JP2003022034A5 - - Google Patents

Claims (11)

1. 基板と、
   この基板上に、その内側に前記基板が露出するような所定空間を形成するように配置され、かつその内側側面が傾斜している位置制御部材と、
   前記所定空間に適合するように配置され、かつその外形側面として前記位置制御部材の内側側面とほぼ同じである傾斜した側面を少なくとも一部に有するアクティブ素子と、
   このアクティブ素子を前記基板または前記位置制御部材と接着する接着部と、
   を具備し、
   前記基板と前記接着部との濡れ性は、前記位置制御部材と前記接着部との濡れ性よりも高いことを特徴とするアクティブマトリクス基板。
2. 基板と、
   この基板上に、その内側に所定空間を形成するように配置され、かつその内側側面が傾斜している位置制御部材と、
   前記所定空間に適合するように配置され、かつその外形側面として前記位置制御部材の内側側面とほぼ同じである傾斜した側面を少なくとも一部に有するアクティブ素子と、
   このアクティブ素子を前記基板または前記位置制御部材と接着する接着部と、
   を具備し、
   前記位置制御部材は、その内側側面につながる底部を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板。
3. 前記濡れ性の測定を、前記位置制御部材と前記接着部との接触角の大きさを測定することによって行い、この接触角を７０°以上とすることを特徴とする請求項１もしくは２記載のアクティブマトリクス基板。
4. 前記アクティブ素子の下面にエッチングストッパー層を設けることを特徴とする請求項１もしくは２記載のアクティブマトリクス基板。
5. 前記位置制御部材は、その側面に少なくとも１つの切れ目または穴を有することを特徴とする請求項１もしくは２記載のアクティブマトリクス基板。
6. 前記アクティブ素子の形状が回転対称性を持たないことを特徴とする請求項１もしくは２記載のアクティブマトリクス基板。
7. 前記アクティブ素子及び前記位置制御部材の、傾斜した側面を同一とすることを特徴とする請求項１もしくは２記載のアクティブマトリクス基板。
8. 前記基板面から前記アクティブ素子上面までの高さが、前記基板面から前記位置制御部材上面までの高さ以上であることを特徴とする請求項１もしくは２記載のアクティブマトリクス基板。
9. 前記基板面から前記位置制御部材上面までの高さが０．３μｍ以上５μｍ以下であることを特徴とする請求項１もしくは２記載のアクティブマトリクス基板。
10. 第１の基板上にアクティブ素子を形成する素子形成工程と、
    前記アクティブ素子を第２の基板に転写する第１の転写工程と、
    前記アクティブ素子がその外形側面に傾斜を有するよう加工する素子加工工程と、
    第３の基板上に、内側に前記第３の基板が露出するような所定空間を形成するように配置され、かつその内側側面が前記傾斜を有する位置制御部材を形成する位置制御部材形成工程と、
    前記位置制御部材の内側に接着部を形成する接着部形成工程と、
    前記素子加工工程及び前記接着部形成工程の後に前記アクティブ素子と前記位置制御部材とを位置あわせして前記アクティブ素子を前記接着部に接着させる第２の転写工程と、
    を具備し、
    前記第３の基板と前記接着部との濡れ性を、前記位置制御部材と前記接着部との濡れ性よりも高くしたことを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。
11. 第１の基板上にアクティブ素子を形成する素子形成工程と、
    前記アクティブ素子を第２の基板に転写する第１の転写工程と、
    前記アクティブ素子がその外形側面に傾斜を有するよう加工する素子加工工程と、
    第３の基板上に、内側に所定空間を形成するように配置され、かつその内側側面が前記傾斜を有する位置制御部材を形成する位置制御部材形成工程と、
    前記位置制御部材の内側に接着部を形成する接着部形成工程と、
    前記素子加工工程及び前記接着部形成工程の後に前記アクティブ素子と前記位置制御部材とを位置あわせして前記アクティブ素子を前記接着部に接着させる第２の転写工程と、
    を具備し、
    前記位置制御部材は、その内側側面につながる底部を有することを特徴とするアクティブマトリクス基板の製造方法。