JP2003065934A - プローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡 - Google Patents
プローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡Info
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- JP2003065934A JP2003065934A JP2001251784A JP2001251784A JP2003065934A JP 2003065934 A JP2003065934 A JP 2003065934A JP 2001251784 A JP2001251784 A JP 2001251784A JP 2001251784 A JP2001251784 A JP 2001251784A JP 2003065934 A JP2003065934 A JP 2003065934A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、所望の大きさの開口を容易
に作製することのできるプローブ開口作製装置及びそれ
を用いた近接場光学顕微鏡を提供することにある。 【解決手段】 光源１１６からの入射光を反射する反射
手段１４０と、該プローブ先端部と反射手段１４０との
光軸方向の押付けを行なう押付手段１３０と、予め該プ
ローブ先端部からの反射光の光量と開口の大きさの検量
情報を記憶している記憶手段１４２と、所望の大きさの
開口を得るための光量値を該記憶手段１４２に記憶され
ている検量情報より求める算出手段１４４と、光検出手
段１２４で検出された光量値が算出手段１４４で算出さ
れた光量値となるように押付手段１３０による押付けを
制御する押付制御手段１２６、１２８と、を備えたこと
を特徴とするプローブ開口作製装置１３９、及びそれを
用いた近接場光学顕微鏡。
に作製することのできるプローブ開口作製装置及びそれ
を用いた近接場光学顕微鏡を提供することにある。 【解決手段】 光源１１６からの入射光を反射する反射
手段１４０と、該プローブ先端部と反射手段１４０との
光軸方向の押付けを行なう押付手段１３０と、予め該プ
ローブ先端部からの反射光の光量と開口の大きさの検量
情報を記憶している記憶手段１４２と、所望の大きさの
開口を得るための光量値を該記憶手段１４２に記憶され
ている検量情報より求める算出手段１４４と、光検出手
段１２４で検出された光量値が算出手段１４４で算出さ
れた光量値となるように押付手段１３０による押付けを
制御する押付制御手段１２６、１２８と、を備えたこと
を特徴とするプローブ開口作製装置１３９、及びそれを
用いた近接場光学顕微鏡。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプローブ開口作製装
置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡、特にプローブ
先端の開口の大きさを制御する手法の改良に関する。
置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡、特にプローブ
先端の開口の大きさを制御する手法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般的な顕微鏡は、試料に対して非接
触、非破壊で微細極小部位の観察が行え、さらに分光分
析器等を接続することにより観察対象の形状、構造のみ
でなく、その成分等まで分析することも可能であり、各
種の分野で応用が行なわれている。しかしながら、一般
的な光学顕微鏡は、光の波長より小さなものは観察する
ことができず、その分解能には限界がある。光には回折
限界があり、使用する波長程度までしか絞れないからで
ある。
触、非破壊で微細極小部位の観察が行え、さらに分光分
析器等を接続することにより観察対象の形状、構造のみ
でなく、その成分等まで分析することも可能であり、各
種の分野で応用が行なわれている。しかしながら、一般
的な光学顕微鏡は、光の波長より小さなものは観察する
ことができず、その分解能には限界がある。光には回折
限界があり、使用する波長程度までしか絞れないからで
ある。
【０００３】この回折限界を越えた極微小領域での観察
を可能にしたのが、例えば数十〜百ｎｍ程度の微小開口
をもつプローブを用いた近接場光学顕微鏡である。図１
には近接場光学顕微鏡の概略が示されている。この近接
場光学顕微鏡１０による試料測定は次のようにして為さ
れる。すなわち、微小な被測定試料１２は平坦な基板１
４の上に配置されている。そして、光源１６からの光１
８を先鋭化されたプローブ２２に入射すると、光波長以
下の口径のプローブ２２先端開口から、エバネッセント
光２０と呼ばれる表面波が、開口近傍にしみだした状態
で発生する。この表面波はプローブ先端付近表面から光
波長以内の距離の領域に局在している。
を可能にしたのが、例えば数十〜百ｎｍ程度の微小開口
をもつプローブを用いた近接場光学顕微鏡である。図１
には近接場光学顕微鏡の概略が示されている。この近接
場光学顕微鏡１０による試料測定は次のようにして為さ
れる。すなわち、微小な被測定試料１２は平坦な基板１
４の上に配置されている。そして、光源１６からの光１
８を先鋭化されたプローブ２２に入射すると、光波長以
下の口径のプローブ２２先端開口から、エバネッセント
光２０と呼ばれる表面波が、開口近傍にしみだした状態
で発生する。この表面波はプローブ先端付近表面から光
波長以内の距離の領域に局在している。
【０００４】この時、プローブ２２先端と試料表面を近
づけることで、試料表面とプローブ２２表面に生じたエ
バネッセント光２０の場が接触すると、エバネッセント
光２０は試料表面外へ散乱する。その散乱光２１の一部
はプローブ２２内に進入し、ビームスプリッタ１９を介
して分光器３８を通し検出器２４に導光され、コンピュ
ータ２６でデータ処理される。したがって、前記コンピ
ュータ２６、ステージコントローラ２８により、ステー
ジ３０を移動し、検出器２４で検出される散乱光２１の
強度が一定となるようにプローブ２２先端部と試料１２
間の上下方向の距離を制御しつつ、試料１２の被測定面
を走査すれば、該試料１２に非接触でかつ試料１２の凹
凸を的確に把握することが可能となる。また、エバネッ
セント光２０により励起された試料の蛍光や、ラマン光
等を検出することで、成分解析も可能となる。このよう
に、プローブ先端付近表面から光波長以内の距離の領域
に局在しているエバネッセント光を測定光として用いる
ことで、回折限界を超えた微小領域の測定が可能となる
のである。
づけることで、試料表面とプローブ２２表面に生じたエ
バネッセント光２０の場が接触すると、エバネッセント
光２０は試料表面外へ散乱する。その散乱光２１の一部
はプローブ２２内に進入し、ビームスプリッタ１９を介
して分光器３８を通し検出器２４に導光され、コンピュ
ータ２６でデータ処理される。したがって、前記コンピ
ュータ２６、ステージコントローラ２８により、ステー
ジ３０を移動し、検出器２４で検出される散乱光２１の
強度が一定となるようにプローブ２２先端部と試料１２
間の上下方向の距離を制御しつつ、試料１２の被測定面
を走査すれば、該試料１２に非接触でかつ試料１２の凹
凸を的確に把握することが可能となる。また、エバネッ
セント光２０により励起された試料の蛍光や、ラマン光
等を検出することで、成分解析も可能となる。このよう
に、プローブ先端付近表面から光波長以内の距離の領域
に局在しているエバネッセント光を測定光として用いる
ことで、回折限界を超えた微小領域の測定が可能となる
のである。
【０００５】また、試料測定面と逆側（基板１４側）か
ら光照射することにより、試料測定面側の表面近傍にエ
バネッセント光の場を発生し、その場にプローブ先端部
を差し込むことでエバネッセント光の場を散乱し、その
散乱光を該開口より集光して近接場光測定を行うことも
できる。
ら光照射することにより、試料測定面側の表面近傍にエ
バネッセント光の場を発生し、その場にプローブ先端部
を差し込むことでエバネッセント光の場を散乱し、その
散乱光を該開口より集光して近接場光測定を行うことも
できる。
【０００６】そして、図２に示すようにプローブ２２
は、光透過性を有する誘電体等の材質で構成されたコア
３２と、該コア３２表面に蒸着等で形成した金属薄膜の
マスク３４を備える。このマスク先端部には、開口３６
が形成され、該開口３６よりコア先端部３２ａが表出し
ている。
は、光透過性を有する誘電体等の材質で構成されたコア
３２と、該コア３２表面に蒸着等で形成した金属薄膜の
マスク３４を備える。このマスク先端部には、開口３６
が形成され、該開口３６よりコア先端部３２ａが表出し
ている。
【０００７】このようなプローブ先端の開口は、次のよ
うにして作製される。すなわち、まず光ファイバのコア
の先端を選択化学エッチング法や、熱して引き延ばす方
法等により先鋭化する。そして、この先鋭化ファイバに
真空中で金属を加熱・蒸発させ、プローブの表面に薄膜
として蒸着させ、金属薄膜等のマスクを形成する。次
に、この先端部のマスクを、例えば収束イオンビーム
（ＦＩＢ）によるイオン切削等で除去すると、開口３６
が作製される。或いは、プローブを回転させながら斜め
後方から金属膜を蒸着すると、プローブ先端のみ被覆さ
れず、その近傍の金属膜の薄い部分と共に開口とするこ
とができるので、この方法によっても開口３６を作製で
きる。このようにして作製されたプローブ２２は、近接
場光学顕微鏡１０の近接場ヘッド３１に取り付けられ、
前述のような近接場光測定が行なわれる。
うにして作製される。すなわち、まず光ファイバのコア
の先端を選択化学エッチング法や、熱して引き延ばす方
法等により先鋭化する。そして、この先鋭化ファイバに
真空中で金属を加熱・蒸発させ、プローブの表面に薄膜
として蒸着させ、金属薄膜等のマスクを形成する。次
に、この先端部のマスクを、例えば収束イオンビーム
（ＦＩＢ）によるイオン切削等で除去すると、開口３６
が作製される。或いは、プローブを回転させながら斜め
後方から金属膜を蒸着すると、プローブ先端のみ被覆さ
れず、その近傍の金属膜の薄い部分と共に開口とするこ
とができるので、この方法によっても開口３６を作製で
きる。このようにして作製されたプローブ２２は、近接
場光学顕微鏡１０の近接場ヘッド３１に取り付けられ、
前述のような近接場光測定が行なわれる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近接場光学
顕微鏡の分解能を向上させるためには、プローブの先端
に、再現性よく目的の大きさの開口を作製する必要があ
る。しかしながら、前記したイオン切削による開口作製
方法では、開口径の大きさは制御できるものの加工が非
常に難かしい。また、斜め蒸着による開口作製方法では
蒸着装置のローカリティの問題で再現性よく作製できな
い。このため、作製されたプローブを、実際に近接場光
学顕微鏡に取り付けて測定を行うと、測定がうまく行え
ない場合があった。
顕微鏡の分解能を向上させるためには、プローブの先端
に、再現性よく目的の大きさの開口を作製する必要があ
る。しかしながら、前記したイオン切削による開口作製
方法では、開口径の大きさは制御できるものの加工が非
常に難かしい。また、斜め蒸着による開口作製方法では
蒸着装置のローカリティの問題で再現性よく作製できな
い。このため、作製されたプローブを、実際に近接場光
学顕微鏡に取り付けて測定を行うと、測定がうまく行え
ない場合があった。
【０００９】このため従来より、プローブの先端に再現
性よく目的の大きさの開口を作製することのできる技術
の開発が強く望まれていたが、これを解決することので
きる適切な技術が存在しなかった。本発明は前記従来技
術の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、再現
性よく所望の大きさの開口を容易に作製することのでき
るプローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学
顕微鏡を提供することにある。
性よく目的の大きさの開口を作製することのできる技術
の開発が強く望まれていたが、これを解決することので
きる適切な技術が存在しなかった。本発明は前記従来技
術の課題に鑑みなされたものであり、その目的は、再現
性よく所望の大きさの開口を容易に作製することのでき
るプローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学
顕微鏡を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明にかかるプローブ開口作製装置は、光透過性を
有する材質で構成されたコアと、該コア上に形成され、
延性及び遮光性を有する材質で構成されたマスクと、を
備えたプローブの先端部のマスクを所望の大きさで開口
する装置であって、光源と、反射手段と、光検出手段
と、押付手段と、記憶手段と、算出手段と、押付制御手
段と、を備えたことを特徴とするここで、前記反射手段
は、前記先端部と当接する面を有し、前記コアを通して
前記開口へ導光される前記光源からの入射光を該当接面
で反射する。
に本発明にかかるプローブ開口作製装置は、光透過性を
有する材質で構成されたコアと、該コア上に形成され、
延性及び遮光性を有する材質で構成されたマスクと、を
備えたプローブの先端部のマスクを所望の大きさで開口
する装置であって、光源と、反射手段と、光検出手段
と、押付手段と、記憶手段と、算出手段と、押付制御手
段と、を備えたことを特徴とするここで、前記反射手段
は、前記先端部と当接する面を有し、前記コアを通して
前記開口へ導光される前記光源からの入射光を該当接面
で反射する。
【００１１】また、前記光検出手段は、前記先端部と反
射手段の当接部位からの反射光の光量を検出する。前記
押付手段は、前記先端部と反射手段との光軸方向の押付
けを行なう。前記記憶手段は、あらかじめ前記反射光の
光量と開口の大きさについての検量情報を記憶してい
る。前記算出手段は、所望の大きさの開口を得るための
前記反射光の光量を、前記記憶手段に記憶されている検
量情報より求める。前記押付制御手段は、前記光検出手
段により検出される前記反射光の光量が、前記算出手段
により算出された光量となるように、前記押付手段によ
り前記プローブ先端部と反射手段との光軸方向の押付け
を制御する。
射手段の当接部位からの反射光の光量を検出する。前記
押付手段は、前記先端部と反射手段との光軸方向の押付
けを行なう。前記記憶手段は、あらかじめ前記反射光の
光量と開口の大きさについての検量情報を記憶してい
る。前記算出手段は、所望の大きさの開口を得るための
前記反射光の光量を、前記記憶手段に記憶されている検
量情報より求める。前記押付制御手段は、前記光検出手
段により検出される前記反射光の光量が、前記算出手段
により算出された光量となるように、前記押付手段によ
り前記プローブ先端部と反射手段との光軸方向の押付け
を制御する。
【００１２】なお、ここでいう光透過性を有する材質で
構成されたコアとは、例えば石英、半導体、ＣａＦ２、
カルコゲナイト等の光ファイバ材料等の材質で構成され
たものをいう。また、延性及び遮光性を有する材質で構
成されたマスクとは、コア上に蒸着等で形成された金、
アルミニウム、銀、クロム、チタン等のミラーに使用さ
れる金属薄膜等をいう。
構成されたコアとは、例えば石英、半導体、ＣａＦ２、
カルコゲナイト等の光ファイバ材料等の材質で構成され
たものをいう。また、延性及び遮光性を有する材質で構
成されたマスクとは、コア上に蒸着等で形成された金、
アルミニウム、銀、クロム、チタン等のミラーに使用さ
れる金属薄膜等をいう。
【００１３】また、プローブ先端部のマスクを開口する
とは、プローブ先端部のマスクは延性を有するので、プ
ローブ先端部と反射手段とを光軸方向に押付けると、序
々に薄く引き延ばされて開口が形成され、該マスク開口
よりコア先端部が表出することをいう。また、ここにい
う反射光の光量とは、マスクに開口が形成されていない
時点では、反射手段とプローブコア部がマスクで遮蔽さ
れているため光量値はゼロであり、マスクに開口が形成
されると、反射手段とプローブ先端部が当接する面から
反射手段が反射する反射光が開口からコアへ入り、その
開口の大きさと共に光量値が増大するものをいう。
とは、プローブ先端部のマスクは延性を有するので、プ
ローブ先端部と反射手段とを光軸方向に押付けると、序
々に薄く引き延ばされて開口が形成され、該マスク開口
よりコア先端部が表出することをいう。また、ここにい
う反射光の光量とは、マスクに開口が形成されていない
時点では、反射手段とプローブコア部がマスクで遮蔽さ
れているため光量値はゼロであり、マスクに開口が形成
されると、反射手段とプローブ先端部が当接する面から
反射手段が反射する反射光が開口からコアへ入り、その
開口の大きさと共に光量値が増大するものをいう。
【００１４】なお、本発明にかかるプローブ開口作製装
置において、前記押付手段としては、前記プローブ先端
部のマスクがちぎれることなく序々に薄く延ばされて開
口するように、前記プローブ先端部と反射手段とを光軸
方向に押付ける送り手段を用いることが好適である。
置において、前記押付手段としては、前記プローブ先端
部のマスクがちぎれることなく序々に薄く延ばされて開
口するように、前記プローブ先端部と反射手段とを光軸
方向に押付ける送り手段を用いることが好適である。
【００１５】また、このようなプローブ開口作製装置を
備えた本発明にかかる近接場光学顕微鏡は、該開口作製
装置により開口が形成されたプローブ先端部で試料の被
測定面のエバネッセント光の場を散乱し、その散乱光を
該開口より集光し、あるいは該開口よりしみ出したエバ
ネッセント光を被測定面に照射し、その散乱光ないし反
射光を該開口より集光し、又は外部光学系により集光
し、試料の被測定面の情報を得ることを特徴とする。
備えた本発明にかかる近接場光学顕微鏡は、該開口作製
装置により開口が形成されたプローブ先端部で試料の被
測定面のエバネッセント光の場を散乱し、その散乱光を
該開口より集光し、あるいは該開口よりしみ出したエバ
ネッセント光を被測定面に照射し、その散乱光ないし反
射光を該開口より集光し、又は外部光学系により集光
し、試料の被測定面の情報を得ることを特徴とする。
【００１６】また、このような近接場光学顕微鏡におい
て、開口が形成されているプローブ先端部の開口の大き
さを検査する開口径検査機構を備え、該開口径検査機構
は、光源と、反射手段と、光検出手段と、押付手段と、
記憶手段と、比較手段と、を備えることが好適である。
ここで、前記光源は、前記プローブに光を入射する。
て、開口が形成されているプローブ先端部の開口の大き
さを検査する開口径検査機構を備え、該開口径検査機構
は、光源と、反射手段と、光検出手段と、押付手段と、
記憶手段と、比較手段と、を備えることが好適である。
ここで、前記光源は、前記プローブに光を入射する。
【００１７】前記反射手段は、前記先端部と当接する面
を有し、前記コアを通して前記開口へ導光される前記光
源からの入射光を該当接面で反射する。前記光検出手段
は、前記先端部と反射手段の当接部位からの反射光の光
量を検出する。前記押付手段は、前記先端部と反射手段
との光軸方向の押付けを行なう。前記記憶手段は、あら
かじめ前記反射光の光量と開口の大きさについての検量
情報を記憶している。比較手段は、前記光検出手段によ
り検出された反射光の光量を、前記記憶手段に記憶され
ている検量情報に当てはめ、前記プローブ先端部の開口
の大きさを求める。
を有し、前記コアを通して前記開口へ導光される前記光
源からの入射光を該当接面で反射する。前記光検出手段
は、前記先端部と反射手段の当接部位からの反射光の光
量を検出する。前記押付手段は、前記先端部と反射手段
との光軸方向の押付けを行なう。前記記憶手段は、あら
かじめ前記反射光の光量と開口の大きさについての検量
情報を記憶している。比較手段は、前記光検出手段によ
り検出された反射光の光量を、前記記憶手段に記憶され
ている検量情報に当てはめ、前記プローブ先端部の開口
の大きさを求める。
【００１８】さらに、このような近接場光学顕微鏡にお
いて、開口が形成されているプローブ先端部の開口の大
きさを変更する開口径調整機構を備え、該開口径調整機
構は、光源と、反射手段と、光検出手段と、押付手段
と、記憶手段と、設定手段と、算出手段と、押付制御手
段と、を備えることが好適である。ここで、前記光源
は、前記プローブに光を入射する。
いて、開口が形成されているプローブ先端部の開口の大
きさを変更する開口径調整機構を備え、該開口径調整機
構は、光源と、反射手段と、光検出手段と、押付手段
と、記憶手段と、設定手段と、算出手段と、押付制御手
段と、を備えることが好適である。ここで、前記光源
は、前記プローブに光を入射する。
【００１９】前記反射手段は、前記先端部と当接する面
を有し、前記コアを通して前記開口へ導光される前記光
源からの入射光を該当接面で反射する。前記光検出手段
は、前記先端部と反射手段の当接部位からの反射光の光
量を検出する。前記押付手段は、前記先端部と反射手段
との光軸方向の押付けを行なう。前記記憶手段は、あら
かじめ前記反射光の光量と開口の大きさについての検量
情報を記憶している。設定手段は、前記プローブ先端部
の開口について所望の大きさを設定する。算出手段は、
前記設定手段により設定された大きさの開口を得るため
の前記反射光の光量を、前記記憶手段に記憶されている
検量情報より求める。押付制御手段は、前記光検出手段
により検出される反射光の光量が、前記算出手段により
算出された光量となるように、前記押付手段によるプロ
ーブ先端部と反射手段との光軸方向の押付けを制御す
る。
を有し、前記コアを通して前記開口へ導光される前記光
源からの入射光を該当接面で反射する。前記光検出手段
は、前記先端部と反射手段の当接部位からの反射光の光
量を検出する。前記押付手段は、前記先端部と反射手段
との光軸方向の押付けを行なう。前記記憶手段は、あら
かじめ前記反射光の光量と開口の大きさについての検量
情報を記憶している。設定手段は、前記プローブ先端部
の開口について所望の大きさを設定する。算出手段は、
前記設定手段により設定された大きさの開口を得るため
の前記反射光の光量を、前記記憶手段に記憶されている
検量情報より求める。押付制御手段は、前記光検出手段
により検出される反射光の光量が、前記算出手段により
算出された光量となるように、前記押付手段によるプロ
ーブ先端部と反射手段との光軸方向の押付けを制御す
る。
【００２０】また、前記したプローブ開口作製装置、及
びそれを用いた近接場光学顕微鏡において、前記反射手
段に代えて、前記プローブ先端部と当接する面を有し、
前記コアを通して前記開口へ導光される前記光源からの
入射光による光励起で、該当接面から発光する発光手段
を用いることも可能である。
びそれを用いた近接場光学顕微鏡において、前記反射手
段に代えて、前記プローブ先端部と当接する面を有し、
前記コアを通して前記開口へ導光される前記光源からの
入射光による光励起で、該当接面から発光する発光手段
を用いることも可能である。
【００２１】また、前記発光手段の励起源として、光源
の代わりに発光手段に直流電圧を印加する電圧印加手段
を用い、発光手段を該電圧印加手段による電圧印加で発
光させてもよい。
の代わりに発光手段に直流電圧を印加する電圧印加手段
を用い、発光手段を該電圧印加手段による電圧印加で発
光させてもよい。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の好適
な実施形態について説明する。図３には本発明の一実施
形態にかかる近接場光学顕微鏡の概略構成が示されてい
る。なお、前記図１と対応する部分には符号１００を加
えて示し説明を省略する。同図に示す近接場光学顕微鏡
１１０に設置された基板１１４上には、試料１１２が配
置されており、プローブ１２２の先端部では、光源１１
６から導光された入射光１１８により開口からエバネッ
セント光１２０がしみだしている。
な実施形態について説明する。図３には本発明の一実施
形態にかかる近接場光学顕微鏡の概略構成が示されてい
る。なお、前記図１と対応する部分には符号１００を加
えて示し説明を省略する。同図に示す近接場光学顕微鏡
１１０に設置された基板１１４上には、試料１１２が配
置されており、プローブ１２２の先端部では、光源１１
６から導光された入射光１１８により開口からエバネッ
セント光１２０がしみだしている。
【００２３】このエバネッセント光１２０がしみだした
プローブ１２２の先端部を試料測定面に近づけると、試
料測定面によりエバネッセント光１２０の場が散乱さ
れ、その散乱光１２１の一部は開口よりプローブ１２２
内に進入し、ビームスプリッタ１１９を介して分光器１
３８によりレイリー光、ラマン光及び蛍光等必要に応じ
て各光成分に分離された後、検出器１２４により検出さ
れ、コンピュータ１２６でデータ処理されることにより
得られたレイリー光強度からプローブの先端と被測定面
間の距離を把握することができる。
プローブ１２２の先端部を試料測定面に近づけると、試
料測定面によりエバネッセント光１２０の場が散乱さ
れ、その散乱光１２１の一部は開口よりプローブ１２２
内に進入し、ビームスプリッタ１１９を介して分光器１
３８によりレイリー光、ラマン光及び蛍光等必要に応じ
て各光成分に分離された後、検出器１２４により検出さ
れ、コンピュータ１２６でデータ処理されることにより
得られたレイリー光強度からプローブの先端と被測定面
間の距離を把握することができる。
【００２４】すなわち、ステージコントローラ１２８で
ＸＹＺステージ１３０を制御して、前記プローブ１２２
先端部と試料１１２被測定面との間の上下方向の距離
を、検出器１２４で検出されたレイリー光強度が一定と
なるように調節しつつ試料１１２の被測定面を走査すれ
ば、試料１１２に非接触でかつ試料１１２の凹凸を的確
に把握することが可能となる。さらに、前記分光スペク
トルより試料１１２の被測定面の各測定点における成分
情報を同時に得ることが可能となる。ところで、プロー
ブ１２２は、通常は近接場ヘッド１３１に取り付けられ
ているが、消耗品なので、該ヘッド１３１より取外し、
交換する必要がある。
ＸＹＺステージ１３０を制御して、前記プローブ１２２
先端部と試料１１２被測定面との間の上下方向の距離
を、検出器１２４で検出されたレイリー光強度が一定と
なるように調節しつつ試料１１２の被測定面を走査すれ
ば、試料１１２に非接触でかつ試料１１２の凹凸を的確
に把握することが可能となる。さらに、前記分光スペク
トルより試料１１２の被測定面の各測定点における成分
情報を同時に得ることが可能となる。ところで、プロー
ブ１２２は、通常は近接場ヘッド１３１に取り付けられ
ているが、消耗品なので、該ヘッド１３１より取外し、
交換する必要がある。
【００２５】この時、プローブ１２２先端の開口の出来
具合が近接場光学顕微鏡の分解能等に大きく影響する。
従来の方法で開口を作成した場合、開口の出来具合にバ
ラツキを生じてしまい、例えば既に作製されている市販
品等のプローブを他の同じ型のものに交換し、近接場ヘ
ッドに取り付けて測定したとしても、該測定が満足のゆ
く明るさ、交換前と同じ精度で行なえない場合があっ
た。この原因の詳細については未だ不明な点もあるが、
本発明者らによれば、いくらプローブ開口の機械的寸法
を精度よく作製しても、実際の測定に用いられると、開
口の光透過効率が異なる場合があり、プローブを交換す
ると、該開口の光透過効率が変わってしまうことが一因
として考えられる。
具合が近接場光学顕微鏡の分解能等に大きく影響する。
従来の方法で開口を作成した場合、開口の出来具合にバ
ラツキを生じてしまい、例えば既に作製されている市販
品等のプローブを他の同じ型のものに交換し、近接場ヘ
ッドに取り付けて測定したとしても、該測定が満足のゆ
く明るさ、交換前と同じ精度で行なえない場合があっ
た。この原因の詳細については未だ不明な点もあるが、
本発明者らによれば、いくらプローブ開口の機械的寸法
を精度よく作製しても、実際の測定に用いられると、開
口の光透過効率が異なる場合があり、プローブを交換す
ると、該開口の光透過効率が変わってしまうことが一因
として考えられる。
【００２６】また、個々の顕微鏡によって、ステージに
は多少の傾きがある場合が多く、既製品のプローブをそ
のままヘッドにとりつけて用いると、ステージ面とプロ
ーブ開口面が平行とならず、ずれがある場合がある。こ
れによりプローブ開口よりエバネッセント光を試料の被
測定面に均一に照射できなかったり、試料の被測定面か
ら均一にエバネッセント光の場を散乱した光を集光でき
ないことも測定精度に影響を与える一因と考えられる。
そこで、本発明において第一に特徴的なことは、近接場
光学顕微鏡に付属して、開口が形成されていないプロー
ブ先端部に開口を所望の大きさで作製可能なプローブ開
口作製装置を備えたことである。
は多少の傾きがある場合が多く、既製品のプローブをそ
のままヘッドにとりつけて用いると、ステージ面とプロ
ーブ開口面が平行とならず、ずれがある場合がある。こ
れによりプローブ開口よりエバネッセント光を試料の被
測定面に均一に照射できなかったり、試料の被測定面か
ら均一にエバネッセント光の場を散乱した光を集光でき
ないことも測定精度に影響を与える一因と考えられる。
そこで、本発明において第一に特徴的なことは、近接場
光学顕微鏡に付属して、開口が形成されていないプロー
ブ先端部に開口を所望の大きさで作製可能なプローブ開
口作製装置を備えたことである。
【００２７】本実施形態においては、図５に示した開口
作製装置１３９を設けている。ここで、実際に近接場光
学測定に用いられるＸＹＺステージ１３０の基板１１４
は、通常の近接場光学測定を行なうエリアＡ１と、開口
作製等のためのエリアＡ２に分けられている。このエリ
アＡ１、Ａ２の基盤１１４上部からの配置の一例を図４
に示す。基盤上のエリアＡ２には、プローブ開口作製装
置の反射手段１４０を、その反射面１４６が基板１１４
の面と同一面となるように設けられている。ここで、反
射手段１４０は、その表面の反射面１４６で、コア１３
２を通してプローブ開口に導光された、光源１１６から
の入射光１１８を反射する。
作製装置１３９を設けている。ここで、実際に近接場光
学測定に用いられるＸＹＺステージ１３０の基板１１４
は、通常の近接場光学測定を行なうエリアＡ１と、開口
作製等のためのエリアＡ２に分けられている。このエリ
アＡ１、Ａ２の基盤１１４上部からの配置の一例を図４
に示す。基盤上のエリアＡ２には、プローブ開口作製装
置の反射手段１４０を、その反射面１４６が基板１１４
の面と同一面となるように設けられている。ここで、反
射手段１４０は、その表面の反射面１４６で、コア１３
２を通してプローブ開口に導光された、光源１１６から
の入射光１１８を反射する。
【００２８】そして、図５に示すプローブ開口作製装置
１３９は、前記光源１１６と、前記ＸＹＺステージ１３
０（押付手段）と、前記コンピュータ１２６のＨＤＤ１
４２（記憶手段）と、前記コンピュータ１２６のＣＰＵ
１４４（算出手段，押付制御手段）を備える。また、プ
ローブ１２２はプローブ開口端と逆方向に続くファイバ
の適当な部位で近接場光学顕微鏡の近接場ヘッドに固定
されている。ここで、近接場光学顕微鏡で用いられる光
源１１６を、プローブ開口作製装置１３９の光源として
も用いている。この光源１１６によりプローブ１２２に
入射光１１８を入射する。
１３９は、前記光源１１６と、前記ＸＹＺステージ１３
０（押付手段）と、前記コンピュータ１２６のＨＤＤ１
４２（記憶手段）と、前記コンピュータ１２６のＣＰＵ
１４４（算出手段，押付制御手段）を備える。また、プ
ローブ１２２はプローブ開口端と逆方向に続くファイバ
の適当な部位で近接場光学顕微鏡の近接場ヘッドに固定
されている。ここで、近接場光学顕微鏡で用いられる光
源１１６を、プローブ開口作製装置１３９の光源として
も用いている。この光源１１６によりプローブ１２２に
入射光１１８を入射する。
【００２９】そして、開口作製時にはＸＹＺステージ１
３０により、反射手段１４０の反射面１４６をプローブ
先端部に徐々に押付けることで、先端部のマスク１３４
が徐々に薄く引き延ばされる。押付けを続けると、コア
１３２がマスクから表出し、開口が作製される。
３０により、反射手段１４０の反射面１４６をプローブ
先端部に徐々に押付けることで、先端部のマスク１３４
が徐々に薄く引き延ばされる。押付けを続けると、コア
１３２がマスクから表出し、開口が作製される。
【００３０】ここで、近接場光学顕微鏡で用いられるＸ
ＹＺステージ１３０のＺ軸方向の駆動機構であるステー
ジコントローラ１２８を、開口作製装置１３９の押付手
段としても用いている。また、前記近接場光学顕微鏡で
用いられるコンピュータ１２６のＨＤＤ１４２を、開口
作製装置の記憶手段としても用いている。押付けにより
開口が大きくなる程検出される反射光の光量も大きくな
り、開口の大きさと反射光の光量には一対一の関係があ
るので、これをあらかじめ検量情報として記憶しておく
ことで、反射光の光量をモニターすることにより所望の
大きさの開口が得られる。
ＹＺステージ１３０のＺ軸方向の駆動機構であるステー
ジコントローラ１２８を、開口作製装置１３９の押付手
段としても用いている。また、前記近接場光学顕微鏡で
用いられるコンピュータ１２６のＨＤＤ１４２を、開口
作製装置の記憶手段としても用いている。押付けにより
開口が大きくなる程検出される反射光の光量も大きくな
り、開口の大きさと反射光の光量には一対一の関係があ
るので、これをあらかじめ検量情報として記憶しておく
ことで、反射光の光量をモニターすることにより所望の
大きさの開口が得られる。
【００３１】このＨＤＤ１４２はあらかじめ、前記プロ
ーブ１２２先端部からの反射光の光量と開口の大きさと
の検量情報を記憶している。また、前記近接場光学顕微
鏡で用いられるコンピュータ１２６のＣＰＵ１４４を、
開口作製装置の算出手段としても用いている。このＣＰ
Ｕ１４４は、所望の大きさの開口を得るための光量値
を、ＨＤＤ１４２に記憶されている検量情報より求め
る。また、前記近接場光学顕微鏡で用いられるコンピュ
ータ１２６のＣＰＵ１４４を、開口作製装置の押付制御
手段としても用いている。
ーブ１２２先端部からの反射光の光量と開口の大きさと
の検量情報を記憶している。また、前記近接場光学顕微
鏡で用いられるコンピュータ１２６のＣＰＵ１４４を、
開口作製装置の算出手段としても用いている。このＣＰ
Ｕ１４４は、所望の大きさの開口を得るための光量値
を、ＨＤＤ１４２に記憶されている検量情報より求め
る。また、前記近接場光学顕微鏡で用いられるコンピュ
ータ１２６のＣＰＵ１４４を、開口作製装置の押付制御
手段としても用いている。
【００３２】このＣＰＵ１４４は、検出器１２４（光検
出手段）により検出された光量値が、該ＣＰＵ１４４に
より算出された光量値となるように、ＸＹＺステージ１
３０による反射手段とプローブ先端部との光軸方向の押
付けを制御する。すなわち、図６（Ａ）に示すように開
口が形成されていないプローブ１２２先端部に、反射手
段１４０の反射面１４６を当接させる。
出手段）により検出された光量値が、該ＣＰＵ１４４に
より算出された光量値となるように、ＸＹＺステージ１
３０による反射手段とプローブ先端部との光軸方向の押
付けを制御する。すなわち、図６（Ａ）に示すように開
口が形成されていないプローブ１２２先端部に、反射手
段１４０の反射面１４６を当接させる。
【００３３】そして、同図（Ｂ）に示すように入射光１
１８によるプローブ先端部からの反射光の光量を検出器
（ＣＣＤカメラ等）１２４により検出し、その光量値を
コンピュータ１２６でモニタしながら、ＸＹＺステージ
１３０により基板１１４を上動させることにより、プロ
ーブ１２２先端部に反射手段１４０の反射面１４６を図
中上方に徐々に押付ける。徐々に押付けると、プローブ
先端部のマスク１３４は延性を有するので、徐々に薄く
引き延ばされ、次第に開口が形成され、同図（Ｃ）に示
すように該開口よりコア１３２の先端部１３２ａが表出
する。
１８によるプローブ先端部からの反射光の光量を検出器
（ＣＣＤカメラ等）１２４により検出し、その光量値を
コンピュータ１２６でモニタしながら、ＸＹＺステージ
１３０により基板１１４を上動させることにより、プロ
ーブ１２２先端部に反射手段１４０の反射面１４６を図
中上方に徐々に押付ける。徐々に押付けると、プローブ
先端部のマスク１３４は延性を有するので、徐々に薄く
引き延ばされ、次第に開口が形成され、同図（Ｃ）に示
すように該開口よりコア１３２の先端部１３２ａが表出
する。
【００３４】コア１３２の先端部１３２ａが表出する
と、それまでゼロであった検出器１２４により検出され
る光量値が開口径が広がるに従い増大するので、コンピ
ュータ１２６は、ＸＹＺステージ１３０のＺ軸方向の移
動機構により、所望の開口径が得られる光量値となるま
で、プローブ１２２先端部に反射手段１４０を徐々に押
付ける。すると、同図（Ｃ）に示すようにプローブ１２
２先端部のマスク１３４には開口１３６が所望の開口径
ｄで作製されている。
と、それまでゼロであった検出器１２４により検出され
る光量値が開口径が広がるに従い増大するので、コンピ
ュータ１２６は、ＸＹＺステージ１３０のＺ軸方向の移
動機構により、所望の開口径が得られる光量値となるま
で、プローブ１２２先端部に反射手段１４０を徐々に押
付ける。すると、同図（Ｃ）に示すようにプローブ１２
２先端部のマスク１３４には開口１３６が所望の開口径
ｄで作製されている。
【００３５】このため、発光の光量をモニタしながら、
同時に開口を作製することができるので、プローブを交
換した場合であっても、再現性よく目的の大きさの開口
を作製することができる。例えば真円状の開口を作製し
たり、コア部の突出を小さくすることが容易にできる。
また、開口部分で反射する光量に基づいた制御であるた
め、従来の形状に基づいた制御に比して作製した各プロ
ーブ間での光透過効率のバラツキが大幅に改善される。
同時に開口を作製することができるので、プローブを交
換した場合であっても、再現性よく目的の大きさの開口
を作製することができる。例えば真円状の開口を作製し
たり、コア部の突出を小さくすることが容易にできる。
また、開口部分で反射する光量に基づいた制御であるた
め、従来の形状に基づいた制御に比して作製した各プロ
ーブ間での光透過効率のバラツキが大幅に改善される。
【００３６】また、実際に使うサンプルステージ面と反
射手段１４０の反射面を同一面となるように設け、開口
を作製するので、たとえステージ面が傾いている場合で
あっても、そのステージ面と平行な開口面を形成するこ
とができる。しかも、このようにして開口が作製された
プローブを近接場ヘッドに取り付けたまま、測定を行な
うので、測定を正確に行なえる。さらに、開口作製装置
の各構成部材の機能を近接場光学顕微鏡の各構成部材を
用いて実現しているため、これらを別個に設けた場合に
比較し、構成の簡略化、装置の小型化等が図られる。
射手段１４０の反射面を同一面となるように設け、開口
を作製するので、たとえステージ面が傾いている場合で
あっても、そのステージ面と平行な開口面を形成するこ
とができる。しかも、このようにして開口が作製された
プローブを近接場ヘッドに取り付けたまま、測定を行な
うので、測定を正確に行なえる。さらに、開口作製装置
の各構成部材の機能を近接場光学顕微鏡の各構成部材を
用いて実現しているため、これらを別個に設けた場合に
比較し、構成の簡略化、装置の小型化等が図られる。
【００３７】このようにして近接場光学顕微鏡の近接場
ヘッドに取り付けられた状態で作製されたプローブをス
テージ１３０の通常の近接場光学測定エリアＡ１で交換
まで使用し続けることができる。また、前述のようにし
て作製された開口も使用しているうちに開口径が変わっ
てしまう場合がある。しかしながら、従来はこれを簡易
に検査する手段が存在しなかった。さらに、プローブを
顕微鏡から取外した後検査を行なう必要があり、検査後
プローブを再び取り付けた後、プローブの振動振幅等を
制御する光学系との光軸調整等が再度必要となり、非常
に手間のかかる作業を要した。
ヘッドに取り付けられた状態で作製されたプローブをス
テージ１３０の通常の近接場光学測定エリアＡ１で交換
まで使用し続けることができる。また、前述のようにし
て作製された開口も使用しているうちに開口径が変わっ
てしまう場合がある。しかしながら、従来はこれを簡易
に検査する手段が存在しなかった。さらに、プローブを
顕微鏡から取外した後検査を行なう必要があり、検査後
プローブを再び取り付けた後、プローブの振動振幅等を
制御する光学系との光軸調整等が再度必要となり、非常
に手間のかかる作業を要した。
【００３８】そこで、本発明において第二に特徴的なこ
とは、近接場光学顕微鏡に前記プローブ開口作製装置に
より開口が形成されているプローブ先端部の開口の大き
さを検査可能な開口径検査機構を備え、該検査をプロー
ブを近接場ヘッドに取り付けたまま行なったことであ
る。このために本実施形態においては、図７に示される
ような開口径検査機構１４７を設けている。
とは、近接場光学顕微鏡に前記プローブ開口作製装置に
より開口が形成されているプローブ先端部の開口の大き
さを検査可能な開口径検査機構を備え、該検査をプロー
ブを近接場ヘッドに取り付けたまま行なったことであ
る。このために本実施形態においては、図７に示される
ような開口径検査機構１４７を設けている。
【００３９】同図において、開口径検査機構１４７は、
前記光源１１６と、前記ＨＤＤ（記憶手段）１４２と、
前記反射手段（反射手段）１４０と、ＣＰＵ（比較手
段）１４４を備える。ここで、前記ＸＹＺステージ１３
０は、プローブ先端部に反射手段１４０の反射面１４６
を当接させる。前記ＣＰＵ（比較手段）１４４は、検出
器１２４（光検出手段）により検出した、光源１１６か
らの入射光１１８による反射面１４６からの反射光の光
量値を、ＨＤＤ１４２（記憶手段）に記憶されている検
量情報に当てはめ、プローブ先端部の開口の大きさを求
める。
前記光源１１６と、前記ＨＤＤ（記憶手段）１４２と、
前記反射手段（反射手段）１４０と、ＣＰＵ（比較手
段）１４４を備える。ここで、前記ＸＹＺステージ１３
０は、プローブ先端部に反射手段１４０の反射面１４６
を当接させる。前記ＣＰＵ（比較手段）１４４は、検出
器１２４（光検出手段）により検出した、光源１１６か
らの入射光１１８による反射面１４６からの反射光の光
量値を、ＨＤＤ１４２（記憶手段）に記憶されている検
量情報に当てはめ、プローブ先端部の開口の大きさを求
める。
【００４０】この結果、通常の近接場光学測定時、プロ
ーブ１２２は、ＸＹＺステージ１４０のエリアＡ１上に
位置するが、開口径の検査を行う際は、図８（Ａ）に示
すように開口作製装置により開口が形成されているプロ
ーブ１２２をＸＹＺステージのエリアＡ２に移動する。
そして、同図（Ｂ）に示すようにプローブ１２２を取り
付けたまま、ＸＹＺステージ１３０により、プローブ先
端部に反射手段１４０の反射面１４６を当接させるだけ
で、所定の径の開口が開いているか否かの検査を容易に
行なえる。
ーブ１２２は、ＸＹＺステージ１４０のエリアＡ１上に
位置するが、開口径の検査を行う際は、図８（Ａ）に示
すように開口作製装置により開口が形成されているプロ
ーブ１２２をＸＹＺステージのエリアＡ２に移動する。
そして、同図（Ｂ）に示すようにプローブ１２２を取り
付けたまま、ＸＹＺステージ１３０により、プローブ先
端部に反射手段１４０の反射面１４６を当接させるだけ
で、所定の径の開口が開いているか否かの検査を容易に
行なえる。
【００４１】すなわち、入射光照射時の、開口と反射面
１４６の当接部位からの反射光の光量値と、開口の大き
さとは一対一の関係があるので、プローブ先端部に反射
手段１４０の反射面１４６を当接させた状態で、該先端
部からの反射光の光量を検出器１２４により検出し、Ｃ
ＰＵ１４４で該検出された光量値を、ＨＤＤ１４２に記
憶されている検量情報に当てはめることでプローブ先端
部の開口の大きさを求めることができる。さらに、開口
径検査機構の各構成部材の機能を近接場光学顕微鏡（開
口作製装置）の各構成部材を用いて実現しているため、
これらを別個に設けた場合に比較し、構成の簡略化、装
置の小型化等が図られる。
１４６の当接部位からの反射光の光量値と、開口の大き
さとは一対一の関係があるので、プローブ先端部に反射
手段１４０の反射面１４６を当接させた状態で、該先端
部からの反射光の光量を検出器１２４により検出し、Ｃ
ＰＵ１４４で該検出された光量値を、ＨＤＤ１４２に記
憶されている検量情報に当てはめることでプローブ先端
部の開口の大きさを求めることができる。さらに、開口
径検査機構の各構成部材の機能を近接場光学顕微鏡（開
口作製装置）の各構成部材を用いて実現しているため、
これらを別個に設けた場合に比較し、構成の簡略化、装
置の小型化等が図られる。
【００４２】そして、検査後、開口径が測定上問題ない
場合は、プローブをＸＹＺステージのエリアＡ１上に復
帰させ、通常の近接場光学測定を行わせる。しかし、前
述のようにして作製された開口も使用しているうちに開
口径が変わってしまう場合があったり、変わらなくて
も、作製後、これを変更したい場合がある。しかしなが
ら、従来は変更時にプローブを交換する必要があり、プ
ローブを取り付けた後、プローブの振動振幅等を制御す
る光学系との光軸調整等が必要となり、非常に手間のか
かる作業を要した。
場合は、プローブをＸＹＺステージのエリアＡ１上に復
帰させ、通常の近接場光学測定を行わせる。しかし、前
述のようにして作製された開口も使用しているうちに開
口径が変わってしまう場合があったり、変わらなくて
も、作製後、これを変更したい場合がある。しかしなが
ら、従来は変更時にプローブを交換する必要があり、プ
ローブを取り付けた後、プローブの振動振幅等を制御す
る光学系との光軸調整等が必要となり、非常に手間のか
かる作業を要した。
【００４３】そこで、本発明において、第三に特徴的な
ことは、近接場光学顕微鏡に、プローブ開口作製装置に
より開口が形成されているプローブの開口の大きさを変
更可能な開口径調整機構を備え、該開口の大きさの変更
を、プローブを近接場ヘッドに取り付けたまま行なった
ことである。このために本実施形態においては、図９に
拡大して示されるような開口径調整機構１４９を設けて
いる。この開口径調整機構１４９は、前記光源１１６
と、前記反射手段１４０と、前記ＸＹＺステージ１３０
（押付手段）と、前記ＨＤＤ（記憶手段）１４２と、前
記ＣＰＵ（算出手段，押付制御手段）１４４と、入力デ
バイス（設定手段）１５１を備える。
ことは、近接場光学顕微鏡に、プローブ開口作製装置に
より開口が形成されているプローブの開口の大きさを変
更可能な開口径調整機構を備え、該開口の大きさの変更
を、プローブを近接場ヘッドに取り付けたまま行なった
ことである。このために本実施形態においては、図９に
拡大して示されるような開口径調整機構１４９を設けて
いる。この開口径調整機構１４９は、前記光源１１６
と、前記反射手段１４０と、前記ＸＹＺステージ１３０
（押付手段）と、前記ＨＤＤ（記憶手段）１４２と、前
記ＣＰＵ（算出手段，押付制御手段）１４４と、入力デ
バイス（設定手段）１５１を備える。
【００４４】前記入力デバイス１５１は、プローブ先端
部の開口について所望の大きさをコンピュータ１２６に
設定可能とする。前記ＣＰＵ（算出手段）１４４は、入
力デバイス１５１より設定された開口径を、ＨＤＤ１４
２に記憶されている検量情報に当てはめ、該所望の開口
径を得るための、プローブ先端と反射面１４６との当接
部位からの反射光の光量値を求める。前記ＣＰＵ（押付
制御手段）１４４は、検出器１２４（光検出手段）によ
り検出した、光源１１６からの入射光による反射面１４
６からの反射光の光量値が、前記ＣＰＵ１４４により算
出された光量値となるように、ＸＹＺステージ１３０の
Ｚ軸方向の移動（上動）により、反射手段１４０の反射
面１４６のプローブ先端部への押付けを制御する。ま
た、近接場光学顕微鏡で用いられるＸＹＺステージ１３
０のＺ軸方向の駆動機構であるステージコントローラ１
２８を、開口径調整機構１４９の押付手段としても用い
ている。
部の開口について所望の大きさをコンピュータ１２６に
設定可能とする。前記ＣＰＵ（算出手段）１４４は、入
力デバイス１５１より設定された開口径を、ＨＤＤ１４
２に記憶されている検量情報に当てはめ、該所望の開口
径を得るための、プローブ先端と反射面１４６との当接
部位からの反射光の光量値を求める。前記ＣＰＵ（押付
制御手段）１４４は、検出器１２４（光検出手段）によ
り検出した、光源１１６からの入射光による反射面１４
６からの反射光の光量値が、前記ＣＰＵ１４４により算
出された光量値となるように、ＸＹＺステージ１３０の
Ｚ軸方向の移動（上動）により、反射手段１４０の反射
面１４６のプローブ先端部への押付けを制御する。ま
た、近接場光学顕微鏡で用いられるＸＹＺステージ１３
０のＺ軸方向の駆動機構であるステージコントローラ１
２８を、開口径調整機構１４９の押付手段としても用い
ている。
【００４５】この結果、通常の近接場光学測定時、プロ
ーブはＸＹＺステージのエリアＡ１上に位置するが、開
口径の検査、変更を行う際は、図１０（Ａ）に示すよう
に開口作製装置により開口が形成されているプローブ１
２２をＸＹＺステージ１３０の基板１１４のエリアＡ２
に移動する。そして、同図（Ｂ）に示すようにプローブ
先端部に反射手段１４０の反射面を当接させ、入力デバ
イス１５１より開口の所望の大きさを入力する。そし
て、ＣＰＵ１４４は、入力デバイス１５１より入力され
た開口の大きさを得るための光量値を、ＨＤＤ１４２に
記憶されている検量情報に当てはめて求める。
ーブはＸＹＺステージのエリアＡ１上に位置するが、開
口径の検査、変更を行う際は、図１０（Ａ）に示すよう
に開口作製装置により開口が形成されているプローブ１
２２をＸＹＺステージ１３０の基板１１４のエリアＡ２
に移動する。そして、同図（Ｂ）に示すようにプローブ
先端部に反射手段１４０の反射面を当接させ、入力デバ
イス１５１より開口の所望の大きさを入力する。そし
て、ＣＰＵ１４４は、入力デバイス１５１より入力され
た開口の大きさを得るための光量値を、ＨＤＤ１４２に
記憶されている検量情報に当てはめて求める。
【００４６】そして、プローブ先端部に反射手段１４０
の反射面１４６を当接させた状態で、ＣＰＵ１４４は、
該先端部からの反射光の光量を検出器１２４により検出
しながら、検出された光量値が、あらかじめＣＰＵ１４
４により算出された光量値となるように、ＸＹＺステー
ジ１３０のＺ軸方向の移動により、反射手段の反射面の
プローブ先端部への押付けを制御することにより、同図
（Ｃ）のように、プローブ開口１３６の開口径ｄ´への
変更を容易に行なえる。そして、開口径の変更後、プロ
ーブをＸＹＺステージのエリアＡ１上に復帰させ、通常
の近接場光学測定を行わせる。
の反射面１４６を当接させた状態で、ＣＰＵ１４４は、
該先端部からの反射光の光量を検出器１２４により検出
しながら、検出された光量値が、あらかじめＣＰＵ１４
４により算出された光量値となるように、ＸＹＺステー
ジ１３０のＺ軸方向の移動により、反射手段の反射面の
プローブ先端部への押付けを制御することにより、同図
（Ｃ）のように、プローブ開口１３６の開口径ｄ´への
変更を容易に行なえる。そして、開口径の変更後、プロ
ーブをＸＹＺステージのエリアＡ１上に復帰させ、通常
の近接場光学測定を行わせる。
【００４７】このように本実施形態は、プローブ１２２
を取り付けたまま、プローブ先端部に反射手段の反射面
を押付けるだけで、開口の大きさの変更を容易に、かつ
所望の大きさで行なえる。さらに、開口径調整機構の各
構成部材の機能を近接場光学顕微鏡（開口作製装置、開
口径検査機構）の各構成部材を用いて実現しているた
め、これらを別個に設けた場合に比較し、構成の簡略
化、装置の小型化等が図られる。以上のように本実施形
態にかかる近接場光学顕微鏡１１０によれば、実際に開
口の光透過光量をモニタしながら開口を作製する開口作
製装置１３９を備えることとしたので、再現性よく目的
の大きさの開口を作製することができる。
を取り付けたまま、プローブ先端部に反射手段の反射面
を押付けるだけで、開口の大きさの変更を容易に、かつ
所望の大きさで行なえる。さらに、開口径調整機構の各
構成部材の機能を近接場光学顕微鏡（開口作製装置、開
口径検査機構）の各構成部材を用いて実現しているた
め、これらを別個に設けた場合に比較し、構成の簡略
化、装置の小型化等が図られる。以上のように本実施形
態にかかる近接場光学顕微鏡１１０によれば、実際に開
口の光透過光量をモニタしながら開口を作製する開口作
製装置１３９を備えることとしたので、再現性よく目的
の大きさの開口を作製することができる。
【００４８】しかも、実際に使うサンプルステージ面と
反射手段１４０の反射面を同一面となるように設け、開
口を作製するので、ステージ面と平行な開口面を形成す
ることができる。このようにして作製されたプローブを
そのまま交換するまで近接場光学測定で使用し続けるの
で、エリアＡ１での近接場光学測定を正確に行なえる。
また、本実施形態では、開口径検査機構１４７を備える
ことにより、プローブを顕微鏡より取外すことなく、該
プローブをステージのエリアＡ１と同一面のエリアＡ２
に移動するだけで、開口が形成されているプローブの開
口の検査を容易に行なえる。
反射手段１４０の反射面を同一面となるように設け、開
口を作製するので、ステージ面と平行な開口面を形成す
ることができる。このようにして作製されたプローブを
そのまま交換するまで近接場光学測定で使用し続けるの
で、エリアＡ１での近接場光学測定を正確に行なえる。
また、本実施形態では、開口径検査機構１４７を備える
ことにより、プローブを顕微鏡より取外すことなく、該
プローブをステージのエリアＡ１と同一面のエリアＡ２
に移動するだけで、開口が形成されているプローブの開
口の検査を容易に行なえる。
【００４９】さらに、本実施形態では、開口径調整機構
１４９を備えることにより、プローブを顕微鏡より取外
すことなく、プローブをエリアＡ１と同一面のエリアＡ
２に移動するだけで、開口の大きさの変更を容易に、か
つ所望の大きさで行なえる。なお、本発明の近接場光学
顕微鏡は、前記構成に限定されるものではなく、発明の
要旨の範囲内で種々の変形が可能である。例えば前記構
成では、本発明のプローブ開口作製装置を近接場光学顕
微鏡に組み込んだ例について説明したが、本発明のプロ
ーブ開口作製装置を単独で用いることも可能である。
１４９を備えることにより、プローブを顕微鏡より取外
すことなく、プローブをエリアＡ１と同一面のエリアＡ
２に移動するだけで、開口の大きさの変更を容易に、か
つ所望の大きさで行なえる。なお、本発明の近接場光学
顕微鏡は、前記構成に限定されるものではなく、発明の
要旨の範囲内で種々の変形が可能である。例えば前記構
成では、本発明のプローブ開口作製装置を近接場光学顕
微鏡に組み込んだ例について説明したが、本発明のプロ
ーブ開口作製装置を単独で用いることも可能である。
【００５０】また、前記構成では、プローブのＺ軸方向
の位置を固定し、反射手段をＺ軸方向に移動（上動）
し、反射手段をプローブ先端部に押付けた例について説
明したが、反射手段のＺ軸方向の位置を固定し、Ｚ軸方
向の微動送り機構等により、プローブをＺ軸方向に移動
（下動）し、該プローブ先端部を光検出手段に押付けて
もよい。
の位置を固定し、反射手段をＺ軸方向に移動（上動）
し、反射手段をプローブ先端部に押付けた例について説
明したが、反射手段のＺ軸方向の位置を固定し、Ｚ軸方
向の微動送り機構等により、プローブをＺ軸方向に移動
（下動）し、該プローブ先端部を光検出手段に押付けて
もよい。
【００５１】また、以上説明したプローブ開口作製装
置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡において、前記
反射手段に代えて、前記プローブ先端部と当接する面を
有し、前記コアを通して前記開口へ導光される前記光源
からの入射光による光励起で、該当接面から発光する発
光手段を用いることも可能である。すなわち、図３〜図
１０により説明した実施形態において、反射手段１４０
の代わりに発光手段を用いた、開口作製装置、或いは該
装置と開口径検査機構、開口径調整機構を用いた近接場
光学顕微鏡も可能である。
置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡において、前記
反射手段に代えて、前記プローブ先端部と当接する面を
有し、前記コアを通して前記開口へ導光される前記光源
からの入射光による光励起で、該当接面から発光する発
光手段を用いることも可能である。すなわち、図３〜図
１０により説明した実施形態において、反射手段１４０
の代わりに発光手段を用いた、開口作製装置、或いは該
装置と開口径検査機構、開口径調整機構を用いた近接場
光学顕微鏡も可能である。
【００５２】ここで、発光手段は、そのプローブ先端部
と当接する側の表面近傍に、蛍光等を発する発光物質を
含有する。そして、コアを通してプローブ先端部の開口
へ導光される前記光源１１６からの前記入射光１１８に
よる光励起で、該当接面から発光する。そして、該発光
手段からの発光の光量を検出することにより、上述同様
の方法で開口作製、検査等を行う。
と当接する側の表面近傍に、蛍光等を発する発光物質を
含有する。そして、コアを通してプローブ先端部の開口
へ導光される前記光源１１６からの前記入射光１１８に
よる光励起で、該当接面から発光する。そして、該発光
手段からの発光の光量を検出することにより、上述同様
の方法で開口作製、検査等を行う。
【００５３】さらに、プローブ開口作製装置、開口検査
機構及び開口調整機構における前記発光手段の励起源と
して、光源の代わりに発光手段に直流電圧を印加する電
圧印加手段を用い、発光手段を該電圧印加手段による電
圧印加で発光させてもよい。
機構及び開口調整機構における前記発光手段の励起源と
して、光源の代わりに発光手段に直流電圧を印加する電
圧印加手段を用い、発光手段を該電圧印加手段による電
圧印加で発光させてもよい。
【００５４】すなわち、図１１にはプローブ開口作製装
置において、該電圧印加手段を用いた態様が示されてい
る。すなわち、本態様では、基板１１４に存在する発光
手段は電圧印加手段１３７により該発光手段に印加され
た直流電圧で蛍光等の発光を発する。このような発光手
段に用いる発光材料として具体的には有機ＥＬ素子、無
機発光ダイオード等を用いることができる。
置において、該電圧印加手段を用いた態様が示されてい
る。すなわち、本態様では、基板１１４に存在する発光
手段は電圧印加手段１３７により該発光手段に印加され
た直流電圧で蛍光等の発光を発する。このような発光手
段に用いる発光材料として具体的には有機ＥＬ素子、無
機発光ダイオード等を用いることができる。
【００５５】図１２には本態様における、基板１１４の
上部からの配置の一例が示されている。ＸＹＺステージ
１３０の基板１１４は、通常の近接場光学測定を行なう
エリアＡ１と、開口作製のためのエリアＡ２に分けられ
ている。基板上のエリアＡ２には、プローブ開口作製装
置の発光手段１４０ａを、その発光面１４６ａが基板１
１４の面と同一面となるように設けられている。ここ
で、発光手段１４０ａからの発光は、発光面１４６ａと
当接した開口を通してプローブのコアへ導光され、検出
器で発光の光量を検出する。
上部からの配置の一例が示されている。ＸＹＺステージ
１３０の基板１１４は、通常の近接場光学測定を行なう
エリアＡ１と、開口作製のためのエリアＡ２に分けられ
ている。基板上のエリアＡ２には、プローブ開口作製装
置の発光手段１４０ａを、その発光面１４６ａが基板１
１４の面と同一面となるように設けられている。ここ
で、発光手段１４０ａからの発光は、発光面１４６ａと
当接した開口を通してプローブのコアへ導光され、検出
器で発光の光量を検出する。
【００５６】そして、他には光源が特に必要ないこと以
外は前述した場合と変わらない構成で用いられる。さら
に、これを備えた近接場光学顕微鏡、或いはこのような
電圧印加型の前記開口径検査機構、開口径調整機構をさ
らに備えた近接場光学顕微鏡の構成も可能である。
外は前述した場合と変わらない構成で用いられる。さら
に、これを備えた近接場光学顕微鏡、或いはこのような
電圧印加型の前記開口径検査機構、開口径調整機構をさ
らに備えた近接場光学顕微鏡の構成も可能である。
【００５７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかるプ
ローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学顕微
鏡によれば、前記反射光の光量と、開口の大きさとの関
係を検量情報としてあらかじめ記憶し、該反射光の光量
で開口の大きさを制御することとしたので、プローブ先
端部に開口を所望の大きさで容易に作製することができ
る。また、本発明にかかる近接場光学顕微鏡によれば、
開口が形成されているプローブの開口の大きさを検査す
る開口径検査機構を備えることにより、プローブの開口
の大きさの検査を容易に行なえる。さらに、本発明にか
かる近接場光学顕微鏡によれば、開口が形成されている
プローブの開口の大きさを変更する開口径調整機構を備
えることにより、プローブの開口の大きさの変更を容易
に行なえる。
ローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学顕微
鏡によれば、前記反射光の光量と、開口の大きさとの関
係を検量情報としてあらかじめ記憶し、該反射光の光量
で開口の大きさを制御することとしたので、プローブ先
端部に開口を所望の大きさで容易に作製することができ
る。また、本発明にかかる近接場光学顕微鏡によれば、
開口が形成されているプローブの開口の大きさを検査す
る開口径検査機構を備えることにより、プローブの開口
の大きさの検査を容易に行なえる。さらに、本発明にか
かる近接場光学顕微鏡によれば、開口が形成されている
プローブの開口の大きさを変更する開口径調整機構を備
えることにより、プローブの開口の大きさの変更を容易
に行なえる。
【図１】一般的な近接場光学顕微鏡の概略構成の説明図
である。
である。
【図２】プローブの説明図である。
【図３】本発明の一実施形態にかかる近接場光学顕微鏡
の概略構成の説明図である。
の概略構成の説明図である。
【図４】図３に示した近接場光学顕微鏡のプローブ開口
作製装置の設置箇所の説明図である。
作製装置の設置箇所の説明図である。
【図５】図３に示した近接場光学顕微鏡のプローブ開口
作製装置の概略構成の説明図である。
作製装置の概略構成の説明図である。
【図６】図５に示したプローブ開口作製装置の作用の説
明図である。
明図である。
【図７】図３に示した近接場光学顕微鏡の開口径検査機
構の概略構成の説明図である。
構の概略構成の説明図である。
【図８】図７に示した開口径検査機構の作用の説明図で
ある。
ある。
【図９】図３に示した近接場光学顕微鏡の開口径調整機
構の概略構成の説明図である。
構の概略構成の説明図である。
【図１０】図９に示した開口径調整機構の作用の説明図
である。
である。
【図１１】図３に示した近接場光学顕微鏡のプローブ開
口作製装置の一態様を示した説明図である。
口作製装置の一態様を示した説明図である。
【図１２】図１１に示した近接場光学顕微鏡のプローブ
開口作製装置の設置箇所の説明図である。
開口作製装置の設置箇所の説明図である。
１０、１１０ 近接場光学顕微鏡
１２、１１２ 試料
１４、１１４ 基板
１６、１１６ 光源
１８、１１８ 入射光
１９、１１９ ビームスプリッタ
２０、１２０ エバネッセント光
２１、１２１ 散乱光
２２、１２２ プローブ
２４、１２４ 検出器
２６、１２６ コンピュータ
２８、１２８ ステージコントローラ
３０、１３０ ＸＹＺステージ
３２、１３２ コア
１３２ａ コア先端部
３４、１３４ マスク
３６、１３６ 開口
１３７ 電圧印加手段
３８、１３８ 分光器
１３９ 開口作製装置
１４０ 反射手段
１４０ａ 発光手段
１４２ ＨＤＤ
１４４ ＣＰＵ
１４６ 反射面
１４６ａ 発光面
１４７ 開口径検査機構
１４９ 開口径調整機構
１５１ 入力デバイス
フロントページの続き
(72)発明者 成田 貴人
東京都八王子市石川町2967番地の５ 日本
分光株式会社内
Claims (12)
- 【請求項１】 光透過性を有する材質で構成されたコア
と、該コア上に形成され、延性及び遮光性を有する材質
で構成されたマスクと、を備えたプローブの先端部のマ
スクを所望の大きさで開口する装置であって、 光源と、 前記先端部と当接する面を有し、前記コアを通して前記
開口へ導光される前記光源からの入射光を該当接面で反
射する反射手段と、 前記先端部と反射手段の当接部位からの反射光の光量を
検出する光検出手段と、 前記先端部と反射手段との光軸方向の押付けを行なう押
付手段と、 あらかじめ前記反射光の光量と開口の大きさについての
検量情報を記憶している記憶手段と、 所望の大きさの開口を得るための前記反射光の光量を、
前記記憶手段に記憶されている検量情報より求める算出
手段と、 前記光検出手段により検出される前記反射光の光量が、
前記算出手段により算出された光量となるように、前記
押付手段により前記プローブ先端部と反射手段との光軸
方向の押付けを制御する押付制御手段と、 を備えたことを特徴とするプローブ開口作製装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のプローブ開口作製装置を
備え、該開口作製装置により開口が形成されたプローブ
先端部で試料の被測定面に生じたエバネッセント光の場
を散乱し、その散乱光を該開口より集光し、あるいは該
開口よりしみ出したエバネッセント光を試料の被測定面
に照射し、その散乱光ないし反射光を該開口より集光
し、又は外部光学系により集光し、試料の被測定面の情
報を得ることを特徴とする近接場光学顕微鏡。 - 【請求項３】 請求項２記載の近接場光学顕微鏡におい
て、 開口が形成されているプローブ先端部の開口の大きさを
検査する開口径検査機構を備え、該開口径検査機構は、 光源と、 前記先端部と当接する面を有し、前記コアを通して前記
開口へ導光される前記光源からの入射光を該当接面で反
射する反射手段と、 前記先端部と反射手段の当接部位からの反射光の光量を
検出する光検出手段と、 前記先端部と反射手段との光軸方向の押付けを行なう押
付手段と、 あらかじめ前記反射光の光量と開口の大きさについての
検量情報を記憶している記憶手段と、 前記光検出手段により検出された反射光の光量を、前記
記憶手段に記憶されている検量情報に当てはめ、前記プ
ローブ先端部の開口の大きさを求める比較手段と、を備
えたことを特徴とする近接場光学顕微鏡。 - 【請求項４】 請求項３記載の近接場光学顕微鏡におい
て、 開口が形成されているプローブ先端部の開口の大きさを
変更する開口径調整機構を備え、該開口径調整機構は、 光源と、 前記先端部と当接する面を有し、前記コアを通して前記
開口へ導光される前記光源からの入射光を該当接面で反
射する反射手段と、 前記先端部と反射手段の当接部位からの反射光の光量を
検出する光検出手段と、 前記先端部と反射手段との光軸方向の押付けを行なう押
付手段と、 あらかじめ前記反射光の光量と開口の大きさについての
検量情報を記憶している記憶手段と、 前記プローブ先端部の開口について所望の大きさを設定
する設定手段と、 前記設定手段により設定された大きさの開口を得るため
の前記反射光の光量を、前記記憶手段に記憶されている
検量情報より求める算出手段と、 前記光検出手段により検出される反射光の光量が、前記
算出手段により算出された光量となるように、前記押付
手段によるプローブ先端部と反射手段との光軸方向の押
付けを制御する押付制御手段と、 を備えたことを特徴とする近接場光学顕微鏡。 - 【請求項５】 光透過性を有する材質で構成されたコア
と、該コア上に形成され、延性及び遮光性を有する材質
で構成されたマスクと、を備えたプローブの先端部のマ
スクを所望の大きさで開口する装置であって、 光源と、 前記先端部と当接する面を有し、前記コアを通して前記
開口へ導光される前記光源からの入射光による光励起
で、該当接面から発光する発光手段と、 前記先端部と発光手段の当接部位からの発光の光量を検
出する光検出手段と、前記先端部と発光手段との光軸方
向の押付けを行なう押付手段と、 あらかじめ前記発光の光量と開口の大きさについての検
量情報を記憶している記憶手段と、 所望の大きさの開口を得るための前記発光の光量を、前
記記憶手段に記憶されている検量情報より求める算出手
段と、 前記光検出手段により検出される前記発光の光量が、前
記算出手段により算出された光量となるように、前記押
付手段により前記プローブ先端部と発光手段との光軸方
向の押付けを制御する押付制御手段と、 を備えたことを特徴とするプローブ開口作製装置。 - 【請求項６】 請求項５記載の装置において、 前記光源の代わりに前記発光手段に直流電圧を印加する
電圧印加手段を備え、 前記発光手段は、該電圧印加手段による電圧印加で励起
され発光することを特徴とするプローブ開口作製装置。 - 【請求項７】 請求項５記載のプローブ開口作製装置を
備え、該開口作製装置により開口が形成されたプローブ
先端部で試料の被測定面に生じたエバネッセント光の場
を散乱し、その散乱光を該開口より集光し、あるいは該
開口よりしみ出したエバネッセント光を試料の被測定面
に照射し、その散乱光ないし反射光を該開口より集光
し、又は外部光学系により集光し、試料の被測定面の情
報を得ることを特徴とする近接場光学顕微鏡。 - 【請求項８】 請求項７記載の近接場光学顕微鏡におい
て、 開口が形成されているプローブ先端部の開口の大きさを
検査する開口径検査機構を備え、該開口径検査機構は、 光源と、 前記先端部と当接する面を有し、前記コアを通して前記
開口へ導光される前記光源からの入射光による光励起
で、該当接面から発光する発光手段と、 前記先端部と発光手段の当接部位からの発光の光量を検
出する光検出手段と、 前記先端部と発光手段との光軸方向の押付けを行なう押
付手段と、 あらかじめ前記発光の光量と開口の大きさについての検
量情報を記憶している記憶手段と、 前記光検出手段により検出された発光の光量を、前記記
憶手段に記憶されている検量情報に当てはめ、前記プロ
ーブ先端部の開口の大きさを求める比較手段と、 を備えたことを特徴とする近接場光学顕微鏡。 - 【請求項９】 請求項８記載の近接場光学顕微鏡におい
て、 開口が形成されているプローブ先端部の開口の大きさを
変更する開口径調整機構を備え、該開口径調整機構は、 光源と、 前記先端部と当接する面を有し、前記コアを通して前記
開口へ導光される前記光源からの入射光による光励起
で、該当接面から発光する発光手段と、 前記先端部と発光手段の当接部位からの発光の光量を検
出する光検出手段と、 前記先端部と発光手段との光軸方向の押付けを行なう押
付手段と、 あらかじめ前記発光の光量と開口の大きさについての検
量情報を記憶している記憶手段と、 前記プローブ先端部の開口について所望の大きさを設定
する設定手段と、 前記設定手段により設定された大きさの開口を得るため
の前記発光の光量を、前記記憶手段に記憶されている検
量情報より求める算出手段と、 前記光検出手段により検出される発光の光量が、前記算
出手段により算出された光量となるように、前記押付手
段によるプローブ先端部と発光手段との光軸方向の押付
けを制御する押付制御手段と、 を備えたことを特徴とする近接場光学顕微鏡。 - 【請求項１０】 請求項６記載のプローブ開口作製装置
を備え、該開口作製装置により開口が形成されたプロー
ブ先端部で試料の被測定面に生じたエバネッセント光の
場を散乱し、その散乱光を該開口より集光し、あるいは
該開口よりしみ出したエバネッセント光を試料の被測定
面に照射し、その散乱光ないし反射光を該開口より集光
し、又は外部光学系により集光し、試料の被測定面の情
報を得ることを特徴とする近接場光学顕微鏡。 - 【請求項１１】 請求項１０記載の近接場光学顕微鏡に
おいて、 開口が形成されているプローブ先端部の開口の大きさを
検査する開口径検査機構を備え、該開口径検査機構は、 前記発光手段に直流電圧を印加する電圧印加手段と、 前記プローブ先端部と当接する面を有し、前記電圧印加
手段による電圧印加で励起され該当接面から発光する発
光手段と、 前記先端部と発光手段の当接部位からの発光の光量を検
出する光検出手段と、 前記先端部と発光手段との光軸方向の押付けを行なう押
付手段と、 あらかじめ前記発光の光量と開口の大きさについての検
量情報を記憶している記憶手段と、 前記光検出手段により検出された発光の光量を、前記記
憶手段に記憶されている検量情報に当てはめ、前記プロ
ーブ先端部の開口の大きさを求める比較手段と、 を備えたことを特徴とする近接場光学顕微鏡。 - 【請求項１２】 請求項１１記載の近接場光学顕微鏡に
おいて、 開口が形成されているプローブ先端部の開口の大きさを
変更する開口径調整機構を備え、該開口径調整機構は、 前記発光手段に直流電圧を印加する電圧印加手段と、 前記プローブ先端部と当接する面を有し、前記電圧印加
手段による電圧印加で励起され該当接面から発光する発
光手段と、 前記先端部と発光手段の当接部位からの発光の光量を検
出する光検出手段と、 前記先端部と発光手段との光軸方向の押付けを行なう押
付手段と、 あらかじめ前記発光の光量と開口の大きさについての検
量情報を記憶している記憶手段と、 前記プローブ先端部の開口について所望の大きさを設定
する設定手段と、 前記設定手段により設定された大きさの開口を得るため
の前記発光の光量を、前記記憶手段に記憶されている検
量情報より求める算出手段と、 前記光検出手段により検出される発光の光量が、前記算
出手段により算出された光量となるように、前記押付手
段によるプローブ先端部と発光手段との光軸方向の押付
けを制御する押付制御手段と、 を備えたことを特徴とする近接場光学顕微鏡。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001251784A JP4694736B2 (ja) | 2001-08-22 | 2001-08-22 | プローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡 |
| US10/208,749 US6784414B2 (en) | 2001-08-22 | 2002-08-01 | Probe opening fabricating apparatus, and near-field optical microscope using the same |
| US10/796,089 US6803558B2 (en) | 2001-08-22 | 2004-03-10 | Probe opening fabricating apparatus, and near-field optical microscope using the same |
| US10/796,088 US6812449B2 (en) | 2001-08-22 | 2004-03-10 | Probe opening fabricating apparatus, and near-field optical microscope using the same |
Applications Claiming Priority (1)
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