
（ｆ’）に示すように各画素内の２種類の電気泳動粒子
の上下駆動によって、白黒の高精細な表示を行うことが
できた。

【０１３９】実施例５ 図５（ａ）に示す電気泳動表示素子を図６および図７の
製造工程に従って作製した。ガラス（１ｍｍ厚）からな
る第１基板２ａ上に第１電極２ｃとして、アルミニウム
（０．２μｍ厚）を形成した。次に、アルミナ微粒子を
混合したアクリル系樹脂からなる絶縁層２ｉ（３μｍ
厚）を第１電極２ｃ上に形成した。この絶縁層２ｉ上に
第２電極２ｄとして黒色の炭化チタン（０．１μｍ厚）
を成膜し、フォトリソグラフィー法によって直径３６μ
ｍの円形でもってハニカム状にパターン形成した。更に
第２電極２ｄ上に、アクリル系樹脂を用いて無色透明な
絶縁層２ｊ（１μｍ厚）を形成した。

【０１４０】実施例１と同様にフォトリソグラフィー法
によって、第２電極２ｄの同心円上に直径７５μｍの円
形でもって親水性部分２ｍをパターン形成し、絶縁層２
ｊ上に表面エネルギーの異なるパターンを設けた。親水
性部分２ｍは、厚さ０．２μｍ、親水性部分間距離（隣
り合う親水性部分の中心間距離）を７７μｍで形成し
た。

【０１４１】下記の化学式（ＶＩ）で表されるロッド−
コイルブロック共重合体（ｍ＝４００、ｎ＝９００、Ｍ
ｗ／Ｍｎ＜１．０５）の自己形成化によって、図８に示
すように第１基板２ａ上の所望の位置に空孔２ｋがハニ
カム状に配列した隔壁２ｇを形成した。隔壁２ｇの形成
条件は、化学式（ＶＩ）で表されるロッド−コイルブロ
ック共重合体の二硫化炭素溶液（濃度３重量％）を、湿
度８０％の条件下で第１基板２ａ上にキャストし、有機
溶媒を徐々に蒸発させることによって形成した。空孔の
孔径と隔壁の高さはそれぞれ７５μｍと４５μｍであ
り、アスペクト比は２２．５、空孔間の間隔Ｒ１は７７
μｍであった。

【０１４２】

【化６】

【０１４３】分散媒２ｆにはアイソパーＨを使用した。
電気泳動粒子２ｅとして黒色粒子（カーボンをスチレン
−ジビニルベンゼン樹脂で被覆した粒子、平均粒径１．
０μｍ）３重量％、及び帯電剤としてオクテン酸ジルコ
ニウム０．０９重量％を分散媒２ｆに加えて分散液を調
整した。

【０１４４】次に、インクジェット方式のノズルを用い
て、前記分散液を空孔２ｋ内に充填した後、隔壁２ｇの
上面を第２基板２ｂで覆い、第１基板２ａと第２基板２
ｂを接着剤２ｈで封止した。第２基板２ｂには第１基板
２ａと同様のものを用い、接着剤２ｈにはウレタン系樹
脂を用いた。第１電極２ｃ、第２電極２ｄに電圧印加回
路を接続して表示素子を得た。

【０１４５】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧±２０Ｖで駆動したところ、図７
（ｅ）に示すように各画素内の電気泳動粒子の水平駆動
によって、白黒の高精細な表示を行うことができた。

【０１４６】実施例６ 図５（ａ）に示す電気泳動表示素子を図６および図７の
製造工程に従って作製した。実施例５と同様にして、第
１基板２ａ上に第１電極２ｃ、絶縁層２ｉ、第２電極２
ｄ、絶縁層２ｊ、親水性部分２ｍを順次形成した。本実
施例では、第２電極２ｄは直径２２μｍの円形で形成
し、親水性部分２ｍは第２電極２ｄの同心円上に直径４
５μｍの円形で、且つ、厚さ０．２μｍ、親水性部分間
距離を４６μｍでパターン形成した。

【０１４７】下記の化学式（ＩＩ）で表されるブロック
共重合体（ｍ＝５９０、ｎ＝３８５、Ｍｗ／Ｍｎ＜１．
０５）の自己形成化によって、図８に示すように第１基
板２ａ上の所望の位置に空孔２ｋがハニカム状に配列し
た隔壁２ｇを形成した。隔壁２ｇの形成条件は、化学式
（ＩＩ）で表されるブロック共重合体の二硫化炭素溶液
（濃度１重量％）を、湿度８０％の条件下で第１基板２
ａ上にキャストし、有機溶媒を徐々に蒸発させることに
よって形成した。空孔の孔径と隔壁の高さはそれぞれ４
５μｍと３５μｍであり、アスペクト比は３５、空孔間
の間隔Ｒ１は４６μｍであった。

【０１４８】

【化７】

【０１４９】電気泳動粒子２ｅと分散媒２ｆからなる分
散液は実施例５と同様のものを用い、インクジェット方
式のノズルを用いて、前記分散液を空孔２ｋ内に充填し
た後、隔壁２ｇの上面を第２基板２ｂで覆い、第１基板
２ａと第２基板２ｂを接着剤２ｈで封止した。第２基板
２ｂと接着剤２ｈは実施例５と同様のものを用いた。第
１電極２ｃ、第２電極２ｄに電圧印加回路を接続して表
示素子を得た。

【０１５０】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧±２０Ｖで駆動したところ、図７
（ｅ）に示すように各画素内の電気泳動粒子の水平駆動
によって、白黒の高精細な表示を行うことができた。

【０１５１】実施例７ 図５（ｂ）に示す電気泳動表示素子を図６および図７の
製造工程に従って作製した。ＰＥＴフィルム（３００μ
ｍ厚）からなる第１基板２ａ上に、実施例５と同様にし
て第１電極２ｃ、絶縁層２ｉ、第２電極２ｄ、絶縁層２
ｊ、親水性部分２ｍを順次形成した。本実施例では、第
２電極２ｄは直径３０μｍの円形で形成し、親水性部分
２ｍは第２電極２ｄの同心円上に直径６０μｍの円形
で、且つ、厚さ０．２μｍ、親水性部分間距離を６１．
６μｍでパターン形成した。

【０１５２】ポリスチレン（分子量Ｍｎ＝９×１０⁴、
Ｍｗ／Ｍｎ＜１．０５）の自己形成化によって、図８に
示すように第１基板２ａ上の所望の位置に空孔２ｋがハ
ニカム状に配列した隔壁２ｇを形成した。隔壁２ｇの形
成条件は、ポリスチレンの塩化メチレン溶液（濃度２重
量％）と化学式（ＶＩＩ）で示される界面活性剤のベン
ゼン溶液（濃度０．２重量％）を９対１の重量比で混合
し、湿度８５％の条件下で第１基板２ａ上にキャスト
し、有機溶媒を徐々に蒸発させることによって形成し
た。空孔の孔径と隔壁の高さはそれぞれ６０μｍと４０
μｍであり、アスペクト比は２５、空孔間の間隔Ｒ１は
６１．６μｍであった。

【０１５３】

【化８】

【０１５４】電気泳動粒子２ｅと分散媒２ｆからなる分
散液は実施例５と同様のものを用いた。前記分散液を内
包するマイクロカプセル２ｌをコアセルベーション法に
より作製し、分級操作を行って粒径５５〜６０μｍのマ
イクロカプセル２ｌを得た。膜材質はゼラチンである。

【０１５５】インクジェット方式のノズルを用いて、前
記マイクロカプセル２ｌを空孔２ｋ内に充填した後、隔
壁２ｇの上面を第２基板２ｂで覆い、第１基板２ａと第
２基板２ｂを接着剤で封止した。第２基板２ｂにはＰＥ
Ｔフィルム（１２０μｍ厚）を用い、接着剤２ｈにはポ
リエステル系樹脂を用いた。第１電極２ｃ、第２電極２
ｄに電圧印加回路を接続して表示素子を得た。

【０１５６】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧±２０Ｖで駆動したところ、図７
（ｅ’）に示すように各画素内の電気泳動粒子の水平駆
動によって、白黒の高精細な表示を行うことができた。

【０１５７】実施例８ 図５（ｂ）に示す電気泳動表示素子を図６および図７の
製造工程に従って作製した。実施例７と同様にして、第
１電極２ｃ、絶縁層２ｉ、第２電極２ｄ、絶縁層２ｊ、
親水性部分２ｍを有する第１基板２ａを作製した。本実
施例では、第２電極２ｄは直径２０μｍの円形で形成
し、親水性部分２ｍは第２電極２ｄの同心円上に直径４
０μｍの円形で、且つ、厚さ０．２μｍ、親水性部分間
距離を４１μｍでパターン形成した。

【０１５８】下記の化学式（ＩＩＩ）で表されるロッド
−コイルブロック共重合体（ｍ＝１００、ｎ＝４００
０、Ｍｗ／Ｍｎ＜１．０５）の自己形成化によって、図
８に示すように第１基板２ａ上の所望の位置に空孔２ｋ
がハニカム状に配列した隔壁２ｇを形成した。隔壁２ｇ
の形成条件は、前記ロッド−コイルブロック共重合体の
二硫化炭素溶液（濃度１．５重量％）を、湿度７５％の
条件下で第１基板２ａ上にキャストし、有機溶媒を徐々
に蒸発させることによって形成した。空孔の孔径と隔壁
の高さはそれぞれ４０μｍと３０μｍであり、アスペク
ト比は３０、空孔間の間隔Ｒ１は４１μｍであった。

【０１５９】

【化９】

【０１６０】電気泳動粒子２ｅと分散媒２ｆからなる分
散液は実施例５と同様のものを用いた。前記分散液を内
包するマイクロカプセル２ｌを界面重合法により作製
し、分級操作を行って粒径３５〜４０μｍのマイクロカ
プセル２ｌを得た。膜材質はポリアミドである。

【０１６１】インクジェット方式のノズルを用いて、前
記マイクロカプセル２ｌを空孔２ｋ内に充填した後、隔
壁２ｇの上面を第２基板２ｂで覆い、第１基板２ａと第
２基板２ｂを接着剤２ｈで封止した。第２基板２ｂと接
着剤２ｈは実施例７と同様のものを用いた。第１電極２
ｃ、第２電極２ｄに電圧印加回路を接続して表示素子を
得た。

【０１６２】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧±２０Ｖで駆動したところ、図７
（ｅ’）に示すように各画素内の電気泳動粒子の水平駆
動によって、白黒の高精細な表示を行うことができた。

【０１６３】実施例９ 図９（ａ）に示す電気泳動表示素子を図１０および図１
１の製造工程に従って作製した。まず、ガラス（１ｍｍ
厚）からなる第１基板３ａ上に第１電極３ｃとして、黒
色の炭化チタン（０．１μｍ厚）を成膜し、フォトリソ
グラフィー法によって直径４０μｍの円形でもってハニ
カム状にパターン形成した。この時、電極間距離を４１
μｍで形成した。第１電極３ｃ上に、アクリル系樹脂を
用いて無色透明な絶縁層３ｇ（１μｍ厚）を形成した。

【０１６４】次に、実施例１と同様にフォトリソグラフ
ィー法によって、第１電極３ｃの真上の位置に直径４０
μｍの円形でもって親水性部分３ｋ（０．２μｍ厚）を
パターン形成し、絶縁層３ｇ上に表面エネルギーの異な
るパターンを設けた。

【０１６５】下記の化学式（ＶＩＩＩ）で表されるポリ
ピロール（分子量Ｍｎ＝６×１０⁴、Ｍｗ／Ｍｎ＜１．
０５）の自己形成化によって、図１２に示すように第１
基板３ａ上の所望の位置に空孔３ｉがハニカム状に配列
した導電性隔壁３ｆを形成した。導電性隔壁３ｆの形成
条件は、ポリピロールのクロロホルム溶液（濃度１．５
重量％）と化学式（ＶＩＩ）で示される界面活性剤のベ
ンゼン溶液（濃度０．２重量％）を１０対１の重量比で
混合し、湿度７５％の条件下で第１基板３ａ上にキャス
トし、有機溶媒を徐々に蒸発させることによって形成し
た。次いで、ドーパントガスに曝露して、導電性隔壁３
ｆの導電性を向上させる処理を施した。

【０１６６】空孔の孔径と隔壁の高さはそれぞれ４０μ
ｍと３０μｍであり、アスペクト比は３０、空孔間の間
隔Ｒ１は４１μｍであった。

【０１６７】

【化１０】

【０１６８】

【化１１】

【０１６９】分散媒３ｅにはアイソパーＨを使用した。
電気泳動粒子３ｄとして白色粒子（酸化チタン、平均粒
径０．２μｍ）５重量％、及び帯電剤としてオロア０．
１５重量％を分散媒３ｅに加えて分散液を調整した。

【０１７０】次に、インクジェット方式のノズルを用い
て、前記分散液を空孔３ｉ内に充填した後、導電性隔壁
３ｆの上面を第２基板３ｂで覆い、第１基板３ａと第２
基板３ｂを接着剤３ｈで封止した。第２基板３ｂには第
１基板３ａと同様のものを用い、接着剤３ｈにはポリエ
ステル系樹脂を用いた。第１電極３ｃ、導電性隔壁３ｆ
に電圧印加回路を接続して表示素子を得た。

【０１７１】表示は第１電極３ｃと導電性隔壁３ｆ間に
電圧を印加することによって行った。印加電圧±２０Ｖ
で駆動したところ、図１１（ｅ）に示すように各画素内
の電気泳動粒子の電気泳動によって、白黒の高精細な表
示を行うことができた。

【０１７２】実施例１０ 図９（ａ）に示す電気泳動表示素子を図１０および図１
１の製造工程に従って作製した。実施例９と同様にし
て、第１基板３ａ上に第１電極３ｃ、絶縁層３ｇ、親水
性部分３ｋ、及び導電性隔壁３ｆを形成した。

【０１７３】分散媒３ｅにはアイソパーＨを使用した。
電気泳動粒子３ｄには色と帯電特性の異なる２種類の粒
子を用いた。白色粒子（酸化チタン、平均粒径０．２μ
ｍ）７重量％、黒色粒子（カーボンをスチレン−ジビニ
ルベンゼン樹脂で被覆した粒子、平均粒径１．０μｍ）
６重量％、及び帯電剤としてオクテン酸ジルコニウム
０．４重量％を分散媒３ｅに加えて分散液を調整した。

【０１７４】次に、実施例９と同様にして、前記分散液
を空孔３ｉ内に充填し、第１基板３ａと第２基板３ｂを
接着剤３ｈで封止した。第１電極３ｃ、導電性隔壁３ｆ
に電圧印加回路を接続して表示素子を得た。

【０１７５】表示は第１電極３ｃと導電性隔壁３ｆ間に
電圧を印加することによって行った。印加電圧±２０Ｖ
で駆動したところ、図１１（ｆ）に示すように各画素内
の２種類の電気泳動粒子の電気泳動によって、白黒の高
精細な表示を行うことができた。

【０１７６】実施例１１ 図９（ｂ）に示す電気泳動表示素子を図１０および図１
１の製造工程に従って作製した。ＰＥＴフィルム（３０
０μｍ厚）からなる第１基板３ａ上に、実施例９と同様
にして第１電極３ｃ、絶縁層３ｇ、親水性部分３ｋを形
成した。本実施例では、第１電極１ｃ及び親水性部分３
ｋは直径６０μｍの円形で形成し、電極間距離を６１μ
ｍで形成した。

【０１７７】下記の化学式（ＩＸ）で表されるポリチオ
フェン（分子量Ｍｎ＝５×１０⁴ 、Ｍｗ／Ｍｎ＜１．０
５）の自己形成化によって、図１２に示すように第１基
板３ａ上の所望の位置に空孔３ｉがハニカム状に配列し
た導電性隔壁３ｆを形成した。導電性隔壁３ｆの形成条
件は、ポリチオフェンのクロロホルム溶液（濃度１２重
量％）と化学式（ＶＩＩ）で示される界面活性剤のベン
ゼン溶液（濃度０．２重量％）を重量比８：１で混合
し、湿度８０％の条件下で第１基板３ａ上にキャスト
し、有機溶媒を徐々に蒸発させることによって形成し
た。次いで、ドーパントガスに曝露して、導電性隔壁３
ｆの導電性を向上させる処理を施した。

【０１７８】空孔の孔径と隔壁の高さはそれぞれ６０μ
ｍと４５μｍであり、アスペクト比は４５、空孔間の間
隔Ｒ１は６１μｍであった。

【０１７９】

【化１２】

【０１８０】

【化１３】

【０１８１】電気泳動粒子３ｄと分散媒３ｅからなる分
散液には実施例９と同様のものを使用した。前記分散液
を内包するマイクロカプセル３ｊを界面重合法により作
製し、分級操作を行って粒径５５〜６０μｍのマイクロ
カプセル３ｊを得た。膜材質はポリエステルである。

【０１８２】次に、インクジェット方式のノズルを用い
て、マイクロカプセル３ｊを空孔３ｉ内に充填した後、
導電性隔壁３ｆの上面を第２基板３ｂで覆い、第１基板
３ａと第２基板３ｂを接着剤３ｈで封止した。第２基板
３ｂにはＰＥＴ（１２０μｍ厚）を用い、接着剤３ｈに
はポリエステル系樹脂を用いた。第１電極３ｃ、導電性
隔壁３ｆに電圧印加回路を接続して表示素子を得た。

【０１８３】表示は第１電極３ｃと導電性隔壁３ｆ間に
電圧を印加することによって行った。印加電圧±２０Ｖ
で駆動したところ、図１１（ｅ’）に示すように各画素
内の電気泳動粒子の電気泳動によって、白黒の高精細な
表示を行うことができた。

【０１８４】実施例１２ 図９（ｂ）に示す電気泳動表示素子を図１０および図１
１の製造工程に従って作製した。実施例１１と同様にし
て、第１基板３ａ上に第１電極３ｃ、絶縁層３ｇ、親水
性部分３ｋ、及び導電性隔壁３ｆを形成した。

【０１８５】電気泳動粒子３ｄと分散媒３ｅからなる分
散液には実施例１０と同様のものを使用した。前記分散
液を内包するマイクロカプセル３ｊをｉｎ ｓｉｔｕ重
合法により作製し、分級操作を行って粒径５５〜６０μ
ｍのマイクロカプセル３ｊを得た。膜材質はメラミン−
ホルムアルデヒド樹脂である。

【０１８６】次に、実施例１１と同様にして、マイクロ
カプセル３ｊを空孔３ｉ内に充填し、第１基板３ａと第
２基板３ｂを接着剤３ｈで封止した。第１電極３ｃ、導
電性隔壁３ｆに電圧印加回路を接続して表示素子を得
た。

【０１８７】表示は第１電極３ｃと導電性隔壁３ｆ間に
電圧を印加することによって行った。印加電圧±２０Ｖ
で駆動したところ、図１１（ｆ’）に示すように各画素
内の２種類の電気泳動粒子の電気泳動によって、白黒の
高精細な表示を行うことができた。

【０１８８】実施例１３ 図１３に示す有機ＥＬ表示素子を図１４の製造工程に従
って作製した。ガラス（１ｍｍ厚）からなる第１基板４
ａ上にアクリル系樹脂を用いて無色透明な絶縁層４ｃ
（１μｍ厚）を形成した。

【０１８９】次に、実施例１と同様にフォトリソグラフ
ィー法によって、親水性部分４ｄを直径６５μｍの円形
でもってハニカム状にパターン形成し、絶縁層４ｃ上に
表面エネルギーの異なるパターンを設けた。親水性部分
４ｄは厚さ０．２μｍ、親水性部分間距離を６６μｍで
形成した。

【０１９０】下記の化学式（ＩＩ）で表されるブロック
共重合体（ｍ＝２５０、ｎ＝１９０、Ｍｗ／Ｍｎ＜１．
０５）の自己形成化によって、図１５に示すように第１
基板上の所望の位置に空孔４ｆがハニカム状に配列した
隔壁４ｅを形成した。隔壁４ｅの形成条件は、化学式
（ＩＩ）で表されるブロック共重合体の二硫化炭素溶液
（濃度１．５重量％）を、湿度８５％の条件下で第１基
板４ａ上にキャストし、有機溶媒を徐々に蒸発させるこ
とによって形成した。空孔の孔径と隔壁の高さはそれぞ
れ６５μｍと２μｍであり、アスペクト比は２、空孔間
の間隔Ｒ１は６６μｍであった。

【０１９１】

【化１４】

【０１９２】次に、第１基板４ａ上の空孔４ｆ内に、第
１電極４ｇ、有機ＥＬ媒体４ｈ、第２電極４ｉを真空蒸
着法で形成した。第１電極にはＩＴＯを用い、０．２５
μｍ厚で形成した。

【０１９３】有機ＥＬ媒体４ｈは、正孔輸送層と有機発
光層からなり、正孔輸送層、次いで有機発光層の順に、
共に０．５μｍ厚で形成した。正孔輸送材料として、
Ｎ，Ｎ’−ビフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（α−ナフチ
ル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンを用
いた。有機発光層には赤色発光材料、緑色発光材料、青
色発光材料の３種を用い、空孔４ｆに赤色発光層、緑色
発光層、青色発光層を交互に配列させた。赤色発光材
料、青色発光材料、緑色発光材料には、それぞれ、メロ
シアニン色素、８−キノリノール、トリス（８−キノリ
ノラト）アルミニウムを用いた。

【０１９４】第２電極４ｉとして銀マグネシウム合金を
用い、膜厚を０．３μｍで形成した。次に、図１４
（ｃ）に示すように、第２電極４ｉ上に被覆電極４ｊと
してアルミニウムを真空蒸着し、膜厚を１μｍで形成し
た。

【０１９５】そして、隔壁４ｅ及び有機ＥＬ媒体４ｈが
形成されている面側を、第２基板４ｂと接着剤４ｋを用
いて封止すると共に、第１基板４ａ、接着剤４ｋ、第２
基板４ｂによって形成される中空の内部空間に窒素を充
填して外部からの湿気や酸素を遮断することにより、表
示素子を作製した。第２基板４ｂとして第１基板４ａと
同様のガラスを用い、接着剤４ｋにはエポキシ系樹脂を
用いた。そして、第１電極４ａ、被覆電極４ｊに電圧印
加回路を接続して表示素子を得た。

【０１９６】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧は１０Ｖとした。基板上に自己形成
化材料の自己形成化によって隔壁を設けたことから、画
素間の発光色の異なる発光材料が混合することなく、高
精細にフルカラー表示することができた。

【０１９７】実施例１４ 図１３に示す有機ＥＬ表示素子を図１４の製造工程に従
って作製した。ＰＥＴフィルム（３００μｍ厚）からな
る第１基板４ａ上に、実施例１３と同様にして絶縁層４
ｃと親水性部分４ｄを形成した。本実施例では、親水性
部分４ｄを直径３５μｍの円形で、且つ、厚さ０．２μ
ｍ、親水性部分間距離を３５．５μｍで形成した。

【０１９８】ポリスチレン（分子量Ｍｎ＝３×１０⁴ 、
Ｍｗ／Ｍｎ＜１．０５）の自己形成化によって、図１５
に示すように第１基板上の所望の位置に空孔４ｆがハニ
カム状に配列した隔壁４ｅを形成した。隔壁４ｅの形成
条件は、ポリスチレンの塩化メチレン溶液（濃度１重量
％）と化学式（ＶＩＩ）で示される界面活性剤のベンゼ
ン溶液（濃度０．１重量％）を９対１の重量比で混合
し、湿度７５％の条件下で第１基板４ａ上にキャスト
し、有機溶媒を徐々に蒸発させることによって形成し
た。空孔の孔径と隔壁の高さはそれぞれ３５μｍと２μ
ｍであり、アスペクト比は４、空孔間の間隔Ｒ１は３
５．５μｍであった。

【０１９９】

【化１５】

【０２００】実施例１３と同様にして、第１基板４ａ上
の空孔４ｆ内に第１電極４ｇ、有機ＥＬ媒体４ｈ、第２
電極４ｉを形成した後、被覆電極４ｊとしてアルミニウ
ムを形成した。

【０２０１】実施例１３と同様にして、第２基板４ｂと
接着剤４ｋを用いて封止し、表示素子を作製した。第２
基板４ｂには、第１基板４ａと同様にＰＥＴフィルムを
用い、接着剤４ｋにはアクリル系樹脂を用いた。更に、
第１電極４ｇ、被覆電極４ｊに電圧印加回路を接続して
表示素子を得た。

【０２０２】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧は１０Ｖとした。基板上に自己形成
化材料の自己形成化によって隔壁を設けたことから、画
素間の発光色の異なる発光材料が混合することなく、高
精細にフルカラー表示することができた。

【０２０３】実施例１５ 図１３に示す有機ＥＬ表示素子を図１４の製造工程に従
って作製した。実施例１４と同様にして、ＰＥＴフィル
ム（３００μｍ厚）からなる第１基板４ａ上に、絶縁層
４ｃ、親水性部分４ｄ、隔壁４ｅ、及び第１電極４ｇを
形成した。

【０２０４】有機ＥＬ媒体４ｈは、次の様な構成となっ
ている。赤と緑の画素には、赤色と緑色のそれぞれの正
孔注入型高分子有機発光層が形成され、青の画素には発
光しない正孔注入層が形成されており、次いで全画素内
に電荷輸送型青色発光層が形成されている。

【０２０５】インクジェット法を用いて空孔４ｆ内に赤
色発光材料、緑色発光材料をパターニング塗布し、０．
１μｍ厚の有機発光層を形成した。赤色発光材料にはシ
アノポリフェニレンビニレン前駆体を用い、緑色発光材
料にはシアノポリフェニレンビニレン前駆体を使用し、
これらのポリマー前駆体溶液はインクジェットで吐出
後、加熱処理によって高分子化され、有機発光層とな
る。発光しない正孔注入層には、ポリビニルカルバゾー
ルを用い、インクジェット法にて青の画素に相当する空
孔４ｆに吐出し、正孔注入層を形成した。

【０２０６】更に、空孔４ｆ内に青色発光層としてアル
ミニウムキノリノール錯体を真空蒸着法により０．１μ
ｍ厚で電荷輸送型青色発光層を形成した。空孔４ｆ内の
有機ＥＬ媒体４ｈ上に、第２電極４ｉとして０．３μｍ
厚の銀マグネシウム合金を真空蒸着法により形成し、更
に、被覆電極４ｊとして１μｍ厚のアルミニウムを形成
した。（図１４（ｃ）参照）

【０２０７】実施例１４と同様にして、第２基板４ｂと
接着剤４ｋを用いて封止し、表示素子を作製した。更
に、第１電極４ｇ、被覆電極４ｊに電圧印加回路を接続
して表示素子を得た。

【０２０８】表示は電極間に電圧を印加することによっ
て行った。印加電圧は１０Ｖとした。基板上に自己形成
化材料の自己形成化によって隔壁を設けたことから、画
素間の発光色の異なる発光材料が混合することなく、高
精細にフルカラー表示することができた。

【０２０９】

【発明の効果】以上、詳細に述べたように、本発明の表
示素子を用いると、次のような効果を得ることができ
る。表示素子の隔壁において、従来のリソグラフィー技
術に頼らずに、基板上に自己形成化材料により形成され
た隔壁を簡便に形成することができるため、微細な厚み
の隔壁を精度良く形成できるために、高精細な表示素子
を簡便に提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の電気泳動表示素子の一実施態様を示す
断面図である。

【図２】本発明の電気泳動表示素子の製造方法の一例を
示す工程図である。

【図３】本発明の電気泳動表示素子の製造方法の一例を
示す工程図である。

【図４】空孔がハニカム状に配列した構造を有する隔壁
の概略図である。

【図５】本発明の電気泳動表示素子の他の実施態様を示
す断面図である。

【図６】本発明の電気泳動表示素子の製造方法の他の例
を示す工程図である。

【図７】本発明の電気泳動表示素子の製造方法の他の例
を示す工程図である。

【図８】空孔がハニカム状に配列した構造を有する隔壁
の概略図である。

【図９】本発明の電気泳動表示素子の他の実施態様を示
す断面図である。

【図１０】本発明の電気泳動表示素子の製造方法の他の
例を示す工程図である。

【図１１】本発明の電気泳動表示素子の製造方法の他の
例を示す工程図である。

【図１２】空孔がハニカム状に配列した構造を有する導
電性隔壁の概略図である。

【図１３】本発明の有機ＥＬ表示素子の一実施態様を示
す断面図である。

【図１４】本発明の有機ＥＬ表示素子の製造方法の一例
を示す工程図である。

【図１５】空孔がハニカム状に配列した構造を有する隔
壁の概略図である。

【図１６】従来の電気泳動型表示素子を示す概略図であ
る。

【図１７】従来の有機ＥＬ表示素子を示す概略図であ
る。

【符号の説明】

１ａ 第１基板 １ｂ 第２基板 １ｃ 第１電極 １ｄ 第２電極 １ｅ 電気泳動粒子 １ｆ 分散媒 １ｇ 隔壁 １ｈ 絶縁層 １ｉ 絶縁層 １ｊ 接着剤 １ｋ 空孔 １ｌ マイクロカプセル １ｍ 親水性部分 ２ａ 第１基板 ２ｂ 第２基板 ２ｃ 第１電極 ２ｄ 第２電極 ２ｅ 電気泳動粒子 ２ｆ 分散媒 ２ｇ 隔壁 ２ｈ 接着剤 ２ｉ 絶縁層 ２ｊ 絶縁層 ２ｋ 空孔 ２ｌ マイクロカプセル ２ｍ 親水性部分 ３ａ 第１基板 ３ｂ 第２基板 ３ｃ 第１電極 ３ｄ 電気泳動粒子 ３ｅ 分散媒 ３ｆ 導電性隔壁 ３ｇ 絶縁層 ３ｈ 接着剤 ３ｉ 空孔 ３ｊ マイクロカプセル ３ｋ 親水性部分 ４ａ 第１基板 ４ｂ 第２基板 ４ｃ 絶縁層 ４ｄ 親水性部分 ４ｅ 隔壁 ４ｆ 空孔 ４ｇ 第１電極 ４ｈ 有機ＥＬ媒体 ４ｉ 第２電極 ４ｊ 被覆電極 ４ｋ 接着剤 ５ａ 基板 ５ｂ 基板 ５ｃ 電極 ５ｄ 電極 ５ｅ 電気泳動粒子 ５ｆ 分散媒 ５ｇ 隔壁 ６ａ 基板 ６ｂ 基板 ６ｃ 第１電極 ６ｄ 第２電極 ６ｅ 隔壁 ６ｆ 有機ＥＬ媒体 ６ｇ 接着剤

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一対の基板と、該基板間に介在する表示
   媒体と、該表示媒体を基板面に対して垂直に分離する隔
   壁を有し、該隔壁と該基板で構成された空孔内に表示媒
   体が設けられている表示素子であって、該隔壁は自己形
   成化材料により形成された隔壁であることを特徴とする
   表示素子。
2. 【請求項２】 前記隔壁と前記基板で構成された空孔が
   ハニカム状に配列した構造であって、該空孔の孔径が１
   ０〜２００μｍ、その高さが０．１〜１００μｍの範囲
   であり、アスペクト比が０．１〜１００の範囲であり、
   空孔間の間隔が１０〜２１０μｍであることを特徴とす
   る請求項１に記載の表示素子。
3. 【請求項３】 前記自己形成化材料が、ブロック共重合
   体であることを特徴とする請求項１に記載の表示素子。
4. 【請求項４】 前記自己形成化材料が、ホモポリマーで
   あることを特徴とする請求項１に記載の表示素子。
5. 【請求項５】 前記自己形成化材料が、ポリイオンコン
   プレックスであることを特徴とする請求項１に記載の表
   示素子。
6. 【請求項６】 前記自己形成化材料が、有機及び／又は
   無機ハイブリッド材料であることを特徴とする請求項１
   に記載の表示素子。
7. 【請求項７】 前記隔壁が、導電性を有していることを
   特徴とする請求項１に記載の表示素子。
8. 【請求項８】 前記隔壁が、導電性ポリマーによって自
   己形成された構造体であることを特徴とする請求項７に
   記載の表示素子。
9. 【請求項９】 一対の基板と、該基板間に介在する電気
   泳動粒子および分散媒からなる表示媒体と、該表示媒体
   を基板面に対して垂直に分離する隔壁を有し、該隔壁は
   自己形成化材料により形成された隔壁であり、該隔壁と
   該基板で構成された空孔内に前記表示媒体が充填されて
   いることを特徴とする請求項１に記載の表示素子。
10. 【請求項１０】 前記表示媒体が電気泳動粒子および分
    散媒であることを特徴とする請求項９に記載の表示素
    子。
11. 【請求項１１】 前記表示媒体が電気泳動粒子および分
    散媒を内包したマクロカプセルであることを特徴とする
    請求項９に記載の表示素子。
12. 【請求項１２】 一対の基板と、該基板間に介在する有
    機ＥＬ媒体からなる表示媒体と、該表示媒体を基板面に
    対して垂直に分離する隔壁を有し、該隔壁は自己形成化
    材料により形成された隔壁であり、該隔壁と該基板で構
    成された空孔内に前記表示媒体が設けられていることを
    特徴とする請求項１に記載の表示素子。
13. 【請求項１３】 一対の基板と、該基板間に介在する表
    示媒体と、該表示媒体を基板面に対して垂直に分離する
    隔壁を有する表示素子の製造方法であって、（１）基板
    上に自己形成化材料により隔壁を形成する工程、（２）
    該隔壁と該基板で構成された空孔内に表示媒体を充填す
    る工程、（３）該隔壁上を対向する基板で覆い、基板間
    を封止する工程、の各工程を有することを特徴とする表
    示素子の製造方法。
14. 【請求項１４】 基板上に前記自己形成化材料により隔
    壁を形成する位置が、表面状態の異なる所望のパターン
    を設けた位置上であることを特徴とする請求項１３に記
    載の表示素子の製造方法。
15. 【請求項１５】 前記所望のパターンが、基板上に設け
    られた疎水性部分により形成されていることを特徴とす
    る請求項１４に記載の表示素子の製造方法。