JP7077651B2 - 分光分析装置 - Google Patents

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Description

本発明は、分光分析装置に関する。
従来、測定対象成分の濃度を測定する装置としてTDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy:波長可変ダイオードレーザー吸収分光)式レーザガス分析計が知られている(例えば、特許文献1参照)。TDLAS式レーザガス分析計は、例えば煙道の炉壁に取り付けられ、煙道内の測定対象成分の濃度を測定する。より具体的には、TDLAS式レーザガス分析計は、煙道内のプロセスガスの流路に挿入され、レーザ光を照射するレーザ光源と、レーザ光を受光する受光部と、プロセスガス中に照射されたレーザ光を反射させて往復させる反射体を有するプローブとを備える。そして、TDLAS式レーザガス分析計は、レーザ光源から照射されるレーザ光を反射体で反射させて、プロセスガス中を通り抜けたレーザ光の強度を受光部によって測定し、測定した強度に基づいて測定対象の成分濃度を直接測定する。
CO、CO、HO、CnHm、NH、Oなど多くのガス分子は、赤外から近赤外域に分子の振動・回転エネルギ遷移による光吸収スペクトルを持つ。吸収スペクトルは、成分分子固有であり、吸光度が成分濃度と光路長に比例するため(Lambert-Beerの法則)、吸収スペクトル強度を測定することで対象成分の濃度を測定することができる。
TDLAS式レーザガス分析計では、ガス吸収線幅よりはるかに狭い線幅の半導体レーザ光を測定ガスに透過させ、その駆動電流を高速変調することでその波長を掃引(スキャン)し、透過光量を測定して1本の独立した吸収スペクトルを測定する。レーザ光のスキャン範囲はアプリケーションによって異なる。例えば、O計の場合は、レーザ光の線幅は0.0002nm程度であり、スキャン幅は0.1~0.2nm程度である。TDLAS式レーザガス分析計は、この0.1~0.2nm幅をスキャンすることで、吸収スペクトルの測定を行う。そして、TDLAS式レーザガス分析計は、測定した1本の吸収スペクトルから濃度換算を行うことにより、測定対象成分の成分濃度を算出する。
特開2010-185694号公報
ところで、特許文献1に記載のガス濃度測定装置やTDLAS式レーザガス分析計は、煙道壁に設置される。そのため、設置環境に定常的な振動、又は、一時的な外乱によって起こる振動がある場合、ガス濃度測定装置やTDLAS式レーザガス分析計等のレーザガス分析計は振動の影響を受ける。例えば、煙道の周辺に存在するモータやファン等の機器が稼働することによって、レーザガス分析計が取り付けられた煙道壁自体が振動する場合がある。
通常の振動であれば、レーザガス分析計も煙道壁と一緒に揺れるだけであるため、測定に対する影響は小さい。しかしながら、煙道壁の振動源(モータやファン等の機器)の周波数が、プローブの煙道壁との固定箇所から先端までの部分の固有振動数fnと一致あるいは近い周波数である場合、プローブは煙道壁側を固定端として共振を起こし、激しく振動してしまう。
図12は、プローブの共振時の様子を示す図である。図12に示すように、プローブ100が共振してしまうと、レーザ光源110及び受光部120と、プローブの先端に取り付けられた反射体130との相対位置が変動し、レーザ光源110がレーザ光を出射しても、反射されたレーザ光が受光部120の受光面から外れるようになる(あるいは、戻ってこなくなる)。その結果、分析に必要なスキャン信号が得られなくなってしまう場合がある。そのため、レーザガス分析計は、ガスの濃度の測定に必要なデータを収集することができない。その結果、従来のレーザガス分析計では、ガスの濃度を測定することができないという問題があった。なお、このような問題は、ガスの濃度を測定するレーザガス分析計に限らず、流体の吸光特性の分析を行う装置においても同様に生じる問題である。
上記事情に鑑み、本発明は、設置場所において共振による影響を受けた場合であっても、測定対象の流体の分析を行うことができる技術の提供を目的としている。
本発明の一態様は、測定対象流体の流路に挿入されているプローブ内に設けられた反射体に向けて、波長が変化するレーザ光を照射するレーザ光源部と、前記反射体で反射された前記レーザ光を受光する受光部と、前記プローブの振動の加速度を検出する加速度センサと、前記受光部の受光結果を用いた前記測定対象流体の分析と、前記加速度センサの検出結果を用いた前記レーザ光源部の制御とを行う制御部と、を備え、前記制御部は、前記加速度センサの検出結果を用いて前記反射体で反射された前記レーザ光が前記受光部に照射される照射時間を算出し、前記レーザ光源部から照射される前記レーザ光の波長を、ある波長範囲で掃引するのに要する時間であるスキャン時間が前記照射時間の半分以下となるように前記レーザ光源部のレーザ光出力を制御する分光分析装置である。
上記の構成により、分光分析装置の制御部は、プローブの振動により得られる加速度に基づいて、照射時間の半分以下の時間となるようにスキャン時間を決定する。これにより、1スキャン分の完全なスキャン信号を受光部が最低1つは検出することができる。そのため、プローブの振動によりレーザ光源部及び受光部に対する反射体の相対位置が変動した場合であっても、完全なスキャン信号を取得できるようになるため測定対象成分の濃度の測定が可能となる。
本発明の一態様は、上記の分光分析装置であって、前記制御部は、前記加速度センサの検出結果を用いて、前記プローブの振動振幅を算出し、算出した前記振動振幅と、前記プローブの振動周波数と、前記受光部の受光面の大きさとに基づいて、前記照射時間を算出する。
上記の構成により、分光分析装置は、加速度センサの検出結果の他に、受光部の受光面の大きさとプローブの振動周波数とを踏まえて照射時間を算出するため、受光部においてより確実にスキャン信号を検出することができる周期でレーザ光源部のレーザ光出力を制御することができる。その結果、プローブの振動によりレーザ光源部及び受光部に対する反射体の相対位置が変動した場合であっても、完全なスキャン信号を取得できるようになるため測定対象成分の濃度の測定が可能となる。
本発明の一態様は、上記の分光分析装置であって、前記プローブの振動周波数は、予め求められる固有振動数である。
上記の構成により、分光分析装置は、予め求められた固有振動数を用いるため、スキャン時間を決定する際に固有振動数を求める必要がない。そのため、演算に要する処理負荷を軽減することができる。
本発明の一態様は、測定対象流体の流路に挿入されているプローブ内に設けられた反射体に向けて、波長が変化するレーザ光を照射するレーザ光源部と、前記反射体で反射された前記レーザ光を受光する受光部と、前記受光部の受光結果を用いた前記測定対象流体の分析と、前記レーザ光源部の制御とを行う制御部と、を備え、前記制御部は、前記受光部の受光結果を積算して得られる積算結果の平均である積算平均信号の検出の有無に応じて、前記レーザ光源部を制御して、前記スキャン時間の調整を行う分光分析装置である。
上記の構成により、分光分析装置は、受光部の受光結果に基づいて得られる積算平均信号の検出の有無に応じて、レーザ光源部を制御して、スキャン時間の調整を行うため、受光部における検出結果をスキャン時間に反映して調整することができる。したがって、繰り返し実行することによって、1スキャン分の完全なスキャン信号を受光部が最低1つは検出することができるようになる。そのため、プローブの振動によりレーザ光源部及び受光部に対する反射体の相対位置が変動した場合であっても、完全なスキャン信号を取得できるようになるため測定対象成分の濃度の測定が可能となる。
本発明の一態様は、上記の分光分析装置であって、前記制御部は、前記積算平均信号が検出されるまで、前記スキャン時間を徐々に短くする。
上記の構成により、分光分析装置は、積算平均信号が検出されるまで、スキャン時間を徐々に短くして繰り返し実行することによって、1スキャン分の完全なスキャン信号を受光部が最低1つは検出することができるようになる。そのため、プローブの振動によりレーザ光源部及び受光部に対する反射体の相対位置が変動した場合であっても、完全なスキャン信号を取得できるようになるため測定対象成分の濃度の測定が可能となる。
本発明により、設置場所において共振による影響を受けた場合であっても、測定対象の流体の分析を行うことが可能となる。
第1の実施形態におけるガス濃度測定装置の構成を示す図である。 受光部の出力イメージを示す図である。 第1の実施形態における制御部の構成を示すブロック図である。 波長スキャンのイメージを示す図である。 レーザ駆動電流のイメージを示す図である。 第1の実施形態におけるガス濃度測定装置の処理の流れを示すフローチャートである。 従来における問題点を説明するための図である。 本発明による解決方法を説明するための図である。 第2の実施形態におけるガス濃度測定装置の構成を示す図である。 第2の実施形態における制御部の構成を示すブロック図である。 第2の実施形態におけるガス濃度測定装置の処理の流れを示すフローチャートである。 プローブの共振時の様子を示す図である。
以下、本発明の一実施形態を、図面を参照しながら説明する。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態におけるガス濃度測定装置10の構成を示す図である。ガス濃度測定装置10は、煙道内を流れる測定ガスに含まれる対象成分の濃度を測定する。対象成分は、例えば酸素(O)、一酸化炭素(CO)、メタン(CH)、アンモニア(NH)、二酸化炭素(CO)、炭化水素(CnHm)、水蒸気(HO)及び近赤外線領域に吸収性を持つガスである。ガス濃度測定装置10は、分光分析装置の一態様である。
ガス濃度測定装置10は、プローブ部1及び分析部2を備える。
プローブ部1は、例えば金属製で、断面が円形状の筒状物体で構成されている。プローブ部1の長さは、例えば1~2m程度である。プローブ部1は、大部分が煙道内部に位置するようにフランジ3を介して煙道壁4に取り付けられている。プローブ部1には、複数の開口部11が設けられており、煙道内を流れる測定ガス(図1では、下側から上側に測定ガスが流れている)がプローブ部1の内部を流通するようになっている。
また、プローブ部1の先端部の内部には、反射体12が設けられている。反射体12は、例えばコーナーキューブプリズムのような多面体である。プローブ部1の先端部の内部は、パージガスで満たされている。また、プローブ部1の先端部の外部には、加速度センサ5が取り付けられている。加速度センサ5は、プローブ部1の振動の加速度を検出する。
分析部2は、プローブ部1の反射体12が設けられた端部と反対側の端部に取り付けられ、煙道の外側に位置している。分析部2は、レーザ光源部20、受光部21及び制御部22を備える。
レーザ光源部20は、制御部22の制御に応じて、プローブ部1の反射体12に向けて、波長が変化するレーザ光を照射する。つまり、レーザ光源部20は、制御部22の制御の下で、波長スキャンを行う。例えば、レーザ光源部20は、吸収スペクトルを取得する吸収ピークの波長を挟み込むよう波長w1から波長w2まで連続的に波長が変化するレーザ光を照射する。この例における1波長スキャンの範囲は、波長w1から波長w2までの範囲である。レーザ光源部20は、波長可変レーザである。図1では、レーザ光源部20が照射したレーザ光をL1として示している。レーザ光L1は、プローブ部1の内部を通過し、反射体12で反射される。反射体12によって反射された戻り光は、再度プローブ部1の内部を通過し、受光部21で受光される。図1では、反射された戻り光をL2として示している。
レーザ光L1及びL2は、プローブ部1の内部を通過する際に、プローブ部1内部を流通する測定ガスによって光吸収を受ける。ガス濃度測定装置10は、この吸収スペクトルを測定することによって測定ガス中の測定対象成分の濃度を求める。
受光部21は、レーザ光L2(戻り光)を受光し、レーザ光L2の光強度を一連のスキャン信号SSとして制御部22に出力する。スキャン信号SSは、レーザ光源部20の駆動電流の波長スキャンのタイミングに合わせて強度が変化する波形となる。ただし、レーザ光L2が測定ガスによる光吸収を受けているため、スキャン信号SSの一部は、図2に示すように光吸収による強度減少が生じる。図2は、受光部21の出力イメージを示す図である。
制御部22は、受光部21の受光結果を用いた測定対象流体の分析と、加速度センサ5の検出結果を用いたレーザ光源部20の制御とを行う。具体的には、制御部22は、加速度センサ5の検出結果を用いて反射体12で反射されたレーザ光L2が受光部21に照射される照射時間を算出し、スキャン時間Tsが照射時間の半分以下となるようにレーザ光源部20のレーザ光出力を制御する。測定対象流体の分析は、例えば測定ガス中の測定対象成分の濃度の演算である。スキャン時間Tsは、レーザ光源部20から照射されるレーザ光L1の発光波長を、測定ガスの吸収スペクトルを取得する吸収ピークの波長を挟み込む波長範囲(波長w1から波長w2)にわたって掃引するのに要する時間である。
図3は、第1の実施形態における制御部22の構成を示すブロック図である。制御部22は、操作部221、スキャン時間設定部222、波長制御部223、レーザ駆動部224、演算部225、表示制御部226及び表示部227で構成される。
操作部221は、ユーザによるガス濃度測定装置10の各種設定(例えば、測定ガス種、濃度レンジ等)、測定開始指示及び測定終了指示の入力を受け付ける。
スキャン時間設定部222は、加速度センサ5から得られた加速度に基づいてスキャン時間Tsを決定する。具体的には、まずスキャン時間設定部222は、加速度センサ5から得られた加速度を用いて、プローブ部1の振動振幅aを算出する。次に、スキャン時間設定部222は、プローブ部1が共振したときに受光部21がスキャン信号SSを取得可能な期間Tdを算出する。具体的には、スキャン時間設定部222は、プローブ部1の固有振動数fn(プローブの振動周波数)と、算出した振動振幅aと、受光部21の受光面の大きさdとに基づいて照射時間を算出する。算出された照射時間が、プローブ部1が共振したときに受光部21がスキャン信号SSを取得可能な期間Tdである。なお、プローブ部1の固有振動数fnは、実験的に予め求めてもよいし、プローブ部1の形状や重さ、材質等から計算で予め求めてもよい。
そして、スキャン時間設定部222は、算出した期間Tdの1/2以下の時間を、スキャン時間Tsとして決定する。ここで、スキャン時間Tsを期間Tdの1/2以下とするのは、このように設定しておけば、期間Tdが到来するタイミングと、波長スキャンのタイミングとの相対的な関係に関わらず、1スキャン分の完全なスキャン信号SSを受光部21が最低1つは検出することができるようになるためである。
スキャン時間Tsは、期間Tdあたり、完全なスキャン信号SSが2~3スキャン分取得可能な程度の時間であることが望ましい。スキャン時間設定部222は、決定したスキャン時間Tsを波長制御部223に出力する。
波長制御部223は、スキャン時間設定部222によって決定されたスキャン時間Tsに合わせて波長スキャンが行われるようにレーザ駆動部224へのレーザ駆動信号を制御する。レーザ駆動信号とは、レーザ光源部20から照射するレーザ光L1の波長を制御するための信号である。このとき、波長制御部223は、図4に示すように、レーザ光L1の発光波長を、吸収スペクトルを取得する吸収ピークの波長を挟み込むように波長w1から波長w2まで連続的に波長を変化させるように波長制御を行う。図4は、波長スキャンのイメージを示す図である。図4において、縦軸は光吸収の強さを表し、横軸は波長を表す。波長制御部223は、生成したレーザ駆動信号をレーザ駆動部224に出力する。なお、測定対象成分毎に、ターゲットとする吸収ピークはあらかじめ定めておく。波長制御部223は、1測定あたり波長スキャンをレーザ光源部20に数千回繰り返し行わせる。
レーザ駆動部224は、入力されたレーザ駆動信号に応じたレーザ駆動電流を生成し、生成したレーザ駆動電流をレーザ光源部20に出力する。レーザ駆動部224は、スキャン時間Tsの間、レーザ駆動電流をレーザ光源部20に出力する。図5は、レーザ駆動電流のイメージを示す図である。図5において、縦軸は駆動電流を表し、横軸は時間を表す。これにより、レーザ光源部20からは、吸収ピークの波長を挟み込むように波長w1~波長w2の範囲で連続的に波長が変化するレーザ光L1が照射される。
演算部225は、入力された一連のスキャン信号SSに基づいて、測定ガス中の測定対象成分の濃度を演算する。具体的には、まず演算部225は、入力された一連のスキャン信号SSの中から濃度演算に適さないスキャン信号SSを取り除く前処理を行う。濃度演算に適さないスキャン信号とは、例えば、1スキャンの中で信号の一部が欠けている信号である。次に、演算部225は、ノイズ除去のため、得られたスキャン信号SSを積算する。次に、演算部225は、積算したスキャン信号SSの平均信号を求める。以下、積算したスキャン信号SSの平均信号を、積算平均信号と記載する。その後、演算部225は、積算平均信号に基づいて、ピーク高さ法、スペクトル面積法、2f法等の既存の濃度換算手法を用いて、測定対象成分の濃度演算を行う。演算部225は、濃度演算の結果を表示制御部226に出力する。
表示制御部226は、表示部227を制御して表示部227の表示を制御する。例えば、表示制御部226は、濃度演算の結果を表示部227に表示させる。
表示部227は、液晶ディスプレイ、有機EL(Electro Luminescence)ディスプレイ等の表示装置であり、操作部221とタッチパネルとして一体構成されている。表示部227は、表示制御部226の制御に応じ表示を行う。例えば、表示部227は、濃度演算の結果である測定対象成分の濃度値を表示する。なお、表示部227及び操作部221は、ガス濃度測定装置10と通信で接続された別体であってもよい。
図6は、第1の実施形態におけるガス濃度測定装置10の処理の流れを示すフローチャートである。
加速度センサ5は、プローブ部1の振動の加速度を取得する(ステップS101)。加速度センサ5は、取得した加速度の情報を制御部22に出力する。スキャン時間設定部222は、加速度センサ5から出力された加速度の情報を取得する。スキャン時間設定部222は、取得した加速度の情報に基づいてスキャン時間Tsを決定する(ステップS102)。具体的には、まずスキャン時間設定部222は、加速度に基づいて得られるプローブの振動振幅aと、プローブの固有振動数fnと、受光部21の受光面の大きさdとを用いて、以下の式1に基づいて期間Tdを算出する。
Figure 0007077651000001
そして、スキャン時間設定部222は、上式1によって得られた期間Tdの1/2以下の時間を、スキャン時間Tsとして決定する。スキャン時間設定部222は、決定したスキャン時間Tsを波長制御部223に出力する。
波長制御部223は、スキャン時間設定部222によって決定されたスキャン時間Tsに応じた波長制御を行う(ステップS103)。具体的には、波長制御部223は、スキャン時間設定部222によって決定されたスキャン時間Tsに合わせて波長スキャンが行われるようにレーザ駆動部224へのレーザ駆動信号を制御する。レーザ駆動部224は、入力されたレーザ駆動信号に応じたレーザ駆動電流を生成し、生成したレーザ駆動電流をレーザ光源部20に出力する。
レーザ光源部20は、レーザ駆動部224から出力されるレーザ駆動電流を用いてレーザ光L1を照射する(ステップS104)。
受光部21は、反射体12により反射されたレーザ光L2を受光する(ステップS105)。受光部21は、受光したレーザ光L2の光強度を一連のスキャン信号SSとして演算部225に出力する。演算部225は、入力された一連のスキャン信号SSの中から濃度演算に適さないスキャン信号SSを取り除く前処理を行う(ステップS106)。演算部225は、前処理後のスキャン信号SSを積算する(ステップS107)。その後、演算部225は、積算したスキャン信号SSを用いて積算平均信号を取得する。演算部225は、積算された積算平均信号に基づいて測定対象成分の濃度演算を行う(ステップS108)。演算部225は、濃度演算の結果を表示制御部226に出力する。表示制御部226は、濃度演算の結果を表示部227に表示する(ステップS109)。
次に、図7及び図8を用いて、従来における問題点と、本発明による解決方法について説明する。図7は、従来における問題点を説明するための図である。図8は、本発明による解決方法を説明するための図である。まず図7を用いて説明する。なお、図7及び図8において、破線で示す波形は、受光部で受光されていない波形を表す。
プローブ部1が共振(共振周波数=プローブ部1の固有振動数fn)を起こすと、スキャン信号SSを取得可能な期間Tdは、レーザ光源部及び受光部と、反射体との相対位置が、レーザ光L1が反射体で反射され、その反射光であるレーザ光L2が受光部まで戻ってくることができる位置関係になるタイミングに限られる。
期間Tdの長さがスキャン時間Tsよりも短い場合には、受光部は1スキャン分のスキャン信号SSを捉えることができない。また、期間Tdの長さがスキャン時間Tsよりも長い場合であっても、期間Tdとスキャンのタイミングの関係によっては、スキャン時間Tsの一部が期間Tdの外にはみ出してしまい、受光部は1スキャン分のスキャン信号SSを捉えることができなくなる。1スキャン分の完全なスキャン信号が得られないと濃度演算に使用できないため、測定対象成分の濃度を算出することができなくなる。
次に、図8を用いて本発明について説明する。図8において、スキャン信号SS1~SS5は、1スキャン分の完全なスキャン信号が得られた波長スキャンを示している。図7に示すように、スキャン時間設定部222によってスキャン時間Tsを期間Tdの1/2以下となるように決定することにより、期間Tdが到来したときに最低1つは完全なスキャン信号SSが受光部21で得られるようになる。1スキャン分の完全なスキャン信号が得られることで、測定対象成分の濃度を算出することができる。
以上のように構成されたガス濃度測定装置10によれば、プローブ部1の振動により得られる加速度に基づいて、期間Tdの1/2以下の時間となるようにスキャン時間Tsを決定する。そのため、1スキャン分の完全なスキャン信号SSを受光部21が最低1つは検出することができる。このように、プローブ部1の振動によりレーザ光源部20及び受光部21に対する反射体12の相対位置が変動した場合であっても、完全なスキャン信号SSを取得できるようになるため測定対象成分の濃度の測定が可能となる。
<第1の実施形態の変形例>
加速度センサ5は、プローブ部1の先端に取り付けることで、加速度の出力が最も大きく得られる。しかし、加速度センサ5の取り付け位置は、プローブ部1の先端に限らず、プローブ部1の他の部分に取り付けられていてもよい。例えば、加速度センサ5は、開口部11の近傍に取り付けられてもよいし、プローブ部1の煙道壁4に近い部分に取り付けられてもよいし、プローブ部1の内部(例えば、反射体12の近傍)に取り付けられてもよい。例えば、プローブ部1の煙道壁4に近い部分に取り付けられていた場合には、振動の固定端に近いため、その分加速度の出力が小さくなるが、出力の低下分を補正演算することで対応可能である。
(第2の実施形態)
第2の実施形態は、ガス濃度測定装置が、加速度センサを備えずに期間Tdを取得する実施形態である。
図9は、第2の実施形態におけるガス濃度測定装置10aの構成を示す図である。ガス濃度測定装置10aは、分析部2に代えて分析部2aを備える点、加速度センサ5を備えない点でガス濃度測定装置10と構成が異なる。ガス濃度測定装置10aは、その他の構成についてはガス濃度測定装置10と同様である。そのため、ガス濃度測定装置10a全体の説明は省略し、分析部2aの構成について説明する。
分析部2aは、プローブ部1の反射体12が設けられた端部と反対側の端部に取り付けられ、煙道の外側に位置している。分析部2aは、レーザ光源部20、受光部21及び制御部22aを備える。レーザ光源部20及び受光部21は、第1の実施形態における同名の機能部と同様の処理を行うため説明を省略する。
制御部22aは、受光部21の受光結果を用いた測定対象流体の分析と、レーザ光源部20の制御とを行う。具体的には、制御部22aは、受光部21の受光結果を積算して得られる積算結果の平均である積算平均信号の検出の有無に応じて、レーザ光源部20を制御して、スキャン時間Tsの調整を行う。ここで、積算平均信号の検出があるとは、スキャン信号SSの積算結果を平均した結果として、完全なスキャン信号SSに類似する波形の信号が得られることである。これに対し、積算平均信号の検出がないとは、上記の結果として、完全なスキャン信号SSに類似する波形の信号が得られないことである。尚、上記の類似とは、スキャン信号SSの積算結果を平均した結果の波形と、完全なスキャン信号SSの波形とが、所定の割合以上一致することを意味する。また、制御部22aは、積算平均信号が検出されるまで、スキャン時間Tsを徐々に短くする。
図10は、第2の実施形態における制御部22aの構成を示すブロック図である。制御部22aは、操作部221a、スキャン時間設定部222a、波長制御部223、レーザ駆動部224、演算部225a、表示制御部226a及び表示部227で構成される。制御部22aは、操作部221、スキャン時間設定部222、演算部225及び表示制御部226に代えて操作部221a、スキャン時間設定部222a、演算部225a及び表示制御部226aを備える点で制御部22と構成が異なる。制御部22aは、その他の構成については制御部22と同様である。そのため、制御部22a全体の説明は省略し、操作部221a、スキャン時間設定部222a、演算部225a及び表示制御部226aの構成について説明する。
操作部221aは、ユーザによるガス濃度測定装置10aの各種設定(例えば、測定ガス種、濃度レンジ等)、測定開始指示、測定終了指示及びスキャン時間Tsに対する指示の入力を受け付ける。スキャン時間Tsに対する指示とは、例えばスキャン時間Tsを変更する旨を示す指示である。スキャン時間Tsに対する指示には、例えば再度設定すべきスキャン時間Tsの情報が含まれる。スキャン時間Tsに対する指示には、現在設定されているスキャン時間Tsよりも短いスキャン時間Tsの情報が含まれることが望ましい。
スキャン時間設定部222aは、操作部221aから入力されるスキャン時間Tsに対する指示に基づいてスキャン時間Tsを決定する。
演算部225aは、入力された一連のスキャン信号SSに基づいて、測定ガス中の測定対象成分の濃度を演算する。具体的には、まず演算部225aは、入力された一連のスキャン信号SSの中から濃度演算に適さないスキャン信号SSを取り除く前処理を行う。次に、演算部225aは、ノイズ除去のため、得られたスキャン信号SSを積算する。次に、演算部225aは、積算したスキャン信号SSを用いて平均を取ることによって積算平均信号を検出することができたか否かを判定する。
スキャン時間Tsが適切ではない場合、受光部21において1スキャン分の完全なスキャン信号SSが取得できない可能性が高いため、演算部225aが積算平均信号を検出することができない可能性が高い。一方、スキャン時間Tsが適切である場合、受光部21において1スキャン分の完全なスキャン信号SSが取得できる可能性が高いため、演算部225aは積算平均信号を検出することができる可能性が高い。ここで、スキャン時間Tsが適切ではない場合とは、例えば、スキャン時間Tsが期間Tdと同じあるいは期間Tdよりも大きい場合である。特に、スキャン時間Tsが適切ではない場合、得られたスキャン信号SSを積算して平均を取ると、ノイズと混在してしまうため、演算部225aにおいて積算平均信号を検出することができない。
演算部225aは、積算平均信号を検出することができた場合、スキャン時間設定部222aにその旨を通知する。一方、演算部225aは、積算平均信号を検出することができなかった場合、エラーである旨を表示制御部226aに通知する。
表示制御部226aは、表示部227を制御して表示部227の表示を制御する。例えば、表示制御部226aは、エラーである旨や濃度演算の結果を表示部227に表示させる。
図11は、第2の実施形態におけるガス濃度測定装置10aの処理の流れを示すフローチャートである。
スキャン時間設定部222aは、スキャン時間Tsを決定する(ステップS101)。例えば、スキャン時間設定部222aは、予めスキャン時間として設定されている時間をスキャン時間Tsと決定してもよいし、操作部221aから入力された時間をスキャン時間Tsと決定してもよい。スキャン時間設定部222aは、決定したスキャン時間Tsを波長制御部223に出力する。
波長制御部223は、スキャン時間設定部222aによって決定されたスキャン時間Tsに応じた波長制御を行う(ステップS202)。具体的には、波長制御部223は、スキャン時間設定部222aによって決定されたスキャン時間Tsに合わせて波長スキャンが行われるようにレーザ駆動部224へのレーザ駆動信号を制御する。レーザ駆動部224は、入力されたレーザ駆動信号に応じたレーザ駆動電流を生成し、生成したレーザ駆動電流をレーザ光源部20に出力する。
レーザ光源部20は、レーザ駆動部224から出力されるレーザ駆動電流を用いてレーザ光L1を照射する(ステップS203)。
受光部21は、反射体12により反射されたレーザ光L2を受光する(ステップS204)。受光部21は、受光したレーザ光L2の光強度を一連のスキャン信号SSとして演算部225aに出力する。演算部225aは、入力された一連のスキャン信号SSの中から濃度演算に適さないスキャン信号SSを取り除く前処理を行う(ステップS205)。演算部225aは、前処理後のスキャン信号SSを積算する(ステップS206)。その後、演算部225aは、積算したスキャン信号SSを用いて、積算平均信号が検出できたか否かを判定する(ステップS207)。例えば、演算部225aは、積算したスキャン信号SSを平均した結果として、完全なスキャン信号SSに類似する波形の信号が得られた場合に積算平均信号が検出できたと判定する。
演算部225aは、積算平均信号が検出できた場合(ステップS207-YES)、検出できた積算平均信号に基づいて測定対象成分の濃度演算を行う(ステップS208)。演算部225aは、濃度演算の結果を表示制御部226aに出力する。表示制御部226aは、濃度演算の結果を表示部227に表示する(ステップS209)。
一方、演算部225aは、積算平均信号が検出できなかった場合(ステップS207-NO)、エラーである旨を表示制御部226aに通知する。表示制御部226aは、演算部225aからの通知に応じて、表示部227を制御してエラーを表示させる(ステップS210)。その後、ガス濃度測定装置10aは外部からスキャン時間Tsに対する指示を受け付ける(ステップS211)。操作部221aを介してスキャン時間Tsに対する指示が入力されると、スキャン時間設定部222aは入力されたスキャン時間Tsに対する指示に基づいて再度スキャン時間Tsを決定する(ステップS212)。例えば、スキャン時間設定部222aは、スキャン時間Tsに対する指示に含まれるスキャン時間Ts(例えば、現在設定されているスキャン時間Tsよりも短いスキャン時間Ts)を、新たに設定すべきスキャン時間Tsに決定する。その後、ステップS202以降の処理が実行される。このように、ガス濃度測定装置10aは、積算平均信号が検出されるまで、スキャン時間Tsを徐々に短くする。
以上のように構成されたガス濃度測定装置10aによれば、加速度を用いずにスキャン信号SSの波形を用いてスキャン時間Tsを決定する。具体的には、ガス濃度測定装置10aは、受光部21の受光結果に基づいて得られる積算平均信号の検出の有無に応じて、レーザ光源部20を制御して、スキャン時間Tsの調整を行う。このように、スキャン信号SSの波形を用いてスキャン時間Tsを決定する場合には、加速度を用いた計算が不要となる。したがって、加速度センサ5が不要になる。特に、プローブ部1が挿入される煙道は高温(数百度℃)環境であることも多いため、煙道内に配置する部品は少ない方が望ましい。さらに、ガス濃度測定装置10aは、積算平均信号の検出の有無に応じてスキャン時間Tsを調整するため、受光部21における検出結果をスキャン時間Tsに反映して調整することができる。したがって、繰り返し実行することによって、1スキャン分の完全なスキャン信号SSを受光部21が最低1つは検出することができるようになる。そのため、第1の実施形態よりもコストを抑えることができるとともに、プローブ部1の振動によりレーザ光源部20及び受光部21に対する反射体12の相対位置が変動した場合であっても、完全なスキャン信号SSを取得できるようになるため測定対象成分の濃度の測定が可能となる。
また、ガス濃度測定装置10aは、積算平均信号が検出されるまで、スキャン時間Tsを徐々に短くする。したがって、繰り返し実行することによって、1スキャン分の完全なスキャン信号SSを受光部21が最低1つは検出することができるようになる。そのため、プローブ部1の振動によりレーザ光源部20及び受光部21に対する反射体12の相対位置が変動した場合であっても、完全なスキャン信号SSを取得できるようになるため測定対象成分の濃度の測定が可能となる。
<第2の実施形態の変形例>
スキャン時間設定部222aは、スキャン時間Tsに対する指示が入力される度に、所定の間隔でスキャン時間Tsを短く設定するように構成されてもよい。
<第1の実施形態及び第2の実施形態に共通する変形例>
反射体12は、コーナーキューブプリズムに限らず、レーザ光源部20から照射されたレーザ光を受光部21に対して反射することができる多面体であればどのような物であってもよい。
演算部225及び225aは、前処理を行わず、受光部21から出力されたスキャン信号SSを全て積算するように構成されてもよい。
スキャン時間設定部222及びスキャン時間設定部222aは、測定対象成分の光吸収の度合に応じて、スキャン時間Tsを変更するように構成されてもよい。光吸収の度合は、測定対象成分の種類や濃度、温度、圧力によって変化する。測定対象成分の光吸収の度合が所定の閾値以上である場合には、測定対象成分の濃度演算に必要となるスキャン信号SSの数は比較的少なくて済む。そのため、スキャン時間設定部222及びスキャン時間設定部222aは、期間Td内に完全なスキャン信号SSを最低1つ取得できるようにスキャン時間Tsを期間Td×1/2に近い値に設定する。
一方、測定対象成分の光吸収の度合が所定の閾値未満である場合には、測定対象成分の濃度演算に必要となるスキャン信号SSの数は比較的多くなる。そのため、スキャン時間設定部222及びスキャン時間設定部222aは、期間Td内に完全なスキャン信号SSを複数取得できるようにスキャン時間Tsをより短い値に設定することが望ましい。
以上のように構成されることによって、測定対象成分の光吸収の度合に応じて適切なスキャン時間を設定することができる。これにより、期間Td内において、より確実に必要となるスキャン信号SSを取得することができる。そのため、プローブ部1の振動によりレーザ光源部20及び受光部21に対する反射体12の相対位置が変動した場合であっても、完全なスキャン信号SSを取得できるようになるため測定対象成分の濃度の測定が可能となる。
本発明は、測定対象のガスの濃度を測定するガス濃度測定装置に限らず、流体の吸光特性の分析を行う分光分析装置にも適用可能である。
以上、この発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。
10、10a…ガス濃度測定装置, 1…プローブ部, 2、2a…分析部, 3…フランジ, 4…煙道壁, 5…加速度センサ, 11…開口部, 12…反射体, 20…レーザ光源部, 21…受光部, 22、22a…制御部, 221、221a…操作部, 222、222a…スキャン時間設定部, 223…波長制御部, 224…レーザ駆動部, 225、225a…演算部, 226a…表示制御部, 227…表示部

Claims (5)

  1. 測定対象流体の流路に挿入されているプローブ内に設けられた反射体に向けて、波長が変化するレーザ光を照射するレーザ光源部と、
    前記反射体で反射された前記レーザ光を受光する受光部と、
    前記プローブの振動の加速度を検出する加速度センサと、
    前記受光部の受光結果を用いた前記測定対象流体の分析と、前記加速度センサの検出結果を用いた前記レーザ光源部の制御とを行う制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、前記加速度センサの検出結果を用いて前記反射体で反射された前記レーザ光が前記受光部に照射される照射時間を算出し、前記レーザ光源部から照射される前記レーザ光の波長を、ある波長範囲で掃引するのに要する時間であるスキャン時間が前記照射時間の半分以下となるように前記レーザ光源部のレーザ光出力を制御する分光分析装置。
  2. 前記制御部は、前記加速度センサの検出結果を用いて、前記プローブの振動振幅を算出し、算出した前記振動振幅と、前記プローブの振動周波数と、前記受光部の受光面の大きさとに基づいて、前記照射時間を算出する、請求項1に記載の分光分析装置。
  3. 前記プローブの振動周波数は、予め求められる固有振動数である、請求項2に記載の分光分析装置。
  4. 測定対象流体の流路に挿入されているプローブ内に設けられた反射体に向けて、波長が変化するレーザ光を照射するレーザ光源部と、
    前記反射体で反射された前記レーザ光を受光する受光部と、
    前記受光部の受光結果を用いた前記測定対象流体の分析と、前記レーザ光源部の制御とを行う制御部と、
    を備え、
    前記制御部は、前記受光部の受光結果を積算して得られる積算結果の平均である積算平均信号の検出の有無に応じて、前記レーザ光源部を制御して、ある波長範囲で掃引するのに要する時間であるスキャン時間の調整を行う分光分析装置。
  5. 前記制御部は、前記積算平均信号が検出されるまで、前記スキャン時間を徐々に短くする、請求項4に記載の分光分析装置。
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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10788420B2 (en) * 2018-04-25 2020-09-29 Yokogawa Electric Corporation Gas analyzer
JPWO2020196442A1 (ja) * 2019-03-28 2020-10-01
US11714046B2 (en) * 2019-04-04 2023-08-01 Ohio State Innovation Foundation Laser imaging of gases for concentration and location identification
JP7443894B2 (ja) * 2020-03-31 2024-03-06 横河電機株式会社 分光分析装置、分光分析装置の動作方法、及びプログラム
JP2022078595A (ja) * 2020-11-13 2022-05-25 日本ピラー工業株式会社 液体センサ

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003106978A (ja) 2001-09-28 2003-04-09 Jasco Corp 光放射圧測定装置
JP2003262587A (ja) 2002-03-08 2003-09-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 非破壊食味特性測定装置
JP2004264118A (ja) 2003-02-28 2004-09-24 Toyota Motor Corp 薄膜のその場解析方法および装置
JP2007240239A (ja) 2006-03-07 2007-09-20 Yokogawa Electric Corp 赤外線ガス分析計
US20090231588A1 (en) 2004-12-17 2009-09-17 Sutton Stephen N Optical gas detection
JP2010185694A (ja) 2009-02-10 2010-08-26 Central Res Inst Of Electric Power Ind ガス濃度測定装置
WO2013031439A1 (ja) 2011-08-26 2013-03-07 オリンパス株式会社 単一発光粒子検出を用いた光分析装置、光分析方法及び光分析用コンピュータプログラム
JP2014202521A (ja) 2013-04-02 2014-10-27 株式会社ミツトヨ 三次元測定システム
JP2015225153A (ja) 2014-05-27 2015-12-14 セイコーエプソン株式会社 Mems駆動装置、電子機器、及びmems駆動方法
US20170212042A1 (en) 2016-01-25 2017-07-27 Abb, Inc. Optimal weighted averaging pre-processing schemes for laser absorption spectroscopy
JP2017129374A (ja) 2016-01-18 2017-07-27 株式会社堀場製作所 分析装置、及び、分析方法
JP2017166842A (ja) 2016-03-14 2017-09-21 富士電機株式会社 レーザ式ガス分析計

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010032454A (ja) * 2008-07-31 2010-02-12 Fuji Electric Systems Co Ltd ガス分析装置及びガス分析方法
LU91752B1 (en) * 2010-11-04 2012-05-07 Iee Sarl Gas Detector
EP3859310B1 (en) * 2013-07-17 2023-08-23 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Spectroscopic apparatus
CN103543127B (zh) * 2013-10-30 2016-01-27 北京航天易联科技发展有限公司 气体传感器的检测方法
EP3180710B1 (en) * 2014-08-13 2020-02-12 C 3 Limited Log scanning system
JP6686281B2 (ja) * 2015-03-12 2020-04-22 セイコーエプソン株式会社 分光測定装置、画像形成装置
EP3163290B1 (en) * 2015-10-29 2018-08-29 Inficon GmbH Infrared gas detector with secondary sensor
US10352770B2 (en) * 2016-10-21 2019-07-16 Ut-Battelle, Llc Optical spectroscopy system and method for monitoring liquid phase chemical reactions

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003106978A (ja) 2001-09-28 2003-04-09 Jasco Corp 光放射圧測定装置
JP2003262587A (ja) 2002-03-08 2003-09-19 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 非破壊食味特性測定装置
JP2004264118A (ja) 2003-02-28 2004-09-24 Toyota Motor Corp 薄膜のその場解析方法および装置
US20090231588A1 (en) 2004-12-17 2009-09-17 Sutton Stephen N Optical gas detection
JP2007240239A (ja) 2006-03-07 2007-09-20 Yokogawa Electric Corp 赤外線ガス分析計
JP2010185694A (ja) 2009-02-10 2010-08-26 Central Res Inst Of Electric Power Ind ガス濃度測定装置
WO2013031439A1 (ja) 2011-08-26 2013-03-07 オリンパス株式会社 単一発光粒子検出を用いた光分析装置、光分析方法及び光分析用コンピュータプログラム
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