JP2003103542A - 溶液製膜方法及び溶液製膜装置 - Google Patents

溶液製膜方法及び溶液製膜装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 搬送速度を早くした場合であっても、ウ
ェブがピンテンターから外れることなく、良好に搬送で
きるようにした溶液製膜方法を提供する。 【解決手段】 流延部から送られて来たウェブ２０を、
回転している噛み込みブラシ３０で下方に押し込み、ピ
ンテンター１０のピンに差込み担持させる。冷却風供給
手段から冷却風を冷却風導入口４１を介してブラシカバ
ー４０の内部へ導入する。導入された冷却風は、上部か
ら下部へ送られ、この過程において噛み込みブラシ３０
を冷却する。吸引手段により排気口４２を介してブラシ
カバー４０内の空気を吸引しており、この吸引により、
ウェブ２０がピンテンター１０のピンに差込まれた時等
に発生したゴミをブラシカバー４０外へ排出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェブがピンテン
ターから外れることなく搬送できるようにした溶液製膜
方法及び溶液製膜装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、セルロースアセテート、ポリカ
ーボネート、セロファン等のフィルムの一部は溶液製膜
法で製造されている。この溶液製膜法は、流延ダイから
高分子溶液であるドープをベルト式又はドラム式の流延
支持体に流延し、流延支持体上で冷却ゲル化して剥ぎ取
り、この剥ぎ取ったウェブをテンターにより両端を担持
しつつ搬送しながら乾燥させるものであった（特開昭６
２−４６６２５号公報、特開昭６２−４６６２６号公報
等）。
【０００３】このテンターには、ピンテンターとクリッ
プテンターとがあり、ピンテンターにおいては、ウェブ
の端部を噛み込みブラシ等の差込構造体で下方に押し込
んでピンテンターのピンに差込むものであった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ピンテンターによるウェブの搬送においては、一度ピン
テンターに差し込んだウェブが、ピンテンタ−から外れ
て搬送できなることがあった。特に、搬送速度を速くす
ると顕著になり、製膜の生産性向上を妨げるものであっ
た。
【０００５】本発明は、以上の問題点を解決し、搬送速
度を早くした場合であっても、ウェブがピンテンターか
ら外れることなく、良好に搬送できるようにした溶液製
膜方法及び溶液製膜装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ウェブがピ
ンテンターから外れる問題に関し鋭意検討し、ウェブを
ピンテンターに噛み込ませる時、噛み込みブラシの温度
が高いと、ゲル化したウェブがゾルに戻り噛み込みブラ
シに接着することが原因であることを見出した。そし
て、搬送速度を速くすると、ウェブの残留揮発分が多い
のでゲル化温度が上昇し、その結果ウェブがピンテンタ
ーに接着し易くなるものであった。
【０００７】本発明は、以上の知見に基づきなされたも
ので、噛み込みブラシ等の差込構造体を冷却することに
より、ウェブの温度の上昇を抑制したものである。
【０００８】本発明による溶液製膜方法は、高分子溶液
を流延支持体に流延し、該高分子溶液を冷却ゲル化して
流延支持体から剥ぎ取り、該剥ぎ取ったウェブの端部を
差込構造体で押し込んでピンテンターに差込み、該ピン
テンターでウェブの端部を担持して搬送させつつ乾燥さ
せる溶液製膜方法において、前記差込構造体を冷却する
ことにより、差込構造体がウェブに接触してから離れる
間、該差込構造体と接触しているウェブの表面温度がゲ
ル化温度を超えないようにすることを特徴として構成さ
れている。
【０００９】本発明による溶液製膜方法においては、差
込構造体を冷却しているので、ウェブが差込構造体に接
してもゲル化温度を超えて上昇するのを抑制し、ウェブ
が差込構造体に接着するのを防止している。
【００１０】本発明による溶液製膜装置は、高分子溶液
を流延支持体に流延し、該高分子溶液を冷却ゲル化して
流延支持体から剥ぎ取り、該剥ぎ取ったウェブの端部を
差込構造体で押し込んでピンテンターに差込み、該ピン
テンターでウェブの端部を担持して搬送させつつ乾燥さ
せる溶液製膜装置において、前記差込構造体を冷却する
冷却手段が設けられていることを特徴として構成されて
いる。
【００１１】本発明による溶液製膜装置においては、冷
却手段が差込構造体を冷却し、ウェブが差込構造体に接
してもゲル化温度を超えて上昇するのを抑制し、ウェブ
が差込構造体二接着するのを防止している。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の溶液製膜方法において
は、差込構造体を冷却することにより、差込構造体がウ
ェブに接触してから離れる間、差込構造体と接触してい
るウェブの表面温度がゲル化温度を超えないようにする
ものである。差込構造体を冷却する冷却手段は、特に限
定されるものでなく、差込構造体をカバーで被って冷却
風導入手段で冷却風を導入することにより行っても、差
込構造体を直接冷却することにより行ってもよい。
【００１３】また、冷却によりウェブの表面温度がゲル
化温度を超えないようにするが、ゲル化温度より２℃以
上低いことが好ましく、ゲル化温度より３℃以上低いこ
とがより好ましい。
【００１４】冷却風としては、差込構造体等によって適
宜変更されるが、−４０〜０℃が好ましく、−３０〜−
１０℃がより好ましい。
【００１５】また、冷却手段として冷却風を用いる場
合、ウェブ近傍の異物を吸引することが好ましい。すな
わち、ウェブをピンテンターのピンに差込むことにより
ゴミが発生するが、このゴミを冷却風が周辺に撒き散ら
すことがあり、撒き散らされたゴミがウェブに付着して
製品として耐え得ないものとなり、製品の歩留まりが悪
化するものである。したがって、ピンの差込みによって
発生するゴミ等の異物を吸引除去する吸引除去手段を設
け、異物を除去することにより、ウェブ表面をクリーン
な状態に保つことができ、その結果、歩留まりの悪化を
防止することができる。
【００１６】したがって、ウェブ近傍の異物を吸引する
場合、差込構造体がウェブをピンテンターに差込むとこ
ろは、冷却風が供給されると同時に吸引されることとな
り、この個所の静圧が、カバー外部の気圧より−１００
〜１００Ｐａであることが好ましく、−７０〜７０Ｐａ
であることがより好ましく、−５０〜５０Ｐａが最も好
ましい。
【００１７】静圧が−１００Ｐａ未満であると、高温の
テンター乾燥風を吸い込むので冷却効率が落ちウェブの
表面温度を充分に低くすることができず、また、静圧が
１００Ｐａを超えると、ゴミ等の異物を撒き散らすこと
となり歩留まりが悪化するものである。
【００１８】差込構造体としては、ウェブをピンにさし
こめるものであれば材質は特に制約はない。例えば、円
盤にブラシを埋め込んだものを用いることができる。
【００１９】本発明の溶液製膜方法の高分子溶液として
は、セルロースエステル、ポリカーボネート、アラミド
系ポリマー、ノルボルネン系ポリマー等の溶液を用いる
ことができる。セルロースエステルとしては、セルロー
スの低級脂肪酸エステルを用いることが好ましい。低級
脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。
炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セル
ロースプロピオネート）または４（セルロースブチレー
ト）であることが好ましい。セルロースアセテートが特
に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセ
ルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エス
テルを用いてもよい。
【００２０】本発明の溶液製膜方法で製造されるフィル
ムは、偏光板用保護フィルム、光学機能性膜（光学補償
シート、反射防止膜、輝度向上膜等）、等に利用するこ
とができる。
【００２１】本発明による溶液製膜方法の一実施形態を
図面を参照して説明する。図１は、溶液製膜方法を実施
する溶液製膜装置のテンター乾燥部の概略側面図、図２
はテンター乾燥部のウェブの搬送方向から見た概略図、
図３はテンター乾燥部の概略平面図である。
【００２２】図１において、１０は図中右方向へ走行自
在に設けられたピンテンターで、このピンテンター１０
の上部にはウェブ２０が担持されて搬送されるようにな
っている。３０は差込構造体としての回転自在に設けら
れた噛み込みブラシで、この噛み込みブラシ３０の下端
部がウェブ２０を下方に押し下げることにより、ピンテ
ンター１０のピンに差込むようになっている。
【００２３】噛み込みブラシ３０は底面が開口した箱状
のブラシカバー４０の中に収納されており、乾燥風が直
接当らないようになっている。このブラシカバー４０
は、搬送方向略中央の上部に冷却風が導入される冷却風
導入口４１が形成されており、この冷却風導入口４１に
は冷却風導入手段（図示せず）が送風管（図示せず）で
連結されている。そして、これらブラシカバー４０及び
冷却風導入手段が、噛み込みブラシ３０を冷却する冷却
手段となっている。
【００２４】また、ブラシカバー４０の外側の壁には、
搬送方向において排気口４２が２ヶ所形成されており、
この排気口４２の内側には、ウェブ２０上面近傍まで伸
びた案内板４３が形成されている。また、排気口４２の
外側には、吸引手段（図示せず）が送風管（図示せず）
で連結されている。
【００２５】以上のようなテンター乾燥部の構成におい
て、ウェブをピンテンターで搬送するには、流延部から
送られて来たウェブ２０を、回転している噛み込みブラ
シ３０で下方に押し込み、ピンテンター１０のピンに差
込み担持させる。そして、ウェブ２０は、このようにピ
ンテンター１０で担持された状態で搬送されつつ乾燥さ
れる。
【００２６】また、噛み込みブラシ３０においては、冷
却風供給手段から冷却風を冷却風導入口４１を介してブ
ラシカバー４０の内部へ導入する。導入された冷却風
は、上部から下部へ送られ、この過程において噛み込み
ブラシ３０を冷却する。したがって、ウェブ２０は噛み
込みブラシ３０で押し込まれる際接触するが、噛み込み
ブラシ３０により加熱されることがなく、ゲル化温度以
上に上昇することがない。
【００２７】さらに、吸引手段により排気口４２を介し
てウェブ２０上方の空気を吸引しており、この吸引によ
り、ウェブ２０がピンテンター１０のピンに差込まれた
時等に発生したゴミをブラシカバー４０外へ排出してい
る。したがって、ゴミがウェブ２０に付着することがな
いので、ウェブの品質を良好に維持することができる。
【００２８】ブラシカバー４０内は、冷却風が導入され
るとともに、吸引排気されており、噛み込みブラシ３０
でウェブ２０を押し込むところの靜圧が、ブラシカバー
４０外の気圧に対して−１００〜１００Ｐａの範囲にな
るように設定されている。すなわち、冷却風の風量及び
吸引排気の風量を調整することにより、上記範囲におい
て効果的に冷却できるようにする。
【００２９】
【実施例】図１に示すテンタ−乾燥部を有する溶液製膜
装置でセルローストリアセテートフィルムを製造した。
【００３０】使用したドープの処方を以下に示す。 ＴＡＣ ２００質量部 可塑剤 ２４質量部 塩化メチレン ６５０質量部 メタノール １１２質量部 ブタノール １２質量部 紫外線吸収剤 ２質量部
【００３１】なお、可塑剤としては、トリフェニルフォ
スフェート及びビフェニルジフェニルフォスフェートを
用い、紫外線吸収剤としては、２（２'−ヒドロキシ−
３',５'−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−ベン
ゾトリアゾール（１．３質量％）、２（２'−ヒドロキ
シ−３',５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−
クロルベンゾトリアゾール（０．７質量％）を用いた。
【００３２】上述したドープを用い、ウェブ表面温度、
ブラシカバー内静圧を変更して行った。結果を表１に示
す。
【表１】
【００３３】
【発明の効果】本発明は、以上のように構成したので、
ウェブをピンテンターにより高速で搬送したとしても、
ウェブがピンテンターから外れることなく確実に搬送す
ることができる。その結果、フィルムの生産性を向上さ
せることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明による溶液製膜方法の一実施形態を実
施する溶液製膜装置のテンター乾燥部の概略側面図であ
る。
【図２】 本発明による溶液製膜方法の一実施形態を実
施する溶液製膜装置のテンター乾燥部をウェブの搬送方
向から見た概略図である。
【図３】 本発明による溶液製膜方法の一実施形態を実
施する溶液製膜装置のテンター乾燥部の概略平面図であ
る。
【符号の説明】
１０…ピンテンター ２０…ウェブ ３０…噛み込みブラシ ４０…ブラシカバー ４１…冷却風導入口 ４２…排気口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BB33 BC09 4F205 AA01J AC05 AG01 AH73 GA07 GB02 GC06 GF24 GN07 GN18

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 高分子溶液を流延支持体に流延し、該高
    分子溶液を冷却ゲル化して流延支持体から剥ぎ取り、該
    剥ぎ取ったウェブの端部を差込構造体で押し込んでピン
    テンターに差込み、該ピンテンターでウェブの端部を担
    持して搬送させつつ乾燥させる溶液製膜方法において、
    前記差込構造体を冷却することにより、差込構造体がウ
    ェブに接触してから離れる間、該差込構造体と接触して
    いるウェブの表面温度がウェブのゲル化温度を超えない
    ようにすることを特徴とする溶液製膜方法。
  2. 【請求項２】 前記差込構造体をカバーで被い、該カバ
    ーに冷却風を導入することにより差込構造体を冷却する
    請求項１記載の溶液製膜方法。
  3. 【請求項３】 前記カバーに吸引手段を設け、ウェブ近
    傍の異物を吸引除去する請求項２記載の溶液製膜方法。
  4. 【請求項４】 前記差込構造体がウェブを押し込むとこ
    ろの静圧が、カバー外の気圧に対して−１００〜１００
    Ｐａであることを特徴とする請求項２又は３に記載の溶
    液製膜方法。
  5. 【請求項５】 高分子がセルローストリアセテートであ
    ることを特徴とする請求項１、２、３又は４に記載の溶
    液製膜方法。
  6. 【請求項６】 請求項１、２、３、４又は５に記載の方
    法で製膜したことを特徴とする偏光板用保護フィルム。
  7. 【請求項７】 請求項６に記載の偏光板用保護フィルム
    を使用したことを特徴とする偏光板。
  8. 【請求項８】 高分子溶液を流延支持体に流延し、該高
    分子溶液を冷却ゲル化して流延支持体から剥ぎ取り、該
    剥ぎ取ったウェブの端部を差込構造体で押し込んでピン
    テンターに差込み、該ピンテンターでウェブの端部を担
    持して搬送させつつ乾燥させる溶液製膜装置において、
    前記差込構造体を冷却する冷却手段が設けられているこ
    とを特徴とする溶液製膜装置。
  9. 【請求項９】 前記冷却手段が、差込構造体を被うカバ
    ーと、該カバー内に冷却風を導入する冷却風導入手段と
    である請求項８に記載の溶液製膜装置。
  10. 【請求項１０】 前記カバーに、ウェブ近傍の異物を吸
    引除去する吸引除去手段が設けられている請求項９に記
    載の溶液製膜装置。
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