JP2003031595A - 半導体パッケージの製造方法および半導体パッケージ - Google Patents

半導体パッケージの製造方法および半導体パッケージ

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パッケージサイズに応じたテストソケットな
どを不要とする、半導体パッケージの製造方法および半
導体パッケージを提供する。 【解決手段】 ステップS1〜S7で作成された樹脂シ
ートを、ステップS8でハーフカットして樹脂シートの
リードフレームを分断する。電気的に独立となった前記
樹脂シートの各半導体チップに対して、ステップS9に
おいて樹脂シートのまま電気的特性をテストする。ステ
ップS11で樹脂シートを分割して半導体パッケージの
個片とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一括樹脂封止プロ
セスを用いる半導体パッケージの製造方法および半導体
パッケージに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体パッケージの製造方法として、従
来より様々なものが知られている。半導体パッケージと
は、例えば図9(a)の側面図および図9(b)の平面
図に示す半導体パッケージ21のように、樹脂22表面
に金属の端子23が露出した外観をもつものである。そ
して、樹脂22内部には図示しない半導体チップが埋め
込まれ、半導体チップの金属端子と樹脂22表面の露出
した端子23とが、樹脂22内部で金属ワイヤによって
接続されている構成である。
【0003】このような半導体パッケージ21の製造方
法のうち、ここでは一括樹脂封止プロセスについて、図
10のフローチャートを用いて説明する。一括樹脂封止
プロセスにおいては、一つ一つの半導体チップを個別に
樹脂で封止して半導体パッケージとするのではなく、複
数の半導体チップを一括して樹脂封止して、それを切断
することにより半導体パッケージを製造する。
【0004】ステップS21のシート形成工程では、ま
ずリードフレームを準備する。リードフレームは一般に
金属板であり、半導体チップが接続され、その後に樹脂
で封止されて樹脂シートとなり、さらに切断して半導体
パッケージとされたときに、半導体パッケージ表面に露
出する端子となる部材である。前記ステップS21では
引き続いて、リードフレームに複数の半導体チップを接
続する。さらに、リードフレームおよび接続された半導
体チップを一括して樹脂で封止して、樹脂シートを形成
する。
【0005】ステップS22の個片化工程では、前記樹
脂シートを半導体チップごとに切断して、図9(a)な
いし(c)に示すような、半導体パッケージ21の個片
とする。分割された個片の半導体パッケージ21は、ハ
ンドラーなどで工程キャリア用トレーやスリーブなどに
収納され、次のステップのために運ばれる。
【0006】そして、ステップS23の電気テスト工程
では、半導体パッケージ21の一つ一つについて、電気
的特性をテストする。図11に示すように、半導体パッ
ケージ21は図示しないハンドラーなどを用いてテスト
ソケット33に接続される。そして、半導体パッケージ
21の端子23とテストソケット33のソケット側コン
タクト34とが接触して、半導体パッケージ21の電気
的特性がテストされる。
【0007】ステップS24では、電気的特性が良好な
半導体パッケージに対して、さらに外観検査、テーピン
グ、包装などの出荷準備を行い、半導体パッケージを出
荷する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来技術
においては、半導体パッケージは個片化された状態で電
気テストされるので、個片に分割した後の運搬に用いる
工程キャリア用トレー及びスリーブや、電気的特性テス
ト用のテストソケットを、それぞれパッケージサイズ毎
に用意する必要がある。さらに、前記テストソケットや
工程キャリア用トレーなどは、大半が成型品であり、各
パッケージサイズに応じた成型金型を製作する必要があ
る。
【0009】したがって、新たに異なる寸法のパッケー
ジを開発し、生産を始めるには、テストソケット、工程
キャリア用トレー及びスリーブなどの製作費用、並びに
テストソケットなどの金型製作費用など、多大な費用を
要するという問題があった。また、金型成型には長時間
の製作期間を要するため、半導体パッケージの製法開発
を遅延させるという問題点も生じていた。
【0010】さらに、故障デバイスを除くためのスクリ
ーニング試験であるバーンインが必要な半導体チップの
場合には、バーンイン用ソケットも各パッケージサイズ
に応じて製作する必要がある。
【0011】本発明は、前記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、各パッケージサイズに応じた
テストソケット、工程キャリア用トレー、スリーブの金
型成型を不要としてコストの削減と開発期間の短縮とを
実現する、半導体パッケージの製造方法および半導体パ
ッケージを提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体パッ
ケージの製造方法は、前記課題を解決するために、リー
ドフレームと前記リードフレームに接続された複数の半
導体チップとを樹脂で封止して、樹脂シートを形成する
シート形成工程と、前記リードフレームを分断すること
により、半導体チップ間を電気的に分離させる絶縁工程
と、前記リードフレームを分断された樹脂シートにおい
て、前記半導体チップの電気的特性を個別にテストする
シート電気テスト工程と、電気テストされた前記樹脂シ
ートを半導体チップごとに切断して、半導体パッケージ
の個片とする個片化工程とを含んでいることを特徴とし
ている。
【0013】前記構成によれば、絶縁工程により、リー
ドフレームを分断して半導体チップ間を電気的に分離す
るので、樹脂シートの半導体チップに対して、個別に電
気テストを行うことができる。
【0014】前記構成によれば、個片化後の電気テスト
の代わりに、樹脂シートの半導体チップに対して個別に
電気テストを行うので、個片を搬送するためのトレー
や、個片化後の電気テストのためのテストソケットが不
要となり、コストを削減できる。さらに、前記構成にお
いては、テストソケットなどのための金型成型も不要に
なるので、よりコストを削減できる。
【0015】前記構成によれば、新たな半導体パッケー
ジの開発において、パッケージのサイズが異なってもテ
ストソケットの金型を作りなおす必要がないので、開発
期間を短縮できる。
【0016】前記構成によれば、電気テストを半導体パ
ッケージ個片でなく、扱いやすい樹脂シートの半導体チ
ップに対して行うので、個片を扱うためのハンドラーが
不要となる。
【0017】本発明に係る半導体パッケージの製造方法
は、前記課題を解決するために、前記の構成において、
前記絶縁工程は、前記樹脂シートに対して、リードフレ
ーム側から、リードフレームの厚さ以上かつ樹脂シート
の厚さ以下の切り込み深さのハーフカットダイシングす
る工程であることを特徴としている。
【0018】前記の構成によれば、前記樹脂シートに対
して、リードフレーム側から、リードフレームの厚さ以
上かつ樹脂シートの厚さ以下の切り込み深さのハーフカ
ットダイシングするので、半導体チップ間の電気的接続
を断つ絶縁工程を実現できる。
【0019】前記の構成によれば、切断工程をダイシン
グで行うので、ウェハーからチップを作成するためのダ
イシング装置を用いてあらたな装置を不要とし、コスト
を削減できる。
【0020】本発明に係る半導体パッケージの製造方法
は、前記課題を解決するために、前記構成において、前
記絶縁工程は、エッチングによりなされることを特徴と
している。
【0021】前記の構成によれば、エッチングを用いて
一括して複数の樹脂シートのリードフレームを分断でき
るので、例えば1フレームずつ処理するダイシングの場
合などと比べて、処理時間の大幅短縮とコスト削減とを
実現できる。
【0022】前記の構成によれば、絶縁工程を、ウェハ
ー準備と同様のエッチング装置により行うことができ
る。
【0023】本発明に係る半導体パッケージの製造方法
は、前記課題を解決するために、前記構成において、前
記個片化工程はダイシングによってなされる工程であ
り、個片化する際のダイシング幅は、前記絶縁工程にお
いてリードフレームを分離する分離幅よりも狭いことを
特徴としている。
【0024】前記の構成によれば、個片化工程では樹脂
部分のみを切断することにより樹脂シートを個片化でき
るので、個片化工程で用いるダイシング装置を簡易なも
のとすることができる。
【0025】前記の構成によれば、絶縁工程においてリ
ードフレームを分離した上で個片化工程をダイシングで
行うので、一度に個片化する場合と比べて、ダイシング
による半導体パッケージの材質劣化を減少させて、半導
体パッケージの個片の形状及び強度を一定とすることが
できる。さらに、われ、欠けを少なくするとともに、く
ずの発生を減らすことができる。
【0026】本発明に係る半導体パッケージの製造方法
は、前記課題を解決するために、前記の構成において、
前記シート電気テスト工程は、前記半導体チップにプロ
ーブを接触させることにより行われることを特徴として
いる。
【0027】前記構成によれば、シート電気テスト工程
において、汎用プローブを使用することができ、電気テ
ストを簡便なものとすることができる。したがってコス
トを削減できる。
【0028】前記構成によれば、金型成型せずに、汎用
プローブカードへの追加工とテストプログラムの送りピ
ッチ等の簡単な修正程度とで電気テストを行うことがで
きるので、短い開発期間で半導体パッケージを開発でき
る。
【0029】本発明に係る半導体パッケージは、前記課
題を解決するために、前記の半導体パッケージの製造方
法によって製造された半導体パッケージであって、前記
半導体パッケージは下面に端子が露出するとともに、側
面に段差を有し、樹脂側の段は、リードフレーム側の段
よりも前記半導体パッケージ中央から遠ざかる形状とな
っていることを特徴としている。
【0030】前記の構成によれば、上述の方法を用いて
製造され、製造コストを削減することができるので、同
じ性能をもつ製品であっても、より安価である。
【0031】
【発明の実施の形態】本発明の半導体パッケージの製造
方法の一実施形態について図1ないし図8に基づいて説
明すると以下の通りである。
【0032】まず、図2を用いて、半導体パッケージ1
について説明する。本実施形態の半導体パッケージ1
は、QFN(Quad Flat Non-leaded)パッケージであり、
図2(a)の側面図および図2(b)の平面図に示すよ
うに、樹脂2表面に金属の端子3が露出した外観をもつ
ものである。そして、樹脂2内部には図示しない半導体
チップが埋め込まれ、半導体チップの金属端子と樹脂2
表面の露出した端子3とが、樹脂2内部で金属ワイヤに
よって接続されている構成である。
【0033】上述の構成の半導体パッケージ1の製造方
法を、図1のフローチャートを用いて説明する。
【0034】まず、ステップS1では、シリコンなどの
半導体の結晶を切断し、ウェハーをエッチングなど種々
の工程で処理することにより、ウェハー上に複数のチッ
プ構造を形成して、ウェハーを準備する。
【0035】次に、ステップS2では、チップ構造の形
成されたウェハーを、ダイヤモンドカッターでチップご
とに切断する。ステップS3で、切断された半導体チッ
プに対して、電気的特性が不良かどうかを検査する。
【0036】ステップS4では、リードフレーム4(図
3参照)を準備する。リードフレームは一枚の金属板で
あり、図3(a)の平面図に示すチップパターン5が複
数繰り返し打ち抜かれ、図3(b)の平面図に示すリー
ドフレーム4のように形成されるものである。
【0037】チップパターン5は一つの半導体チップの
ための領域であり、図3(a)の平面図に示すように、
半導体チップが搭載されるダイパッド6と、一部が半導
体チップの外部接続用端子群となるリード部7と、ダイ
サポートバー8とからなる。ダイパッド6の点線につい
ては後述する。ダイサポートバー8はエッチングされて
おり、他の部分の1/3程度の厚みとなっている。
【0038】図1のフローチャートに戻ると、次にステ
ップS5のダイボンド工程で、チップパターン5ごとに
半導体チップをダイパッド6に搭載して、半導体チップ
とAg(銀)メッキまたはPd(パラジウム)メッキの施さ
れたダイパッド6とを、Agペーストなどにより接着す
る。そして、ステップS6のワイヤーボンド工程で、チ
ップパターン5ごとに、半導体チップ上の電極とリード
部7とを金属ワイヤで接続する。
【0039】そして、ステップS7において、半導体チ
ップとリード部7との接続および半導体チップ自身を保
護するため、リードフレーム4及び半導体チップを一括
して樹脂で封止して樹脂シート10(図4参照)とす
る。
【0040】図4(a)の平面図に示すように、樹脂シ
ート10は、リードフレーム4と図示されない半導体チ
ップとが、樹脂ブロックゾーン分離スリット12で区切
られる約4cmないし5cm角のブロックゾーンごとの範囲
で、一括して樹脂9で封止された構成である。
【0041】図4(b)の側面図および図4(c)の正
面図を参照して分かるように、図4(a)においては、
樹脂シート10表面はほぼ樹脂9に覆われている。そし
て、後述するように、下の裏面ではリードフレーム4の
打ち抜かれた隙間を樹脂9が埋め込み、チップパターン
5のうちのダイパッド6およびリード部7のみが露出し
た状態となっている。露出したリード部7は、端子3
(図2参照)として用いられる。
【0042】図1のフローチャートにもどると、その後
ステップS8において樹脂シート10をハーフカットダ
イシングする。その際、図4に示されるブロックゾーン
ごとに、樹脂シート10のリードフレーム4を個片化マ
ーク11に沿って分断して、半導体チップ間の電気的接
続を断つ。本実施形態においては、図4の樹脂シート1
0の樹脂9面を下にして、上のリードフレーム4側から
ダイシング用のダイサで分断を行う。分断を行った結
果、図5(a)ないし(d)でハーフカットによる跡1
3として示すように、リードフレーム4は各チップパタ
ーンごとに分離される。また、図5(a)に示されるよ
うに、各半導体チップの露出した端子は、チップパター
ンごとに正確なピッチで配置された状態となる。
【0043】本実施形態においては、樹脂シートの厚み
が0.9mm で、その内リードフレームの厚みが0.2mm 、樹
脂の厚みが0.7mm である。そして、切り込みの深さは0.
2mmよりも大きい0.4mm である。
【0044】また、本実施形態においては、リードフレ
ームの異なるチップパターンを接続している部分の幅が
0.15mmで、ダイシングを行うダイサの切り幅は0.2mm で
ある。
【0045】なお、図5(c)においては、前記したよ
うに、樹脂シート10のリードフレーム4側の面にも、
リードフレーム4の打ち抜かれた隙間より樹脂9が露出
している様子が示されている。さらに本実施形態におい
ては、ダイサポートバー8が薄くなっており、樹脂9に
よって埋め込まれて樹脂シート10表面に露出していな
いため、図5(c)には図3(a)で図示されたダイサ
ポートバー8が図示されていない。同様にまた、図3
(a)に図示されるダイパッド6の点線の内と外ではリ
ードフレームの厚みが異なっており、ダイパッドの点線
の内側が厚く、ダイパッドの点線の外側はダイサポート
バーと同様にうすくなっている。したがって、図5
(c)においてダイパッドの点線の外側は樹脂に埋め込
まれ、半導体パッケージ表面には露出しない。
【0046】また、図6(a)ないし(c)も、樹脂シ
ート10のリードフレーム4を分断した結果を示した図
である。図6(c)の正面図に示すようにリードフレー
ム4はチップパターン5ごとに分断されているが、ハー
フカットなので樹脂シート10は個片化されない。した
がって、複数の半導体チップを搭載した樹脂シート10
のまま扱うことができる。そして、分断によって、個々
の半導体チップは電気的に接続を断たれ独立状態とな
る。したがって、樹脂シート10のまま、電気的に独立
な各半導体チップに対して、それぞれ電気テストを行う
ことができる。
【0047】図1にもどると、そこで次にステップS9
で、半導体チップの電気的特性について検査する。本実
施形態においては、樹脂シート10(図7参照)の半導
体チップに対して、ウェハー状態における半導体チップ
検査(ウェハーテスト)と同様にテストする。すなわ
ち、図7に示すセラミックプローバ15およびプローバ
針16を用いて、半導体チップごとに個別に探針して電
気的特性をテストする。
【0048】セラミックプローバ15の図示しない裏面
には端子が備えられ、その端子を樹脂シート10の端子
3と接触させて、ピン配置に応じて信号入出力やGND
・電圧印加端子としてそれぞれ利用することによって、
半導体チップの電気的特性をテストする。本実施形態に
おいては、セラミックプローバ15は高周波パワーアン
プである。そして、消費電流、リーク電流、微小電流入
力によるパワー出力、各端子反射計数などの評価項目に
ついて、テストを行う。また、プローバ針16が、GN
D端子として利用されるダイパッド6に2本コンタクト
されているのは、コンタクト抵抗およびインダクタンス
を下げるためである。この際、ステップS10では、ス
テップS9の電気テストにおいて不良があった箇所に印
をつけておく。印をつけておくことで、個片化された後
で、不良半導体パッケージを容易に取り除くことができ
る。
【0049】図1のフローチャートにもどると、その後
ステップS11で、図5の樹脂シート10のリードフレ
ーム4を下にし、上の樹脂9の側から、ダイシング用の
ダイサで、チップパターンごとの個片に分割する。この
結果、図8(a)および(b)の側面図に示すように、
樹脂シート10は個片化される。また、本実施形態にお
いては、個片化で除去された部分17で示す個片化時の
ダイサの切り幅は0.15mmとして、ハーフカットによる跡
13として示すハーフカット時の切り幅の0.2mm よりも
狭くなっている。したがって、個片化された半導体パッ
ケージは、下面に端子が露出するとともに、側面に段差
を有し、樹脂側の段は、リードフレーム側の段よりも半
導体パッケージ中央から遠ざかる形状となっている。
【0050】その後、ステップS12ないしステップS
14において、出荷準備としてさらに検査し、不良半導
体パッケージを取り除き、テーピング、包装するなどし
て、出荷用の半導体パッケージ1が作成され、その後半
導体パッケージ1は出荷される。
【0051】上述の本実施形態の説明において、ステッ
プS4でリードフレームを準備してから、ステップS5
でダイボンドし、ステップS6でワイヤーボンドし、ス
テップS7で一括樹脂封止するまでが、リードフレーム
と前記リードフレームに接続された複数の半導体チップ
とを樹脂で封止して、樹脂シートを形成するシート形成
工程に相当する。ステップS8のハーフカット工程が、
リードフレームを分断することにより、半導体チップ間
を電気的に分離させる絶縁工程に相当する。ステップS
9の電気テスト工程が、リードフレームを分断された樹
脂シートにおいて、半導体チップの電気的特性を個別に
テストするシート電気テスト工程に相当する。ステップ
S11の個片化工程が、電気テストされた前記樹脂シー
トを半導体チップごとに切断して、半導体パッケージの
個片とする個片化工程に相当する。
【0052】以上のように、本実施形態に係る半導体パ
ッケージ1の製造方法は、ステップS7までのステップ
で作成された樹脂シート10をステップS8でハーフカ
ットしてリードフレーム4を分断し、ステップS9で電
気的に独立となった前記樹脂シート10の各半導体チッ
プの電気的特性をテストし、ステップS11で樹脂シー
ト10を切断して半導体パッケージの個片とするので、
個片化後の電気テストが不要となる。したがって、半導
体パッケージ個片を搬送するためのトレーや、半導体パ
ッケージ個片の電気テストのためのテストソケットが不
要となり、コストを削減できる。
【0053】さらに、前記構成においては、テストソケ
ットなどのための金型成型も不要になるので、よりコス
トを削減できるとともに、半導体パッケージ開発期間を
短縮することができる。
【0054】具体的な効果として、パッケージラインア
ップ準備期間として設計、製作、金型類製作などで5月
以上かかるものが、3月以内で準備することができ、大
幅な開発短縮を図ることができた。
【0055】以上のように、本実施形態に係る半導体パ
ッケージ1の製造方法は、ステップS8の絶縁工程がダ
イシングで行われるので、ウェハーからチップを作成す
るためのダイシング装置を用いて新たな装置が不要とな
り、コストを削減できる。
【0056】以上のように、半導体パッケージ1の製造
方法は、個片化で除去された部分17で示すステップS
11におけるダイサの切り幅を、ハーフカットによる跡
13として示すステップS8におけるハーフカット時の
ダイサの切り幅よりも狭くすることが望ましい。すなわ
ち、ステップS11の切断時におけるダイサの切り幅を
小さくして、先にハーフカットダイシングしたフレーム
残り部分と切断歯とが接触しないようにするのが望まし
い。そうすれば、樹脂部分のみを切断することにより樹
脂シートを個片化できるので、個片化工程で用いるダイ
シング装置を簡易なものとすることができる。
【0057】以上のように、本実施形態に係る半導体パ
ッケージ1の製造方法は、樹脂シート10の半導体チッ
プに、ウェハー上のチップの品質を確認する際に用いる
汎用プローブを接触させて電気的特性を検査するので、
汎用プローブを使用することができる。したがって、簡
便に電気テストを行うことができ、コストを削減でき
る。また、短い開発期間で半導体パッケージを開発でき
る。
【0058】上述の半導体パッケージの製造方法によれ
ば、ステップS11において個片化する際のダイシング
幅は、ステップS8においてリードフレームを分離する
分離幅よりも狭いので、下面に端子が露出するととも
に、側面に段差を有し、樹脂側の段は、リードフレーム
側の段よりも半導体パッケージ中央から遠ざかる形状と
なっている半導体パッケージ1を製造することができ
る。
【0059】以上のように、本実施形態に係る半導体パ
ッケージ1は、上述の半導体パッケージの製造方法によ
って製造されるので、製造コストが削減される。したが
って、同じ性能をもつ製品であっても、より安価であ
る。
【0060】また、上述の実施形態においては、ステッ
プS9の電気テストの後、ステップS10において不良
箇所にマーキングをし、その後に個片化しているので、
個片化後のステップS12の外観検査において不良パッ
ケージを容易に見分けて取り除くことができる。
【0061】なお、上述の実施形態においては、特許請
求の範囲に記載のシート形成工程を、ステップS4から
ステップS7までのステップで実施するとして説明した
が、これに限らず別のステップであってもよい。要する
に、半導体チップがリードフレームなど端子となる部材
とともに樹脂で封止され、樹脂シートが形成されればよ
い。
【0062】なお、前記実施形態のように、例えば樹脂
シートの厚みが0.9mm で、その内リードフレームの厚み
が0.2mm 、樹脂の厚みが0.7mm の場合には、ステップS
8のハーフカットにおける切り込みの深さは0.2mm 以上
とすればよい。特に、切り込みの深さは、樹脂封止によ
る歪などの誤差を考慮して0.2mm より少し多めにした方
がよいこと、および、切り込みが深すぎると樹脂シート
が分割されてしまうのでなるべく0.2mm に近い方がよい
こと、の2点を考慮すると、0.3mm ないし0.4mm にする
のが望ましい。このように、ステップS8のハーフカッ
トにおけるダイサによる切断は、リードフレームは切断
するが樹脂シートを分割しないように、ハーフカットと
して、樹脂シートの厚みの1/3程度の切り込み深さに
するのが望ましい。
【0063】また、上述のステップS8のハーフカット
において、ダイシングを行うダイサの幅は、チップパタ
ーンごとに確実に切断するため、例えばリードフレーム
の異なるチップパターンを接続している部分の幅が0.15
mmの場合には、それよりも広くダイサの切り幅として0.
2mm とするのが望ましい。
【0064】なお、上述のステップS11の個片化にお
いて、ダイシングを行うダイサの幅は、ハーフカット時
のダイサの切り幅より狭いとして説明したが、これに限
るものではない。ただし、上述の実施形態のように、ダ
イシングを行うダイサの幅がハーフカット時のダイサの
切り幅より狭い場合には、特に個片化工程で用いるダイ
シング装置を簡易なものとすることができる。
【0065】なお、本発明の実施においては、図6
(b)および(c)において示される個片化で除去され
る部分14のように、ステップS8のハーフカットによ
って切り込んだ結果の残った樹脂部は、厚みが0.2mm 以
下であってもよい。しかし、特に0.2mm 以上の場合には
樹脂シートは十分な強度をもつ。すなわち、樹脂シート
のまま取り扱うのが容易となり、本発明を実施するのに
便利である。
【0066】なお、上述のステップS11においては、
個片化をダイシングで行う場合を説明したが、これに限
らず、ハーフカット後の樹脂部の厚みがうすい場合には
ブレイクしてもよい。そうすれば、ダイシングの手間を
省くことができる。ただし、前記のように、個片化をダ
イシングで行うとすれば、パッケージの形状及び強度を
一定に安定化させることができるとともに、くずの発生
を減らすことができる。
【0067】なお、上記の実施形態のステップS8にお
いては、絶縁工程を樹脂シート10をハーフカットする
ことによって実施したが、本発明はそれに限るものでは
ない。例えば、次に述べるような構成で実施することも
できる。
【0068】まず、上述のリードフレームと異なるリー
ドフレームであって、チップパターンは列方向にはつな
がっているが、行方向には、列を切断する際に切断され
てしまう部分のみでつながっているような構成のリード
フレームを考える。この構成のリードフレームを用いて
樹脂シートを形成し、前記の樹脂シートを列状に切断し
て短冊状樹脂シートとすることによって、半導体チップ
間を電気的に分離させる絶縁工程が実現できる。
【0069】この構成の場合には、ステップS9の電気
テストは、前記の短冊状樹脂シートに対して、上述の実
施形態と同様に行われる。また、ステップS11の個片
化は、前記の短冊状樹脂シートを切断することによって
実現できる。その他のステップは、上述の実施形態と同
様に行うことができる。
【0070】以上のように、上述の樹脂シートによる実
施形態とは異なる、短冊状樹脂シートによる構成におい
ても、本発明を実施することができる。そして、例示し
た短冊状樹脂シートによる構成を用いれば、上述の実施
形態と同様のステップを実現できるので、したがって上
述の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【0071】別の実施形態として、前記のステップS8
のハーフカットにおいて、エッチングを用いてハーフカ
ットを実施する場合の半導体パッケージの製造方法を説
明する。
【0072】本実施形態においては、図1におけるステ
ップS8の動作が、ダイサによる切断の代わりにエッチ
ングによる切断として実施され、この動作のみが上述の
実施形態と異なる。すなわち、ステップS8において、
レジスト印刷などにより樹脂シートのリードフレーム側
面にダイシングラインをパターンニングで露出状態に
し、露出されたダイシングラインをエッチングで一括除
去する。エッチングで除去した結果、図5の樹脂シート
10と同様の樹脂シートが得られる。
【0073】以上のように、本実施形態に係る半導体パ
ッケージ1の製造方法は、エッチングを用いて一括して
複数の樹脂シートのリードフレームを分断できるので、
例えば1フレームずつ処理するダイシングの場合などと
比べて、処理時間の大幅短縮とコスト削減とを実現でき
る。
【0074】
【発明の効果】本発明に係る半導体パッケージの製造方
法は、以上のように、リードフレームと前記リードフレ
ームに接続された複数の半導体チップとを樹脂で封止し
て、樹脂シートを形成するシート形成工程と、前記リー
ドフレームを分断することにより、半導体チップ間を電
気的に分離させる絶縁工程と、前記リードフレームを分
断された樹脂シートにおいて、前記半導体チップの電気
的特性を個別にテストするシート電気テスト工程と、電
気テストされた前記樹脂シートを半導体チップごとに切
断して、半導体パッケージの個片とする個片化工程とを
含んでいる構成である。
【0075】それゆえ、樹脂シートの半導体チップに対
して個別に電気テストを行い、個片化後の電気テストを
不要とするので、個片を搬送するためのトレーや、個片
化後の電気テストのためのテストソケット、およびテス
トソケットなどのための金型成型が不要となり、コスト
を削減できるという効果を奏する。
【0076】本発明に係る半導体パッケージの製造方法
は、以上のように、前記の構成において、前記絶縁工程
は、前記樹脂シートに対して、リードフレーム側から、
リードフレームの厚さ以上かつ樹脂シートの厚さ以下の
切り込み深さのハーフカットダイシングする工程である
という構成である。
【0077】それゆえ、切断工程をダイシングで行うの
で、ウェハーからチップを作成するためのダイシング装
置を用いてあらたな装置を不要とし、コストを削減でき
るという効果を奏する。
【0078】本発明に係る半導体パッケージの製造方法
は、以上のように、前記の構成において、前記絶縁工程
は、エッチングによりなされる構成である。
【0079】それゆえ、エッチングを用いて一括して複
数の樹脂シートのリードフレームを分断できるので、処
理時間の大幅短縮とコスト削減とを実現できるという効
果を奏する。
【0080】本発明に係る半導体パッケージの製造方法
は、以上のように、前記の構成において、前記個片化工
程は、ダイシングによってなされる工程であり、個片化
する際のダイシング幅は、前記絶縁工程においてリード
フレームを分離する分離幅よりも狭い構成である。
【0081】それゆえ、個片化工程では樹脂部分のみを
切断することにより樹脂シートを個片化できるので、個
片化工程で用いるダイシング装置を簡易なものとするこ
とができるという効果を奏する。
【0082】本発明に係る半導体パッケージの製造方法
は、以上のように、前記の構成において、前記シート電
気テスト工程は、前記半導体チップにプローブを接触さ
せることにより行われる構成である。
【0083】それゆえ、汎用プローブを使用することが
でき、簡便に電気テストを行いコストを削減できるとと
もに、簡単な修正程度で電気テストを行うことができる
ので、短い開発期間で半導体パッケージを開発できると
いう効果を奏する。
【0084】本発明に係る半導体パッケージは、以上の
ように、前記の半導体パッケージの製造方法によって製
造された半導体パッケージであって、前記半導体パッケ
ージは下面に端子が露出するとともに、側面に段差を有
し、樹脂側の段は、リードフレーム側の段よりも前記半
導体パッケージ中央から遠ざかる形状となっている構成
である。
【0085】それゆえ、上述の方法を用いて製造され、
製造コストを削減することができるので、同じ性能をも
つ製品であっても、より安価であるという効果を奏す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態である半導体パッケージの
製造方法を示すフローチャートである。
【図2】本発明の一実施形態を示すものであって、
(a)は半導体パッケージの側面図であり、(b)は平
面図であり、(c)は背面図である。
【図3】本発明の一実施形態を示すものであって、
(a)はリードフレームのチップパターンを拡大して示
す平面図であり、(b)はリードフレームの平面図であ
り、(c)は側面図であり、(d)は正面図である。
【図4】本発明の一実施形態を示すものであって、
(a)は樹脂シートの平面図であり、(b)は側面図で
あり、(c)は正面図である。
【図5】本発明の一実施形態を示すものであって、
(a)は樹脂シートをハーフカットした状態を示す平面
図であり、(b)は側面図であり、(c)は(a)を拡
大した平面図であり、(d)は(b)を拡大した側面図
である。
【図6】本発明の一実施形態を示すものであって、
(a)はハーフカットされた樹脂シートの平面図であ
り、(b)は側面図であり、(c)は正面図である。
【図7】本発明の一実施形態を示すものであって、プロ
ーバ針およびセラミックプローバを使用して電気的特性
をテストする説明図である。
【図8】本発明の一実施形態を示すものであって、
(a)は分割して個片化された樹脂シートの側面図であ
り、(b)は(a)を拡大した側面図である。
【図9】従来例を示すものであって、(a)は半導体パ
ッケージの側面図であり、(b)は平面図であり、
(c)は背面図である。
【図10】従来の半導体パッケージの製造方法を示すフ
ローチャートである。
【図11】従来における半導体パッケージの電気テスト
の説明図である。
【符号の説明】
1 半導体パッケージ 4 リードフレーム 9 樹脂 10 樹脂シート 15 セラミックプローバ(プローブ)
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/28 H01L 23/28 J 23/50 G 23/50 21/78 G Q

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】リードフレームと前記リードフレームに接
    続された複数の半導体チップとを樹脂で封止して、樹脂
    シートを形成するシート形成工程と、 前記リードフレームを分断することにより、半導体チッ
    プ間を電気的に分離させる絶縁工程と、 前記リードフレームを分断された樹脂シートにおいて、
    前記半導体チップの電気的特性を個別にテストするシー
    ト電気テスト工程と、 電気テストされた前記樹脂シートを半導体チップごとに
    切断して、半導体パッケージの個片とする個片化工程と
    を含んでいることを特徴とする半導体パッケージの製造
    方法。
  2. 【請求項2】前記絶縁工程は、 前記樹脂シートに対して、リードフレーム側から、リー
    ドフレームの厚さ以上かつ樹脂シートの厚さ以下の切り
    込み深さのハーフカットダイシングする工程であること
    を特徴とする請求項1記載の半導体パッケージの製造方
    法。
  3. 【請求項3】前記絶縁工程は、エッチングによりなされ
    ることを特徴とする請求項1記載の半導体パッケージの
    製造方法。
  4. 【請求項4】前記個片化工程はダイシングによってなさ
    れる工程であり、 個片化する際のダイシング幅は、前記絶縁工程において
    リードフレームを分離する分離幅よりも狭いことを特徴
    とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の半導体
    パッケージの製造方法。
  5. 【請求項5】前記シート電気テスト工程は、 前記半導体チップにプローブを接触させることにより行
    われることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1
    項に記載の半導体パッケージの製造方法。
  6. 【請求項6】請求項4記載の半導体パッケージの製造方
    法によって製造された半導体パッケージであって、 前記半導体パッケージは下面に端子が露出するととも
    に、側面に段差を有し、 樹脂側の段は、リードフレーム側の段よりも前記半導体
    パッケージ中央から遠ざかる形状となっていることを特
    徴とする半導体パッケージ。
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