JP2003013293A - 表面処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 構成部品から生じる塵埃が表面処理槽内の表
面処理液に混入されることを防止する。 【解決手段】 搬送方向に延設されたガイドレール３７
に支持された冶具２０を介して当該冶具２０に保持され
たワークＷを搬送可能な搬送手段３０を有し、表面処理
槽１０内でワークＷを連続搬送しつつ表面処理を施すこ
とができる表面処理装置において、ガイドレール３７お
よび搬送手段３０を表面処理槽１０の上部開口部１０Ｕ
の外側に配設するとともに、冶具２０を基端部２１Ｋで
ガイドレール３７に支持可能かつ先端部２３Ｓでワーク
Ｗを表面処理槽１０の搬送方向と直交する方向の中心に
位置決め保持可能に形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガイドレールに支
持された冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段
または冶具に保持されたワークを表面処理槽内外に搬入
・搬出可能な昇降手段を有する表面処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図５に示す表面処理装置は、搬送方向
（図５で紙面に垂直方向）に延設されたガイドレール３
７Ｐ，このガイドレール３７Ｐに支持された冶具２０Ｐ
を介して当該冶具２０Ｐに保持されたワークＷを搬送可
能な搬送手段３０Ｐを有し、表面処理槽１０内の表面処
理液Ｑ中でワークＷを連続搬送しつつ表面処理を施すこ
とができる。

【０００３】冶具２０Ｐは、ガイドレール３７Ｐに摺動
可能に支持された移動体３２Ｐに連結されている。かく
して、表面処理槽１０が電解処理槽（例えば、めっき処
理槽）である場合には、外部電源からガイドレール３７
Ｐ，移動体３２Ｐおよび冶具２０Ｐを通してワークＷに
給電することができるわけである。

【０００４】一般的に、本装置のレイアウト的設計思想
は、表面処理槽群はワークＷの搬送方向に沿って列配置
し、かつ左右方向は搬送軌跡を中心に図５で左右方向に
対称とすることである。

【０００５】すなわち、搬送手段３０Ｐを形成するガイ
ドレール３７Ｐは、各表面処理槽１０の左右方向中心に
配設されることになる。また、表面処理槽１０が電解処
理槽（例えば、めっき処理槽）である場合には、外部電
源に接続されたガイドレール３７Ｐに摺動する移動体３
２Ｐの集電子（図示省略）を含む給電手段５０から冶具
２０Ｐを介して給電している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、電解処理槽
（例えば、めっき処理槽）を含む表面処理槽１０では、
電解処理槽での給電を必須とすることから、電解処理槽
内の両側に配設された電極（アノード）とワーク（カソ
ード）との距離を等しくするために電解処理槽の搬送方
向で上流側に配設される前処理槽群およびその下流側に
配設される後処理槽群においても、左右方向中心として
搬送手段３０Ｐ（ガイドレール３７Ｐ）を設けている。

【０００７】特に、ガイドレール３７Ｐを給電レールと
して利用した給電手段５０Ｐの場合には、ガイドレール
３７Ｐを搬送手段３０Ｐのみに利用する場合に比較し
て、ガイドレール３７Ｐと移動体３２Ｐ側の集電子（図
示省略）との接触圧力を大きくする必要がある。

【０００８】かくして、いずれの表面処理槽１０におい
ても、摺動するガイドレール３７Ｐと移動体３２Ｐ（冶
具２０Ｐ）の摩擦により構成部品から塵埃が発生しかつ
その塵埃の殆んどが表面処理槽１０の外部開口部１０Ｕ
から当該表面処理液Ｑ中に混入する。

【０００９】かかる塵埃の発生は、表面処理対象製品に
よって許される場合と許されない場合とがある。装飾品
の如きは許されても、電子部品（例えば、プリント配線
基板）の場合は許され難い。換言すれば、電子部品のク
リーニングルーム（生産現場）での環境（空気清浄度）
が非常に高級になっているに対して、表面処理の場合に
はそこまで気配りされていなかったといえる。

【００１０】つまり、従来装置では構成部品から生じか
つ表面処理液Ｑ中に混入した塵埃がガサやザラの原因に
なっていた。このガサやザラのない高品質な表面処理製
品が強く求められている。例えば、プリント配線基板の
線幅やピン間距離の一段の狭小化には、是非解決しなけ
ればならない課題となって来た。

【００１１】この課題は、上記した搬送手段３０Ｐとと
もに、または搬送手段３０Ｐとは独立した昇降手段（４
０Ｐ）を有する表面処理装置の場合も共通である。昇降
手段（４０Ｐ）とは、例えば、ガイドレール３７Ｐ相当
の昇降レール（４３Ｐ）に支持された冶具２０Ｐを介し
て当該冶具２０Ｐに保持されたワークＷを表面処理槽１
０内外に搬入・搬出可能に形成されたものである。な
お、昇降手段（４０Ｐ）が設置されかつ搬送手段３０Ｐ
が設置されない表面処理装置の場合も共通課題である

【００１２】本発明の目的は、構成部品から生じる塵埃
が表面処理槽内の表面処理液に混入されることを防止す
ることができる表面処理装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、搬送
方向に延設されたガイドレール，このガイドレールに支
持された冶具を介して当該冶具に保持されたワークを搬
送可能な搬送手段を有し、表面処理槽内でワークを連続
搬送しつつ表面処理を施す表面処理装置において、前記
ガイドレールおよび搬送手段を前記表面処理槽の上部開
口部の外側に配設するとともに、前記冶具を基端部で前
記ガイドレールに支持可能かつ先端部で前記ワークを前
記表面処理槽の搬送方向と直交する方向の中心に位置決
め保持可能に形成された表面処理装置である。

【００１４】かかる発明では、搬送方向に延設されたガ
イドレールおよびガイドレールに支持された冶具を介し
て当該冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段
が、表面処理槽の上部開口部の外側に配設されているの
で、搬送に伴うガイドレール，冶具および搬送手段の構
成部品から生じる塵埃が表面処理槽内の表面処理液に混
入することを未然に防止することができる。

【００１５】しかも、冶具の基端部がガイドレールに支
持されかつ冶具の先端部でワークを表面処理槽の搬送方
向と直交する方向の中心に位置決め保持することができ
るから、表面処理槽内のレイアウトに改変を加える必要
がなく、特に表面処理槽が電解処理槽である場合には槽
内左右両側の電極（アノード）とワーク（カソード）と
の極間距離を正確に保てる。

【００１６】したがって、表面処理槽に改変を加えるこ
となくかつ表面処理液を清浄に維持できるからガサやザ
ラのない高品質の表面処理を行える。

【００１７】また、請求項２の発明は、前記冶具の基端
部が前記ガイドレールに転がり係合機構を介して支持さ
れた表面処理装置である。

【００１８】かかる発明では、搬送手段が表面処理槽の
上部開口部の外側に配設された上に、冶具（基端部）が
ガイドレールに転がり係合機構を介して移行可能に支持
されているので、請求項１の発明の場合と同様な作用効
果を奏することができることに加え、さらに構成部品間
の摩擦抵抗軽減に基づき塵埃発生量を極減化できるか
ら、一層の高品質処理を行なえる。

【００１９】さらに、請求項３の発明は、昇降レールに
支持された冶具を介して当該冶具に保持されたワークを
表面処理槽内外に搬入・搬出可能な昇降手段を有し、ワ
ークを表面処理槽内に搬入した状態で表面処理を施す表
面処理装置において、前記昇降レールおよび昇降手段を
前記表面処理槽の上部開口部の外側に配設するととも
に、前記冶具を基端部で前記昇降レールに支持可能かつ
先端部で前記ワークを前記表面処理槽の幅方向の中心に
位置決め保持可能に形成された表面処理装置である。

【００２０】かかる発明では、昇降レールおよび昇降手
段が表面処理槽の上部開口部の外側に配設されているの
で、搬送に伴う昇降レールおよび昇降手段の構成部品か
ら生じる塵埃が表面処理槽内の表面処理液に混入するこ
とを未然に防止することができる。

【００２１】しかも、冶具の基端部が昇降レールに支持
されかつ先端部でワークを表面処理槽の幅方向の中心に
位置決め保持することができるから、表面処理槽内のレ
イアウトに改変を加える必要がない。

【００２２】したがって、表面処理槽に改変を加えるこ
となくかつ表面処理液Ｑを清浄に維持できるから当該表
面処理を高品質で行える。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。

【００２４】（第１の実施形態）本表面処理装置は、図
１〜図４に示す如く、ガイドレール３７および搬送手段
３０を表面処理槽１０の上部開口部１０Ｕの外側に配設
するとともに、冶具２０を基端部２１Ｋ（２１Ｖ）でガ
イドレール３７に支持可能かつ先端部２３ＳでワークＷ
を表面処理槽１０の搬送（Ｘ）方向と直交する方向の中
心に位置決め保持可能に形成されている。

【００２５】本表面処理装置の基本的構成・機能は、搬
送（Ｘ）方向に延設されたガイドレール３７に支持され
た冶具２０（ハンガー２９）を介して当該冶具２０（２
９）に保持されたワークＷを搬送可能な搬送手段３０を
有し、表面処理槽１０内でワークＷを連続搬送しつつ表
面処理を施すことができる。

【００２６】図１〜図３において、表面処理槽１０は、
ワークＷのＸ方向に伸びる搬送軌跡（図１で紙面に垂直
方向）を中心に左右方向が対称となるように配設してあ
る。したがって、表面処理槽１０がこの実施形態のよう
に電解処理槽である場合には、槽内左右両側の電極（ア
ノード）とワーク（カソード）との極間距離を正確に保
てる。

【００２７】搬送手段３０は、図１に示すように表面処
理槽１０の上部開口部１０Ｕの外側（図で右側）に配設
されている。搬送手段３０および関連機器から発生する
粉塵等を含む塵埃が表面処理槽液Ｑ内に混入（侵入）す
ることを防止するためである。

【００２８】この搬送手段３０は、図４に示すＸ方向に
延設されたガイドレール３７と，ガイドレール３７に沿
って一定ストロークだけ往復移動可能な往復移動部材３
２と，この往復移動部材３２に一定ピッチで取り付けら
れた複数のアンチバック爪３３と，往復移動部材３２に
往復移動力を付与するネジ式往復移動機構３１とを含
み、複数の冶具２０（ワークＷ）を一定ピッチだけ離隔
させた状態でＸ方向に間欠搬送することができる。

【００２９】アンチバック爪３３は、往復移動部材３２
のＸ方向への移動中つまり往動時には係合する冶具２０
に往動力を加えて当該冶具２０をＸ方向へ往動させるこ
とができるが、復動時には冶具２０に復動力を付与せず
無抵抗として通過する。つまり、一方向送りタクト搬送
機構から形成されている。

【００３０】各冶具２０は、搬送手段３０を表面処理槽
（この実施形態では、電解処理槽…めっき処理槽）１０
の横外方に配設しつつ表面処理槽１０自体を従来例の場
合と比較して大きく改変しなくてもすむように、図１，
図２に示す構造とされている。

【００３１】図１において、冶具２０は、水平部２１と
垂直部２３をＬ字形状に連結した構造で、基端部２１Ｋ
でガイドレール３７に相対移動可能に支持させ、先端部
２３ＳでワークＷを保持することが出来る。

【００３２】基端部２１Ｋは起立する係止部２１Ｖを介
して間接的にガイドレール３７に支持され、先端部２３
Ｓは図２に示すハンガー２９を介してワークＷを保持す
る。

【００３３】すなわち、各冶具２０は、転がり係合機構
９０を介してガイドレール３７に支持される。冶具２０
とガイドレール３７との直接接触および摺動による摩擦
抵抗軽減に基づき塵埃発生量の極減化を企図するのであ
る。

【００３４】この転がり係合機構９０は、当該機構の枠
体を兼ねる冶具２０の一部である係止部２１Ｖに回転自
在に装着された複数の車輪９２を含み、ガイドレール３
７に各冶具２０を転がり係合させる役目を持つ。

【００３５】車輪９２は、冶具２０の係止部２１Ｖに装
着された図２に示す複数の上下方向規制車輪９２Ｖと，
図３に示す水平方向規制車輪９２Ｈと，外れ防止車輪９
２Ｇとから形成されている。

【００３６】各上下方向規制車輪９２Ｖは、ガイドレー
ル３７の図２に示す上面３７Ｕに係合され冶具２０の上
下方向の位置を規制する。また、水平方向規制車輪９２
Ｈは、ガイドレール３７の図３に示す側面３７Ｓに係合
され冶具２０の水平方向の位置を規制する。

【００３７】そして、外れ防止車輪９２Ｇは、ガイドレ
ール３７の側面３７Ｓの高さ方向中間に突出して設けた
外れ防止レール３７Ｇにこれを水平方向の両側から挟み
込むように係合されている。したがって、各上下方向規
制車輪９２Ｖおよび水平方向規制車輪９２Ｈの協働のも
とに、冶具２０がガイドレール３７から外れる心配がな
い。

【００３８】カソードであるワークＷには、図１に示す
ように、当該冶具２０（２１，２３）を介して給電手段
５０から、マイナス電源が供給される。アノードである
表面処理槽１０内両側の電極は図示省略してある。

【００３９】給電手段５０は、図１に示す表面処理槽
（１０）上部で外部側に設けられたＸ方向に延びる給電
レール５１と，外部電源装置（図示省略）と給電レール
５１とを接続する給電バー５２と，係止部２１Ｖにバネ
式接触圧調整手段５６を介して取り付けられた集電子５
５およびリード線５９とからなる。

【００４０】この給電手段５０も表面処理槽１０の外側
に配設されているので、各集電子５５と給電レール５１
との摺動（直接接触）による粉塵（塵埃）が生じても表
面処理槽１０内には侵入し難いわけである。

【００４１】しかし、更なる慎重を期して給電部（５
１，５５）を内包するチャンバー６１と下向きの排気管
６２とを含み、発生した粉塵を例えば下方のピット内に
回収しつつ外部に排出・廃棄する粉塵回収廃棄手段６０
を設けてある。なお、排気管６２に排気ダクトを接続し
てフィルタへ導くことも好ましい。

【００４２】かかる構成の第１の実施形態では、搬送
（Ｘ）方向に延設されたガイドレール３７およびガイド
レール３７に支持された冶具２０を介して当該冶具２０
に保持されたワークＷを搬送可能な搬送手段３０が表面
処理槽１０の上部開口部１０Ｕの外側に配設されている
ので、搬送に伴うガイドレール３７，冶具２０および搬
送手段３０の構成部品から生じる塵埃が表面処理槽１０
内の表面処理液Ｑに混入することを未然に防止すること
ができる。

【００４３】しかも、冶具２０の基端部２１Ｋがガイド
レール３７に支持されかつ冶具３０の先端部２３Ｓでワ
ークＷを表面処理槽１０のＸ方向と直交する方向（幅方
向）の中心に位置決め保持することができるから、表面
処理槽１０内のレイアウトに改変を加える必要がなく、
特に電解処理槽（表面処理槽１０）内左右両側の電極
（アノード）とカソード（ワークＷ）との極間距離を正
確に保てる。

【００４４】しかして、この第１の実施形態によれば、
表面処理槽１０に従来例の場合に比較して大きな改変を
加えることなくかつ表面処理液Ｑを清浄に維持できるか
らガサやザラのない高品質の表面処理を行える。

【００４５】しかも、搬送手段３０が表面処理槽１０の
上部開口部１０Ｕの外側に配設された上に、冶具２０
（基端部２１Ｋ…２１Ｖ）がガイドレール３７に転がり
係合機構９０を介して移行可能に支持されているので、
さらに構成部品間の摩擦増大に基づく塵埃の発生量を極
減化できるので、一段の高品質処理を行なえる。

【００４６】（第２の実施形態）この第２の実施形態
は、第１の実施形態が搬送手段３０に関するものであっ
たのに対して、昇降手段の構成部品から生じる塵埃が表
面処理槽１０内の表面処理液Ｑに混入することを未然防
止可能に形成したものである。

【００４７】すなわち、昇降レールに支持された冶具２
０を介して当該冶具２０に保持されたワークＷを表面処
理槽１０内外つまり上下方向に搬入・搬出可能な昇降手
段（４０）を有し、ワークＷを表面処理槽１０内に搬入
した状態で表面処理を施す表面処理装置において、昇降
レール（４３）および昇降手段（４０）を表面処理槽１
０の上部開口部１０Ｕの外側に配設するとともに、冶具
２０を基端部２１Ｋで昇降レールに支持可能かつ先端部
２３ＳでワークＷを表面処理槽１０の幅方向の中心に位
置決め保持可能に形成されている。

【００４８】なお、構造については、例えば図１，図３
におけるガイドレール３７相当の便宜的に符号“４３”
として表した昇降レールを、図１に便宜的に符号“４
０”として表した昇降手段（例えば、エレベータ式リフ
ター）で昇降させればよいことが、第１の実施形態の場
合（図１〜図３）から容易に推測できるので、図示省略
する。

【００４９】すなわち、昇降レール（４３）および昇降
手段（４０）が表面処理槽１０の上部開口部１０Ｕの外
側に配設されているので、搬送に伴う昇降レール（４
３）および昇降手段（４０）の構成部品から生じる塵埃
が表面処理槽１０内の表面処理液Ｑに混入することを未
然に防止することができる。

【００５０】しかも、冶具２０の基端部２１Ｋが昇降レ
ール（４３）に支持されかつ先端部２３ＳでワークＷを
表面処理槽１０の幅方向の中心に位置決め保持すること
ができるから、表面処理槽１０内のレイアウトに従来例
に比較して大きな改変を加える必要がなく、表面処理槽
１０内付属品のレイアウトも容易である。

【００５１】しかして、第２の実施形態によれば、従来
例の場合に比較して表面処理槽１０に改変を加えること
なくかつ表面処理液Ｑを清浄に維持できるから当該表面
処理を高品質で行える。

【００５２】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、ガイドレール
および搬送手段を表面処理槽の上部開口部の外側に配設
するとともに、冶具を基端部でガイドレールに支持可能
かつ先端部でワークを表面処理槽の搬送方向と直交する
方向の中心に位置決め保持可能に形成された表面処理装
置であるから、従来例の場合に比較して表面処理槽に改
変を加えることなくかつ表面処理液を清浄に維持できる
からガサやザラのない高品質の表面処理を行える。

【００５３】また、請求項２の発明によれば、冶具の基
端部がガイドレールに転がり係合機構を介して支持され
ているので、請求項１の発明の場合と同様な効果を奏す
ることができることに加え、さらに構成部品間の摩擦抵
抗軽減に基づき塵埃発生量を極減化できるから、一層の
高品質処理を行なえる。

【００５４】さらに、請求項３の発明によれば、昇降レ
ールおよび昇降手段を表面処理槽の上部開口部の外側に
配設し、冶具を基端部で昇降レールに支持可能かつ先端
部でワークを表面処理槽の幅方向の中心に位置決め保持
可能に形成された表面処理装置であるから、表面処理槽
に従来例に比較して大きな改変を加えることなくかつ表
面処理液を清浄に維持できるから当該表面処理を高品質
で行える。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係る正面図である。

【図２】同じく、側面図である。

【図３】同じく、転がり係合機構を説明するための正面
図である。

【図４】同じく、搬送手段を説明するための側面図であ
る。

【図５】従来例を説明するための図である。

【符号の説明】

１０ 表面処理槽 １０Ｕ 上部開口部 ２０ 冶具 ２１ 水平部 ２１Ｋ 基端部 ２３ 垂直部 ２３Ｓ 先端部 ３０ 搬送手段 ３１ ネジ式往復移動機構 ３２ 往復移動部材 ３３ アンチバック爪 ３７ ガイドレール ４０ 昇降手段 ４１ 昇降レール ５０ 給電手段 ６０ 粉塵回収廃棄手段 ６１ チャンバー ９０ 転がり係合機構 ９２Ｖ 上下方向規制車輪 ９２Ｇ 外れ防止車輪 ９２Ｈ 水平方向規制車輪

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ２５Ｄ 17/00 Ｃ２５Ｄ 17/00 Ｇ Ｆターム(参考） 4F040 AA01 AA12 AB13 AC02 BA06 BA16 BA44 BA47 CC19 CC20 DA14 4F042 AA01 AA06 BA08 DF02 DF15 DF34 4K024 BB11 CB03 GA16

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送方向に延設されたガイドレール，こ
   のガイドレールに支持された冶具を介して当該冶具に保
   持されたワークを搬送可能な搬送手段を有し、表面処理
   槽内でワークを連続搬送しつつ表面処理を施す表面処理
   装置において、 前記ガイドレールおよび搬送手段を前記表面処理槽の上
   部開口部の外側に配設するとともに、前記冶具を基端部
   で前記ガイドレールに支持可能かつ先端部で前記ワーク
   を前記表面処理槽の搬送方向と直交する方向の中心に位
   置決め保持可能に形成した、表面処理装置。
2. 【請求項２】 前記冶具の基端部が前記ガイドレールに
   転がり係合機構を介して支持されている請求項１記載の
   表面処理装置。
3. 【請求項３】 昇降レールに支持された冶具を介して当
   該冶具に保持されたワークを表面処理槽内外に搬入・搬
   出可能な昇降手段を有し、ワークを表面処理槽内に搬入
   した状態で表面処理を施す表面処理装置において、 前記昇降レールおよび昇降手段を前記表面処理槽の上部
   開口部の外側に配設するとともに、前記冶具を基端部で
   前記昇降レールに支持可能かつ先端部で前記ワークを前
   記表面処理槽の幅方向の中心に位置決め保持可能に形成
   した、表面処理装置。