JP2003021827A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003021827A5
JP2003021827A5 JP2001209410A JP2001209410A JP2003021827A5 JP 2003021827 A5 JP2003021827 A5 JP 2003021827A5 JP 2001209410 A JP2001209410 A JP 2001209410A JP 2001209410 A JP2001209410 A JP 2001209410A JP 2003021827 A5 JP2003021827 A5 JP 2003021827A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
organic
organic film
organic solvent
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001209410A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP4290905B2 (ja
JP2003021827A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2001209410A external-priority patent/JP4290905B2/ja
Priority to JP2001209410A priority Critical patent/JP4290905B2/ja
Priority to TW091114593A priority patent/TWI311658B/zh
Priority to US10/189,571 priority patent/US6617263B2/en
Priority to CNB2004101006641A priority patent/CN100351692C/zh
Priority to CNB021413908A priority patent/CN1198171C/zh
Priority to KR1020020039775A priority patent/KR100557455B1/ko
Publication of JP2003021827A publication Critical patent/JP2003021827A/ja
Publication of JP2003021827A5 publication Critical patent/JP2003021827A5/ja
Publication of JP4290905B2 publication Critical patent/JP4290905B2/ja
Application granted granted Critical
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2001209410A 2001-07-10 2001-07-10 有機膜の平坦化方法 Expired - Fee Related JP4290905B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001209410A JP4290905B2 (ja) 2001-07-10 2001-07-10 有機膜の平坦化方法
TW091114593A TWI311658B (en) 2001-07-10 2002-07-02 Pattern forming method and method for manufacturing liquid crystal display device using the same
US10/189,571 US6617263B2 (en) 2001-07-10 2002-07-08 Pattern forming method for flattening an organic film for a liquid crystal display device
CNB021413908A CN1198171C (zh) 2001-07-10 2002-07-09 图案形成方法及使用该方法制备液晶显示器的方法
CNB2004101006641A CN100351692C (zh) 2001-07-10 2002-07-09 图案形成方法及使用该方法制备液晶显示器的方法
KR1020020039775A KR100557455B1 (ko) 2001-07-10 2002-07-09 유기막의 평탄화방법 및 이를 이용한 액정표시장치 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001209410A JP4290905B2 (ja) 2001-07-10 2001-07-10 有機膜の平坦化方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007258154A Division JP4819016B2 (ja) 2007-10-01 2007-10-01 液晶表示装置の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003021827A JP2003021827A (ja) 2003-01-24
JP2003021827A5 true JP2003021827A5 (enExample) 2004-11-11
JP4290905B2 JP4290905B2 (ja) 2009-07-08

Family

ID=19045065

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001209410A Expired - Fee Related JP4290905B2 (ja) 2001-07-10 2001-07-10 有機膜の平坦化方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6617263B2 (enExample)
JP (1) JP4290905B2 (enExample)
KR (1) KR100557455B1 (enExample)
CN (2) CN100351692C (enExample)
TW (1) TWI311658B (enExample)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1665346A4 (en) * 2003-09-09 2006-11-15 Csg Solar Ag IMPROVED METHOD FOR FORMING OPENINGS IN AN ORGANIC RESIN MATERIAL
JP2007505486A (ja) * 2003-09-09 2007-03-08 シーエスジー ソーラー アクチェンゲゼルシャフト リフローによるマスクの調整
JP2005159293A (ja) 2003-09-18 2005-06-16 Nec Kagoshima Ltd 基板処理装置及び処理方法
JP4419119B2 (ja) * 2003-12-03 2010-02-24 日本電気株式会社 電気光学装置及び投射型表示装置
JP2005340802A (ja) * 2004-04-28 2005-12-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置及び表示装置の作製方法
US20050276910A1 (en) * 2004-06-09 2005-12-15 Osram Opto Semiconductors Gmbh Post processing of films to improve film quality
JP4367347B2 (ja) * 2005-01-21 2009-11-18 セイコーエプソン株式会社 膜形成方法及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器
KR101108148B1 (ko) * 2005-02-03 2012-02-09 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 전계 발광 소자 및 이의 제조 방법
JP4876415B2 (ja) * 2005-03-29 2012-02-15 セイコーエプソン株式会社 有機ｅｌ装置の製造方法、デバイスの製造方法
JP4520355B2 (ja) 2005-04-19 2010-08-04 パナソニック株式会社 半導体モジュール
JP4720984B2 (ja) * 2005-05-18 2011-07-13 日産化学工業株式会社 段差を有する基板上に被覆膜を形成する方法
JP4929432B2 (ja) * 2005-07-29 2012-05-09 Ｎｌｔテクノロジー株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
KR100738103B1 (ko) * 2006-02-04 2007-07-12 삼성전자주식회사 컬러 필터의 제조방법
JP5145654B2 (ja) * 2006-05-29 2013-02-20 日本電気株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP5162952B2 (ja) * 2007-04-26 2013-03-13 日本電気株式会社 液晶表示装置用反射板の製造方法、液晶表示装置及び液晶表示装置用アレイ基板
JP2009090637A (ja) * 2007-09-18 2009-04-30 Toppan Printing Co Ltd 有機機能層及び有機機能性素子の製造方法並びに有機機能性素子製造装置
JP2009139568A (ja) * 2007-12-05 2009-06-25 Tokyo Electron Ltd 塗布装置
JP4601079B2 (ja) 2007-12-17 2010-12-22 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法及び基板処理装置
JP2010050231A (ja) * 2008-08-20 2010-03-04 Nec Lcd Technologies Ltd 溶解変形用薬液及び有機膜パターンの溶解変形処理方法
DE102014113928B4 (de) * 2014-09-25 2023-10-05 Suss Microtec Lithography Gmbh Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einem Lack sowie Vorrichtung zum Planarisieren einer Lackschicht
US10043677B2 (en) 2015-03-30 2018-08-07 Mitsui Chemicals, Inc. Method for manufacturing filling planarization film and method for manufacturing electronic device
CN105762154B (zh) * 2016-02-24 2018-12-18 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
GB2583126A (en) * 2019-04-18 2020-10-21 Flexenable Ltd LCD device production

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07120784A (ja) 1993-10-22 1995-05-12 Rohm Co Ltd 液晶表示装置およびその製法
KR970002410A (ko) * 1995-06-20 1997-01-24 김주용 액정 표시 소자의 제조 방법
KR100438247B1 (ko) * 1995-09-29 2004-08-16 다우 글로벌 테크놀로지스 인크. 가교결합된폴리올레핀계발포체및이들의제조방법
JPH09134909A (ja) * 1995-11-10 1997-05-20 Hitachi Ltd 薄膜形成用回転塗布装置、半導体装置、及び薄膜の形成方法
JPH1174261A (ja) * 1997-08-29 1999-03-16 Hitachi Chem Co Ltd ポリシロキサン塗布膜の製造法及び半導体装置の製造法
EP1018163A1 (de) * 1997-09-10 2000-07-12 Infineon Technologies AG Halbleiterbauelement mit einer driftzone
JPH11202122A (ja) * 1998-01-16 1999-07-30 Mitsumura Printing Co Ltd カラ−フィルター作製法
TW556357B (en) * 1999-06-28 2003-10-01 Semiconductor Energy Lab Method of manufacturing an electro-optical device
JP3636641B2 (ja) * 1999-08-20 2005-04-06 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003021827A5 (enExample)
TWI311658B (en) Pattern forming method and method for manufacturing liquid crystal display device using the same
JP2005078946A5 (enExample)
WO2017124700A1 (en) Carrier substrate assembly, and fabrication method of flexible display substrate
JP2012518088A5 (enExample)
JP2004145333A5 (enExample)
Minh et al. Perovskite nanoparticle composite films by size exclusion lithography
CN106098940B (zh) 无损剥离柔性基板的方法
JP2007506547A5 (enExample)
JP5026533B2 (ja) 電極の表面処理方法および電極ならびに有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2017224783A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
CN102455596B (zh) 光刻胶、离地剥离的方法和tft阵列基板的制作方法
CN109315042A (zh) 树脂薄膜的剥离方法、具有可挠性基板的电子装置的制造方法以及有机el显示装置的制造方法和树脂薄膜的剥离装置
CN108455577A (zh) 一种低液面张力湿法转移石墨烯的方法
CN111584768A (zh) 一种有机电致发光器件薄膜制备方法及装置
JP2001110802A (ja) 絶縁膜の形成方法
WO2017054407A1 (zh) 一种薄膜晶体管、阵列基板及相关制作方法、以及显示装置
CN115605064B (zh) 一种钙钛矿单晶阵列光电探测器及其制备方法
US11302876B2 (en) Organic light emitting diode display panel and method of manufacturing same
ATE530265T1 (de) Verfahren und vorrichtung zur lokalen behandlung von substraten
JPH11224773A (ja) Ｅｌパネルの製造方法およびｅｌパネルへの絶縁流体注入装置
JP2004119599A5 (enExample)
JP2005103392A5 (enExample)
CN110233204B (zh) 一种有机薄膜晶体管及其制备方法
KR102115561B1 (ko) 폴리이미드 기판의 제조 방법 및 이를 이용하는 표시장치의 제조 방법