TWI599465B - 迷宮式密封件、清洗單元及方法、溶液製膜方法 - Google Patents

Description

迷宮式密封件、清洗單元及方法、溶液製膜方法

本發明係有關一種迷宮式密封件、清洗單元及方法、溶液製膜方法。

作為清洗表面被污染者之方法有乾冰清洗。乾冰清洗係向附著有污染物之被清洗物的表面噴吹固體乾冰顆粒(乾冰雪)，藉由乾冰顆粒的碰撞及升華來從被清洗物的表面去除污染物者。

乾冰清洗中，從清洗機噴出之乾冰顆粒或碰撞到被清洗物的表面而彈回之乾冰顆粒及氣體二氧化碳、從被清洗物剝離之污染物容易飛散到被清洗物或清洗機周圍。

另一方面，作為薄膜的製造方法有溶液製膜方法。溶液製膜方法如公知，為如下方法：將包含聚合物與溶劑之濃液(dope)流延到移動之流延支撐體的表面來形成流延膜，從流延支撐體剝取該流延膜並進行乾燥，從而製造薄膜。工業方面較多情況下將薄膜製造成長形，因此環狀的流延支撐體上反覆進行流延與剝取。藉由該反覆操作，在流延支撐體上析出濃液中尤其聚合物成份中所含之物質，而污染流延支撐體。流延支撐體大多為金屬製，為了去除污染物，有時在各種清洗方法中乾冰清洗亦較佳。並且，若每次清洗流延支撐體時停止流延支撐體的驅動，則薄膜的生產率下降，因此清洗時不停止流延支撐體的驅動，而進行流延與剝取的同時進行清洗為較佳。

因此，在日本專利公開2009-078444號公報提出有進行流延與剝取的同時進行流延支撐體的乾冰清洗，而抑制上述飛散之清洗方法。日 本專利公開2009-078444號公報所記載之清洗方法中，對從剝離流延膜之剝取位置朝向流延濃液之流延位置之流延支撐體噴吹包含乾冰顆粒之清洗氣體，來清洗流延支撐體的表面。該日本專利公開2009-078444號公報的方法中，噴吹清洗氣體之清洗噴嘴被腔室包圍，在腔室的與流延支撐體對置之對置部設置有迷宮式密封件。日本專利公開2009-078444號公報所記載之方法藉由腔室抑制飛散，且藉由迷宮式密封件的密封效果亦即阻止流體的流動，來進一步抑制上述飛散。

並且，日本專利公開2011-067768號公報的塗佈裝置中，在進行簾式塗佈之塗佈裝置的上游設置迷宮式密封件，在迷宮式密封件的上游設置有吸引氣體之狹縫及吸引機構。將從塗佈對象物到狹縫開口與迷宮式密封件前端的距離設為大致相同。日本專利公開2011-067768號公報的塗佈裝置藉由迷宮式密封件得到密封效果，並且藉由狹縫及吸引機構吸引空氣的流動，從而更有效地防止空氣流對簾式膜的影響。

日本專利公開2009-078444號公報的方法中，對於防止上述飛散有一定的效果。然而，日本專利公開2009-078444號公報的方法中存在如下問題：在繼續進行流延與剝取之過程中，迷宮式密封件上附著並凝固乾冰顆粒或氣體二氧化碳，凝固之乾冰向迷宮式密封件及腔室的外部漏出。有時漏出到外部之固體乾冰附著到流延支撐體等構件或流延膜上。並且，如日本專利公開2011-067768號公報所記載，在迷宮式密封件的上游設置狹縫及吸引機構能夠示出比日本專利公開2009-078444號公報更高的密封效果。但是，吸引力較弱，因此依然產生乾冰顆粒或氣體二氧化碳附著到迷宮式密封件和向外部飛出之問題。

並且，在流延製膜的流延環境中，有時迷宮式密封件在高溫下暴曬等、迷宮式密封件隨著溫度變化而膨脹。有時因該膨脹迷宮式密封件的外部尺寸變大，在繼續進行流延與剝取之過程中迷宮式密封件與流延支撐體接觸。

因此，本發明的目的為提供一種迷宮式密封件，其不會使乾冰顆粒或氣化之二氧化碳附著並固化而維持較高的密封效果，且抑制因基於升溫導致之膨脹而外部尺寸變大。並且，本發明的目的為提供一種具備這 種迷宮式密封件且進行乾冰清洗之清洗單元及使用迷宮式密封件之清洗方法。並且，本發明的目的為提供一種溶液製膜方法，其即使對連續進行流延及剝取之流延支撐體進行乾冰清洗，亦能夠抑制在迷宮式密封件的外部固化之乾冰飛散，且即使升溫迷宮式密封件亦不會與流延支撐體碰撞。

本發明的迷宮式密封件具備複數個密封凸片與孔。複數個密封凸片相互分開而平行設置。孔貫穿形成以使氣體通過。孔的一端向複數個密封凸片之間的槽開口。孔的另一端連接有吸引氣體之吸引部。

孔沿槽的長邊方向形成有複數個為較佳。

本發明的清洗單元具備清洗機、殼體、迷宮式密封件及吸引部。清洗機藉由使乾冰顆粒噴出而與被清洗物的表面接觸來清洗被清洗物的表面。殼體覆蓋乾冰顆粒所接觸之被清洗物的表面。迷宮式密封件設置於殼體的與被清洗物對置之對置部。迷宮式密封件具有孔與複數個密封凸片。複數個密封凸片相互分開而平行設置。孔貫穿迷宮式密封件而形成以使氣體通過。孔的一端向複數個密封凸片之間的槽開口。孔的另一端與殼體的內部連接。吸引部藉由吸引殼體內部的氣體來回收從被清洗物的表面脫離之污染物。吸引部通過孔吸引密封凸片周圍的氣體。

孔的另一端經由設置於殼體之管與殼體的內部連接為較佳。

孔沿槽的長邊方向形成有複數個為較佳。

被清洗物為環狀的流延支撐體，流延支撐體上反覆進行溶液製膜的濃液的流延與藉由流延形成之流延膜的剝取為較佳。清洗單元與從剝離流延膜之剝取位置朝向流延濃液之流延位置之流延支撐體的表面對置而設置，槽的長邊方向與流延支撐體的寬度方向一致為較佳。

迷宮式密封件配設於流延支撐體的表面的移動方向上的清洗機的上游與下游中的至少任一方為較佳。

本發明的清洗方法具備清洗步驟(A步驟)及吸引步驟(B步驟)。A步驟藉由使乾冰顆粒與被清洗物的表面接觸來清洗被清洗物的表面。B步驟藉由在A步驟中吸引殼體內部的氣體來回收從被清洗物的表面脫離之污染物。殼體設置成覆蓋乾冰顆粒所接觸之被清洗物的表面。殼體的與被清洗物對置之對置部設置有迷宮式密封件。迷宮式密封件具有孔與複數個密封凸片。複數個密封凸片相互分開而平行設置。孔貫穿迷宮式密封件 而形成以使氣體通過。孔的一端向複數個密封凸片之間的槽開口。孔的另一端與殼體的內部連接。藉由吸引並通過孔吸引複數個密封凸片周圍的氣體。

本發明的溶液製膜方法具備流延步驟(C步驟)、剝取步驟(D步驟)、乾燥步驟(E步驟)、清洗步驟(F步驟)及吸引步驟(G步驟)。C步驟在沿長邊方向移動之環狀的流延支撐體上流延包含聚合物與溶媒之濃液。D步驟從流延支撐體剝取藉由C步驟形成之流延膜。E步驟對藉由D步驟剝取之流延膜進行乾燥而作成薄膜。F步驟藉由使乾冰顆粒與從剝取位置朝向流延位置之流延支撐體的濃液流延之表面接觸來清洗表面。剝取位置為剝取流延膜之位置。流延位置為流延濃液之位置。G步驟回收在F步驟中藉由吸引殼體內部的氣體而從流延支撐體的表面脫離之污染物。殼體設置成覆蓋乾冰顆粒所接觸之流延支撐體的表面。殼體的與流延支撐體對置之對置部設置有迷宮式密封件。迷宮式密封件具有孔與複數個密封凸片。複數個密封凸片相互分開而平行設置。孔貫穿迷宮式密封件而形成以使氣體通過。孔的一端向複數個密封凸片之間的槽開口。孔的另一端與殼體的內部連接。藉由吸引並通過孔吸引複數個密封凸片周圍的氣體。

依本發明的迷宮式密封件，即使用於乾冰清洗，亦不會使乾冰顆粒或氣化之二氧化碳等附著並固化而維持較高的密封效果，且抑制因基於升溫導致之膨脹而外部尺寸變大。

依本發明的清洗單元，不會使乾冰顆粒或氣化之二氧化碳等附著並固化而維持較高的密封效果，並且迷宮式密封件抑制因基於升溫導致之膨脹而外部尺寸變大。

依本發明的清洗方法，乾冰清洗中固化之二氧化碳不會附著到迷宮式密封件而維持較高的密封效果，並且即使迷宮式密封件在高溫下暴曬亦防止外部尺寸變大。

依本發明的溶液製膜方法，即使對連續進行流延及剝取之流延支撐體進行乾冰清洗，亦可抑制在迷宮式密封件的外部固化之乾冰飛散，即使升溫迷宮式密封件亦不會與流延支撐體碰撞。

10‧‧‧溶液製膜設備

11‧‧‧流延裝置

12‧‧‧拉幅機

16‧‧‧狹縫裝置

17‧‧‧乾燥裝置

18‧‧‧捲取裝置

21‧‧‧滾筒

21a‧‧‧周面

22‧‧‧流延模

23‧‧‧減壓腔室

26‧‧‧剝取輥

27、28‧‧‧溫度控制器

31‧‧‧清洗單元

32‧‧‧流延腔室

33‧‧‧濃液

36‧‧‧流延膜

37‧‧‧

41‧‧‧薄膜

38、42‧‧‧輥

51‧‧‧清洗機

52‧‧‧殼體

53‧‧‧乾冰生成部

54‧‧‧氣體供給部

55‧‧‧噴嘴

55a‧‧‧第1供給口

55b‧‧‧第2供給口

55c‧‧‧噴出口

58、59、78、82‧‧‧管

62‧‧‧乾冰顆粒

63‧‧‧氣體

64‧‧‧殼體主體

64a‧‧‧包圍開放口

64b‧‧‧第1排氣口

64c‧‧‧第2排氣口

64d‧‧‧殼體主體的對置面

67‧‧‧清洗氣體

71‧‧‧排氣部

73、128‧‧‧控制器

76、77、120‧‧‧迷宮式密封件

77a‧‧‧壁面

85~88、131~135‧‧‧凸片

85a~88a、131a~135a‧‧‧垂直面

85b~88b‧‧‧斜面

91~93‧‧‧槽

101~104、140‧‧‧孔

106a~106d、107a~107d、108a~108d‧‧‧第2通過路

109a~109d‧‧‧第1通過路

111‧‧‧集合管

121~125‧‧‧密封凸片構件

127‧‧‧位移機構

131c~135c‧‧‧前端

D1、D2‧‧‧直徑

D3‧‧‧內徑

L1‧‧‧間距

L2‧‧‧長度

L3‧‧‧距離

PC‧‧‧流延位置

PP‧‧‧剝取位置

X‧‧‧箭頭

Y‧‧‧寬度方向

圖1係表示溶液製膜設備之概略圖。

圖2係表示清洗單元的概略之局部截面側視圖。

圖3係表示迷宮式密封件的概略之截面圖。

圖4係沿圖3的IV-IV線之截面圖。

圖5係表示迷宮式密封件的概略之截面圖。

參閱圖1對藉由溶液製膜方法製造薄膜之溶液製膜設備的一例進行說明。圖1所示之溶液製膜設備10從上游側依次具備流延裝置11、拉幅機12、狹縫裝置16、乾燥裝置17及捲取裝置18。

流延裝置11具備滾筒21、流延模22、減壓腔室23、剝取輥26、溫度控制器27、溫度控制器28、清洗單元31、流延腔室32。流延腔室32容納滾筒21、流延模22、減壓腔室23、剝取輥26及清洗單元31。

滾筒21為金屬製流延支撐體。滾筒21具有驅動裝置(未圖示)，其藉由該驅動裝置向恆定方向旋轉。圖1中對表示滾筒21的旋轉方向之箭頭附加符號X。若供給聚合物溶解於溶媒之濃液33，則流延模22流出該濃液33。流延模22配設成濃液33的流出口亦即狹縫(未圖示)與滾筒21對置。藉由從流延模22朝向旋轉中的滾筒21的周面21a流出濃液33，周面21a上形成由濃液33構成之流延膜36。以下，將周面21a中流延濃液33之位置(開始形成流延膜36之位置)稱為流延位置PC。

減壓腔室23配設於滾筒21的旋轉方向X上的流延模22的上游。減壓腔室23將待減壓之空間與外部空間隔開。減壓腔室23的與流延模22及滾筒21對置之對置部被開放。若減壓腔室23藉由吸引機(未圖示)吸引其內部的氣體，則內部成為減壓狀態。藉此，滾筒21的旋轉方向X上的上游側區被減壓從流延模22流出之濃液33穩定且連續地流延到周面21a。

溫度控制器27調整流延腔室32內部的溫度，且溫度控制器28調整滾筒21的周面21a的溫度。藉由這些溫度調整，朝向剝取輥26之流延膜36凝固成可進行剝取與傳送之程度。例如，藉由將滾筒21的周面21a冷卻為10℃以下，流延膜36被冷卻而凝膠化。並且，藉由將滾筒21的周面21a與流延腔室32的溫度加熱成高於室溫的溫度，濃液33的溶劑成份從流延膜36蒸發而使流延膜36乾燥而凝膠化。

剝取輥26配設於滾筒21的附近，由周面支撐從滾筒21剝離之流延膜36亦即濕潤薄膜37。藉此剝取輥26恆定保持流從滾筒21剝離延膜36之剝取位置PP。

滾筒21的周面21a以從流延位置PC通過剝取位置PP而返回到流延位置PC之方式循環，因此為沿長邊方向移動之環狀的流延面。清洗單元31為用於清洗滾筒21的周面21a者，與從剝取位置PP朝向流延位置PC之周面21a對置配設。關於清洗單元31的詳細內容利用另一附圖進行後述。

藉由剝取形成之濕潤薄膜37由輥38傳送而引導至拉幅機12。拉幅機12中，用作為保持手段的例如針(未圖示)等保持濕潤薄膜37的側端部，由該保持手段傳送的同時對濕潤薄膜37進行乾燥。作為保持手段使用針時，藉由使針貫穿濕潤薄膜37的側端部，來保持濕潤薄膜37。各側端部的保持手段對濕潤薄膜37的寬度方向施加適當張力的同時沿傳送方向移動。張力依據應製造之薄膜41的光學性能(例如相位差)等設定。例如，為了在薄膜41中發現目標光學性能，而以預定的加寬率擴大濕潤薄膜37的寬度時，以成為預定加寬率之方式對濕潤薄膜37賦予寬度方向的張力。

拉幅機12具有包圍傳送路之腔室(未圖示)，拉幅機12的腔室的內部具備導管(未圖示)。導管(未圖示)上與濕潤薄膜37的傳送路對置分別形成有複數個進氣噴嘴(未圖示)與吸引噴嘴(未圖示)。藉由進氣噴嘴送出乾燥氣體和吸引噴嘴吸引氣體，拉幅機12的腔室內部保持恆定的濕度及溶劑氣體濃度。藉由通過使濕潤薄膜37拉幅機12的腔室內部來對其進行乾燥。

依據製造之薄膜41的光學性能，可串聯配設複數個拉幅機12，藉此可進行在寬度方向的張力賦予或加熱或乾燥等。當串聯配設複數個拉幅機12時，有如下態樣，亦即將最上游的拉幅機12的保持手段作為針，將其他拉幅機的保持手段設為夾子。

在狹縫裝置16中，經過拉幅機12之濕潤薄膜37由切斷刀具連續切斷並去除留有基於保持手段之保持痕跡之各側端部。一方的側端部與另一方的側端部之間的中央部送到乾燥裝置17。

若濕潤薄膜37送至乾燥裝置17，則由沿傳送方向並列配設之複 數個輥42的周面支撐。這些輥42中有沿周向旋轉之驅動輥，濕潤薄膜37藉由該驅動輥的旋轉傳送。

乾燥裝置17具備流出已乾燥之氣體的導管(未圖示)，且具有與外部隔開送入乾燥氣體之空間之腔室(未圖示)。複數個輥42容納於該腔室內。乾燥裝置17的腔室內形成有排氣口(未圖示)，藉由從導管送出乾燥氣體和從排出口排氣，乾燥裝置17的腔室內部保持恆定的濕度及溶劑氣體濃度。通過該乾燥裝置17的腔室內部，藉此濕潤薄膜37進行乾燥而成為薄膜41。

在乾燥裝置17中乾燥之薄膜41送至捲取裝置18而捲取成輥狀。另外，可在乾燥裝置17與捲取裝置18之間設置狹縫裝置(未圖示)，藉由該狹縫裝置切斷去除各側端部。並且，亦可在乾燥裝置17與捲取裝置18之間設置滾花裝置(圖示)，藉由該滾花裝置進行對薄膜41的各側端部賦予微細的凹凸之滾花處理。

圖1中示出作為流延支撐體使用滾筒21之情況。但是，流延支撐體亦可為捲繞於複數個輥(未圖示)的周面之環狀傳送帶(未圖示)。將傳送帶設為流延支撐體時，將捲繞有傳送帶之複數個輥中的至少1個輥設為沿周向旋轉之驅動輥。藉由該驅動輥的旋轉，傳動帶沿長邊方向傳送，連續反覆進行環繞。

將傳送帶設為流延支撐體時，可將捲繞有傳送帶的輥設為能夠調整周面溫度者，藉由該輥控制傳動帶的溫度即可。如此，本發明不將流延支撐體限定為滾筒21。

如圖2所示，清洗單元31與滾筒21對置配設。清洗單元31與在滾筒21的旋轉方向X上的剝取輥26的下游、減壓腔室23的上游亦即從剝取位置PP朝向流延位置PC之周面21a對置配設。藉由該清洗單元31去除附著於滾筒21的周面21a的污染物，來清洗滾筒21。當濃液33的聚合物成份為纖維素醯化物時，該污染物中主要含有從滾筒上的流延膜36析出的脂肪酸酯、脂肪酸、脂肪酸金屬鹽等。

清洗單元31具備清洗機51和殼體52。清洗機51具有乾冰生成部53、氣體供給部54及噴嘴55。噴嘴55上形成有第1供給口55a、第2供給口55b及噴出口55c乾冰生成部53藉由管58與第1供給口55a連接。 氣體供給部54通過管59與第2供給口55b連接。

乾冰生成部53生成具有預定範圍的粒徑之升華固體乾冰顆粒62。生成之乾冰顆粒62經由管58供給到噴嘴55的第1供給口55a。

氣體供給部54中填充有壓縮成預定壓力之氣體63。作為氣體供給部54例如有氣體罐。作為氣體63例如有氮等惰性氣體。氣體供給部54經由管59將氣體63供給到噴嘴55的第2供給口55b。氣體供給部54具有控制器(未圖示)，藉由該控制器控制供給之氣體63的量或供給時的氣體63的流量。另外，氣體63不限於惰性氣體，亦可為例如空氣(Air)等。

噴嘴55以相對周面21a站立之姿勢配設，以使噴出口55c朝向滾筒21的周面21a。另外，本實施形態中，如圖2所示，從側面觀察滾筒21時，噴嘴55以相對周面21a沿垂直的方向站立之姿勢配設。

噴嘴55的噴出口55c為細長的矩形狹縫，但可以不是嚴格的矩形。噴嘴55配設成噴出口55c的長邊方向與周面21a的寬度方向(圖2的紙面的縱深方向)Y(參閱圖4)一致。一致可以不是嚴格的一致，亦可大致一致。噴出口55c在周面21a的寬度方向Y的長度與周面21a的寬度相等以便可清洗周面21a的全寬區域，但亦可以比周面21a的寬度短。相等可以不是嚴格的相等，亦可為大致相等。當比周面21a的寬度短時，噴嘴55上設置位移機構(未圖示)，藉由沿寬度方向Y移動自如，來清洗周面21a的全寬區域。噴嘴口55c的形狀代替沿寬度方向Y延伸之狹縫可為圓形、大致圓形或多邊形、大致多邊形，此時亦在噴嘴55設置位移機構(未圖示)而沿寬度方向Y移動自如。另外，本實施形態中，噴嘴55插通於構成殼體52之殼體主體64在滾筒21的旋轉方向X上的大致中央而被固定。噴嘴55的噴出口55c為比周面21a的寬度短的狹縫或者圓形、大致圓形、多邊形、大致多邊形時，殼體主體64上亦設置位移機構(圖示)，使其與固定於殼體主體64之噴嘴55同步移動即可。

噴嘴55上形成有連通第2供給口55b與噴出口55c之間之第1流路(未圖示)。並且，噴嘴55上形成有連通第1供給口55a與第1流路之第2流路(未圖示)。藉此，引導至第1流路之氣體63在第1流路與來自第2流路的乾冰顆粒62混合。在以下的說明中，將藉由混合乾冰顆粒62與氣體63生成之氣體稱為清洗氣體67。清洗氣體67從噴出口55c噴出而 與滾筒21的周面21a接觸。以下，將被噴吹該清洗氣體67之周面21a的區稱為清洗區。

本實施形態中，由乾冰生成部53預先生成乾冰顆粒62，將該乾冰顆粒62送入噴嘴55，但不限於此。例如，可將液態二氧化碳送入噴嘴(未圖示)，在該噴嘴內生成固體乾冰顆粒62。如此，可使用周知的乾冰清洗手段來代替清洗機51。

若清洗氣體67噴吹到滾筒的周面21a，則該清洗氣體67中所含之乾冰顆粒62與附著於滾筒周面21a之污染物碰撞。藉由該碰撞，污染物被粉碎並從周面21a去除。藉此，不會殘留清洗痕跡，去除滾筒21的周面21a上的污染物。被去除之污染物與清洗氣體67一同向滾筒21的旋轉方向X或與旋轉方向X相反的方向等流動。

殼體52具有殼體主體64、排氣部71、控制器73、迷宮式密封件76、77。

殼體主體64為與周面21a對置開放之箱型形狀，將寬度方向Y的長度設為比滾筒21的周面21a的寬度稍微長。藉此，殼體主體64覆蓋清洗區，將清洗區的周圍空間與外部空間隔開。藉此，限制來自噴出口55c的清洗氣體67、與周面21a接觸而飄起之清洗氣體67及從周面21a脫離之污染物的飛散範圍。殼體主體64在寬度方向Y的長度可依據噴出口55c在寬度方向Y的長度設定，例如，噴出口55c在寬度方向Y的長度較短時，亦可與其對應地縮短。

與周面21a對置之殼體主體64的開放口64a向滾筒21的周面21a的寬度方向延伸而形成，以便包圍形成有噴出口55c之噴嘴55的前端。開放口64a以不妨礙從噴嘴55噴吹清洗氣體67之方式形成，並且成為從周面21a脫離之污染物引導至殼體主體64的內部的引導路。

殼體主體64的上部形成有第1排氣口64b，側部形成有第2排氣口64c。但是第1排氣口64b、第2排氣口64c的位置沒有特別限定。第1排氣口64b藉由管78與排氣部71連接。排氣部71吸引殼體主體64內部的氣體，將殼體主體64的內部設為壓力低於外部的減壓狀態，並吸引清洗區附近的氣體。藉此，從周面21a脫離之污染物與清洗氣體67一同被吸引。藉此，殼體主體64將待減壓之空間與外部空間隔開。

排氣部71淨化吸引之氣體並排出並且回收藉由淨化而從氣體分離之固體。藉此，包含清洗氣體67之氣體向外部排出，清洗氣體67中所含之固體亦即污染物被回收。

藉由排氣部71吸引之氣體流量可依據滾筒21的轉速或來自噴嘴55的清洗氣體67的噴出流量變化。並且來自噴嘴55的清洗氣體67的噴出流量可依據周面21a的污染程度等變化。

迷宮式密封件76、77安裝於與周面21a對置之殼體主體64的對置面64d，密封殼體主體64與周面21a之間。藉此，抑制清洗氣體67與從周面脫離之污染物向殼體主體64的外部流出。

如上，藉由與清洗氣體67一同吸引從周面21a剝離之污染物，抑制污染物向殼體主體64的外部飛散。並且，假設污染物不與清洗氣體67一同被吸引，亦可藉由迷宮式密封件76、77抑制包含污染物之清洗氣體67向殼體主體64的外部流出。因此，即使濃液33的流延期間，亦不會影響流延膜36或從流延模22流出之濃液(流延液珠)33，而滾筒21的清洗順利地進行。

迷宮式密封件76、77可遍及殼體主體64的對置面64d的整體，亦即從圖2的下方觀察殼體主體64之包圍開放口64a之整周來進行設置。但是清洗移動之滾筒21的周面21a時，只要在對置面64d中的旋轉方向X上的清洗機51的上游與下游中的至少任意一方設置即可。較佳態樣為，如圖2所示在清洗機51的上游與下游的兩個對置面64d設置迷宮式密封件76、77的態樣。對設置於旋轉方向X上的清洗機51的上游的對置面64d之迷宮式密封件添加元件符號76，對設置於清洗機51的下游的對置面64d之迷宮式密封件添加元件符號77。

如圖2所示，迷宮式密封件76、77設置成向殼體主體64的內部側突出。並且，迷宮式密封件76的上游側側面設為與殼體主體64的上游側側面呈同一水平面，迷宮式密封件77的下游側側面設為與殼體主體64的下游側側面呈同一水平面，並且，迷宮式密封件76、77上貫穿形成有如後述氣體通過之孔101~104(參閱圖3、圖4)，殼體52上設置有與該孔101~104連接之管82。管82的一端連接於第2排氣口64c，另一端連接於迷宮式密封件76、 77。管82配設於殼體主體64及迷宮式密封件76、77的外部空間側。藉此，迷宮式密封件76、77經由殼體主體64的內部與排氣部71連接。如上述排氣部71將殼體主體64的內部設為減壓狀態，藉此，從迷宮式密封件76、77的複數個密封凸片(以下僅稱為凸片)85~88(參閱圖3)之間吸引其周圍的氣體。

控制器73控制基於排氣部71之氣體的吸引力。

迷宮式密封件76與迷宮式密封件77具有相同結構及功能，因此以下對迷宮式密封件77進行說明，而對迷宮式密封件76省略說明。如圖3所示，迷宮式密封件77具有複數個凸片85~88。在圖3中，對於凸片從靠近噴嘴55之側依次添加元件符號85、86、87、88。各凸片85~88向與周面21a的寬度方向Y大致一致之方向延伸，複數個凸片85~88在滾筒21的旋轉方向X上相互分開。藉此在各凸片85~88之間向與周面21a的寬度方向Y大致一致的方向延伸形成槽91~93。與周面21a的寬度方向Y一致的方向可以不是嚴格一致的方向，亦可大致一致。具體而言，是指與周面21a的寬度方向Y所成之角度大概在3°以內。另外，圖3中對於槽從靠近噴嘴55之側依次添加元件符號91、92、93。

凸片85為朝向周面21a尖端變細地形成之截面大致V字形，具有相對周面21a大致垂直的垂直面85a與如圖3從側方觀察時傾斜之斜面85b。凸片85配設成垂直面85a朝向噴嘴55。凸片86~88亦與凸片85相同地具有大致V字形的截面，且具有垂直面86a~88a與斜面86b~88b。並且，凸片86~88的垂直面86a~88a朝向與凸片85的垂直面85a相同的方向，垂直面85a~88a相互大致平行，斜面85b~88b相互大致平行。從圖3的下方觀察凸片85~88時，凸片85~88的直線狀的前端亦相互大致平行。如上，凸片85~88在厚度方向平行形成。平行不限於嚴格的平行，亦可大致平行。具體而言，所成的角在大致0°以上3°以下的範圍內。凸片的形狀或方向不限於上述態樣，但藉由如上述的凸片的形狀及方向密封效果更可靠，且更有效地抑制來自噴出口55c的清洗氣體67、碰撞到周面21a而向周面21a飄起之清洗氣體67及從周面21a脫離之污染物向外部流出。

凸片85~88具有相互相同的高度，如圖3從側方觀察時凸片85~88的前端在直線上排列。如圖3從側方觀察時周面21a呈圓弧，因此 從凸片85~88各自的前端到周面21a的距離互不相同。在凸片85~88中距周面21a的距離最短之凸片的周面21a到前端的距離大概設為1mm以上5mm以下為較佳。

如圖3及圖4所示，迷宮式密封件77形成有截面為大致圓形的複數個孔101~104。孔101貫穿形成以使氣體通過迷宮式密封77的內部。孔101由第1通過路109a、從該第1通過路109a分叉之3個第2通過路106a、107a、108a構成。第2通過路106a的端部向槽91開口，第2通過路107a的端部向槽92開口，第2通過路108a的端部向槽93開口。第1通過路109a的端部向迷宮式密封件77的與噴嘴55側相反的壁面77a開口。本實施形態中，3個槽91~93上均設置有孔101的開口，因此孔101的第2通過路的數量為3個，但是第2通過路的數量不限於3個。例如，僅在這些槽91~93的一部份設置第2通過路時、或將凸片的數量設為少於例如本實施形態時，如第2通過路的數量為1個或2個，少於本實施形態所示之情況。並且，將凸片的數量設為多於本實施形態時，第2通過路的數量亦可為4以上。最為佳之形態為孔101的第2通過路以向所形成之所有槽91~93開口之方式設置。

如圖3從側方觀察時第2通過路106a~108a在槽91~93中的開口形成為成為槽91~93的各中央為較佳。但是，不限於該態樣，例如亦可將第2通過路106a~108a各自的開口分別靠近凸片85側、凸片86側、凸片87側形成，或者亦可靠近凸片86側、凸片87側、凸片88側形成。

孔102~孔104亦具有與孔101相同的結構。亦即，孔102具有第1通過路109b與3個第2通過路106b~108b，孔103具有第1通過路109c與3個第2通過路106c~108c，孔104具有第1通過路109d與3個第2通過路106d~108d。如上，4個第2通過路106a~106d向槽91開口，4個第2通過路107a~107d向槽92開口，4個第2通過路108a~108d向槽93開口。本實施形態中示出迷宮式密封件77具有4個孔101~104之情況，但是孔的數量不限於4個，亦可為1以上3以下，或5以上。因此，向各槽91~93開口的第2通過路的數量亦可為1以上3以下，或5以上。

迷宮式密封件77在朝向與噴嘴55相反側之壁面77a具有集合管111。集合管111與形成於壁面77a之第1通過路109a~109d各自的開 口連接，集合口111的內部與第1通過路109a~109d連通。集合口111與管82連接。藉此，各孔101~104經由集合管111及管82與排氣部71(參閱圖2)連接。

藉由以上的結構，迷宮式密封件77具有以下的作用。若排氣部71吸引氣體，則殼體主體64的內部被減壓，藉此，集合管111的內部、孔101~104的第1通過路109a~109d、第2通過路106a~108a、106b~108b、106c~108c、106d~108d被減壓。藉由該減壓，包含槽91~93中的氣體在內，凸片85~88周圍的氣體通過孔101~104引導至殼體主體64，被吸引到排氣部71。

另一方面，若清洗氣體67從噴嘴55的噴出口55c噴出，則清洗氣體67與周面21a接觸，向清洗區飄起。有時清洗氣體67的一部份不會與周面21a接觸而在周面21a上浮游。如此，在清洗區上之清洗氣體67的大部份通過殼體主體64的內部由排氣部71吸引，但微量的清洗氣體67沒有引導至殼體主體64且因迷宮式密封件77的密封效果移動速度減弱，在凸片85~88的周圍，尤其在槽91~93滯留。滯留之清洗氣體67含於凸片85~88周圍的氣體中，並且依次通過管82、殼體主體64的內部，由排氣部71吸引。

如此，沒有引導至殼體主體64的內部而滯留在凸片85~88周圍之微量的清洗氣體67依次引導至一端向槽91~93開口的孔101~104、管82、殼體主體64的內部而被吸引到排氣部71。藉此，清洗氣體67中所含之固體乾冰顆粒或該乾冰顆粒氣化之二氧化碳不會附著凝固到迷宮式密封件77上，且不會向殼體主體64的外部飛散。因此，不會因凝固之乾冰或該乾冰中包含之污染物而污染薄膜41或包括滾筒21在內之流延裝置11。

並且，排氣部71藉由控制器73控制氣體的吸引力。因此，殼體主體64中有效地吸入較多清洗氣體67及污染物，並且依據向殼體主體64的吸引力而孔101~104的吸引力亦被控制。並且，可依據周面21a的移動速度設定排氣部71的吸引力。

並且，即使迷宮式密封件77藉由基於溫度控制器27、28之流延裝置11的內部或滾筒21的加熱以及流延模22的加熱等而成為高溫，由於迷宮式密封件77形成有孔101~104，因此抑制迷宮式密封件77的外部 尺寸的變化。藉此，即使迷宮式密封件77成為高溫，凸片85~88亦不會與周面21a接觸。

另外，本實施形態的迷宮式密封件77形成有截面為圓形(包括大致圓形)的孔101~104，但孔的態樣不限於此。例如可設為截面為矩形的孔來代替孔101~104。

第2通過路106a~108a、106b~108b、106c~108c、106d~108d的各直徑D1大概為3mm以上10mm以下的範圍為較佳，大概為5mm以上7mm以下的範圍更為佳。

第1通過路109a~109d的各直徑D1大概為5mm以上15mm以下的範圍內為較佳，大概為8mm以上12mm以下的範圍更為佳。

第1通過路109a的直徑D1大於第2通過路106a~108a的直徑D2為較佳。藉此第2通過路106a~108a更可靠地被減壓，使清洗氣體67更可靠地吸引到第2通過路106a~108a。關於第1通過路109b、109c、109d也相同，分別使內徑大於第2通過路106b~108b、106c~108c、106d~108d為較佳。設為截面不是圓形(包括大致圓形)形狀的孔，例如設為矩形孔來代替孔101~104時，第1通過路的截面面積大於第2通過路的截面面積為較佳。

將集合管111的內徑D3設為大於第1通過路109a~109d的直徑D1為較佳。藉此，第1通過路109a~109d更可靠地被減壓，清洗氣體67更可靠地被吸引到排氣部71。

槽93的第2通過路108a~108d的間距L1大概為10mm以上50mm以下的範圍內為較佳，大概為20mm以上40mm以下的範圍內更為佳。槽91的第2通過路106a~106d的間距、槽92的第2通過路107a~107d的間距亦相同。

圖3、圖4示出集合管111上連接有2根管82之情況，但管82的數量沒有特別限定。管82的數量、或設置複數個管82時的管82的間距依據周面21a的寬度方向Y上的凸片85~88的長度L2、或集合管111的長度、管82的內徑等設定即可。例如，周面21a的寬度方向Y上的凸片85~88的長度L2及集合管111的長度大概為300mm時，沿周面21a的寬度方向Y並列配設2個內徑大概為20mm的管82，且將管82的間距大概 設在150mm的範圍內即可。另外，管82的間距是指在周面21a的寬度方向Y上並列配設的管82與管82之間的距離。

並且，亦可代替第2通過路106a~106d，或者在其基礎上，設為如槽91具有向槽91的長邊方向延伸之狹縫狀開口的截面呈狹縫形狀的第2通過路(未圖示)。關於第2通過路107a~107d、108a~108d亦相同。

亦可將迷宮式密封件77代替成圖5所示之迷宮式密封件120。迷宮式密封件120具備密封凸片構件(以下稱為凸片構件)121~125、位移機構127、控制器128。凸片構件121~125具有凸片131~135，前述凸片131~135具有與凸片85~88相同的截面大致V字形。以這些凸片131~135的垂直面131a~135a朝向相同方向之方式組合凸片131~135，從而迷宮式密封件120中在各凸片131~135之間形成槽。

凸片構件121~125相互滑動接觸並沿著垂直面131a~135a的方向變位自如。位移機構127使凸片構件121~125各自獨立變位。控制器128為了調整凸片構件121~125的各變位量而控制位移機構127。

各凸片構件121~125調整配設為從周面21a到前端131c~135c的距離L3相互相等。藉此，從前端131c~135c到周面21a的距離L3相互相等，更有效地提高基於迷宮式密封件120的密封效果，因此使沒有吸引到殼體主體64內部的微量的清洗氣體67更可靠地滯留在各凸片131~135之間。滯留之清洗氣體67由排氣部71通過孔140而引導至集合管111，並依次通過管82、殼體主體64的內部而被吸引、回收。

與迷宮式密封件77相同，迷宮式密封件120形成有貫穿內部之孔140，因此即使成為高溫，外部尺寸的變化亦得到抑制。藉此，即使迷宮式密封件120成為高溫，凸片131~135不會與後面21a接觸。另外，亦可使用與迷宮式密封件120相同的迷宮式密封件(未圖示)來代替迷宮式密封件76。

迷宮式密封件77、120從各凸片85~88之間、各凸片131~135之間吸引氣體，因此比由周面21a的距離與凸片的前端相同的狹縫等被吸引時顯示非常強的吸引力。因此，能夠代替現存之迷宮式密封件來設置，並且更可靠地防止固化之乾冰附著。假設即使迷宮式密封件77、120上附著固化之乾冰亦藉由排氣部71可靠地被吸引、回收。

周面21a的移動速度越快越增加清洗氣體67的噴出量或加速吹出速度為較佳。但是，伴隨此，在習知之迷宮式密封件上乾冰附著量增多。因此，迷宮式密封件77、120及具備這些之清洗單元31、使用迷宮式密封件77、120之清洗方法，當周面21a的移動速度越快則以上的效果越顯著。

迷宮式密封件77、120一同使用藉由乾冰清洗被清洗物之清洗機51，但是亦可與其他清洗機一同使用。例如，與將液體噴出並噴吹到被清洗物來去除污染物之清洗機一同使用時，污染物與液體的吸引更可靠，因此更可靠地抑制液體及污染物向殼體主體64的外部飛散。並且，即使不與清洗機一同使用，在溫度變化劇烈的環境下要求密封效果時，迷宮式密封件77、120伴隨升溫之外部尺寸的變化被抑制，因此不會與對置物碰撞而維持密封效果。

並且，清洗單元31能夠廣泛用於藉由乾冰顆粒的噴吹進行的清洗，亦可用於清洗與溶液製膜的流延支撐體不同者。

以下，本發明中，作為濃液33的原料之聚合物及溶媒為藉由溶液製膜製造薄膜41的周知者即可。作為基於清洗氣體67之清洗尤為佳之聚合物的例子可舉出纖維素醯化物。

以下，示出實施例，對本發明進行具體說明。但是，本發明不限於這些實施例。

[實施例1]

藉由溶液製膜設備10製造薄膜41。迷宮式密封件77的第2通過路106a~106d、107a~107d、108a~108d的各直徑D2相互相等，示於表1的“D2”欄(單位：mm)。並且，槽93的第2通過路108a~108d的間距L1、槽92的第2通過路107a~107d的間距L1及槽91的第2通過路106a~106d的間距L1相互相等，示於表1的“L1”欄(單位：mm)。另外，表1中“第2通過路的數量”欄中記載從1個第1通過路分叉形成之第2通過路的數量。例如，從第1通過路109a分叉形成3個第2通過路106a、107a、108a，因此為“3”。第1通過路109a、第1通過路109b、第1通過路109c及第1通過路109d為相同結構，因此成為“3”。表1中“管82的數量”欄中記載連接於1個集合管111之管82的數量。設置於迷宮式密封件76之集合管上亦連接有與迷宮式密封件77相同數量的管82。

目視評價污染物或固化之乾冰等是否從迷宮式密封件76、77與周面21a之間向外部漏出。確認到漏出時設為不合格，未確認到漏出時設為合格。該評價結果記載於表1的“結果”欄。

[實施例2]

使用將第2通過路108a~108d的間距L1、第2通過路107a~107d的間距L1及第2通過路106a~106d的間距L1設為表1的“L1”欄所示者之迷宮式密封件76、77。並且將連接於各集合管111之管82設為1個。除了這些以外的條件與實施例1相同。

以與實施例1相同的方法，評價污染物或固化之乾冰等是否從迷宮式密封件76、77與周面21a之間向外部漏出。評價結果示於表1。

[實施例3]

使用將第2通過路108a~108d的間距L1、第2通過路107a~107d的間距L1及第2通過路106a~106d的間距L1設為表1的“L1”欄所示者之迷宮式密封件76、77。並且將連接於各集合管111的管82設為1個。除了這些以外的條件與實施例1相同。

以與實施例1相同的方法，評價污染物或固化之乾冰等是否從迷宮式密封件76、77與周面21a之間向外部漏出。評價結果示於表1。

[比較例1]

使用日本專利公開2009-078444號公報中所記載之清洗單元清洗周面21a。亦即，使用沒有形成孔101~104之迷宮式密封件來代替迷宮式密封件76、77。迷宮式密封件中未設置集合管111、管82。僅從與殼體主體的周面21a對置而設置的開放口進行吸引。因此，表1的D2、L1、第2通過路的數量、管82的數量各欄中記載為“-”。

以與實施例1相同的方法，評價污染物或固化之乾冰等是否從迷宮式密封件與周面21a之間向外部漏出。評價結果示於表1。

[比較例2]

使用日本專利公開2011-067768號公報的圖4中所記載之空氣流去除部來代替迷宮式密封件76、77，將該空氣流去除部配設於在滾筒21的旋轉方向上的噴嘴55的上游側。空氣流去除部的迷宮式密封件結構的槽的數量為3個，關於迷宮式密封件結構，在噴嘴55的相反側實施吸引。在位於滾筒21的旋轉方向上的迷宮式密封件結構的上游側的3個狹縫上分別設置吸引機構。進行吸引之狹縫的開口為向滾筒21的周面21a的寬度方向Y延伸之細長的矩形狹縫。

以與實施例1相同的方法，評價污染物或固化之乾冰等是否從迷宮式密封件與周面21a之間向外部漏出。評價結果示於表1。

21‧‧‧滾筒

21a‧‧‧周面

64‧‧‧殼體主體

64d‧‧‧殼體主體的對置面

67‧‧‧清洗氣體

77‧‧‧迷宮式密封件

77a‧‧‧壁面

82‧‧‧管

85~88‧‧‧凸片

85a~88a‧‧‧垂直面

85b~88b‧‧‧斜面

91~93‧‧‧槽

101‧‧‧孔

106a~108a‧‧‧第2通過路

109a‧‧‧第1通過路

111‧‧‧集合管

D2‧‧‧直徑

X‧‧‧箭頭

Claims (11)

1. 一種迷宮式密封件，其特徵為具備以下：複數個密封凸片構件，每一前述密封凸片構件均具有凸片，前述密封凸片構件相互滑動接觸並沿著前述凸片的垂直面的方向變位自如；位移機構，使前述密封凸片構件各自獨立變位；控制器，為了調整所述密封凸片構件的各變位量而控制所述位移機構；及孔，貫穿形成以使氣體通過，前述孔的一端向前述複數個凸片之間的槽開口，前述孔的另一端連接有吸引氣體之吸引部。
2. 如申請專利範圍第1項所述之迷宮式密封件，其中，前述孔沿前述槽的長邊方向形成有複數個。
3. 一種清洗單元，其特徵為具備以下：清洗機，藉由使乾冰顆粒噴出而與被清洗物的表面接觸，來清洗前述被清洗物的表面；殼體，覆蓋前述乾冰顆粒所接觸之前述被清洗物的表面；迷宮式密封件，設置於前述殼體的與前述被清洗物對置之對置部，前述迷宮式密封件具有孔與複數個密封凸片，前述複數個密封凸片相互分開而平行設置，前述孔貫穿前述迷宮式密封件而形成以使空氣通過，前述孔的一端向前述複數個密封凸片之間的槽開口，前述孔的另一端與前述殼體的內部連接；及吸引部，藉由吸引前述殼體內部的氣體來回收從前述被清洗物的表面脫離之污染物，前述吸引部通過前述孔吸引前述密封凸片周圍的氣體。
4. 如申請專利範圍第3項所述之清洗單元，其中，前述孔的另一端經由設置於前述殼體之管與前述殼體內部連接。
5. 如申請專利範圍第3項或第4項所述之清洗單元，其中，前述孔沿前述槽的長邊方向形成有複數個。
6. 如申請專利範圍第3項或第4項所述之清洗單元，其中，前述被清洗物為環狀的流延支撐體，在前述流延支撐體上反覆進行溶液製膜的濃液的流延與藉由流延形成之流延膜的剝取，前述清洗單元與從 剝離前述流延膜之剝取位置朝向流延前述濃液之流延位置之前述流延支撐體的表面對置而設置，前述槽的長邊方向與前述流延支撐體的寬度方向一致。
7. 如申請專利範圍第6項所述之清洗單元，其中，前述迷宮式密封件配設於前述流延支撐體的表面的移動方向上的前述清洗機的上游與下游中的至少任一方。
8. 如申請專利範圍第5項所述之清洗單元，其中，前述被清洗物為環狀的流延支撐體，在前述流延支撐體上反覆進行溶液製膜的濃液的流延與藉由流延形成之流延膜的剝取，前述清洗單元與從剝離前述流延膜之剝取位置朝向流延前述濃液之流延位置之前述流延支撐體的表面對置而設置，前述槽的長邊方向與前述流延支撐體的寬度方向一致。
9. 如申請專利範圍第8項所述之清洗單元，其中，前述迷宮式密封件配設於前述流延支撐體的表面的移動方向上的前述清洗機的上游與下游中的至少任一方。
10. 一種清洗方法，其特徵為具備以下步驟：(A)藉由使乾冰顆粒與被清洗物的表面接觸來清洗前述被清洗物的表面；及(B)回收在前述A步驟中藉由吸引殼體內部的氣體而從前述被清洗物的表面脫離之污染物，前述殼體設置成覆蓋前述乾冰顆粒所接觸之前述被清洗物的表面，前述殼體的與前述被清洗物對置之對置部設置有迷宮式密封件，前述迷宮式密封件具有孔與複數個密封凸片，前述複數個密封凸片相互分開而平行設置，前述孔貫穿前述迷宮式密封件而形成以使氣體通過，前述孔的一端向前述複數個密封凸片之間的槽開口，前述孔的另一端與前述殼體的內部連接，藉由前述吸引並通過前述孔吸引前述複數個密封凸片周圍的氣體。
11. 一種溶液製膜方法，其特徵為具備以下步驟：(C)在沿長邊方向移動之環狀的流延支撐體上流延包含聚合物與溶媒之濃液；(D)從前述流延支撐體剝取藉由前述C步驟形成之流延膜； (E)對藉由前述D步驟剝取之流延膜進行乾燥來作成薄膜；(F)藉由使乾冰顆粒與從剝取位置朝向流延位置之前述流延支撐體的流延前述濃液之表面接觸來清洗前述表面，前述剝取位置為剝取前述流延膜之位置，前述流延位置為流延前述濃液之位置；及(G)回收在前述F步驟中藉由吸引殼體內部的氣體而從前述流延支撐體的表面脫離之污染物，前述殼體設置成覆蓋前述乾冰顆粒所接觸之前述流延支撐體的表面，前述殼體的與前述流延支撐體對置之對置部設置有迷宮式密封件，前述迷宮式密封件具有孔與複數個密封凸片，前述複數個密封凸片相互分開而平行設置，前述孔貫穿前述迷宮式密封件而形成以使氣體通過，前述孔的一端向前述複數個密封凸片之間的槽開口，前述孔的另一端與前述殼體的內部連接，藉由前述吸引並通過前述孔吸引前述複數個密封凸片周圍的氣體。