JP4764583B2 - 光放射圧測定装置 - Google Patents
光放射圧測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4764583B2 JP4764583B2 JP2001303132A JP2001303132A JP4764583B2 JP 4764583 B2 JP4764583 B2 JP 4764583B2 JP 2001303132 A JP2001303132 A JP 2001303132A JP 2001303132 A JP2001303132 A JP 2001303132A JP 4764583 B2 JP4764583 B2 JP 4764583B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- resonance
- unit
- probe
- resonance frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は光放射圧を利用した光放射圧測定装置、共振周波数調整方法、開口径検査装置及びそれを備えた近接場光学顕微鏡、特に光放射圧と共振体の共振周波数の相関の利用方法の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に物体に圧力が加わる場合には気体、液体あるいは固体との接触により該物体に圧力が加えられる。
しかし、光放射によっても物体には圧力が加わる。すなわち、例えば図1に示すようにビーム光2を物体4の反射面6に照射すれば物体4はビーム光2による光放射圧Pを受ける。すなわち、光は波としての性質と共に物質としての性質を備え、運動量を持っており、物体に力を作用することができる。
このような光放射圧は、原子間力顕微鏡のカンチレバーを用いれば実際に観測することができる。
【0003】
一方、その材質や形状等により決まる周波数特性を有する共振体、例えば水晶等は様々な分野に用いられている。そして、例えば同じ材質の共振体の周波数特性を調整する場合には、その形状を調整することで所望値を得ている。
また、他に共振体の周波数特性を応用した例としては、例えば近接場光学顕微鏡のプローブの周波数特性による位置制御が挙げられる。
【0004】
近接場光学顕微鏡は、光波長より小さい空間分解能を持ち、分光分析測定もできる装置で、近年開発されたものでありその応用が期待されている。
この近接場光学顕微鏡ではエバネッセント光と呼ばれる、物体表面から数十nm程度の極近傍領域に分布する光により試料表面の凹凸や成分を分析する。
【0005】
図2には近接場光学顕微鏡の概略図が示されている。同図に示す近接場光学顕微鏡10に設置された基板14上には、試料12が配置されている。
光源16からの入射光18は、ガラスファイバの先端部を加工して作成したプローブ20の内部を通り、プローブ20先端部22に達する。先端部22は、図3に示したように先鋭状で、金属膜等のマスク64で被覆され光学遮蔽されており、その突端部のみ光波長以下の微小開口62が形成されている。そして光源16からプローブを通して導光された入射光18は該開口からエバネッセント光24として先端部22近傍にしみだしている。
【0006】
そして、図2において、このエバネッセント光24がしみだしたプローブ20の先端部22を、エバネッセント光の場が試料測定面に進入するまで近づけると、エバネッセント光は散乱し、或いはエバネッセント光により被測定試料12が発光する。この散乱光や発光などの被測定光を対物レンズ25によって集光し、集光された光を、分光器等の光学処理装置26や検出器28に導入することで試料の情報を検出する。
【0007】
また、プローブ20は装置に備えられた加振器30に接続されており、プローブ20の共振周波数で振動している。上述のようにエバネッセント光24がしみだしたプローブ20の先端部22を、エバネッセント光の場が試料測定面に進入するまで近づけた場合、プローブの先端部−試料間でシアフォースと呼ばれる力が働き、プローブ20の振動が制振される。この制振の割合とプローブ−試料間の距離の関係には、プローブ、試料等の条件により定まる一定の相関関係があるので、制振の割合が一定となるようにプローブの先端部−試料間の距離を制御しつつ試料表面を走査することで試料表面の凹凸に関する情報が得られる。
【0008】
そして、プローブの微小振動の振幅を検出するために、プローブ20に照射するスポットレーザー等のプローブ光源32と、プローブ20の振動により変調されたプローブ光源32が発する光の反射光の強度を検出する検出器34を含む検出部36でプローブ20の振動の振幅変化を検出し、検出結果に基づいてステージ38の位置を調整することでプローブ−試料間の距離を制御している。
【0009】
すなわち、コンピュータ46からの信号によりステージコントローラ40でXYZステージ38を制御して、プローブ20の先端部22と試料測定面との間の上下方向の距離を、検出器34で検出された振幅変化が一定となるように調節しつつ試料測定面を走査すれば、試料12に非接触でかつ試料12の凹凸を的確に高分解能で把握することが可能となる。
さらに、前述の分光スペクトルより試料12の被測定面の各測定点における成分情報を同時に得ることが可能となる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述した光の放射圧を積極的に応用した技術を開発する場合、あるいは光の放射圧を定量的に知る必要がある場合等に十分な程度に光の放射圧を簡便かつ正確に測定することができる技術は存在しなかった。
【0011】
また、水晶発振子等の共振体は、形状により決まる一定の周波数特性のみをもち、その周波数を可変とすることはできなかった。
【0012】
また、前述した近接場光学顕微鏡に用いられるプローブは消耗品であり、使用するにつれてプローブ突端に設けられた微小開口の開口径が変化する。開口径の変化は直接測定に影響するので実際の開口径を手軽に評価することができれば望ましい。しかし、開口径を評価する場合、近接場プローブを装置系から取り外して他の場所へ移動して開口径評価を行う必要があり、その後再びプローブを装置系へ取付けるのはアライメントの調整等に手間がかかり決して簡易なものではなかった。
【0013】
また、このような近接場光学顕微鏡に用いるプローブの突端部の微小開口に限らず、様々な光学開口を簡便かつ正確に測定する方法があれば望ましい。
本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされたものであり、その目的は光放射圧を簡便かつ正確に測定可能な光放射圧測定装置、共振体の共振周波数を容易に調整可能な共振周波数調整方法、共振体の微小開口を評価する開口径検査装置及びそれを備えた近接場光学顕微鏡を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、光放射圧でプローブの周波数特性が変化することを見出し本発明を完成するに至った。
すなわち本発明にかかる光放射圧測定装置は、放射光の光放射圧を測定する光放射圧測定装置において、
前記放射光の強度を調整することができる放射光光源と、
前記放射光を反射する反射手段を有するプローブの共振部と、
前記共振部を加振する、加振周波数可変の加振部と、
前記加振部により加振されている前記共振部に照射するプローブ光を発するプローブ光源と、前記共振部の振動により変調されたプローブ光の反射光を検出することで前記共振部の振動振幅の大きさを検出する検出手段を備えた検出部と、
前記検出部で得た振動振幅の大きさと前記共振部の振動周波数の関係から前記共振部の共振周波数を求める共振周波数導出部と、
あらかじめ光放射圧と前記共振部の共振周波数についての検量情報を記憶している記憶部と、
前記共振周波数導出部により求めた共振周波数を、前記記憶部に記憶されている検量情報に当てはめ、前記放射光の光放射圧を求める比較部と、
を備えたことを特徴とする。
また、前記装置において、前記検出部は圧電材料により前記共振部の振動振幅の大きさを検出することも好適である。
【0015】
また、本発明にかかる光放射圧測定装置を用いてプローブの共振部の共振周波数調整方法は、
前記共振部の共振周波数は前記共振周波数導出部によって観察されており、
放射光の光放射圧を調整可能である光源から発する放射光を、該放射光を反射する反射手段を有するプローブからなる共振部の該反射手段へ照射し、
前記放射光光源からの放射光の強度を変更して光放射圧を調整することにより前記共振部の共振周波数を所望の値に調整することを特徴とする。
【0016】
また、本発明にかかる開口径検査装置は、放射光を反射する反射手段を有するプローブからなる共振部の該反射手段に開けられた光学開口の直径を検査する開口径検査装置であって、
前記放射光を発する光源部と、
前記共振部を加振する、加振周波数可変の加振部と、
該加振部により加振されている前記共振部に照射するプローブ光を発するプローブ光源と、前記共振部の振動により変調されたプローブ光の反射光を検出することで前記共振部の振動振幅の大きさを検出する検出手段を備えた検出部と、
該検出部で得た振動振幅の大きさと前記共振部の振動周波数の関係から前記共振部の共振周波数を求める共振周波数導出部と、
あらかじめ前記共振部の共振周波数と前記光学開口の直径についての検量情報を記憶している記憶部と、
前記共振周波数導出部により求めた共振周波数を、前記記憶部に記憶されている検量情報に当てはめ、前記光学開口の直径を求める比較部と、
を備えたことを特徴とする。
また、前記装置において、前記検出部は圧電材料により前記共振部の振動振幅の大きさを検出することも好適である。
【0017】
また、前記開口径検査装置において、前記プローブは近接場光学顕微鏡用プローブであり、前記反射手段として該プローブ先端にマスクが設けられ、該マスクに開けられた光学開口の大きさを検査することも可能である。
また、近接場光学顕微鏡がそのような開口径検査装置を備えることが好適である。
【0018】
【発明の実施の形態】
まず、本発明の基礎となる光放射圧と共振体の周波数特性との相関について説明する。
図4には、近接場光学顕微鏡のプローブに入射光を加えた場合と加えない場合において測定した、プローブの周波数特性についてのグラフが示されている。同図より明らかなように、入射光を加えない場合に比して、入射光を加えた場合では、共振周波数に対応する信号(振動振幅の大きさに比例する)のピークが高周波数側にシフトしていることがわかる。
【0019】
また、図5には、入射光強度を変えた場合のプローブの共振周波数(信号のピークにおける周波数)の変化を測定したグラフが示されている。同図より明らかなように、入射光強度、すなわち光放射圧の増加に伴い共振周波数が高周波数側にシフトしていることがわかる。
【0020】
この測定結果は、次の理由によると考えられる。すなわち、図6に概略を示した、ガラスファイバの先端部を加工して作成したプローブの先端部22には、金属膜64が被覆されている。そして、入射光源から入射光18を、該ガラスファイバプローブ内を通して先端部22まで導光すると、入射光18は金属膜64により反射する。
【0021】
この反射の際に入射光18は金属膜64に対して、その金属膜に対する入射方向へ圧力Pを付与する。このように金属膜64が圧力を受けている、すなわち共振体であるプローブに力が加わっている状態では、図4の測定結果のように入射光を照射しない通常の状態での共振周波数に比して、プローブの共振周波数は高くなる。また、図5の測定結果のように入射光の強度、すなわち光放射圧が増加すればプローブが受ける力も大きくなり共振周波数はさらに高くなる。
本発明は、以上説明した現象に基づくものである。以下、図面に基づき本発明の実施形態について説明する。
【0022】
光放射圧測定装置
図7には、本発明の一実施形態にかかる光放射圧測定装置の概略が示されている。同図に示す光放射圧測定装置110は、先端に金属膜112(反射手段)が被覆された共振体のガラスファイバ114(共振部)と、加振器116(加振部)と、プローブ光源118及び光検出器120(検出部)と、CPU122(共振周波数導出部、比較部)及びHDD124(記憶部)を備えるコンピュータ126を備えている。
【0023】
以下、上記装置の作用について、実際に測定を行う際の動作に基づき説明する。測定対象である、光放射圧未知の放射光としては、特に限定されず、例えばレーザー光の光放射圧が測定可能である。但し、測定対象の放射光がビーム状でない場合は、共振部の反射手段に導光する前に適当な光学系でビーム状に補正した後で該反射手段に導光する必要があり、測定後に光放射圧を求める際には光学系による補正に対応した演算補正が必要である。また、ビーム光の光束の直径が各測定で異なる場合には、光束の直径を各測定間で演算補正する必要がある。
【0024】
また、光放射圧は原則的には光波長に依存しないので、特に光波長について考慮せずとも、異なる光波長の放射光でも同じように測定可能である。
【0025】
測定対象の放射光128は、共振体のガラスファイバ114に導光され、ファイバ先端に被覆されている金属膜112で反射される。この際に金属膜112は放射光128から前述した光放射圧を受ける。
【0026】
本実施形態では共振体としてガラスファイバを用いているが、共振体の材質、形状は特に限定されず、共振特性等を考慮して適宜選択される。しかし、共振体が放射光を受ける部分では光放射圧を受けるために該放射光を反射する必要があり、例えば共振体の材質が放射光に対して光透過性、光吸収性を有するような場合には、本実施形態の金属膜のような適当な反射手段を共振体に備える必要がある。また、放射光と共振体及び反射手段の間のアライメントは各測定で一致していなければならない。
【0027】
ガラスファイバ114は適当な位置で加振器116に接続されている。加振器116は加振周波数が可変であり、加振器116との接続部分より下側のガラスファイバの振動部分における、共振周波数前後での周波数掃引が可能である。
【0028】
そして、ガラスファイバ114を通して金属膜112に放射光を照射した状態で加振器116により共振体を微小振動させ、周波数掃引を行う。このときの共振体の振動振幅の大きさを測定し、図5のようなグラフを作成する。
ファイバの微小振動の振幅の大きさを検出するために、スポットレーザー118をファイバの振動部分に照射し、ファイバの振動により変調された反射光の強度を検出器120で検出することでファイバの振動の振幅変化を検出している。
また、ファイバの振動の振幅変化は、ピエゾ素子等の圧電材料により検出することも可能である。
【0029】
次に、このようにして測定された図5に示したような共振体の周波数特性は、図7のコンピュータ126のCPU122で解析される。すなわち、該周波数特性から、その振幅の大きさが最大となる周波数を共振周波数として決定する。
【0030】
コンピュータ126のHDD124では、あらかじめ光放射圧がわかっている参照用の放射光をファイバを通して金属膜112に照射した場合について、複数の光放射圧での上述の方法で測定された共振周波数のデータから作成した光放射圧−共振周波数の検量情報が記憶されている。
【0031】
そして、CPU122で前記において決定された、光放射圧未知の放射光をファイバを通して金属膜112に照射した場合の共振周波数を、HDD124に記憶されている光放射圧−共振周波数の検量情報に当てはめ、測定対象である放射光の光放射圧が決定される。
以上説明したように本発明の光放射圧測定装置によれば、光放射圧を簡便かつ正確に測定することが可能である。
【0032】
共振周波数調整方法
以下、図8に基づいて本発明の共振周波数調整方法について説明する。前述した通り、共振体に放射光を照射し圧力を作用させると、その光放射圧の大きさに依存して共振体の共振周波数が変化する。本発明の共振周波数調整方法では、放射光の強度が可変である光源を用いて光放射圧により共振体の共振周波数を制御する。
【0033】
図8には本発明の共振周波数調整方法を実際に行う際の一実施形態の概略が示されている。光源202から発する放射光204は、放射光強度が連続的あるいは断続的に可変であり、光源としては例えばレーザー光等が用いられる。また、放射光204としてはビーム状であることが好ましい。
放射光204は、共振体である水晶214に導光され、その一端に被覆されている金属膜212で反射される。この際に金属膜212は放射光204から前述した光放射圧を受ける。
【0034】
水晶214は、電圧等で一定周波数で発振している。本実施形態では共振体として水晶を用いているが、共振体としては、他にもガラスファイバ等任意の材質、形状のものが用いられる。しかし、共振体が放射光を受ける部分では光放射圧を受けるために該放射光を反射する必要があり、例えば共振体の材質が放射光に対して光透過性、光吸収性を有するような場合には、本実施形態における金属膜212のような適当な反射手段を共振体に備える必要がある。
【0035】
一定周波数で発振していた共振体は放射光204により反射手段である金属膜212を介して光放射圧を受け、図5に示したように、光放射圧の大きさに依存して周波数特性が変化する。同図より明らかなように、光放射圧の掃引による周波数特性の変化は連続的なので、光放射圧を制御することにより共振周波数のチューニングが可能となる。
【0036】
以上説明したように本発明の共振周波数調整方法によれば、従来は形状により決まる一定の共振周波数しか利用できなかったのに対し、共振体に放射する光の光放射圧を制御することで共振周波数のチューニングが可能となり、容易に可変の共振周波数が利用可能となる。
【0037】
開口径検査装置およびそれを備えた近接場光学顕微鏡
以下、本発明の開口径検査装置およびそれを備えた近接場光学顕微鏡について説明する。図9には本発明の一実施形態にかかる近接場光学顕微鏡の概略図が示されている。なお、前記図2と対応する部分には符号300を加えて示し説明を省略する。
同図に示す近接場光学顕微鏡310に設置された基板314上には、試料312が配置されている。
光源316からの入射光318は、ガラスファイバの先端部を加工して作成したプローブ320の内部を通り、プローブ320先端部322に達する。先端部322は、図10に示したように先鋭状で、金属膜等のマスク364で被覆され光学遮蔽されており、その突端部のみ光波長以下の微小開口362が形成されている。そして光源からプローブを通して導光された入射光318は該開口からエバネッセント光324として先端部322近傍にしみだしている。
【0038】
そして、図9において、このエバネッセント光324がしみだしたプローブ320の先端部322を、エバネッセント光の場が試料測定面に進入するまで近づけると、エバネッセント光は散乱し、或いはエバネッセント光により被測定試料312が発光する。この散乱光や発光などの被測定光を対物レンズ324によって集光し、集光された光を、分光器等の光学処理装置326や検出器328に導入することで試料の情報を検出する。
【0039】
また、プローブ320は装置に備えられた加振器330に接続されており、プローブ320の共振周波数で振動している。上述のようにエバネッセント光324がしみだしたプローブ320の先端部322を、エバネッセント光の場が試料測定面に進入するまで近づけた場合、プローブの先端部−試料間でシアフォースと呼ばれる力が働き、プローブ320の振動が制振される。この制振の割合とプローブ−試料間の距離の関係には、プローブ、試料等の条件により定まる一定の相関関係があるので、制振の割合が一定となるようにプローブの先端部−試料間の距離を制御しつつ試料表面を走査することで試料表面の凹凸に関する情報が得られる。
【0040】
そして、プローブの微小振動の振幅を検出するために、プローブ320に照射するスポットレーザー等のプローブ光源332と、プローブ320の振動により変調されたプローブ光源332が発する光の反射光の強度を検出する検出器334を含む検出部336でプローブ320の振動の振幅変化を検出し、検出結果に基づいてステージ338の位置を調整することでプローブ−試料間の距離を制御している。
【0041】
すなわち、コンピュータ346からの信号によりステージコントローラ340でXYZステージ338を制御して、プローブ320の先端部322と試料測定面との間の上下方向の距離を、検出器334で検出された振幅変化が一定となるように調節しつつ試料測定面を走査すれば、試料312に非接触でかつ試料312の凹凸を的確に高分解能で把握することが可能となる。
さらに、前述の分光スペクトルより試料312の被測定面の各測定点における成分情報を同時に得ることが可能となる。
【0042】
ところで、前述したように近接場光学顕微鏡のプローブ突端の微小開口の開口径は使用しているうちに変わってしまう場合がある。
しかしながら、従来はこれを簡易に検査する手段が存在しなかった。さらに、プローブを顕微鏡から取外した後検査を行なう必要があり、検査後プローブを再び取り付けた後、プローブの振動振幅等を制御する光学系との光軸調整等が再度必要となり、非常に手間のかかる作業を要した。
【0043】
そこで、本発明では近接場光学顕微鏡に付属して、装置から取り外しせずに開口径が検査可能な開口径検査装置を備えている。
図11には本発明の一実施形態にかかる開口径検査装置の概略が示されている。本実施形態にかかる開口径検査装置410は近接場光学顕微鏡に付属しており、光源416と、加振器430(加振部)と、プローブ光源432及び検出器434(検出部)と、コンピュータ446のCPU442(共振周波数導出部、比較部)と、HDD444(記憶部)を備える。
【0044】
ここで、本実施形態にかかる開口径検査装置の各構成要素を、近接場光学顕微鏡の構成要素としても用いている。
開口径検査時にはまずZ軸方向の駆動機構であるステージコントローラ440でXYZステージ438を駆動し試料測定面とプローブ420先端部を十分に引き離しておく。
【0045】
ガラスファイバは適当な位置で加振器430に接続されており、そこから下がプローブを形成し加振器430により加振される。加振器430は加振周波数が可変であり、プローブの共振周波数前後での周波数掃引が可能である。
【0046】
そして、プローブ420を通して先端部に被覆された金属膜へ一定強度の放射光を照射した状態で加振器430によりプローブ420を微小振動させ、周波数掃引を行う。このときのプローブ420の振動振幅の大きさを測定すると、図4のような周波数特性が得られる。
プローブ420の微小振動の振幅の大きさを検出するために、スポットレーザー432を微小振動しているプローブ420に照射し、プローブ420の振動により変調された反射光の強度を検出器434で検出することでプローブ420の振動の振幅変化を検出している。
また、プローブの振動の振幅変化は、ピエゾ素子等の圧電材料により検出することも可能である。
【0047】
次に、このようにして得られたプローブ420の周波数特性は、図11のコンピュータ446のCPU442で解析される。すなわち、該周波数特性から、その振幅の大きさが最大となる周波数を共振周波数として決定する。
【0048】
コンピュータ446のHDD444では、あらかじめ複数の開口径での参照用プローブについて、前記一定強度の放射光を該プローブを通して先端部のマスクに照射した場合の各開口径における共振周波数データから作成した開口径−共振周波数の検量情報が記憶されている。
【0049】
そして、CPU442で前記において決定された開口径未知のプローブの光照射時の共振周波数を、HDD444に記憶されている開口径−共振周波数の検量情報に当てはめ、測定対象であるプローブの開口径が決定される。
【0050】
以上、本発明の開口径検査装置を用いて近接場顕微鏡用プローブの突端開口径を検査する実施形態について説明したが、本発明の開口径検査装置はこのような用途に限らず様々な場合において開口径検査が可能である。
図12には本発明の開口径検査装置の概略が示されている。該開口径検査装置510は光源516と、加振器530(加振部)と、プローブ光源532及び検出器534(検出部)と、コンピュータ556のCPU552(共振周波数導出部、比較部)とHDD554(記憶部)とを備える。
【0051】
また、測定対象としては、例えば図13(A)に示すように入射光528の反射面564に、光学開口562が形成された測定物560であればよい。また、このような測定物自体に加振器を取付けることが困難な場合や、共振特性等を考慮する場合には図13(B)に示すように、ガラスファイバや水晶のような光透過性の共振体520に、該測定物560を取り付けたものでもよい。
【0052】
図12において、光透過性の共振体520は適当な位置で加振器530に接続されており、図13(B)のように測定物560が取付けられた共振体520は加振器530により加振される。加振器530は加振周波数が可変であり、周波数掃引が可能である。
【0053】
そして、測定物560の反射面564の、光学開口562を含む範囲へ一定強度の放射光を照射した状態で加振器530により共振体520を微小振動させ、周波数掃引を行う。このときの共振体520の振動振幅の大きさを測定し、図4のような周波数特性を得る。
共振体520の微小振動の振幅の大きさを検出するために、スポットレーザー532を微小振動している共振体520に照射し、共振体520の振動により変調された反射光の強度を検出器534で検出することで共振体520の振動の振幅変化を検出している。
また、共振体の振動の振幅変化は、ピエゾ素子等の圧電材料により検出することも可能である。
【0054】
次に、このようにして測定された共振体520及び測定物560の結合体の周波数特性は、図12のコンピュータ546のCPU542で解析される。すなわち、該周波数特性から、その振幅の大きさが最大となる周波数を共振周波数として決定する。
【0055】
コンピュータ546のHDD544では、あらかじめ測定物と同一形状、同一材質のものについて、異なる開口径の光学開口を作成したいくつかの参照物について、前記一定強度の放射光を照射した場合の前記共振周波数データから作成した開口径−共振周波数の検量情報が記憶されている。
【0056】
そして、CPU542で前記において決定された、共振体520及び開口径未知の測定物560の結合体についての光照射時の共振周波数を、HDD544に記憶されている開口径−共振周波数の検量情報に当てはめ、測定物の開口径が決定される。
【0057】
なお、前記近接場顕微鏡において、例えば以下の測定方法が可能である。
<試料ステージの回転>
従来ピエゾ素子によりステージを駆動するX−Yピエゾステージ上に試料を設置して、ソフトウェアにより指定された各座標点についてスキャンを行うマッピング測定が、原子間力顕微鏡や顕微分光装置等様々な装置で汎用されている。
このマッピング測定において、試料中の任意の選択範囲における回転像、すなわち図14に示すような、異なる角度からの各測定像を得ようとする場合には、ステージの原点(ステージの機械的回転の中心点)を中心軸として実際に試料(ステージ)を回転させる等の操作を行なっていた。
【0058】
しかし、このような従来の方法では該選択範囲中の回転中心とステージの原点を合わせるために試料を動かさなければならなかった。
【0059】
そこで、従来のように試料を回転するのではなく、スキャン方向を回転すれば試料を動かすことなく試料中の任意の選択範囲について前記したような試料の回転像が得られる。
【0060】
すなわち、図15に示すように試料中の測定したい選択範囲内の適当な位置、例えば該範囲の中心位置を中心軸として、近接場光学顕微鏡の場合であれば近接場プローブによるスキャン方向を所望の角度に設定してスキャンを行えば、試料中の任意の選択範囲における回転像を得ることが可能である。なお、スキャン方向を所望の角度に設定する際の、測定点の座標算出はソフトウェア的に容易に可能である。
【0061】
また、この場合において、例えば前記回転の角度をコンピュータで指定する際に、指定した角度にて回転した場合の画像の変化を、ダミーの画像を用いて表示したり、或いは前回測定した画像を読み込み表示するようにすることもソフトウェアで設定可能である。
【0062】
<近接場光学顕微鏡による露光>
従来の近接場光学顕微鏡による露光を行う際の方法は、マニュアルで1点ごとに露光条件及び露光位置を指定して露光するものであった。
【0063】
しかしこのような従来の方法では操作が煩雑で複雑な図形を露光するには多大な時間を要していた。
【0064】
そこで、露光を制御し測定を自動化するためにの以下に説明するようなシステムを用いれば、近接場光学顕微鏡による露光を簡易に行うことが可能となる。
すなわち、露光画像をビットマップ画像データとして入力し、露光位置および露光時間或いは強度として出力するシステムを用いる。
【0065】
ここで、露光位置としては、画像データ中の各ドットの位置指定及び実際の露光像のスケール指定により決定される。
また、各点の露光指定時間或いは露光強度は画像データ中の各ドットに割り振られた色により決定することができる。例えば色のコントラストを露光時間あるいは強度に割り振る方法が挙げられ、白色:露光時間0秒、黒色:露光時間10秒、のように各色を露光時間に割り振り、中間色のグラデーションでさらに細かく露光時間等を指定することも可能である。
【0066】
画像データ中の各ドットに対応する各露光位置は、ラスタースキャン或いはベクトルスキャンにより露光される。
【0067】
また、前記露光時間の指定方法としては、光源のシャッタをオン・オフする方法、或いはプローブ、試料相互間における近接場領域への挿入・除去による方法が挙げられる。
【0068】
また、前記露光強度の指定方法としては、光路に挿入された光学フィルタの自動切換えによる方法が挙げられる。
【0069】
また、実際の露光操作実行中に、その進行度合がわかるように、あらかじめ与えられている露光像の画像データを露光の進行度に合わせてディスプレイに書き出してゆくようにしてもよい。
以上説明した近接場光学顕微鏡による露光システムは、例えばDRAMのパターニングの補修、ナノファブリケーション、高密度記録などに応用され得る。
【0070】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光放射圧測定装置によれば、光放射圧で共振体の周波数特性が変化することを利用したので、光放射圧を簡便かつ正確に測定可能である。
また、本発明の共振周波数調整方法によれば、光放射圧で共振体の周波数特性が変化することを利用したので、共振体の共振周波数を容易に調整可能である。
また、本発明の開口径検査装置によれば、光放射圧で共振体の周波数特性が変化することを利用したので、微小開口の検査が可能である。特に、それを近接場光学顕微鏡に備えた場合にはプローブ突端部の微小開口の検査が簡易に可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】光放射圧の概念説明図である。
【図2】近接場光学顕微鏡の概略説明図である。
【図3】近接場光学顕微鏡のプローブ先端部の概略説明図である。
【図4】近接場光学顕微鏡のプローブへの光照射前後におけるプローブの周波数特性の概略説明図である。
【図5】近接場光学顕微鏡のプローブへの入射光強度とプローブの共振周波数の関係を示したグラフである。
【図6】近接場光学顕微鏡のプローブ先端部での光放射圧の作用の概念説明図である。
【図7】本発明の光放射圧測定装置の一実施形態にかかる概略説明図である。
【図8】本発明の共振周波数調整方法の一実施形態にかかる概略説明図である。
【図9】本発明の開口径検査装置を備えた近接場光学顕微鏡の概略説明図である。
【図10】近接場光学顕微鏡のプローブ先端部の概略説明図である。
【図11】本発明の開口径検査装置の一実施形態にかかる概略説明図である。
【図12】本発明の開口径検査装置の一実施形態にかかる概略説明図である。
【図13】本発明の開口径検査装置により開口径を測定する測定物の概略説明図である。
【図14】従来のマッピング測定における回転像の測定方法の概略説明図である。
【図15】マッピング測定においてスキャンを回転する方法による回転像の測定方法の概略説明図である。
【符号の説明】
2:ビーム光、4:物体、6:反射面、10:近接場光学顕微鏡、12:試料、14:基板、16:光源、18:入射光、20:プローブ、22:先端部、24:エバネッセント光、25:対物レンズ、26:光学処理装置、28:検出器、30:加振器、32:プローブ光源、34:検出器、36:検出部、38:ステージ、40:ステージコントローラ、46:コンピュータ、62:開口、64:金属膜、110:放射圧測定装置、112:金属膜、114:ガラスファイバ、116:加振器、118:プローブ光源、120:光検出器、122:CPU、124:HDD、126:コンピュータ、128:放射光、202:光源、204:放射光、212:金属膜、214:水晶、316(416):光源、318(418):入射光、320(420):プローブ、322(422):先端部、324(424):エバネッセント光、325(425):対物レンズ、326(426):光学処理装置、328(428):検出器、330(430):加振器、332(432):プローブ光源、334(434):検出器、336(436):検出部、338(438):ステージ、340(440):ステージコントローラ、342(442):CPU、344(444):HDD、346(446):コンピュータ、362:開口、364:金属膜、410:開口径検査装置、510:開口径検査装置、516:光源、520:プローブ、530:加振器、532:プローブ光源、534:検出器、542:CPU、544:HDD、546:コンピュータ、560:測定物、562:開口、564:反射面
Claims (7)
- 放射光の光放射圧を測定する光放射圧測定装置において、
前記放射光の強度を調整することができる放射光光源と、
前記放射光を反射する反射手段を有するプローブからなる共振部と、
該共振部を加振する、加振周波数可変の加振部と、
該加振部により加振されている前記共振部に照射するプローブ光を発するプローブ光源と、前記共振部の振動により変調されたプローブ光の反射光を検出することで前記共振部の振動振幅の大きさを検出する検出手段を備えた検出部と、
該検出部で得た振動振幅の大きさと前記共振部の振動周波数の関係から前記共振部の共振周波数を求める共振周波数導出部と、
あらかじめ光放射圧と前記共振部の共振周波数についての検量情報を記憶している記憶部と、
前記共振周波数導出部により求めた共振周波数を、前記記憶部に記憶されている検量情報に当てはめ、前記放射光の光放射圧を求める比較部と、を備えたことを特徴とする光放射圧測定装置。 - 請求項1記載の装置において、前記検出部は圧電材料により前記共振部の振動振幅の大きさを検出することを特徴とする光放射圧測定装置。
- 請求項1の光放射圧測定装置を用いてプローブの共振部の共振周波数を調整するための方法であって、
前記共振部の共振周波数は前記共振周波数導出部によって観察されており、
放射光の強度を調整することにより放射光の光放射圧を調整可能である前記放射光光源から発する放射光を、該放射光を反射する反射手段を有するプローブからなる前記共振部の該反射手段へ照射し、
前記放射光光源からの放射光の強度を変更して光放射圧を調整することにより前記共振部の共振周波数を所望の値に調整することを特徴とする共振周波数調整方法。 - 放射光を反射する反射手段を有するプローブからなる共振部の該反射手段に開けられた光学開口の直径を検査する開口径検査装置であって、
前記放射光を発する光源部と、
前記共振部を加振する、加振周波数可変の加振部と、
該加振部により加振されている前記共振部に照射するプローブ光を発するプローブ光源と、前記共振部の振動により変調されたプローブ光の反射光を検出することで前記共振部の振動振幅の大きさを検出する検出手段を備えた検出部と、
該検出部で得た振動振幅の大きさと前記共振部の振動周波数の関係から前記共振部の共振周波数を求める共振周波数導出部と、
あらかじめ前記共振部の共振周波数と前記光学開口の直径についての検量情報を記憶している記憶部と、
前記共振周波数導出部により求めた共振周波数を、前記記憶部に記憶されている検量情報に当てはめ、前記光学開口の直径を求める比較部と、
を備えたことを特徴とする開口径検査装置。 - 請求項4記載の装置において、前記検出部は圧電材料により前記共振部の振動振幅の大きさを検出することを特徴とする光放射圧測定装置。
- 請求項4または5記載の装置において、前記プローブは近接場光学顕微鏡用プローブであり、前記反射手段として該プローブ先端にマスクが設けられ、該マスクに開けられた光学開口の直径を検査することを特徴とする開口径検査装置。
- 請求項6記載の装置を備えたことを特徴とする近接場光学顕微鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001303132A JP4764583B2 (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 光放射圧測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001303132A JP4764583B2 (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 光放射圧測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003106978A JP2003106978A (ja) | 2003-04-09 |
JP4764583B2 true JP4764583B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=19123267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001303132A Expired - Fee Related JP4764583B2 (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | 光放射圧測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4764583B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7077651B2 (ja) * | 2018-02-16 | 2022-05-31 | 横河電機株式会社 | 分光分析装置 |
CN112197862B (zh) * | 2020-09-03 | 2023-02-28 | 中国人民解放军国防科技大学 | 薄膜航天器表面太阳光压力地面测试系统及测试方法 |
CN113091963B (zh) * | 2021-03-10 | 2022-08-05 | 电子科技大学 | 一种光压测量装置 |
CN114415487B (zh) * | 2021-12-09 | 2023-12-05 | 北京无线电计量测试研究所 | 一种光频原子钟频率自动锁定方法及系统 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03129749A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-06-03 | Hitachi Constr Mach Co Ltd | タブにおけるリードの接合状態検査装置 |
US5101664A (en) * | 1990-10-15 | 1992-04-07 | United Technologies Corporation | Optical pressure transducer |
JPH0887328A (ja) * | 1994-09-14 | 1996-04-02 | Res Dev Corp Of Japan | 光操作方法 |
JP3309355B2 (ja) * | 1997-10-30 | 2002-07-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 微小開口評価装置 |
-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001303132A patent/JP4764583B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003106978A (ja) | 2003-04-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102301784B1 (ko) | 화학적 이미징을 위한 원자력 현미경의 적외선 분광 방법 및 장치 | |
JP2020112575A5 (ja) | ||
JPH012332A (ja) | 加工物上の所望の区域を指定して試験する方法および装置 | |
JP2008177579A (ja) | 動的ウエハ応力処理装置 | |
JPH10160740A (ja) | 走査型近接場光学顕微鏡 | |
EP1160611A2 (en) | Probe opening forming apparatus and near-field optical microscope using the same | |
US7586606B2 (en) | Near-field polarized-light measurement apparatus | |
JP2006017648A (ja) | 測定装置 | |
JP4764583B2 (ja) | 光放射圧測定装置 | |
US20220057720A1 (en) | Lithographic patterning method and system therefore | |
JP3889134B2 (ja) | 近接場光学顕微分光測定装置 | |
JPH05506089A (ja) | フラストレイテッドエバネッセントフィールド走査型光学顕微鏡使用によって得られる透明な対象物の光学的プロフィールの分光学的識別方法 | |
JP4694736B2 (ja) | プローブ開口作製装置、及びそれを用いた近接場光学顕微鏡 | |
JP7346778B2 (ja) | 光学測定装置が装着された原子顕微鏡及びこれを利用して測定対象の表面の情報を得る方法 | |
JP2000146803A (ja) | 近接場光学顕微鏡 | |
JP2003108228A (ja) | 位置決め装置、並びにそれを用いた近接場顕微鏡及び近接場分光装置。 | |
JP3309355B2 (ja) | 微小開口評価装置 | |
JPH06249863A (ja) | 表面構造を画像化するセンサ | |
JPH11174065A (ja) | 潜像検出方法及び露光状態検出方法 | |
US6043485A (en) | Sample analyzer | |
TW202346866A (zh) | 掃描探針顯微鏡以及掃描探針顯微術中對準、聚焦和量測光束與探針尖端的相對強度之方法 | |
JP3441408B2 (ja) | 試料検査装置及び試料検査方法 | |
JP2003083867A (ja) | 物性測定装置 | |
JP2003014433A (ja) | 形状測定装置、形状測定装置の制御装置、及び形状測定装置の制御プログラム | |
JPH11316240A (ja) | 走査型近接場光学顕微鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080912 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100826 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101214 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110301 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110411 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110517 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110613 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |